CN112008503B - 中抛方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种中抛方法,该中抛方法通过将待抛光面为非圆周面的待抛光件固定于抛光治具的固定机构上,且待抛光件需要增大磨削量的面靠近立柱,减小不同面之间的磨削程度的差异,从而使得待抛光面为非圆周面的待抛光件的各个被抛光的面在抛光过程中受到的摩擦阻力均匀、磨削程度相差小而抛光均匀,提高生产良率。
Description
技术领域
本发明涉及抛光技术领域,特别是涉及一种中抛方法。
背景技术
随着人们生活水平的提高,电子产品(例如手机、笔记本电脑)已成为人们物质生活不可缺少的一部分,而含有金属结构件的电子产品,由于其特有的金属质感而受到消费者青睐。
一般地,金属结构件由金属经过锻压或冲压成型,然而经过锻压或冲压形成的金属结构件表面往往存在毛剌、划痕、砂眼等肉眼可见的缺陷,也不具光亮的金属光泽感或镜面效果。所以,在金属结构件成型之后一般需要对其表面进行抛光处理。
抛光一般包括粗抛、中抛和精抛。粗抛、中抛和精抛是三种不同的工序,各自具有其对应的应用场景:粗抛是用粗抛光磨料或硬轮对工件表面进行磨削或研磨,主要用来除去零件表面的毛剌、刀痕、锈痕、砂眼、气泡、焊瘤、焊渣等宏观缺陷;中抛主要是除去粗抛时留下的划痕,产生平滑、中等光亮的表面效果;精抛在中抛后,可以进一步降低表面的粗糙度,达到微观平整、镜面效果。
传统的中抛一般是在驱动抛光轮转动而待抛光件不动的抛光机中进行,受限于抛光轮与待抛光件之间的位置和角度关系,容易出现无法抛光的死角。近年来出现了一种运用流体抛光机的中抛技术:通过将待抛光件置于承装有中抛研磨料的流体抛光机中,在流体抛光机的驱动组件的驱使下使得待抛光件与中抛研磨料发生相对运动,从而使得待抛光件被抛光。
在使用流体抛光机进行中抛时,由于中抛研磨料呈流体形态,容易使待抛光件的各个地方都被抛光,不容易出现抛光死角。对于待抛光面为圆周面的待抛光件,由于待抛光件在驱动组件的作用下沿其中心轴旋转,待抛光面能被中抛研磨料均匀抛光。然而,对于待抛光面为非圆周面的待抛光件,例如手机中框,待抛光面为四个矩形面围成的矩形周面,通过流体抛光机直接中抛之后,容易出现只有一部分被抛光的面符合中抛标准,良率较低。虽然可以通过不断地调整待抛光件的位置来使得各个面之间的抛光均匀性,提高良率,但这种方式的生产成本高。
发明内容
基于此,有必要提供一种中抛方法,按照该方法对待抛光面为非圆周面的待抛光件进行中抛时,良率高且生产成本较低。
一种中抛方法,其特征在于,包括以下步骤:
将研磨料置于物料槽中,其中,所述研磨料的原料包括核桃砂和中抛添加剂,所述核桃砂的粒径为0.56mm~1.06mm,以体积份数计,所述中抛添加剂包括7份~10份的植物油、54份~60份的中抛液和30份~39份的溶剂,所述中抛液包括氧化铝颗粒、润滑剂和水,所述氧化铝颗粒的粒径在0.5μm以上且小于1μm;所述中抛添加剂的体积与所述核桃砂的质量之比为1L:(150kg~175kg);
将待抛光件装载入抛光治具后,置于所述物料槽中,其中,所述抛光治具包括固定机构、旋转轴和立柱,所述待抛光件的待抛光面为非圆周面,所述待抛光件被固定于所述固定结构中,且所述待抛光面中需要增大磨削程度的面靠近所述立柱;及
驱动所述旋转轴旋转,以使所述待抛光件随所述旋转轴旋转而被所述研磨料抛光。
对于待抛光面为圆周面的工件,圆周面上所有点到旋转轴的垂直距离均相等,圆周面受到的摩擦阻力相同,因此,采用流体抛光机抛光的效果是均匀的。然而,对于待抛光面为非圆周面的工件,在需要抛光的多个面中至少有一个面到旋转轴的距离与其他面到旋转轴的距离不等,使得至少一个面受到的摩擦阻力与其他面受到的摩擦阻力不同而受到不同的磨削,进而造成抛光不均匀。例如手机中框,在需要被抛光的顶面、两个侧面及底面中,顶面和底面到旋转轴的距离与侧面到旋转轴的距离不等(顶面和底面到旋转轴的距离大于侧面到旋转轴的距离),使得顶面和底面的摩擦阻力与两个侧面受到的摩擦阻力不等,从而使得顶面和侧面在旋转过程中受到的磨削程度不同而抛光程度不同,在同一条件下无法对所有面抛光均匀,进而使得一部分被抛光的面符合中抛标准,而另一部分不符合中抛标准,中抛的良率低。
上述中抛方法通过将待抛光件固定于抛光治具的固定机构上,且待抛光件需要增大磨削量的面靠近立柱,减小不同面之间的磨削程度的差异,从而使得待抛光面为非圆周面的待抛光件的各个被抛光的面在中抛过程中受到的摩擦阻力均匀、磨削程度相差小而抛光均匀,提高了生产良率,且不必在中抛过程中不断地调整待抛光件的位置,生产效率高、成本低;此外,通过对中抛研磨料的优化选择,采用包括粒径为0.56mm~1.06mm的核桃砂和中抛添加剂的研磨料,使得中抛能在较短的时间内完成且效果较好,进一步提高了中抛的生产效率。
在其中一个实施例中,所述固定机构包括第一固定件和与所述第一固定件间隔且相对设置的第二固定件,所述第二固定件具有承载面,所述旋转轴位于所述第一固定件上并向远离所述第二固定件的方向延伸,所述立柱位于所述第一固定件和所述第二固定件之间,所述立柱与所述第一固定件和所述第二固定件均连接,所述立柱在所述承载面的正投影与所述旋转轴在所述承载面的正投影间隔,所述待抛光件被固定于所述第一固定件和所述第二固定件间。
在其中一个实施例中,所述抛光治具具有安装面,所述安装面朝向所述承载面,在静态条件下,所述研磨料在所述物料槽中的高度与所述安装面到所述物料槽的槽底的距离的差为5cm~10cm。
在其中一个实施例中,所述旋转轴的旋转频率为35Hz~55Hz,所述旋转轴正反向交替旋转,所述正反向交替旋转的时间间隔为1min~10min。
在其中一个实施例中,在所述将研磨料置于物料槽中的步骤之前,还包括制备研磨料的步骤,所述制备研磨料的步骤包括:
在将所述核桃砂置于物料槽中后,将所述中抛添加剂置于所述物料槽中;及
用空载的所述抛光治具将所述物料槽中的核桃砂和中抛添加剂混合均匀。
在其中一个实施例中,所述立柱有两根,两根所述立柱以所述旋转轴为对称轴间隔设置,所述待抛光面为矩形周面,所述待抛光面具有两个到所述旋转轴的距离较短的侧面,将所述待抛光件装载入抛光治具的步骤包括:将所述待抛光件固定于固定机构中,并使所述待抛光件的待抛光面的到所述旋转轴的距离较短的侧面朝向所述立柱。
在其中一个实施例中,在所述驱动所述旋转轴旋转的步骤之后,还包括检查固定于所述固定机构上的待抛光件的中抛程度,并根据所述待抛光件的中抛程度判断是否继续抛光的步骤。
在其中一个实施例中,所述检查固定于所述固定机构上的待抛光件的中抛程度,并根据所述待抛光件的中抛程度判断是否继续抛光的步骤包括:
暂停旋转轴旋转;及
将所述固定机构上的待抛光件取下,并置于在800LUX~1000LUX光源下检查,若所述待抛光件表面无粗抛划痕,则停止抛光;若所述待抛光件表面有粗抛划痕,则将所述待抛光件重新装载入所述抛光治具后继续抛光。
在其中一个实施例中,所述立柱与第二固定件固接,所述立柱与所述第一固定件活动连接,所述立柱靠近所述第一固定件的一端具有螺纹,且靠近所述螺纹处套设有与所述螺纹相匹配的螺母,所述将待抛光件装载入抛光治具中的步骤包括:
将所述待抛光件置于所述第一固定件和所述第二固定件之间;及
旋转所述螺母,使得所述螺母向靠近所述第二固定件的方向运动,以将所述抛光件固定于所述第一固定件和所述第二固定件之间。
在其中一个实施例中,所述待抛光件有多个,所述抛光治具还包括隔板,所述隔板具有第一面,所述第一面上开设有导流槽,所述将待抛光件装载入抛光治具中的步骤包括:
将多个所述待抛光件置于所述第一固定件和所述第一固定件之间,并用所述隔板将相邻的所述待抛光件间隔,且所述导流槽的槽口朝向所述立柱;及
旋转所述螺母,使得所述螺母向靠近所述第二固定件的方向运动,以将多个所述抛光件固定于所述第一固定件和所述第二固定件之间。
附图说明
图1为一实施方式的抛光治具;
图2为图1所示的抛光治具的俯视图;
图3为图1所示的抛光治具的侧视图;
图4为图1所示的抛光治具的正视图;
图5为图1所述的抛光治具的局部图;
图6为图1所述的抛光治具的部分拆解图;
图7为实施例1的其中一个待抛光件中抛前的局部图;
图8为图7的待抛光件经中抛后的局部图。
具体实施方式
为了便于理解本发明,下面将对本发明进行更全面的描述,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使本发明公开内容更加透彻全面。
需要说明的是,当元件被表述“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上、或者其间可以存在一个或多个居中的元件。当一个元件被表述“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件、或者其间可以存在一个或多个居中的元件。当使用术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”、“上”、“下”、“内”、“外”、“底部”等指示方位或位置关系时,是为基于附图所示的方位或位置关系,仅为了便于描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本发明。
请参阅图1~图4,本发明一实施方式提供了一种抛光治具100,该抛光治具100包括固定机构110、旋转轴120、立柱130和隔板140。
请参阅图2和图5,固定机构110用于将待抛光件20固定在抛光治具100中。固定机构110包括第一固定件111和与第一固定件111相对的第二固定件113,并且第一固定件111与第二固定件113间隔设置。具体地,第一固定件111包括框体111a和与框体111a连接的支架111b,支架111b位于框体111a内,支架111b包括主体部111c和支臂111d,支架111b与框体111a通过支臂111d连接。更具体地,支臂111d的一端与主体部111c连接,另一端与框体111a连接。
在图示的实施例中,第一固定件111由框体111a和与框体111a连接的支架111b框体111a组成,第一固定件111在水平面的正投影大致呈六边形,支臂111d的个数为四个,相邻两个支臂111d之间的夹角为直角,且四个支臂111d的长度相等。通过将第一固定件111设置为包括框体111a和支架111b的镂空结构,可以节省材料,同时减轻抛光治具100的重量,提高能量的利用率。
当然,在其他实施例中,框体111a在水平面的正投影不限于六边形,还可以其他形状,例如长方形、正方形、多边形等。可以理解的是,在其他实施例中,第一固定件111不限于上述由框体111a和支架111b组成的镂空结构,还可以非镂空的结构,例如板状结构。当然,在其他实施例中,多个支臂111d的长度不必全相同。例如,可以是共线上的支臂111d的长度相同,而不同线的支臂111d的长度不同。又例如,各个支臂111d的长度各不相同。
第一固定件111具有安装面111e。在其中一个实施例中,在安装面111e上设有与待抛光件20匹配的加固件,用于加固抛光件,降低待抛光件20在旋转过程中脱落的风险。例如由安装面111e凹陷而形成且能够收容抛光件的凹槽;又例如凸设于安装面111e且能够与待抛光件20上的凹陷部相匹配的凸起。当然,加固件的结构不限于上述描述,还可以其他结构,只要能够提高待抛光件20与第一固定件111之间的稳定性,降低待抛光件20在旋转过程中从固定机构110中脱落的风险即可。
在本实施方式中,第一固定件111的材料为耐磨的刚性材料,例如铁合金。
第二固定件113具有承载面113a,承载面113a与安装面111e相对。在图示的实施例中,承载面113a与水平面平行。第二固定件113的结构和形状没有特别限制,只要能够以第一固定件111配合,用于固定待抛光件20即可。在图示的实施例中,第二固定件113的结构与第一固定件111的结构相同。当然,在其他实施例中,第二固定件113的结构与第一固定件111的结构也可以不同。
在本实施方式中,第二固定件113的材料为耐磨的刚性材料,例如铁合金。
旋转轴120位于第一固定件111上并向远离第二固定件113的方向延伸,用于在动力的驱动下旋转待抛光件20。具体地,旋转轴120的一端与第一固定件111连接,旋转轴120的另一端用于与驱动机构连接,在驱动机构的驱动下,旋转轴120带动抛光治具100旋转而使得待抛光件20旋转。可以理解的是,旋转轴120的一端与第一固定件111的连接可以是固接,也可以是可拆卸连接。当然,旋转轴120的另一端与驱动机构的连接可以是固接,也可以是可拆卸连接。
在图示的实施例中,主体部111c大致呈圆柱形,旋转轴120位于主体部111c的中轴线上并向远离第二固定件113的方向延伸,旋转轴120垂直于第一固定件111所在的平面;旋转轴120到框体111b的两个平行边的距离相等。需要说明的是,旋转轴120到框体111b的平行边的距离是指旋转轴120的中轴线到框体111b平行边的距离。本文中描述的旋转轴120到其他部件的距离也均是指旋转轴120的中轴线到其他部件的距离。
在本实施方式中,旋转轴120的材料为耐磨的刚性材料,例如铁合金。
立柱130用于增大待抛光件20上到旋转轴120的距离较短的面的摩擦阻力,减小待抛光件20上到旋转轴120的距离较长的面的摩擦阻力,从而使得待抛光件20上各个被抛光的面受到的磨削程度相近。当然,立柱130还具有使得异形的待抛光件20旋转更加平衡的作用。
具体地,立柱130位于第一固定件111和第二固定件113之间,立柱130与第一固定件111和第二固定件113均连接。在本实施方式中,立柱130与第一固定件111和第二固定件113中的至少一个可拆卸连接,以便于第一固定件111和第二固定件113能相对运动而固定待抛光件20。
在一个可选地具体示例中,立柱130与第二固定件113固接,立柱130与第一固定件111可拆卸连接。具体地,立柱130的一端与第二固定件113固接;立柱130靠近第一固定件111的一端具有螺纹,并设有与螺纹匹配的螺母,立柱130靠近第一固定件111的一端穿过第一固定件111与螺母螺接。通过立柱130上的螺纹和与螺纹配合的螺母,使得第一固定件111与第二固定件113能够夹持固定位于两者之间的待抛光件20。
可以理解的是,在其他实施例中,立柱130靠近第一固定件111的一端与第一固定件111的可拆卸链接并不限于螺接,还可以卡接或其他常用的可拆卸链接方式。在此实施例中,立柱130除了用于增大到旋转轴120的距离较短的面的摩擦阻力、减小到旋转轴120的距离较长的面的摩擦阻力的作用,还具有与第一固定件111和第二固定件113配合以固定待抛光件20的作用。当然,在其他实施例中,固定待抛光件20由固定机构110独立完成时,立柱130也可以不参与其中。此时,固定机构110还需要其他结构辅助第一固定件111和第二固定件113来完成待抛光件20的固定。例如压紧机构,通过压紧机构、第一固定件111和第二固定件113将待抛光件20固定于第一固定件111和第二固定件113之间。
在另一个可选地具体中,立柱130与第一固定件111固接,立柱130与第二固定件113可拆卸连接。具体地,立柱130的一端与第一固定件111固接;立柱130靠近第二固定件113的一端具有螺纹,并设有与螺纹匹配的螺母,立柱130靠近第二固定件113的一端穿过第二固定件113与螺母螺接。通过立柱130上的螺纹和与螺纹配合的螺母,使得第一固定件111与第二固定件113能够夹持固定位于两者之间的待抛光件20。当然,在其他实施例中,立柱130与第二固定件113的可拆卸链接并不限于螺接,还可以卡接或其他常用的可拆卸链接方式。同样地,在此实施例中,立柱130除了用于增大到旋转轴120的距离较短的面的摩擦阻力、减小到旋转轴120的距离较长的面的摩擦阻力的作用,还具有与第一固定件111、第二固定件113配合以固定待抛光件20的作用。当然,在其他实施例中,固定待抛光件20由固定机构110独立完成时,同样地,立柱130也可以不参与其中。
在其中一个实施例中,立柱130的数量为一根。该立柱130的一端与第一固定件111连接,另一端与第二固定件113连接。此时,待抛光件20具有至少一个到旋转轴120的距离与其他面到旋转轴120的距离不相等的面。在使用时,立柱130靠近到旋转轴120的距离最短的面,用于增大到旋转轴120的距离最短的面的摩擦阻力,减小到旋转轴120的距离较长的面的摩擦阻力。例如待抛光件20是横截面为非正三角形的三棱柱、横截面为矩形和三角形形成的五边形的五棱柱等。以待抛光件20是横截面为非正三角形的三棱柱、待抛光面为三棱柱的三个侧面为例,在使用时,将待抛光件20固定于第一固定件111和第二固定件113之间,且待抛光件20的中轴线与旋转轴120的中轴线共线、待抛光件20到旋转轴120的距离最短的一面靠近立柱130(横截面的三角形中最长边靠近立柱130),在驱动力的作用下三棱柱状的待抛光件20绕旋转轴120旋转的过程中,立柱130的设置减小其他两面的摩擦阻力,同时增加到旋转轴120的距离最短的一面的摩擦阻力,从而使得该三棱柱状的待抛光件20的三个面摩擦阻力相近、磨削量相同,进而使得三棱柱的三个面抛光均匀。需要说明的是,到旋转轴120的距离是指到旋转轴120的中轴线的距离。
在其中一个实施例中,立柱130有两根,两根立柱130间隔设置,并且两根立柱130的中轴线与旋转轴120的中轴线共面,两根立柱130分别位于旋转轴120的两侧。第一固定件111在承载面113a的正投影为六边形,该六边形具有第一边和与第一边平行的第二边,立柱130在承载面113a的正投影靠近与第一边相邻的边和与第二边相邻的边形成的顶点。在图示的实施例中,两个立柱130的中轴线均与旋转轴120的中轴线平行,且两个立柱130的中轴线与旋转轴120的中轴线共面,两根立柱130以旋转轴120为对称轴对称设置。此时,待抛光件20具有两个到旋转轴120的距离最短的面。在使用时,两根立柱130分别靠近两个到旋转轴120的距离最短的面,用于增大到旋转轴120的距离最短的面的摩擦阻力,减小到旋转轴120的距离较长的面的摩擦阻力。
例如,待抛光件20为手机中框,在旋转时,手机中框的两个侧面到旋转轴120的距离最短,则在固定机构110的配合下将手机中框置于两根立柱130之间固定,其中侧面靠近立柱130。在驱动力的作用下手机中框绕旋转轴120旋转时,立柱130的设置减小顶面和底面的摩擦阻力,同时增加两个侧面的摩擦阻力,从而使得手机中框的四个面摩擦阻力相近,抛光均匀。需要说明的是,本文的手机中框是具有两个相对的侧面、与两个侧面均相邻的顶面和与顶面相对的底面的矩形框体。
可以理解的是,立柱130到旋转轴120的距离不限于上述,可以根据需要调整的磨削程度进行调整。例如,需要调整的磨削程度较大(靠近立柱130的面与其他面的磨削程度相差大时),则设置的立柱130到旋转轴120的距离较远;需要调整的磨削程度较小(靠近立柱130的面与其他面的磨削程度相差较小时),则设置的立柱130到旋转轴120的距离较近。
当然,在一些实施例中,立柱130还可以与旋转轴120不平行。例如,待抛光件20为锥形,该锥形包括外周面和底组成,待抛光面为外周面。此时,立柱130可以与旋转轴120的延长线呈一定角度,以使得在待抛光件20在旋转的过程中外周面受到的摩擦阻力相同而抛光均匀,避免靠近底的外周面与远离底的外周面的抛光程度不同而不均匀。
可以理解的是,在其他实施例中,立柱130的根数不限于上述,还可以其他大于二的任一整数。具体立柱130的根数和立柱130到旋转轴120的距离可以根据待抛光件20的形状进行调整,例如需要增大多个面的磨削程度,则在相应的面上增加立柱130。需要说明的是,一个面上对应增加的立柱130的根数也不限于一根,还可以多根;增加多根立柱130时,多根立柱130间隔排列,多根立柱130到旋转轴120的距离可以相等,也可以不相等。
在其中一个实施例中,立柱130的形状没有特别限制,例如可以是圆柱状、三棱柱状、条状等。
在本实施方式中,立柱130的材料为耐磨的刚性材料,例如铁合金。
请一并参阅图6,隔板140设于第一固定件111与第二固定件113之间,用于间隔相邻的待抛光件20。具体地,隔板140上设有与待抛光件20相匹配的限位件141,限位件141用于减少待抛光件20与隔板140之间的相对滑动,使得待抛光件20与隔板140能够相对静止,避免待抛光件20在旋转过程中由于离心力的作用而从固定机构110中脱落。在图示的实施例中,限位件141为隔板140上开设的凹槽和凸起。当然,在其他实施例中,限位件141不限于上述凹槽和凸起,例如,还可以只是凹槽、或只是凸起。当然,隔板140的大小需与待抛光件20的大小相匹配,以保证待抛光件20的外周面能够被抛光。例如,隔板140的边缘在承载面113上的正投影位于待抛光件20的边缘在承载面113上的正投影内。
在图示的实施例中,隔板140呈矩形片状,隔板140具有第一面143,在第一面143上开设有导流槽144。导流槽144的设置可以进一步提高研磨料对抛光面的摩擦阻力,提高磨削量。在使用时,将隔板140具有导流槽144的侧面与到旋转轴120的距离较短的一面平行,增加研磨料对到旋转轴120的距离较短的一面的磨削,从而使得到旋转轴120的距离较短的一面与其他面的磨削程度相近,抛光均匀。
在一个可选地具体示例中,导流槽144的截面呈U形。U形的导流槽144利用研磨材料从导流槽144中流出,减少研磨料在导流槽144中滞留而不易增加抛光治具100在旋转过程中的重量。当然,在其他实施例中,导流槽144的形状不限于U形,还可以是其他形状。可以理解的是,在一些实施例中,导流槽144可以省略。
在一个可选地具体示例中,导流槽144呈U形,导流槽144的开口呈矩形,第一面143呈矩形,导流槽144的深度(导流槽144的深度是指导流槽144开口所在的平面与导流槽144的槽底之间的距离)为3mm~7mm;导流槽144的长边到第一面143的长边边缘的最短距离为0.3mm~0.7mm;导流槽144的宽边与第一面143的宽边边缘的最短距离为8mm~12mm。当然,在其他实施例中,导流槽144的深度和与第一面143的边缘的距离不限于上述,还可以根据需要增大的磨削程度就行调整。
在本实施方式中,隔板140的材质为耐磨的材料。例如塑料,塑料不容易在抛光过程中被磨损,增加隔板140的使用寿命。具体地,隔板140的材质为白赛钢。当然,在其他实施例中,隔板140的材质不限于白赛钢,还可以其他材料,例如玻璃纤维、黑赛钢、电木、耐磨性较好的聚氨酯塑料等。
当然,隔板140的数量没有特别限制,可以根据需要加装的待抛光件20的数量进行适应性地设置。当然,隔板140的形状没有特别的限制,只要能够间隔相邻的两个待抛光件20即可。
在本实施方式中,抛光治具100还包括顶板150和底板160,用于避免固定机构110对待抛光件20的损伤。具体地,顶板150靠近第一固定件111设置,底板160靠近第二固定件113设置,顶板150与第一固定件111连接,底板160与第二固定件113连接。在使用时,顶板150位于靠近第一固定件111的待抛光件20和第一固定件111之间,底板160位于第二固定件113和靠近第二固定件113的待抛光件20之间。当然,在只有一个待抛光件20时,第二固定件113、底板160、待抛光件20、顶板150和第一固定件111依次层叠。更具体地,顶板150与第一固定件111固接或可拆卸连接,底板160与第二固定件113固接或可拆卸连接。
在图5所示的实施例中,顶板150靠近待抛光件20的一侧设有与待抛光件20相匹配的凸起,用于防止待抛光件20在旋转过程中与顶板150发生相对运动而使得待抛光件20滑出;底板160靠近待抛光件20的一侧设有与待抛光件20相匹配的凸起和凹槽,这些凸起和凹槽用于底板160用于防止待抛光件20在旋转过程中与底板160发生相对运动而使得待抛光件20滑出。当然,在一些实施例中,上述顶板150上的凸起可以省略,上述底板160上的凹槽和凸起也可以省略,只要此时待抛光件20在旋转过程中不会滑出即可。
可以理解的是,在一些实施例中,顶板150可以省略,此时只要在抛光过程中,第一固定件111的材质不会对待抛光件20造成损伤且待抛光件20即可。同样地,在一些实施例中,底板160也可以省略,此时只要在抛光过程中,第二固定件113的材质不会对待抛光件20造成损伤且待抛光件20即可。
上述抛光治具100至少具有以下优点:
(1)对于抛光面为非圆周面的待抛光件20,在需要抛光的多个面中至少有一个面到旋转轴120的距离与其他面到旋转轴120的距离不等,存在到旋转轴120的距离较长的面和到旋转轴120的距离较短的面。因此,待抛光件20在做圆周运动时各个面上受到的摩擦阻力不同,受到研磨料的磨削程度不同,从而使得非圆周面的待抛光件20抛光不均匀。而上述抛光治具100通过增设立柱130,增大到旋转轴120的距离较短的面的摩擦阻力、增大到旋转轴120的距离较短的面的磨削程度,减小到旋转轴120的距离较长的面的摩擦阻力、减小到旋转轴120的距离较长的面的磨削程度,使得各个被抛光面受到的摩擦阻力大致相近而被抛光程度相近,各个面抛光均匀。
(2)通过在隔板140上开设导流槽144,还可以提高研磨料对到旋转轴120的距离较短的面的磨削程度,进一步缩小因到旋转轴120的距离不等而造成的磨削程度的差异,使得到旋转轴120的距离较短的一面与其他面的磨削程度大致相同而抛光均匀。
本发明一实施方式还提供一种抛光装置,该抛光装置包括驱动机构、控制系统、上述任意一种抛光治具和物料槽。
具体地,驱动机构与抛光治具的旋转轴连接,用于为抛光治具的旋转提供驱动力。在本实施方式中,驱动机构与旋转轴可拆卸连接。当然,在一些实施例中,驱动机构与旋转轴的连接方式不限于可拆卸连接,还可以是固接。在一个可选地具体示例中,驱动机构包括主轴,主轴与旋转轴固接,旋转轴随着主轴的旋转而旋转。在另一个可选地具体示例中,驱动机构包括主轴,主轴与旋转轴传动连接,旋转轴随着主轴的旋转而旋转。
控制系统用于控制驱动机构的运转。具体地,控制系统用于控制驱动机构的主轴的旋转频率。控制系统通过控住驱动机构的主轴的旋转而控制旋转轴的旋转。
在一个可选地具体示例中,抛光装置包括多个抛光治具,各个抛光治具的旋转轴分别与驱动机构连接。
物料槽用于承装研磨料。物料槽的形状并没有限制。例如,可以为具有开口的圆桶状。可以理解的是,在一些实施方式中,物料槽可以省略。在使用时,用其他能够承装研磨料且能够与抛光治具配合的容器即可。
上述抛光装置包括上述抛光治具,具有相应的优点。
本发明一实施方式还提供一种的中抛方法,包括步骤a~步骤c:
步骤a:制备研磨料。
具体地,将研磨料的原料置于物料槽中,并混合均匀,得到研磨料。其中,研磨料的原料包括核桃砂和中抛添加剂,中抛添加剂的体积与核桃砂的质量之比为1L:(150kg~175kg)。进一步地,制备研磨料的步骤包括:在将核桃砂置于物料槽后,将中抛添加剂置于物料槽中;及用空载的抛光治具将物料槽中的核桃砂和中抛添加剂混合均匀。当然,可以理解的是,在其他实施方式中,将核桃砂和中抛添加剂混合均匀的方式不限于上述,还可以是本领域常用的其他混合方式。
具体地,核桃砂的粒径为0.56mm~1.06mm;以体积份数计,中抛添加剂包括7份~10份的植物油、54份~60份的中抛液和30份~39份的溶剂,中抛液包括氧化铝颗粒、润滑剂和水,氧化铝颗粒的粒径在0.5μm以上且小于1μm。选择粒径为0.56mm~1.06mm的核桃砂,可以使得在使用上述抛光治具时在较短时间内就可以达到良好的中抛效果,能够收掉轻微划伤、擦伤及粗抛磨痕,同时使产品具有一定的亮度。进一步地,核桃砂的粒径为0.56mm~0.88mm。在一个可选地具体示例中,研磨料为粒径为0.56mm~1.06mm的核桃砂。
在中抛添加剂中,植物油用于与中抛添加剂的其他组分配合,提高核桃砂的中抛效果。具体地,植物油选自花生油、菜籽油、芝麻油、蓖麻油、棉籽油、葵花籽油、亚麻油、红花籽油、茶籽油、大豆油和玉米油中的至少一种。进一步地,植物油选自花生油、茶籽油、大豆油和亚麻油中的一种。当然,在其他一些实施例中,植物油不限于上述,还可以在常温下为液态的其他植物油。
在一个可选地具体示例中,以体积份数计,植物油的份数为8份~10份。进一步地,以体积份数计,植物油的份数为8份、9份或10份。以体积份数计,植物油的份数为8份~9份。植物油按照上述的份数设置具有润滑作用,且还有降低核桃砂在打磨抛光过程中的温度的作用,而且植物油与中抛液及溶剂的配合,使得上述中抛添加剂具有黏性,进而能够提高核桃砂的黏稠度,增加核桃砂的抛光磨削量,提高中抛效果。当植物油在上述中抛添加剂的份数高于10份时,会使核桃砂的磨削力降低,不利于收掉粗抛磨痕。当植物油在上述中抛添加剂的份数低于7份时,中抛磨痕较粗。
在中抛添加剂中,溶剂用于提高植物油和中抛液混合均匀性,进而提高中抛效果。在一个可选地具体示例中,溶剂选自开油水和水中的至少一种。进一步地,溶剂选自开油水、去离子水和纯水中的一种。当然,在其他实施例中,溶剂还可以是本领域常用的其他溶剂,只要能够利于植物油和中抛液混合均匀即可。
具体地,中抛液包括氧化铝颗粒、润滑剂和水。中抛液中的氧化铝颗粒的粒径为微米或亚微米级。在一个可选地具体示例中,以质量百分含量计,中抛液中的氧化铝颗粒的含量为35%~45%。进一步地,中抛液中的氧化铝颗粒的含量为40%~45%。润滑剂为硬脂酸、硬脂酸钙及石蜡中的至少一种。进一步地,润滑剂为硬脂酸。在一个可选地具体示例中,以质量百分含量计,中抛液中的润滑剂的含量为20%~25%。进一步地,中抛液中的润滑剂的含量为22%~25%。
在其中一个实施例中,中抛液还包括分散剂,分散剂选自丙三醇及六偏磷酸拿中的至少一种。以质量百分含量计,中抛液中的分散剂的含量为5%~10%。进一步地,中抛液中的分散剂的质量含量为6%~8%。
在其中一个实施例中,中抛液还包括表面活性剂,表面活性剂选自十六烷基硫酸钠及壬基酚聚氧乙烯醚中的至少一种。以质量百分含量计,中抛液中的表面活性剂的含量为3%~5%。进一步地,中抛液中的分散剂的质量含量为3.5%~4.5%。
在其中一个实施例中,中抛液包括氧化铝颗粒、润滑剂、分散剂、表面活性剂和水,氧化铝颗粒的粒径在0.5μm以上且小于1μm。进一步地,以质量百分含量计,中抛液中氧化铝颗粒的含量为35%~45%,中抛液中润滑剂的含量为20%~25%,中抛液中分散剂的含量为5%~10%,中抛液中表面活性剂的含量为3%~5%,中抛液中水的含量为16%~35%。需要说明的是,上述中抛液中的润滑剂、分散剂、表面活性剂均不限于上述,还可以是本领域常用的其他物质。在一个可选地具体示例中,中抛液为GH-303z中抛液。
在其中一个实施例中,在其中一个实施例中,植物油与中抛液的体积之比为:1:(5~7.5)。进一步地,植物油与中抛液的体积之比为:1:(5.5~6.5)。
在其中一个实施例中,以体积份数计,上述中抛添加剂包括8份~10份的植物油、55份~60份的中抛液和30份~37份的溶剂。按照中抛添加剂按照上述设置可以是的抛光效果稳定性好,打磨一致性高。进一步地,以体积份数计,上述中抛添加剂包括8份~10份的植物油、55份~58份的中抛液和34份~35份的溶剂。更进一步地,上述中抛添加剂包括8份~9份的植物油、55份~58份的中抛液和34份~35份的溶剂。
在其中一个实施例中,研磨料中的中抛添加剂的体积与核桃砂的质量之比为1L:(155kg~170kg)。
步骤b:将待抛光件装载入上述任一抛光治具中,然后置于承装有研磨料的物料槽中。
具体地,抛光治具包括固定机构、旋转轴和立柱,待抛光件的待抛光面为非圆周面,待抛光件被固定于固定结构中,且待抛光面中需要增大磨削程度的面靠近立柱。进一步地,固定机构包括第一固定件和与第一固定件间隔且相对设置的第二固定件,第二固定件具有承载面,旋转轴位于第一固定件上并向远离第二固定件的方向延伸,立柱位于第一固定件和第二固定件之间,立柱与第一固定件和第二固定件均连接,立柱在承载面的正投影与旋转轴在承载面的正投影间隔,待抛光件被固定于第一固定件和第二固定件间。
在一个可选地具体示例中,立柱有两根,两根立柱以旋转轴为对称轴间隔设置,待抛光面为矩形周面,待抛光面具有两个到旋转轴的距离较短的侧面,将待抛光件装载入抛光治具的步骤包括:将待抛光件固定于固定机构中,并使待抛光件的待抛光面的到旋转轴的距离较短的侧面朝向立柱。进一步地,待抛光件为手机中框。此时,将待抛光件装载入抛光治具的步骤包括:将手机中框固定于上述具有两根立柱的抛光治具中,并使手机中框的两个侧面到旋转轴的距离相等,手机中框的底面到旋转轴的距离与手机中框的顶面到旋转轴的距离相等,手机中框的侧面靠近立柱,两个立柱和旋转轴在承载面上的投影共线。
在一个可选地具体示例中,立柱与第二固定件固接,立柱与第一固定件活动连接,立柱靠近第一固定件的一端具有螺纹,且靠近螺纹处套设有与螺纹相匹配的螺母,将待抛光件装载入抛光治具中的步骤包括:将待抛光件置于第一固定件和第二固定件之间;及旋转螺母,使得螺母向靠近第二固定件的方向运动,以将抛光件固定于第一固定件和第二固定件之间。
在一个可选地具体示例中,待抛光件有多个,抛光治具还包括隔板,隔板具有第一面,第一面上开设有导流槽,将待抛光件装载入抛光治具中的步骤包括:将多个待抛光件置于第一固定件和第一固定件之间,并用隔板将相邻的待抛光件间隔,且导流槽的槽口朝向立柱;及旋转螺母,使得螺母向靠近第二固定件的方向运动,以将多个抛光件固定于第一固定件和第二固定件之间。
具体地,抛光治具具有安装面,安装面朝向承载面。在静态条件下,研磨料在物料槽中的高度与安装面到物料槽的槽底的距离的差为5cm~10cm。进一步地,在静态条件下,研磨料在物料槽中的高度与安装面到物料槽的槽底的距离的差为4cm~6cm。
当然,在一些实施例中,还可以先将待抛光件装载入抛光治具,并置于物料槽中,然后向物料槽中添加研磨料。
步骤c:驱动旋转轴旋转,以使待抛光件随旋转轴旋转而被研磨料抛光。
在其中一个实施例中,旋转轴的旋转频率为35Hz~55Hz。进一步地,旋转轴正反向交替旋转,正反向交替旋转的时间间隔为1min~10min。在一个可选地具体示例中,旋转轴的旋转频率为40Hz~50Hz;反向交替旋转的时间间隔为4min~7min。
在一些实施例中,在驱动旋转轴旋转的步骤之后,还包括检查固定于固定机构上的待抛光件的中抛程度,并根据待抛光件的中抛程度判断是否继续抛光的步骤。进一步地,检查固定于固定机构上的待抛光件的中抛程度,并根据待抛光件的中抛程度判断是否继续抛光的步骤包括:暂停旋转轴旋转;及将固定机构上的待抛光件取下,并置于在800LUX~1000LUX光源下检查,若待抛光件表面无粗抛划痕,则停止抛光;若待抛光件表面有粗抛划痕,则将待抛光件重新装载入抛光治具后继续抛光。
当然,在随着抛光的进行,中抛添加剂会不断被损耗。因此,在一些实施例中,在进行多批次抛光之后,还包括向研磨料中补加中抛添加剂的步骤。在一个可选地具体示例中,在制备研磨料时按照中抛添加剂的体积与核桃砂的质量之比为1L:(150kg~175kg)添加中抛添加剂之后,后续每天向物料槽中续加一定量(例如500mL)的中抛添加剂,以满足研磨料中的中抛添加剂的体积与核桃砂的质量之比为1L:(150kg~175kg)。
上述中抛方法通过将待抛光件固定于抛光治具的第一固定件和第二固定件之间且待抛光件需要增大磨削量的面靠近立柱,减小不同面之间的磨削程度的差异,使得待抛光面为非圆周面的待抛光件的各个被抛光的面受到的摩擦阻力均匀、磨削程度相差小而抛光均匀,提高生产良率且成本低;另外,通过对中抛研磨料的优化,采用包括粒径为0.56mm~1.06mm的核桃砂和中抛添加剂的研磨料,使得中抛能在较短的时间内完成且效果较好,进一步提高了中抛的生产效率。
具体实施例
以下结合具体实施例进行详细说明。实施例中采用药物和仪器如非特别说明,均为本领域常规选择。实施例中未注明具体条件的实验方法,按照常规条件,例如文献、书本中所述的条件或者生产厂家推荐的方法实现。以下各实施例的份数如无特别说明则均为体积份数;花生油为金龙鱼牌花生油;中抛液为深圳市浩然文达科技有限公司的GH-303z中抛液。
实施例1
实施例1采用的抛光治具如图1所示,实施例1的中抛方法包括以下步骤:
将20个待抛光件随机分为两组,其中:20个待抛光件均为手机中框,材料均为6系铝合金且各待抛光件的外侧表面均具有粗抛后留下的划痕,划痕深度约为0.001mm,其中一个待抛光件的外侧表面的局部如图7所示。将两组的待抛光件分别按照如下操作进行中抛:
(1)将10个待抛光件用隔板间隔并固定于第一固定件和第二固定件之间,其中,手机中框的侧面靠近立柱,隔板具有导流槽的面也靠近立柱。
(2)将固定有手机中框的抛光治具的旋转轴与驱动机构固定后,置于承装有研磨料的物料槽中,其中,研磨料由160kg粒径为0.6mm的核桃砂和1000mL的中抛添加剂组成,核桃砂的体积占物料槽的5/6,中抛添加剂由10份花生油、60份的中抛液和30份的开油水组成。
(3)启动驱动机构,使旋转轴带动抛光治具旋转而进行中抛,其中,旋转轴的旋转频率为45Hz,正反转每5min交替进行,抛光处理时间为90min。
在两组待抛光件中抛结束后,分别对两组中抛处理后的合格品进行统计,并计算平均良率,其中,以在光源800~1000LUX下产品表面无粗抛划痕为合格品(其中一个合格品的局部如图8所示),良率=合格品的个数/10×100%,平均良率为两组良率的平均数。经计算,采用实施例1的方法进行中抛的良率为95%。
实施例2
实施例2采用的抛光治具与实施例1相同,实施例2的抛光方法与实施例1的抛光方法也大致相同,其不同在于,实施例2的研磨料中的中抛添加剂是由8份花生油、55份的中抛液和37份的开油水组成。
经计算,采用实施例2的方法进行中抛的良率为95%。
实施例3
实施例3采用的抛光治具与实施例1相同,实施例3的抛光方法与实施例1的抛光方法也大致相同,其不同在于,实施例3的研磨料中的中抛添加剂是由9份花生油、56份的中抛液和35份的开油水组成。
经计算,采用实施例3的方法进行中抛的良率为100%。
实施例4
实施例4采用的抛光治具与实施例1相同,实施例4的抛光方法与实施例1的抛光方法也大致相同,其不同在于,实施例4的研磨料中的中抛添加剂是由10份花生油、55份的中抛液和35份的开油水组成。
经计算,采用实施例4的方法进行中抛的良率为90%。
实施例5
实施例5采用的抛光治具与实施例1相同,实施例5的抛光方法与实施例1的抛光方法也大致相同,其不同在于,实施例5的研磨料中的中抛添加剂是由9份花生油、54份的中抛液和37份的开油水组成。
经计算,采用实施例5的方法进行中抛的良率为75%。
实施例6
实施例6采用的抛光治具与实施例1相同,实施例6的抛光方法与实施例1的抛光方法也大致相同,其不同在于,实施例6的研磨料中的中抛添加剂是由8份花生油、60份的中抛液和32份的开油水组成。
经计算,采用实施例6的方法进行中抛的良率为80%。
实施例7
实施例7采用的抛光治具与实施例1相同,实施例7的抛光方法与实施例1的抛光方法也大致相同,其不同在于,实施例7的研磨料中的中抛添加剂是由7份花生油、58份的中抛液和35份的开油水组成。
经计算,采用实施例7的方法进行中抛的良率为70%。
实施例8
实施例8采用的抛光治具与实施例1相同,实施例8的抛光方法与实施例1的抛光方法大致相同,其不同在于,实施例7的研磨料中的中抛添加剂是由15份花生油、54份的中抛液和39份的开油水组成。
经计算,采用实施例8的方法进行中抛的良率为70%。
实施例9
实施例9采用的抛光治具与实施例1相同,实施例9的抛光方法与实施例1的抛光方法大致相同,其不同在于,实施例9的研磨料为0.6mm的核桃砂。
经计算,采用实施例9的方法进行中抛的良率为60%。
实施例10
实施例10采用的抛光治具与实施例1相同,实施例10的抛光方法与实施例1的抛光方法大致相同,其不同在于,实施例10的中抛添加剂由8份的花生油、50份的中抛液和42份的开油水组成。
经计算,采用实施例10的方法进行中抛的良率为60%。
对比例1
对比例1的抛光方法大致与实施例9相同,其不同在于,对比例1的研磨料为粒径为1.4mm的核桃砂。
经计算,采用对比例1的方法进行中抛的良率为40%。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种中抛方法,其特征在于,包括以下步骤:
将研磨料置于物料槽中,其中,所述研磨料的原料包括核桃砂和中抛添加剂,所述核桃砂的粒径为0.56mm~1.06mm,以体积份数计,所述中抛添加剂包括7份~10份的植物油、54份~60份的中抛液和30份~39份的溶剂,所述中抛液包括氧化铝颗粒、润滑剂和水,所述氧化铝颗粒的粒径在0.5μm以上且小于1μm;所述中抛添加剂的体积与所述核桃砂的质量之比为1L:(150kg~175kg);
将待抛光件装载入抛光治具后,置于所述物料槽中,其中,所述抛光治具包括固定机构、旋转轴和立柱,所述固定机构包括第一固定件和与所述第一固定件间隔且相对设置的第二固定件,所述第二固定件具有承载面,所述旋转轴位于所述第一固定件上并向远离所述第二固定件的方向延伸,所述立柱与所述第一固定件连接,所述待抛光件的待抛光面为非圆周面,所述待抛光件被固定于所述固定机构中,且所述待抛光面中需要增大磨削程度的面靠近所述立柱;及
驱动所述旋转轴旋转,以使所述待抛光件随所述旋转轴旋转而被所述研磨料抛光。
2.根据权利要求1所述的中抛方法,其特征在于,所述立柱位于所述第一固定件和所述第二固定件之间,所述立柱还与所述第二固定件均连接,所述立柱在所述承载面的正投影与所述旋转轴在所述承载面的正投影间隔,所述待抛光件被固定于所述第一固定件和所述第二固定件间。
3.根据权利要求2所述的中抛方法,其特征在于,所述抛光治具具有安装面,所述安装面朝向所述承载面,在静态条件下,所述研磨料在所述物料槽中的高度与所述安装面到所述物料槽的槽底的距离的差为5cm~10cm。
4.根据权利要求1所述的中抛方法,其特征在于,所述旋转轴的旋转频率为35Hz~55Hz,所述旋转轴正反向交替旋转,所述正反向交替旋转的时间间隔为1min~10min。
5.根据权利要求1~4任一项所述的中抛方法,其特征在于,在所述将研磨料置于物料槽中的步骤之前,还包括制备研磨料的步骤,所述制备研磨料的步骤包括:
在将所述核桃砂置于物料槽中后,将所述中抛添加剂置于所述物料槽中;及
用空载的所述抛光治具将所述物料槽中的核桃砂和中抛添加剂混合均匀。
6.根据权利要求1所述的中抛方法,其特征在于,所述立柱有两根,两根所述立柱以所述旋转轴为对称轴间隔设置,所述待抛光面为矩形周面,所述待抛光面具有两个到所述旋转轴的距离较短的侧面,将所述待抛光件装载入抛光治具的步骤包括:将所述待抛光件固定于固定机构中,并使所述待抛光件的待抛光面的到所述旋转轴的距离较短的侧面朝向所述立柱。
7.根据权利要求1~4及6任一项所述的中抛方法,其特征在于,在所述驱动所述旋转轴旋转的步骤之后,还包括检查固定于所述固定机构上的待抛光件的中抛程度,并根据所述待抛光件的中抛程度判断是否继续抛光的步骤。
8.根据权利要求7所述的中抛方法,其特征在于,所述检查固定于所述固定机构上的待抛光件的中抛程度,并根据所述待抛光件的中抛程度判断是否继续抛光的步骤包括:
暂停旋转轴旋转;及
将所述固定机构上的待抛光件取下,并置于在800LUX~1000LUX光源下检查,若所述待抛光件表面无粗抛划痕,则停止抛光;若所述待抛光件表面有粗抛划痕,则将所述待抛光件重新装载入所述抛光治具后继续抛光。
9.根据权利要求2所述的中抛方法,其特征在于,所述立柱与第二固定件固接,所述立柱与所述第一固定件活动连接,所述立柱靠近所述第一固定件的一端具有螺纹,且靠近所述螺纹处套设有与所述螺纹相匹配的螺母,所述将待抛光件装载入抛光治具中的步骤包括:
将所述待抛光件置于所述第一固定件和所述第二固定件之间;及
旋转所述螺母,使得所述螺母向靠近所述第二固定件的方向运动,以将所述抛光件固定于所述第一固定件和所述第二固定件之间。
10.根据权利要求9所述的中抛方法,其特征在于,所述待抛光件有多个,所述抛光治具还包括隔板,所述隔板具有第一面,所述第一面上开设有导流槽,所述将待抛光件装载入抛光治具中的步骤包括:
将多个所述待抛光件置于所述第一固定件和所述第一固定件之间,并用所述隔板将相邻的所述待抛光件间隔,且所述导流槽的槽口朝向所述立柱;及
旋转所述螺母,使得所述螺母向靠近所述第二固定件的方向运动,以将多个所述抛光件固定于所述第一固定件和所述第二固定件之间。
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CN202010837403.7A CN112008503B (zh) | 2020-08-19 | 2020-08-19 | 中抛方法 |
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