CN112074474A - 改进的输送组件 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于呈片材形式的玻璃制品的行进的输送组件(100),所述玻璃组件包括第一部分(101)和第二部分(102),每个部分包括框架(103),在所述框架上布置有适于允许所述玻璃制品行进的输送元件(110),行进是从所述第一部分到所述第二部分,所述第一部分和所述第二部分被布置成使得在所述第一部分的输送元件和所述第二部分的输送元件之间存在空间,其特征在于,至少所述第一部分的输送元件以沿至少一个调节方向可移动的方式安装,以便被移动,以便改变所述第一部分的输送元件与所述第二部分的输送元件之间的间距。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃基板的输送领域。
背景技术
如今,玻璃片材在生产、处理和调节工厂中经由输送装置1进行输送。这些输送装置通常为布置在框架3上的辊2的形式,其中一些辊2由马达驱动。这些由马达驱动的辊使得可以向所述玻璃片材发送位移推动力,其他辊允许所述片材滑动。这些输送装置形成了输送线,如图1所示。
然而,在某些情况下,这些输送线是不连续的,即在各个部分之间存在空间。当需要从一条输送线转移到另一条输送线时或在热处理的情况中,可以存在这些空间。
实际上,在激光热处理的情况中,需要一定的空间,使得可以布置激光束并对其进行重新获取,从而防止了与输送线的任何相互作用。
但是,在运送玻璃片材时,可能会引起问题。
实际上,玻璃是一种在重力下或在其经受温度梯度(尤其是在热处理期间)时,当其呈大而优良的板形式时会显著变形的材料。在输送线之间存在该空间,则存在玻璃弯曲的风险。如图2a、2b和2c所示,这种弯曲在玻璃片材的行进方向上的前端处和/或后端处将是最显著的,并且可以导致例如玻璃片材冲击在所述输送模块上。这种撞击会导致玻璃变形,从而使玻璃片材破裂。
此外,在热处理的情况下,玻璃的变形会导致用于进行热处理的激光束的焦点与待处理的涂层之间的位移。因此,玻璃基板没有被正确且均匀地处理并且具有缺陷。
发明内容
因此,本发明提出通过提供一种可调节的输送组件来解决这些缺点,该输送组件使得可以伴随玻璃的自然弯曲以防止变形。
为此,本发明涉及一种用于呈片材形式的玻璃制品的行进的输送组件,所述玻璃组件包括第一部分和第二部分,每个部分包括框架,在所述框架上布置有适于允许所述玻璃制品行进的输送元件,行进是从第一部分到第二部分,第一部分和第二部分被布置成使得在第一部分的输送元件和第二部分的输送元件之间存在空间,其特征在于,至少第一部分的输送元件以沿至少一个调节方向可移动的方式安装,以便被移动,以便改变第一部分的输送元件与第二部分的输送元件之间的间距。
本发明有利地使得有可能具有一种输送器,其可以通过改变输送组件的两个部分中的至少一者的输送元件的位置来限制当在第一部分和第二部分之间通过时玻璃基板的入口处下落和/或出口处下落。
根据一个示例,第一部分和第二部分以沿至少一个调节方向可移动的方式安装,以便改变第一部分的输送元件和第二部分的输送元件之间的间距。
根据一个示例,设有以可移动的方式安装的输送元件的至少第一可移动部分包括高度调节装置,该高度调节装置允许在正交于基板平面的方向上进行调节。
根据一个示例,高度调节装置是位于地板和框架之间的用于框架的高度调节装置。
根据一个示例,高度调节装置是位于框架和输送元件之间的用于输送元件的高度调节装置。
根据一个示例,设有以可移动的方式安装的输送元件的至少第一可移动部分包括枢转调节装置,该枢转调节装置允许在枢转方向上进行调节。
根据一个示例,枢转调节装置布置在输送元件和框架之间,所述输送元件固定至所述框架,从而可通过枢转调节装置的作用而旋转。
根据一个示例,第一和第二枢转调节装置布置在输送元件和框架之间,所述第一和第二枢转调节装置位于行进方向上的两个分开的点处并且被独立地控制。
根据一个示例,枢转调节装置允许在枢转方向和正交于基板平面的方向上进行调节。
根据一个示例,高度调节装置是彼此堆叠的块。
根据一个示例,高度调节装置和/或枢转调节装置是液压千斤顶或千分尺螺杆元件。
根据一个示例,第一部分的至少输送元件的位移由计算单元生成的至少一个控制信号控制。
根据一个示例,每个部分的输送元件的位移由计算单元生成的至少一个控制信号控制。
根据一个示例,每个部分的输送元件的位移由操作者手动控制。
根据一个示例,第一部分和第二部分被布置为使得在它们之间存在空间,该空间允许将热处理装置装配在第一部分和第二部分之间。
本发明还涉及一种用于操作根据前述权利要求中任一项所述的输送组件的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
- 模拟具有限定厚度的基板的平坦输送,以获得特定于所述具有限定厚度的基板的入口处下落和出口处下落的值;
- 在用于计算玻璃的调节的算法中使用入口处下落和出口处下落的值来计算要实施的调节范围;
- 生成表示要实施的调节范围的至少一个控制信号;
- 向所述组件的至少一个部件发送表示要实施的调节范围的所述至少一个控制信号。
根据一个示例,生成表示要实施的调节范围的至少两个控制信号,至少一个信号被发送到所述输送组件的每个部分。
根据一个示例,对各自均具有特定厚度的多个基板进行模拟基板的平坦输送的步骤,所述方法还包括:在该模拟步骤之后,选择基板中的一个来用于使用它的特定的入口处下落和出口处下落的值。
根据一个示例,针对属于经受热处理的基板的基板的平坦输送而进行模拟步骤。
根据一个示例,所述至少一个控制信号被发送到高度调节装置和/或枢转调节装置。
附图说明
从下面参考附图以指示性和非限制性的方式给出的描述中,其他特征和优点将变得显而易见。
- 图1是根据现有技术的输送组件的示意图,且;
- 图2a、图2b和图2c是在根据现有技术的输送组件中输送玻璃及其变形的示意图;
- 图3a和图3b是根据本发明的输送组件的示意图;
- 图4和图5是根据本发明的具有高度调节的输送组件的示意图;
- 图6至图9是根据本发明的具有枢转调节的输送组件的示意图;
- 图10是处于激光处理中的根据本发明的输送组件的示意图。
具体实施方式
图3a和3b示出了根据本发明的输送组件100。该输送组件100包括第一部分101和第二部分102。每个部分都包括框架103,在该框架上布置有输送元件110。这些输送元件110例如是安装在两个轨道112之间的辊111。一些辊111连接至马达,以允许玻璃制品或玻璃基板S沿着其行进。该玻璃基板可以具有变化的尺寸,并且尤其是“巨型”尺寸的片材(6 m x3.21 m)。将指定片材的长度为6m且宽度为3.21m,并且输送组件100允许所述玻璃片材沿着其长度移动。因此,基板S包括与支撑在输送组件100上的基板的第一边缘相对应的第一边缘S1或入口边缘。基板包括与支撑在输送组件上的基板S的最后边缘相对应的第二边缘S2或出口边缘。
巧妙地,根据本发明,输送组件100被布置为使得每个部分101、102的输送元件110以可移动的方式安装。更精确地,这些输送元件110以可移动的方式安装,以允许轮廓在玻璃的长度平面内与所述玻璃片材的弯曲相符。
输送元件110布置成沿至少一个方向可移动。
根据第一实施例,第一移动方向D1基本正交于玻璃S的平面并且允许高度调节。为此,框架103包括高度调节装置120。
在图4中可以看到的第一解决方案中,高度调节装置120是用于框架的高度调节装置121,其布置成允许调节框架103的高度。为此,用于框架的高度调节装置121可以具有各种形式。
在第一示例中,这些用于框架的高度调节装置121是添加到地板F和框架103之间的界面的块。具有限定的高度的这些块被添加或移除以调节高度。
在第二示例中,用于框架的高度调节装置121是用于液压、气动或机械调节的元件,其布置在框架103处,例如在脚中。这些用于液压、气动或机械调节的元件使得能够经由液压、气动或机械作用来升高或降低框架103。用于液压或气动调节的元件可以是千斤顶,而用于机械调节的元件可以包括带切口的管和齿轮,使得一旦轮旋转,则带切口的管便可以移动。
在图5中可以看到的第二解决方案中,高度调节装置120是用于输送元件的高度调节装置122,其布置成允许调节输送元件110(即,轨道112和辊111)的高度。用于框架的高度调节装置可以具有各种形式。
在第一示例中,这些用于输送元件的高度调节装置122是添加到输送元件110和框架103之间的界面的块。具有限定的高度的这些块被添加或移除以调节高度。
在第二示例中,用于输送元件的高度调节装置122是用于液压、气动或机械调节的元件,其布置在其间安装有辊111的轨道处。这些用于液压、气动或机械调节的元件使得能够通过液压、气动或机械作用来升高或降低所述输送元件。用于液压或气动调节的元件可以是千斤顶,而用于机械调节的元件可以包括带切口的管和齿轮,使得一旦轮旋转,则带切口的管便可以移动。
例如可以设想:对于每个部分,在四个点处(即每个轨道112两个点处)存在用于输送部件的高度调节装置122,从而可以确保恒定且稳定的间距。
如图6所示,根据与第一实施例兼容的第二实施例,设想了第二运动方向并且该第二运动方向是角运动。这种角运动在于使输送元件(即轨道112和辊111)相对于轴线枢转。这意味着改变了输送元件的倾斜度。
在第一示例中,枢转轴线被限定为第一辊111的旋转轴线,即玻璃基板S在行进方向上被支撑在其上的第一辊的旋转轴线。
为了实现该枢转运动,使用了枢转调节装置130,并且多种解决方案是可能的。
在图7中可以看到的第一解决方案在于具有输送元件110,该输送元件110在一点处固定至框架103,该固定允许根据轴线旋转。输送元件110在第二点处经由枢转调节装置130连接到框架。这些枢转调节装置130被布置成允许输送元件110的高度上的位移。至框架103的固定的位置和用于枢转调节装置的位置被限定成允许在行进方向上的最后一个辊被移动。实际上,在至框架103的固定和枢转调节装置130被定位在每个端部处的情况下,对枢转调节装置130的作用导致面向所述枢转调节装置130的输送元件110的高度上的位移。此外,由于输送元件110也固定至框架103,因此发生输送元件的枢转运动。
第二种解决方案在于具有沿输送元件110布置的枢转调节装置130,如图8和9所示。优选地,枢转调节装置130根据两个分开的纵向位置布置。第一纵向位置的枢转调节装置130和第二纵向位置的枢转调节装置130被独立地控制,并且使得可以抬升或降低所述输送元件的高度。
该构造有利地使得可以实现枢转运动。实际上,不同地作用在第一纵向位置P1的枢转调节装置和第二位置P2的枢转调节装置上会在两个纵向位置之间产生高度上的位移差异。这种差异意味着输送元件进行枢转运动。该枢转运动的特征在于枢转轴线不固定。实际上,取决于枢转调节装置130的位置和每个枢转调节装置的高度上的位移,枢转轴线会变化。
该第二解决方案是有利的,因为其允许在方向D1和D2上(即在高度上和枢转方向上)进行调节。
因此,在输送组件的情况下,第一部分和第二部分将被布置为使得角运动在这两个部分之间是互补的。然后,可以理解的是,第一部分的角运动被进行以具有上升的斜度,然后第二部分的角运动被进行以具有下降的斜度。
该输送组件以以下方式操作。
第一步骤,进行模拟。这些模拟的目的是确定给定基板S在不可调节的输送组件上的行为。为此,将输送组件的参数和基板的参数(尺寸、厚度)(视可能的热处理情况而定)输入到计算单元中,其目的是模拟玻璃基板S在所述不可调节的输送组件上的行为。
更精确地,该模拟使得可以获得在行进期间基板S的第一边缘和第二边缘的偏移值。实际上,当经过第一部分101和第二部分102之间的空间e时,第一边缘然后第二边缘以不被支撑的方式悬伸。该悬伸位置导致玻璃由于重力而弯曲。该弯曲取决于玻璃的厚度和所处的条件,特别是如果玻璃的温度已升高,则该温度升高导致更大的弯曲。
因此,存在入口跳跃,即,基板S的第一边缘的位置与第二部分102的第一辊的位置之间的偏移,以及出口跳跃,即,基板S的第二边缘的位置与第一部分101的最后一个辊的位置之间的偏移。
对具有相同宽度和长度但厚度不同的基板执行此模拟。这些模拟的结果优先存储在数据库中。
根据本发明的输送组件巧妙地链接到计算单元。该链接包括简单地使用计算单元以及将计算单元并入输送组件中。
该计算单元用于移动每个部分101、102的输送元件110。实际上,该计算单元连接到允许操作者输入数据的输入装置、用于显示结果的显示装置以及用于存储算法的存储装置。该算法是一种程序,该程序允许将运动的计算和确定应用于每个部分的输送元件,以便最大程度地限制第一边缘的位置和第二部分102的第一辊的位置之间的偏移,以及第二边缘的位置与第一部分101的最后一个辊的位置之间的偏移。
该算法是如下的一种算法,其还通过合并计算循环来模拟玻璃基板S在输送组件100上的通过,在该计算循环中,第一部分101的输送元件110和第二部分102的输送元件110沿第一和/或第二位移方向位移。对该计算循环进行编程,以使偏移尽可能小。
一旦该计算循环结束,就有两种可能性。
第一种可能性在于简单地在显示装置上显示有关要执行的运动的信息,以便操作者可以手动将其复制出来。在这种情况下,各种调节装置设有允许操作者手动调节的界面。该手动界面可以是完全手动的,即,包括联接到用于执行调节的转轮或手柄的齿轮。该界面也可以是半手动的,即,调节是通过联接到一个或多个马达的齿轮或通过泵进行的。这些马达或泵由操作者手动激活。
第二种可能性在于允许所述计算单元生成控制信号。这些控制信号经由有线连接或Wi-Fi或蓝牙无线连接或经由无线电波发送。这种第二种可能性是可能的,因为针对各个方向的调节装置可以使用千斤顶和/或千分尺螺钉,可以经由马达或泵对它们进行电控制。
因此,当操作并入有根据本发明的输送组件的输送线时,操作者选择要输送的基板。通过选择玻璃的厚度和可选的热处理来进行该选择。一旦做出该选择,则由操作者经由显示要进行的运动的值来手动进行调节,或者在生成用于控制高度调节装置和/或枢转调节装置的控制信号之后自动进行调节。
本发明可以用于各种应用。第一种应用是输送,特别是从一条输送线转移到另一条输送线。实际上,在玻璃工厂中,可能有各种输送线,每条输送线都用于特定步骤:制造玻璃片材,处理所述片材,切割或检查。各个线的这种分离通常是具有移动输送元件的情形,即,像吊桥一样操作以允许运输输送机或操作者通过。
如图10所示,本发明还用于热处理的情况。实际上,激光热处理在于产生以线的形式聚焦的激光束,玻璃基板在该激光束下通过以进行处理。该玻璃基板可以在其表面已经接受了一层,需要对其进行热处理以用于其最佳操作。因此,处理应该在玻璃基板的表面上是均匀的。然而,通过激光处理,在第一部分和第二部分之间必须具有用于激光通过的空的空间e,该空的空间的存在引起前述的玻璃弯曲问题。除了能够阻碍输送的事实之外,玻璃的这种弯曲首先导致玻璃基板相对于激光聚焦点的运动,从而导致热处理不是最佳的。因此可以理解,玻璃不能保持恒定的程度。这种热处理可能是次优的,甚至出现不规则现象,从而导致玻璃基板报废。
本发明具有两个部分的输送组件,每个部分在至少一个方向上是可移动的,使得可以使输送适应于玻璃基板所呈现的弯曲,使得玻璃基板被定位成使得聚焦点始终被定位成用于获得最佳且规则的热处理。实际上,通过调节第一部分和/或第二部分在第一方向和/或第二方向上的位置,本发明可以使玻璃基板在激光处理点即聚焦点处保持恒定程度。因此,热处理被均匀地进行。
当然,本发明不限于所示出的示例,而是可以具有对于本领域技术人员而言显而易见的各种替代和修改。
Claims (20)
1.一种用于呈片材(S)形式的玻璃制品的行进的输送组件(100),所述玻璃组件包括第一部分(101)和第二部分(102),每个部分包括框架(103),在所述框架上布置有适于允许所述玻璃制品行进的输送元件(110),行进是从所述第一部分到所述第二部分,所述第一部分和所述第二部分被布置成使得在所述第一部分的输送元件和所述第二部分的输送元件之间存在空间(e),其特征在于,至少所述第一部分的输送元件以沿至少一个调节方向可移动的方式安装,以便被移动,以便改变所述第一部分的输送元件与所述第二部分的输送元件之间的间距。
2.根据权利要求1所述的输送组件,其特征在于,所述第一部分(101)和所述第二部分(102)以沿至少一个调节方向可移动的方式安装,以便改变所述第一部分的输送元件和所述第二部分的输送元件之间的间距。
3.根据前述权利要求中任一项所述的输送组件,其中,设有以可移动的方式安装的输送元件的至少第一可移动部分包括高度调节装置(120),所述高度调节装置允许在正交于所述基板的平面的方向上进行调节。
4.根据前一项权利要求所述的输送组件,其中,所述高度调节装置(120)是位于地板和框架(102)之间的用于框架的高度调节装置(121)。
5.根据权利要求3所述的输送组件,其特征在于,所述高度调节装置(120)是位于框架(102)与输送元件(110)之间的用于输送元件的高度调节装置(122)。
6.根据前述权利要求中任一项所述的输送组件,其中,设有以可移动的方式安装的输送元件的至少第一可移动部分包括枢转调节装置(130),所述枢转调节装置允许在枢转方向上进行调节。
7.根据前一项权利要求所述的输送组件,其中,所述枢转调节装置(130)布置在所述输送元件和所述框架之间,所述输送元件固定至所述框架,从而可通过所述枢转调节装置的作用而旋转。
8.根据权利要求6所述的输送组件,其特征在于,第一和第二枢转调节装置(130)布置在所述输送元件和所述框架之间,所述第一和第二枢转调节装置位于行进方向上的两个分开的点(P1、P2)处并且被独立地控制。
9.根据前述权利要求中任一项所述的输送组件,其中,所述枢转调节装置允许在枢转方向和正交于所述基板的平面的方向上进行调节。
10.根据权利要求3至5中任一项所述的输送组件,其中,所述高度调节装置是彼此堆叠的块。
11.根据权利要求3至5中任一项所述的输送组件,其中,所述高度调节装置和/或所述枢转调节装置是液压千斤顶或千分尺螺杆元件。
12.根据前述权利要求中任一项所述的输送组件,其特征在于,所述第一部分的至少输送元件的位移由计算单元生成的至少一个控制信号控制。
13.根据权利要求2至11中任一项所述的输送组件,其中,每个部分的输送元件的位移由计算单元生成的至少一个控制信号控制。
14.根据权利要求2至11中任一项所述的输送组件,其中,每个部分的输送元件的位移由操作者手动控制。
15.根据前述权利要求中任一项所述的输送组件,其中,所述第一部分和所述第二部分被布置为使得在它们之间存在空间,所述空间允许将热处理装置装配在所述第一部分和所述第二部分之间。
16.一种用于操作根据前述权利要求中任一项所述的输送组件的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
- 模拟具有限定厚度的基板(S)的平坦输送,以获得特定于所述具有限定厚度的基板的入口处下落和出口处下落的值;
- 在用于计算玻璃的调节的算法中使用入口处下落和出口处下落的值来计算要实施的调节范围;
- 生成表示要实施的调节范围的至少一个控制信号;
- 向所述组件的至少一个部分发送表示要实施的调节范围的所述至少一个控制信号。
17.根据权利要求16所述的方法,其特征在于,生成表示要实施的调节范围的至少两个控制信号,至少一个信号被发送到所述输送组件的每个部分。
18.根据权利要求16或17所述的方法,其中,对各自均具有特定厚度的多个基板进行模拟基板的平坦输送的步骤,所述方法还包括:在该模拟步骤之后,选择基板中的一个来用于使用它的特定的入口处下落和出口处下落的值。
19.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,针对属于经受热处理的基板的基板的平坦输送而进行所述模拟步骤。
20.根据权利要求16至19中任一项所述的方法,其中,所述至少一个控制信号被发送到高度调节装置和/或枢转调节装置。
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PB01 | Publication | ||
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
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