CN111943518A

CN111943518A - 玻璃基体和车载显示装置

Info

Publication number: CN111943518A
Application number: CN202010407118.1A
Authority: CN
Inventors: 玉田稔; 井上泰宏
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2019-05-17
Filing date: 2020-05-14
Publication date: 2020-11-17
Anticipated expiration: 2040-05-14
Also published as: JP2020187314A; US11590844B2; CN111943518B; DE102020002915A1; TW202108535A; JP7283222B2; US20200361315A1

Abstract

本发明涉及一种玻璃基体，其具有：具备第一主面和与上述第一主面对置的第二主面的一对主面、沿着与上述一对主面正交的方向配置的端面、以及配置于上述第一主面与上述端面之间的连接面，上述连接面具有多个孔，距离上述第一主面20μm的部分的上述孔的50％粒径与距离上述端面20μm的部分的上述孔的50％粒径的差为10μm以下。

Description

玻璃基体和车载显示装置

技术领域

本发明涉及玻璃基体和车载显示装置。

背景技术

以往，在显示装置中使用用于保护液晶面板等显示面板的盖片部件。

为了提高显示面板的可视性，大多在盖片部件设置防反射层、防污层等功能层。

另外，为了提高设计性或隐蔽配线，大多在盖片部件的外周部设置遮光层。

然而，在汽车等车辆搭载有车辆导航装置等车载显示装置、后座用车载显示装置(具体而言，用于后座的乘客观看影像等的后座娱乐(RSE)装置)。RSE装置大多安装于前座的背面侧使用。

从保护显示面板的观点考虑，在这些车载显示装置中也设有盖片部件，近年来，从质感的观点考虑，希望不是膜制的盖片部件，希望使用玻璃制的盖片部件。

对于作为车载显示装置的盖片部件使用的玻璃基体，从安全性的观点考虑，要求在发生车辆的碰撞事故等交通事故时，即便碰撞乘客的头部等也不会破裂的程度的高耐冲击性。

特别是，当乘客的头部不是从与盖片部件的主面垂直的方向而是从斜向碰撞盖片部件的端部时，有时以该端部为起点，盖片部件产生破裂。

在专利文献1中，公开了通过使配置于主面与侧面之间的边界面具有多个凹部，且使上述凹部的底部的曲率的频率分布中的最大曲率的频率小于3％，可提高对来自斜向的碰撞的端部耐冲击性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特愿2017－192590号

发明内容

然而，采用该技术时，本发明人等发现存在以下的问题。

即，发现在采用上述专利文献1中记载的技术的玻璃基体的主面的外周部和边界面设置印刷层时，有时印刷层的外周端的直线度劣化，损害外观。

另外，发现在采用上述专利文献1中记载的技术的玻璃基体的主面和边界面设置功能层时，有时设有功能层的主面与设有功能层的边界面的色度不同，损害外观。

因此，本发明的目的在于提供一种提高对来自斜向的碰撞的端部耐冲击性且印刷层或功能层的外观也提高的玻璃基体。

本发明人等为了解决上述课题而进行了深入研究，结果完成了本发明。

即，一种玻璃基体，具有：具备第一主面和与上述第一主面对置的第二主面的一对主面，沿着与上述一对主面正交的方向配置的端面，以及配置于上述第一主面与上述端面之间的连接面，上述连接面具有多个孔，距离上述主面20μm的部分的上述孔的50％粒径与距离上述端面20μm的部分的上述孔的50％粒径的差为10μm以下。

根据本发明，可得到提高对来自斜向的碰撞的端部耐冲击性且印刷层或功能层的外观也提高的玻璃基体。

附图说明

图1是例示现有例中的连接面附近的构成的图。

图2是说明印刷的直线度的图。

图3是说明连接面与主面的角度的图。

符号说明

11：玻璃基体

12：主面

13：端面

14：连接面

15：印刷层

16：油墨

具体实施方式

首先，对完成本实施方式的原委进行更详细的说明。本发明人等发现在采用专利文献1中记载的技术的玻璃基体的主面的外周部和边界面设置印刷层时，有时印刷层的外周端的直线度劣化，损害外观。

另外，在采用上述专利文献1中记载的技术的玻璃基体的主面和边界面设置功能层时，有时设有功能层的主面与设有功能层的边界面的色度不同，损害外观。

本发明人等经过深入研究，结果推断出以下的重要因素。

即，推断在采用专利文献1中记载的技术的玻璃基体的主面和边界面设置印刷层时，由于上述边界面的一部分过于平滑，所以上述印刷层的外周端与玻璃基体的接触角下降，印刷层的外周端的一部分在上述边界面滑落而损害直线度。

另外，推断在采用专利文献1中记载的技术的玻璃基体设置功能层时，由于上述玻璃基体的边界面的一部分过于平滑，所以上述功能层发生光学干涉，导致主面与边界面的色度不同。

另一方面，如果边界面过于粗糙，则对来自斜向的碰撞的端部耐冲击性下降。

本发明人等基于上述推断，发现采用以下的技术，能够维持对来自斜向的碰撞的端部耐冲击性，且印刷层或功能层的外观也能够提高。

即，一种玻璃基体，具有：具备第一主面和第二主面的一对主面，沿着与上述一对主面正交的方向配置的端面，以及配置于上述第一主面与上述端面之间的连接面，上述连接面具有多个孔，距离上述第一主面20μm的部分的上述孔的50％粒径与距离上述端面20μm的部分的上述孔的50％粒径的差为10μm以下。

上述第一主面与上述连接面所成的角度优选为40度～55度。如果在该范围，则能够进一步提高印刷层的直线度。

上述第一主面与上述连接面的边界曲线的曲率半径R优选为350μm以下，另外优选为50μm以上。如果在该范围，则能够进一步提高印刷层的直线度。

在上述连接面的表面存在的孔的粒径的分散优选为5μm以下，另外优选为1μm以上。如果在该范围，则能够抑制端部耐冲击性的不均。另外，功能层的光学干涉被减少，能够减少主面与连接面的色差。另外，能够减少因孔径过于整齐而导致的散射光取向。

上述孔的90％粒径优选为10μm以上。如果在该范围，则能够进一步抑制端部耐冲击性的不均。

以下，对本实施方式涉及的各构成进行详细说明。

(玻璃基体)

作为可用作玻璃基体的玻璃，可举出由以二氧化硅为主成分的常规的玻璃例如钠钙硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼硅酸玻璃、无碱玻璃、石英玻璃等玻璃构成的基体。

玻璃基体的组成优选为能够进行成型、基于化学强化处理的强化的组成，更优选含有钠。

玻璃基体的组成没有特别限定，可以使用具有各种组成的玻璃。例如，可举出以氧化物基准的摩尔％表示具有以下组成的铝硅酸盐玻璃。

(i)含有50～80％的SiO₂、2～25％的Al₂O₃、0～20％的Li₂O、0～18％的Na₂O、0～10％的K₂O、0～15％的MgO、0～5％的CaO、0～5％的Y₂O₃和0～5％的ZrO₂的玻璃，

(ii)含有50～74％的SiO₂、1～10％的Al₂O₃、6～14％的Na₂O、3～11％的K₂O、2～15％的MgO、0～6％的CaO和0～5％的ZrO₂，并且SiO₂和Al₂O₃的含量的合计为75％以下，Na₂O和K₂O的含量的合计为12～25％，MgO和CaO的含量的合计为7～15％的玻璃，

(iii)含有68～80％的SiO₂、4～10％的Al₂O₃、5～15％的Na₂O、0～1％的K₂O、4～15％的MgO和0～1％的ZrO₂的玻璃，

(iv)含有67～75％的SiO₂、0～4％的Al₂O₃、7～15％的Na₂O、1～9％的K₂O、6～14％的MgO和0～1.5％的ZrO₂，并且SiO₂和Al₂O₃的含量的合计为71～75％，Na₂O和K₂O的含量的合计为12～20％，含有CaO时其含量小于1％的玻璃。

玻璃基体的制造方法没有特别限定。可以通过将所需的玻璃原料投入熔融炉，在1500～1600℃加热熔融、澄清后，供于成型装置将熔融玻璃成型为板状，缓慢冷却而制造。应予说明，玻璃基体的成型方法没有特别限定，例如，可以使用下拉法(例如溢流下拉法、流孔下引(slot down)法、重新引下(redraw)法等)、浮法、轧平(roll out)法、压制法等。

为了提高玻璃基体的强度，优选实施化学强化处理。

实施化学强化处理时，优选在后述的倒角和蚀刻处理之后进行。

化学强化处理的方法没有特别限定，将玻璃基体的主面进行离子交换，形成压缩应力残留的表面层。具体而言，在玻璃化转变温度以下的温度，将基体的主面附近的玻璃中含有的离子半径小的碱金属离子(例如Li离子、Na离子)置换成离子半径更大的碱金属离子(例如相对于Li离子为Na离子或者K离子，相对于Na离子为K离子)。由此，使玻璃基体的主面残留压缩应力，从而玻璃基体的强度提高。

玻璃基体优选满足以下所示的条件。应予说明，这样的条件可以通过进行上述的化学强化处理而满足。

即，玻璃基体的表面压缩应力(以下称为CS)优选为400MPa～1200MPa，更优选为700MPa～900MPa。如果CS为400MPa以上，则作为实用上的强度是充分的。另外如果CS为1200MPa以下，则可耐受自身的压缩应力，不用担心自然破坏。玻璃基体的CS进一步优选为700MPa～850MPa。

此外，玻璃基体的应力层的深度(以下称为DOL)优选为15μm～50μm，更优选为20μm～40μm。如果DOL为15μm以上，则即便使用玻璃刀具等锐利的工具，也不容易划伤，不用担心破坏。另外如果DOL为40μm以下，则可耐受基体自身的压缩应力，不用担心自然破坏。玻璃基体的DOL进一步优选为25μm～35μm。

玻璃基体含有Li₂O时，通过实施2次以上的化学强化处理，能够进一步提高强度。

具体而言，例如，在第一次处理中，使例如主要含有硝酸钠盐的无机盐组合物与上述玻璃基体接触，进行Na与Li的离子交换。接下来在第二次处理中，使例如主要含有硝酸钾盐的无机盐组合物与上述玻璃基体接触，进行K与Na的离子交换。由此，能够形成DOL深、表面应力高的压缩应力层，优选。

玻璃基体的厚度可以根据用途适当地选择。例如，优选为0.1mm～5mm，更优选为0.2mm～2mm，进一步优选为0.7mm～1.5mm。

对玻璃基体进行上述化学强化处理时，为了有效地进行化学强化处理，玻璃基体的厚度通常优选为5mm以下，更优选为3mm以下。

另外，玻璃基体的尺寸可以根据用途适当地选择。在车辆导航装置等车载显示装置中使用时，优选为50mm×100mm～2000×1500mm，厚度优选为0.5mm～4mm。

在RSE装置等中使用时，优选为100mm×100mm～400×600mm，厚度优选为0.5mm～4mm。

玻璃基体的形状不仅可以是平坦的形状，也可以是像具有一处以上的弯曲部的基体那样的具有曲面的形状。最近出现了将显示装置的显示面设为曲面的显示装置。

玻璃基体具有曲面时，玻璃基体的表面可以整体由曲面构成，也可以由曲面部分和平坦部分构成。作为表面整体由曲面构成的情况的例子，例如，可举出玻璃基体的截面为圆弧状的情况。

玻璃基体具有曲面时，其曲率半径(以下也称为“玻璃基体的R”)可以根据玻璃基体的用途、种类等适当地设定，没有特别限定，优选为25000mm以下，更优选为1mm～5000mm，进一步优选为5mm～3000mm。如果玻璃基体的R为上述的上限值以下，则与平板相比，设计性优异。如果玻璃基体的R为上述的下限值以上，则对曲面表面也能够均匀地形成功能层。

可以对本实施方式的玻璃基体的至少一个主面实施防眩处理(也称为“防眩光处理”、“AG处理”)。防眩处理方法没有特别限定，可以利用对玻璃基体的主面实施表面处理、形成所需凹凸的方法。

具体而言，可举出对玻璃基体的主面进行化学处理的方法，例如实施磨砂处理的方法。磨砂处理例如可以通过在氟化氢和氟化铵的混合溶液中浸渍作为被处理体的玻璃基体，对浸渍面进行化学表面处理来实施。

另外，除这样的化学处理的方法以外，例如，还可以利用下述物理处理的方法：在加压空气中向玻璃基体的表面吹送结晶二氧化硅粉、碳化硅粉等即所谓的喷砂处理，使用用水润湿过的附着有结晶二氧化硅粉、碳化硅粉等的刷子摩擦等。

特别是在实施使用氟化氢等化学试剂进行化学表面处理的磨砂处理的方法中，被处理体表面的微裂纹不易产生，不易发生机械强度的下降，因此可优选用作实施玻璃基体的表面处理的方法。应予说明，在玻璃基体的通过防眩处理而形成有凹凸的表面可以具有最大深度小于3μm的微裂纹。这是由于如果为该程度，则不易引起机械强度的下降。

如此通过化学表面处理(磨砂处理)或者物理表面处理而形成凹凸后，为了整理表面形状，一般进行对玻璃表面进行化学蚀刻。由此，能够利用蚀刻量将雾度调整为所需值，能够除去在喷砂处理等中产生的裂纹，另外能够抑制眩光。

蚀刻优选采用在以氟化氢为主成分的溶液中浸渍作为被处理体的玻璃基体的方法。除氟化氢以外的成分可以含有盐酸·硝酸·柠檬酸等酸。通过含有酸，能够抑制进入玻璃的阳离子成分与氟化氢反应而局部发生析出反应，能够在面内均匀地进行蚀刻。

对于AG处理后的表面形状，表面粗糙度(RMS)优选为0.01μm～0.5μm，更优选为0.01μm～0.3μm，进一步优选为0.01μm～0.2μm。

RMS可以基于JIS B 0601(2001)中规定的方法测定。具体而言，利用激光显微镜(KEYENCE株式会社制，商品名：VK－9700)，对于试样的测定面，设定270μm×200μm的视场范围，测定基板的高度信息，进行截止校正，求出得到的高度的均方而算出。进行该测定时，优选截止值使用0.08mm。另外在试样表面观察到的孔的大小优选为10μm以下。通过在这样的范围，能够兼顾防止眩光和防眩性。

实施防眩处理时，优选在后述的倒角之前实施。

(连接面)

本实施方式的玻璃基体具有：一对主面、沿着与一对主面正交的方向配置的端面、以及配置于上述主面与上述端面之间的连接面。

在此，“正交的方向”是指上述主面在上述端面附近的切平面与包含上述端面的平面所成的角度几乎成为90度的位置关系。

上述连接面与上述主面和上述端面具有大于0度且小于180度的角度而相交。此时，上述连接面与上述主面相交的角度优选为40度～55度，更优选为42度～52度，进一步优选为44度～49度。如果在该范围，则即便印刷层的外周端与上述连接面的接触角小，也能够抑制印刷层的端部在连接面滑落，容易维持印刷层的直线度。

上述连接面可以与上述主面平滑地连接。此时，上述主面与上述连接面的边界曲线的曲率半径(以下也称为“边界曲线的R”)优选为50μm～350μm，更优选为70μm～350μm，进一步优选为90μm～300μm。通过成为这样的范围，即便印刷层的外周端与上述连接面的接触角小，也能够抑制印刷层的端部在连接面滑落，容易维持印刷层的直线度。

上述连接面的粗糙度(JIS B0601(2001)中规定的Ra)优选为0.05μm～0.5μm，更优选为0.07μm～0.45μm，进一步优选为0.1μm～0.4μm。如果在该范围，则能够维持端部耐冲击性，且能够维持印刷层的外周端与连接面的接触角较高，或者能够减少功能层在连接面的光学干涉。

上述连接面具有多个凹部(孔)。从法线方向观察连接面时，孔可以成为大致圆形。各孔的边界部可以成为锐利的突起形状(也称为脊)。孔的粒径是基于激光显微镜的测定结果通过以下的步骤算出的。首先，求出连接面的表面的各测定点距离基准面的高度。基准面经过倾斜校正，与表面的最小平方平面平行。接下来，将高度的累积分布(数基准)中与累积数90％对应的高度作为基准高度。即，基准高度是按高度依次排列测定点并从高度低的测定点向高度高的测定点依次计数测定点的累积数时，其累积数达到测定点的总数的90％时的高度。

接下来，将激光显微镜的图像二值化成高度超过基准高度的部分和高度为基准高度以下的部分。如此，将每个高度为基准高度以下的部分且连接的部分定义为孔。对每个孔求出长边方向尺寸(长径)和与长边方向尺寸正交的方向的尺寸(短径)，算出长径和短径的均方根(长径的平方与短径的平方的平均值的平方根)。将算出的均方根作为各孔的孔径(粒径)。

孔径的累积分布(数基准)中与累积数90％对应的孔径优选为40μm以下。

孔的粒径的分散优选为5μm以下，更优选为4μm以下。通过成为该范围，可获得减少端部耐冲击性的不均的效果。另外，孔的粒径的分散优选为1μm以上，更优选为1.5μm以上。通过在该范围，可获得减少因孔径过于整齐而散射光取向的效果。

对于在上述连接面的表面存在的孔，距离上述主面20μm的部分的50％粒径与距离上述端面20μm的部分的50％粒径的差优选为10μm以下，更优选为7μm以下。距离主面20μm的部分是指距离主面的外周端20μm的部分。另外，距离端面20μm的部分是指距离端面的外周端20μm的部分。通过在该范围，可获得具有端部耐冲击性且能够使色度均匀的效果。

在此提及的50％粒径是指孔径的累积分布(数基准)中与累积数50％对应的孔径。

上述连接面优选位于上述端面的两侧。通过设置在两侧，能够进一步提高端部耐冲击性。

上述连接面位于上述端面的两侧时，形状在两侧可以不同。例如，组装于显示装置时，对于位于成为人侧的主面侧的连接面，可以设置为曲线状(R倒角)，对于位于成为壳体侧的主面侧的连接面，可以设置为直线状(C倒角)。

上述连接面的形成方法没有特别限定，例如，可通过在实施用磨石研磨端面的倒角之后，使用含有酸的蚀刻液实施蚀刻处理来获得。

倒角中，在玻璃基体形成端面和连接面。

倒角方法没有特别限定，可以使用公知的方法，例如，优选举出利用使用磨石的研磨的方法。作为磨石，例如，可使用旋转磨石等。

作为旋转磨石的一个例子，在圆周方向形成延伸的环状磨削槽，磨削槽的壁面含有氧化铝、碳化硅、金刚石等磨粒。

磨粒优选为400号以下，更优选为600号以下。由此容易将后述的蚀刻处理后的孔的形状控制成规定的范围。

通过倒角，容易在端面和连接面形成细小的伤。认为该伤会降低端部耐冲击性。因此，为了减少该细小的伤，提高端部耐冲击性，优选实施蚀刻处理。

蚀刻处理是使端面和连接面接触含有酸的蚀刻液的处理。通过该蚀刻处理，使倒角中产生的细小伤扩散，在连接面形成多个凹部(孔)。

作为蚀刻液，只要能够蚀刻玻璃基体就没有特别限定，优选举出含有氟化氢(HF)的蚀刻液。作为这样的蚀刻液的具体例，可举出含有氟化氢与选自硫酸、硝酸、乙酸和氟硅酸中的至少1种酸的混酸等。

蚀刻量由在液体中的接触时间控制。根据玻璃的种类和蚀刻量，根据蚀刻量，调整蚀刻液中的氟化氢的浓度。蚀刻量优选为25μm～100μm，更优选为30μm～90μm。通过使蚀刻量为该范围，能够具有端部耐冲击性，并且能够维持印刷的直线度。

为了对端面和连接面优先进行蚀刻处理，优选在蚀刻处理前在1对主面预先贴合保护膜。由此，能够防止主面被蚀刻，例如在对主面实施防眩处理时，能够维持防眩效果。

保护膜只要对蚀刻液具有耐性就没有特别限定，例如优选使用聚丙烯(PP)膜、聚乙烯(PE)膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜等树脂膜。优选在保护膜设置能够粘合于玻璃基体的粘合剂。粘合剂的材料没有特别限定，例如优选使用有机硅系粘合剂、丙烯酸系粘合剂、聚氨酯系粘合剂。

优选保护膜的面积大于玻璃基体的面积。保护膜的外周端与玻璃基体的端面的距离优选为0.3mm～1.5mm。由此，能够防止蚀刻液包围主面，且可获得对端面和连接面均匀蚀刻的效果。

保护膜的厚度优选为50μm～200μm。通过成为该范围，能够抑制保护膜从玻璃基体突出的部分下垂，能够在连接面整体区域均匀地进行蚀刻处理。

作为使连接面和端面接触蚀刻液的方法，例如可举出使其浸渍于蚀刻液的方法、向连接面和端面喷雾蚀刻液的方法等。

本实施方式中，连接面的孔在距离主面20μm的部分的50％粒径与在距离上述端面20μm的部分的50％粒径的差优选为10μm以下。即，优选在连接面整体区域均匀地进行蚀刻处理。在现有技术(专利文献1)中，没有特别考虑连接面整体区域的均匀性。因此，为了提高端部耐冲击性，需要充分处理不易被蚀刻的部位。因此，明确了其以外的部位变得过于平滑，例如在设置印刷层时产生油墨滴落，损害外观，或者在设置功能层时产生光学干涉，产生颜色在连接面和主面不同的现象。

上述的孔的均匀性例如可以通过向连接面和端面喷雾蚀刻液来实现。此时，喷雾条件优选为从端面的法线方向喷雾，且喷雾量是每单位平方厘米为每分钟50mL～300mL。由此，蚀刻液充分到达连接面的主面附近部，且防止保护主面的膜剥离、防止蚀刻液侵入主面侧，因此均匀地形成孔。

另外，通过在接触蚀刻液前，使端面和连接面预先接触纯水、聚丙烯酸水溶液或0.5％氢氟酸水溶液也能够实现。由此，能够防止空气泡进入保护主面的膜与连接面之间而阻碍蚀刻，从而均匀地形成孔。

(印刷层)

玻璃基体可以在主面和连接面具备印刷层。印刷层遮挡配置于显示面板的外侧周边部的配线电路这种观察显示时进入视野形成阻碍的部分，可以是提高显示的可视性和美观的光遮挡部，也可以是文字、花纹等印刷层。

印刷层通过印刷油墨的方法形成。作为印刷法，有棒涂法、逆向涂布法、凹版涂布法、模涂法、辊涂法、丝网法、喷墨法等，从能够简便地印刷，能够印刷于各种基材，并且能够根据基材的尺寸印刷的角度考虑，优选丝网法或者喷墨法。

油墨没有特别限定。作为油墨，可使用含有陶瓷煅烧体等的无机系油墨，以及含有染料或颜料这样的色料和有机系树脂的有机系油墨。

作为无机系油墨中含有的陶瓷，有氧化铬、氧化铁等氧化物、碳化铬、碳化钨等碳化物、炭黑、云母等。印刷层通过将由上述陶瓷和二氧化硅构成的油墨熔融，以所需的图案印刷后进行煅烧而得到。该无机系油墨需要熔融、煅烧，一般作为玻璃专用油墨使用。

有机系油墨为含有染料或颜料和有机系树脂的组合物。作为有机系树脂，可举出由环氧系树脂、丙烯酸系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚芳酯、聚碳酸酯、透明ABS树脂、酚醛树脂、丙烯腈－丁二烯－苯乙烯树脂、聚氨酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯、聚乙烯醇缩丁醛、聚醚醚酮、聚乙烯、聚酯、聚丙烯、聚酰胺、聚酰亚胺等均聚物，以及与能够与这些树脂的单体共聚的单体的共聚物构成的树脂。另外，染料或颜料只要具有遮光性就可以无特别限定地使用。

对于无机系油墨和有机系油墨而言，从煅烧温度低的角度考虑，优选使用有机系油墨。另外，从耐化学试剂性的观点考虑，更优选含有颜料的有机系油墨。

印刷层的外周端的至少一部分优选在连接面上。通过使上述外周端在连接面，能够有效地遮挡到玻璃基体的端部，在美观上优选。

此处，参照图1。印刷层15的外周端的至少一部分在连接面14上时，有时根据连接面14的性状，印刷层15的油墨16与连接面14的接触角小，油墨16局部滑落，印刷层15的外周端的直线度劣化。图1例示了这种情况下的连接面附近。

此处提及的直线度如下定义。首先，使用光学显微镜(例如KEYENCE株式会社制VHX－5000)以倍率1000倍观察印刷层的外周端，在视场范围内的1mm长度的外周线中，从印刷层侧引一条与外周线相切的直线L。接下来，将直线L1从直线L的位置向与直线L垂直的方向且印刷层的外侧的方向移动，移动到直线L1与印刷层的外周端在1点接触的位置。将直线度定义为直线L与直线L1的距离。直线度为0时，印刷层的外周端为完全的直线，大于0时，存在印刷层在从连接面向端面的方向局部突出的部分。能够识别这样的突出部分时，损害印刷层的美观，所以存在问题。

在本实施方式中，通过调整连接面的孔的粒径，能够保持油墨与玻璃基体的接触角较高。即，根据所谓的Cassie－Baxter方程或Wenzel方程，利用凹凸能够使接触角较高，能够抑制油墨的局部滑落。

直线度优选为200μm以下，更优选为100μm以下。如果为200μm以下，则通过目视观察难以识别，将直线度视为良好。

(功能层)

优选在玻璃基体的主面、连接面和端面的至少一部分形成功能层。功能层为单层或者多个层层叠而成的层叠体。作为功能层，例如，可举出防污层、防眩层、防反射层(低反射层)、密合层等。以下，对各功能层进行详细说明。

[防污层]

防污层是抑制有机物、无机物向表面附着的膜，或者是发挥在有机物、无机物附着于表面时通过擦拭等清洁能够容易除去附着物的效果的层。

优选在后述的密合层的表面上具备防污层。作为防污层，只要能够对玻璃基体赋予防污性就没有特别限定，优选由含氟有机硅化合物发生水解缩合反应进行固化而得的含氟有机硅化合物被膜构成。

另外，防污层的厚度没有特别限定，防污层由含氟有机硅化合物被膜构成时，优选为2nm～20nm，更优选为2nm～15nm，进一步优选为2nm～10nm。如果防污层的厚度为2nm以上，则从耐擦性的观点考虑，可耐用。另外，如果防污层的厚度为20nm以下，则形成有防污层的状态下的玻璃基体的雾度值等光学特性良好。

形成防污层的组合物只要为含有含氟水解性硅化合物且利用干式成膜法能够形成防污层的组合物，就没有特别限制。防污层形成用组合物可以含有除含氟水解性硅化合物以外的任意成分，也可以仅由含氟水解性硅化合物构成。作为任意成分，可举出在不阻碍本实施方式的效果的范围使用的不具有氟原子的水解性硅化合物(以下称为“非氟水解性硅化合物”)、催化剂等。

应予说明，在被膜形成用组合物中配合含氟水解性硅化合物和任意配合非氟水解性硅化合物时，各化合物可以保持原样配合，也可以以其部分水解缩合物的形式配合。另外，可以以该化合物和其部分水解缩合物的混合物的形式配合在被膜形成用组合物中。

另外，组合使用2种以上的水解性硅化合物时，各化合物可以保持原样配合在被膜形成用组合物中，也可以分别以部分水解缩合物的形式配合，此外还可以以2种以上的化合物的部分水解共缩合物的形式配合。另外，可以是这些化合物、部分水解缩合物、部分水解共缩合物的混合物。其中，使用的部分水解缩合物、部分水解共缩合物为利用干式成膜法能够形成的程度的聚合度的物质。以下，水解性硅化合物的用语以除化合物本身外还包含这样的部分水解缩合物、部分水解共缩合物的意思使用。

本实施方式的含氟有机硅化合物被膜的形成中使用的含氟水解性硅化合物只要能够使得到的含氟有机硅化合物被膜具有疏水性、疏油性等防污性就没有特别限定。

具体而言，可举出具有选自全氟聚醚基、全氟亚烷基和全氟烷基中的1个以上的基团的含氟水解性硅化合物。这些基团以介由连接基团或直接与水解性甲硅烷基的硅原子键合的含氟有机基团的形式存在。作为市售的具有选自全氟聚醚基、全氟亚烷基和全氟烷基中的1个以上的基团的含氟有机硅化合物(含氟水解性硅化合物)，可优选使用KP－801(商品名，信越化学工业株式会社制)、X－71(商品名，信越化学工业株式会社制)、KY－130(商品名，信越化学工业株式会社制)、KY－178(商品名，信越化学工业株式会社制)、KY－185(商品名，信越化学工业株式会社制)、KY－195(商品名，信越化学工业株式会社制)、Afluid(注册商标)S－550(商品名，AGC株式会社制)、OPTOOL(注册商标)DSX(商品名，DAIKININDUSTRIES株式会社制)等。上述中，更优选使用KY－195、OPTOOL DSX、S－550。

[密合层]

为了提高防污层的耐久性，在玻璃基体与上述防污层之间设置密合层。从与防污层的密合性的观点考虑，密合层的最表层优选以氧化硅为主成分。另外，通过形成单个密合层或者层叠多个层形成密合层，还能够同时获得防反射性能等。

应予说明，在此提及的“主成分”是指在该层中含有80质量％以上。

另外，密合层由层叠体构成时，也可以构成为低反射层，该低反射层是将后述的低折射率层和高折射率层进行层叠，使与防污层接触的层构成为由氧化硅(SiO₂)构成的低折射率层而成的。这种情况下，该低反射层作为由层叠体构成的密合层发挥功能。

密合层的与防污层接触的层的表面粗糙度以算术平均粗糙度(Ra)计，优选为3nm以下，更优选为2nm以下，进一步优选为1.5nm以下。如果Ra为3nm以下，则布等能够沿着防污层的凹凸形状变形，因此对防污层表面整体大致均匀地施予载荷。因此，认为可抑制防污层的剥离，提高耐磨损性。

应予说明，测定密合层的算术平均粗糙度(Ra)时，主面具有凹凸形状时，只要以不选该凹凸形状的方式设定测定区域即可。如果上述的孔的直径、均方根粗糙度(RMS)在上述的优选范围内，则可以将测定区域设定为例如不包括凹凸的脊线以外的区域等来测定密合层的Ra。

玻璃基体的主面具有凹凸形状时，密合层的与防污层接触的层的均方根粗糙度(RMS)优选为10nm以上，更优选为20nm以上。另外，优选为1500nm以下，更优选为1000nm以下，进一步优选为500nm以下，特别优选为200nm以下。如果RMS为上述范围，则不仅能够抑制防污层的剥离，提高耐磨损性，还能够兼得防眩光性或防眩性。在测定凹凸形状的RMS时，与上述的密合层的算术平均粗糙度(Ra)的测定相反，可以以测定区域中包含足够多的孔的方式选择测定区域。另外，如上所述，由于密合层、防污层的表面粗糙度足够平滑，所以在具有密合层、防污层的状态下，可以认为上述的方法中测定的RMS的值与凹凸形状的RMS为相同值。

[低反射层]

低反射层是起到减少反射率的效果、除减少因光的映入引起的眩光以外还能够提高来自显示装置等的光的透射率、提高显示装置等的可视性的膜。

本实施方式的玻璃基体优选在主面、连接面和端面中的至少一部分与防污层之间具备低反射层。作为低反射层的构成，只要为能够抑制光的反射的构成就没有特别限定，例如，可以是将波长550nm处的折射率为1.9以上的高折射率层与波长550nm处的折射率为1.6以下的低折射率层进行层叠而得的构成。另外，低反射层可以是仅1层的构成。

低反射层中的高折射率层和低折射率层可以是各包含1层的形态，也可以是各包含2层以上的构成。高折射率层和低折射率层各包含2层以上时，优选将高折射率层和低折射率层交替层叠的形态。

为了提高低反射性，低反射层优选为层叠多个层而成的层叠体。例如优选该层叠体整体层叠2层～10层的层，更优选层叠2层～8层的层，进一步优选层叠4层～6层的层。这里的层叠体如上所述优选为将高折射率层和低折射率层层叠而得的层叠体，更优选高折射率层和低折射率层的各层数总计为上述范围。

高折射率层、低折射率层的材料没有特别限定，可以考虑所要求的低反射性的程度、生产率等适当地选择。作为构成高折射率层的材料，例如可优选使用选自氧化铌(Nb₂O₅)、氧化钛(TiO₂)、氧化锆(ZrO₂)、氧化钽(Ta₂O₅)、氮化硅(Si₃N₄)中的1种以上。作为构成低折射率层的材料，可优选使用选自氧化硅(SiO₂)、含有Si和Sn的混合氧化物的材料、含有Si和Zr的混合氧化物的材料、含有Si和Al的混合氧化物的材料中的1种以上。

从生产率、折射率的观点考虑，优选高折射率层是以选自氧化铌、氧化钽、氮化硅中的1种为主成分的层且低折射率层是以氧化硅为主成分的层的构成。

另外，如上所述，通过使低反射层的最表层以氧化硅为主成分，还可以作为密合层使用。

[功能层的形成方法]

本实施方式的功能层利用干式成膜法形成。作为干式成膜法，可举出蒸镀法、离子束辅助蒸镀法、离子镀法、溅射法、等离子体CVD法。其中，优选使用蒸镀法或者溅射法。

功能层由多个层构成时，可以组合上述的方法形成。例如，用溅射法形成密合层，其后，用蒸镀法形成防污层。

形成防污层时，优选使用蒸镀法。在蒸镀法中，更优选使用电阻加热方式、电子束蒸镀方式。

形成密合层或者低反射层时，优选使用蒸镀法或者溅射法。为了获得更致密的膜，在蒸镀法中，更优选使用在形成等离子体的同时进行蒸镀的离子辅助蒸镀、溅射法。

在溅射法中，一般使用磁控溅射法，其中进一步优选脉冲磁控溅射法、AC磁控溅射法和后氧化磁控溅射法。

如果使用这样的方法，则可获得致密且厚度被精密控制的功能层。

如上所述功能层具有纳米的厚度，因此，如果功能层平滑，则在膜内产生光学干涉。一般如果产生光学干涉，则根据观察功能层的角度，颜色发生变化。在主面和连接面设有功能层时，连接面的一部分与主面具有大于0度的角度。此时，连接面的颜色和主面的颜色看起来明显不同，在美观上存在问题。

如上所述，判明了在专利文献1中，没有特别考虑连接面整体区域的均匀性，为了提高端部耐冲击性，需要充分处理不易被蚀刻的部位。因此，其以外的部位变得过于平滑，具有在连接面在膜内产生光学干涉，与主面的颜色明显不同的课题。

在本实施方式中，通过使孔的粒径为10μm以上，能够抑制连接面变得非常平滑，减少功能层的膜内的光学干涉。由此，能够抑制主面与连接面的颜色的明显不同。

另外，在本实施方式中，对于在连接面的表面存在的孔，距离主面20μm的部分的50％粒径与距离端面20μm的部分的50％粒径的差优选为10μm以下。由此，连接面具有均匀的孔径，所以在整体区域成为均匀的色度。

应予说明，在此提及的色度是指JIS Z 8781-4:2013中规定的色度(a＊，b＊)。

主面的色度的测定使用ASTM E 1164:2012中规定的测定器，用SCI模式进行。

利用下式求出主面与连接面的色差。

ΔE＝√[(Δa^＊)²+(Δb^＊)²]

Δa^＊(Δb^＊)各自为主面与连接面的a^＊(b^＊)的差。

在本实施方式的带功能层的玻璃基体中，设有功能层的主面与连接面的色差ΔE优选为0～10。

另外，本发明的一个实施方式包括具有上述的带印刷层的玻璃的带功能层的玻璃基体。上述带功能层的玻璃基体在与设有上述印刷层的主面相反一侧的主面(第二主面)和上述端面之间具有第二连接面。上述第二连接面可以具有多个孔。距离上述第二主面20μm的部分的上述孔的50％粒径与距离上述端面20μm的部分的上述孔的50％粒径的差可以为10μm以下。在上述第二主面和上述第二连接面的至少一部分设有功能层，设有上述功能层的上述第二主面与上述第二连接面的色差ΔE可以为0～10。

另外，本发明的一个实施方式包括设有上述的玻璃基体、带印刷层的玻璃基体、或者带功能层的玻璃基体的车载显示装置。

实施例

以下，通过实施例等对本发明进行具体的说明，但本发明不限于这些例子。

以下，例1～例5为实施例，例11和例12为比较例。

首先，在全部例子中，玻璃基体使用尺寸为130mm×280mm、厚度为1.3mm的铝硅酸盐玻璃(AGC株式会社制，注册商标Dragontrail)。

(例1)

首先，利用磨石对玻璃基体的侧面进行倒角加工。使倒角形状为C倒角，使倒角宽度为0.15mm。使用的磨石为电镀金刚石磨石，粗加工时的型号为325号，精加工时的型号为700号，旋转速度为6000rpm。

接下来，准备将以PET为基材且涂布有丙烯酸糊的厚度70μm的保护膜(Sumiron株式会社制)切成131mm×281mm而得的保护膜。

接下来，用层压机将上述保护膜以从玻璃基体的外周端突出0.5mm的方式贴合在玻璃基体的两个主面的整面，得到带保护膜的玻璃基体。

接下来，将混合氢氟酸5质量％、盐酸2质量％而成的蚀刻液以150mL/(分钟·cm²)的流量向上述带保护膜的玻璃基体喷雾，以蚀刻量成为60μm的方式进行蚀刻。

此时，使蚀刻液相对于上述玻璃基体的喷雾角度为90度，使喷雾喷嘴与上述玻璃基体的距离为2cm，使从喷雾喷嘴喷雾的水量为150mL/分钟。

另外，蚀刻量如下测定：在基板配置两点对准标记，用三维测定机(Mitutoyo株式会社制)测定蚀刻处理前后的玻璃形状并求出差。

接下来，从玻璃基体剥离两面的保护膜，得到基板端部被蚀刻的玻璃基体。

(例2)

将蚀刻液的盐酸2质量％变更为硝酸2质量％，除此之外，与例1同样地进行处理。

(例3)

使蚀刻量为80μm，除此之外，与例1同样地进行处理。

(例4)

将与例1同样地制成的带保护膜的玻璃基体浸渍在混合氢氟酸5质量％、盐酸2质量％而成的蚀刻液中进行蚀刻。此时，预先向上述玻璃基体的端部喷雾纯水，以被覆基板端部的方式进行处理。另外，浸渍时间以蚀刻量成为60μm的方式进行调整。

由此得到端部被蚀刻处理的玻璃基体。

(例5)

将与例1相同的保护膜切成130.6mm×280.6mm的尺寸，并贴合于与例1同样地进行了倒角的玻璃基体。此时，以保护膜的外周从玻璃基体的外周突出0.3mm的方式进行贴合。

除此之外与例1同样地进行处理。

(例11)

例11是与专利文献1中记载的例4对应的例子。首先，将与例1相同的保护膜切成134mm×284mm的尺寸，并贴合于与例1同样地进行了倒角的玻璃基体。此时，以保护膜的外周从玻璃基体的外周突出2mm的方式进行贴合。接下来，浸渍在混合氢氟酸2质量％、盐酸18质量％而成的蚀刻液中进行蚀刻。此时，没有进行例4中实施的那种预先喷雾。另外，浸渍时间以蚀刻量成为40μm的方式进行调整。

(例12)

对玻璃基体的侧面进行R倒角，除此之外，与例1同样地进行处理。具体而言，磨石使用电镀金刚石磨石，粗加工时的型号为325号，精加工时的型号为700号，旋转速度为6000rpm。另外，使倒角部的曲率半径为0.5mm，使连接面与主面所成的角度为68°，使倒角宽度为0.55mm。

在下述表1中总结一览示出例1～例5、例11和例12的处理条件。

【表1】

对按照上述步骤制成的各例实施以下的评价。

(孔径的测定)

使用激光显微镜(KEYENCE株式会社VK－9700)，对将连接面放大至1000倍的270μm×200μm的范围的图像进行高度测定。此时，横(X)向、纵(Y)向的测定间隔为0.1μm，高度(Z)方向的精度为0.001μm。接下来，将得到的高度的累积分布(数基准)中与累积数90％对应的高度作为基准高度。基准高度是按高度依次排列测定点并从高度低的测定点向高度高的测定点依次计数测定点的累积数时，该累积数达到测定点的总数的90％时的高度。

接下来，将上述激光显微镜的图像二值化成高度超过基准高度的部分和高度为基准高度以下的部分。

如此，将高度为基准高度以下的部分作为孔。

接下来，对每个孔求出长边方向尺寸(长径)和与长边方向尺寸正交的方向的尺寸(短径)，算出长径和短径的均方根(长径的平方与短径的平方的平均值的平方根)。将算出的均方根作为各孔的孔径(粒径)。

另外，对各孔的孔径通过算数计算求出分散。

接下来，采用各孔的孔径，在从孔径小的一方起算的累积分布(数基准)中，将与累积数90％对应的孔径作为90％孔径。

另外，在距离主面20μm的附近和距离端面20μm的附近获取同样的二值化图像，在从孔径小的一方起算的累积分布(数基准)中，分别获取与累积数50％对应的50％孔径，求出其差。

(主面与连接面所成的角的测定)

首先，从与主面的法线和连接面的法线这两者正交的线的方向利用光学显微镜(KEYENCE株式会社制VHX－5000)获取100倍的图像。

图2中例示例1中得到的测定图像。以下，基于图2进行说明。

接下来，将通过在主面12侧距离主面12与连接面14的连接点200μm的点A和距离700μm的点B的直线设为直线1。接下来，将通过在连接面14侧距离主面12与连接面14的连接点80μm的点C和距离180μm的点D的直线设为直线2。将这2条直线所成的角度定义为从180度减去主面12与连接面14所成的角度而得的值。

(印刷直线度)

利用丝网法在距离玻璃基体的一个主面的外周端为20mm宽度的区域涂布黑色油墨而形成印刷层。此时，以印刷层的外周端与主面和连接面相交的线一致的方式调整印刷版进行涂布。

其后，将上述带印刷层的玻璃基体放入干燥炉，在130度干燥60分钟。

接下来，如下观察上述带印刷层的玻璃基体的外周端部，评价印刷直线度。

首先，使用数码显微镜(KEYENCE株式会社制VHX－5000)，获取将外周端放大1000倍的图像。

图3中例示例1中得到的图像。以下，基于图3进行说明。

接下来，在位于上述图像的视场范围的1mm长度的印刷层15的外周线中，从印刷层15侧引与上述外周线相切的直线，设为直线L。接下来，将直线L1从上述直线L的位置向与上述直线L垂直的方向且印刷层15的外侧的方向移动，移动到直线L1与印刷层15的外周端在1点接触的位置。将直线度定义为直线L与直线L1的距离。

(色度分布)

利用以下的方法在各例中得到的玻璃基体的一个主面和连接面形成防反射层。

首先，将各例的玻璃基体导入腔室内。接下来，边将在氩气中混合10体积％的氧气而得的混合气体导入腔室内，边使用长度1000mm×外径150mm的氧化铌圆筒靶(商品名：NBOTarget，AGC Ceramics株式会社制)，在压力0.5Pa、频率40kHz、电力15kW的条件下进行AC旋转双靶磁控溅射，形成由厚度13nm的氧化铌(niobia)构成的高折射率层(第1层)。

接下来，边将在氩气中混合40体积％的氧气而得的混合气体导入腔室内，边使用1000mm长度×外径150mm的硅圆筒靶(AGC Ceramics株式会社制)，在压力0.3Pa、频率40kHz、电力10kW下进行AC旋转双靶磁控溅射，在上述高折射率层上形成厚度35nm的由氧化硅(silica)构成的低折射率层(第2层)。

接下来，与第1层同样地进行，在第2层的低折射率层上形成厚度115nm的由氧化铌(niobia)构成的高折射率层。接下来，与第2层同样地进行，形成厚度80nm的由氧化硅(silica)构成的低折射率层。由此形成氧化铌(niobia)层和氧化硅(silica)层总计层叠4层的密合层(低反射层)。

由此得到带防反射层的玻璃基体。

接下来，实施得到的带防反射层的玻璃基体的主面和连接面的颜色的测定。作为测定装置，利用显微光谱仪(Olympus株式会社制，USPM RUIII)，获得光谱反射率。应予说明，进行测定时，预先求出反射率最大的基体的位置，以能够获得正反射率的方式调整。利用其光谱反射率求出主面和连接面的色度(a^＊、b^＊)。

接下来，利用下式求出主面与连接面的色差。

ΔE＝√[(Δa^＊)²+(Δb^＊)²]

其中，Δa^＊(Δb^＊)各自为主面与连接面的a^＊(b^＊)的差。

(头部撞击试验)

与专利文献1中记载的头部撞击试验同样地进行试验。

作为头部撞击试验的结果，将玻璃基体没有破裂的情况设为“A”，将玻璃基体破裂的情况设为“B”。如果为“A”，则可以评价为对来自斜向的碰撞的端部耐冲击性优异。

将以上的评价结果一并示于表1。

在例1～例5中，由于端面附近与主面附近的孔径的差为4.8μm～8.2μm，较小，所以油墨的直线度也成为40μm～90μm，属于识别不到的范围，良好。

与此相对，例11中，端面附近与主面附近的孔径的差为17μm，较大，因此油墨的直线度为320μm，成为能够识别的程度，在外观上存在问题。应予说明，例11与专利文献1的例4对应。

在例12中，端面附近与主面附近的孔径的差为16μm，较大，主面与连接面的边界曲线的R为442μm，较大，端部形状在蚀刻前就大幅崩塌。

参照特定的实施方式详细地说明了本发明，但在不脱离本发明的精神和范围的情况下可以加入各种变更、修改对于本领域技术人员而言是显而易见的。

本申请基于2019年5月17日申请的日本专利申请2019－093387，在此以参照的方式引入其内容。

Claims

1.一种玻璃基体，具有：

具备第一主面和与所述第一主面对置的第二主面的一对主面，

沿着与所述一对主面正交的方向配置的端面，以及

配置于所述第一主面与所述端面之间的连接面，

所述连接面具有多个孔，距离所述第一主面20μm的部分的所述孔的50％粒径与距离所述端面20μm的部分的所述孔的50％粒径的差为10μm以下。

2.根据权利要求1所述的玻璃基体，其中，所述第一主面与所述连接面所成的角度为40度～55度。

3.根据权利要求1或2所述的玻璃基体，其中，所述第一主面与所述连接面的边界曲线的曲率半径R为350μm以下。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的玻璃基体，其中，在所述连接面的表面存在的孔的粒径的分散为5μm以下。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的玻璃基体，其中，所述孔的90％粒径为10μm以上。

6.一种带印刷层的玻璃基体，具有权利要求1～5中任一项所述的玻璃基体，

在所述第一主面和所述连接面的至少一部分设有印刷层，所述印刷层的外周端的至少一部分在所述连接面上，所述外周端的直线度为100μm以下。

7.一种带功能层的玻璃基体，具有权利要求1～5中任一项所述的玻璃基体，

在所述第一主面和所述连接面的至少一部分设有功能层，设有所述功能层的所述第一主面与所述连接面的色差ΔE为0～10。

8.一种带功能层的玻璃基体，具有权利要求6所述的带印刷层的玻璃基体，

在所述第二主面与所述端面之间具有第二连接面，所述第二连接面具有多个孔，距离所述第二主面20μm的部分的所述孔的50％粒径与距离所述端面20μm的部分的所述孔的50％粒径的差为10μm以下，

在所述第二主面和所述第二连接面的至少一部分设有功能层，设有所述功能层的所述第二主面与所述第二连接面的色差ΔE为0～10。

9.一种车载显示装置，设有权利要求1～5中任一项所述的玻璃基体。

10.一种车载显示装置，设有权利要求6所述的带印刷层的玻璃基体。

11.一种车载显示装置，设有权利要求7或8所述的带功能层的玻璃基体。