CN111867832A - 转印膜、层叠体的制造方法、层叠体、静电电容型输入装置及图像显示装置 - Google Patents

转印膜、层叠体的制造方法、层叠体、静电电容型输入装置及图像显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种能够依次形成含金属氧化物粒子层及粘合层并且可获得降低透明电极图案的可见性优异的层叠体的转印膜及使用上述转印膜的层叠体的制造方法。并且，提供一种依次具有含金属氧化物粒子层及与上述含金属氧化物粒子层相邻的粘合层并且降低透明电极图案的可见性优异的层叠体、包含上述层叠体的静电电容型输入装置及具备上述静电电容型输入装置的图像显示装置。转印膜依次具有临时支承体、粘合层及包含金属氧化物粒子的含金属氧化物粒子层，上述含金属氧化物粒子层中的上述金属氧化物粒子的含量在膜厚方向的变动量为10％以下。

Description

转印膜、层叠体的制造方法、层叠体、静电电容型输入装置及 图像显示装置
技术领域
本发明涉及一种转印膜、层叠体的制造方法、层叠体、静电电容型输入装置及图像显示装置。
背景技术
在具备静电电容型触摸面板的显示装置等中使用经图案化的ITO(氧化铟锡)等透明电极(透明电极图案)。
在此，在上述显示装置等中，已知有在上述透明电极图案上形成折射率调整层以降低上述透明电极图案的可见性。
并且，已知有为了简化工序而使用转印膜形成上述折射率调整层。
例如，专利文献1中记载有一种转印膜，其特征在于，其依次具有临时支承体、第一固化性透明树脂层及与上述第一固化性透明树脂层相邻地配置的第二固化性透明树脂层，上述第二固化性透明树脂层的折射率高于上述第一固化性透明树脂层的折射率，上述第二固化性透明树脂层的折射率为1.60以上。
专利文献2中记载有一种透明导电性薄膜层叠体，其特征在于，其包含支承体、上述支承体上的透明的粘合剂层、上述透明的粘合剂层上的透明的薄膜基材及上述透明的薄膜基材上的透明导电性层，上述透明的粘合剂层包含：从一个主面沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基底材料形成的基底粘合剂区段；从上述粘合剂层的另一主面沿厚度方向形成的透明的粘结性的折射率调整用区段，上述基底粘合剂区段与上述透明的薄膜基材接触，上述折射率调整用区段与上述支承体接触，并且具有比上述粘合剂基底材料的折射率还高的折射率。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2014-108541号公报
专利文献2：日本特开2017-024262号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
如专利文献1所记载，已知以降低透明电极图案的可见性为目的而在透明电极图案上形成折射率调整层。
专利文献1中，为了保护上述折射率调整层，在折射率调整层(第二固化性透明树脂层)上配置有第一固化性透明树脂层(也称为“外涂层”。)。
在具有例如液晶显示装置、有机EL显示装置等图像显示装置的触摸面板等的制造中，将偏振膜、相位差膜、盖玻片、其他各种光学部件接合到上述折射率调整层上。
因此，例如使用专利文献1所涉及的转印膜形成折射率调整层及外涂层时，例如，通过外涂层保护折射率调整层的同时，在外涂层上进一步形成粘合层，并与其他光学部件接合。
并且，专利文献2中记载有至少层叠有粘合层和折射率调整层的转印膜。通过使用这种转印膜，能够省略上述外涂层的形成，并且能够在折射率调整层上形成具有粘合层的部件。
但是，本发明人进行了深入研究的结果发现了，在专利文献2所涉及的转印膜中，具有折射率调整层作为从粘合剂层的另一主面沿厚度方向形成的透明的粘结性的折射率调整用区段，因此在膜厚方向上产生折射率的偏差(变动)，并且降低透明电极图案的可见性可能会不充分。
本发明所涉及的实施方式所欲解决的课题在于，提供一种能够依次形成含金属氧化物粒子层及粘合层，并且可获得降低透明电极图案的可见性优异的层叠体的转印膜及使用上述转印膜的层叠体的制造方法。
本发明所涉及的另一实施方式所欲解决的课题在于，提供一种依次具有含金属氧化物粒子层及与上述含金属氧化物粒子层相邻的粘合层，并且降低透明电极图案的可见性优异的层叠体、包含上述层叠体的静电电容型输入装置及具备上述静电电容型输入装置的图像显示装置。
用于解决技术课题的手段
用于解决上述课题的手段包括以下方式。
[1]一种转印膜，其依次具有：
临时支承体；
粘合层；及
含金属氧化物粒子层，其包含金属氧化物粒子，
上述含金属氧化物粒子层中的上述金属氧化物粒子的含量在膜厚方向的变动量为10％以下。
[2]根据[1]所述的转印膜，其中，上述含金属氧化物粒子层包含具有选自由羧基及磷酸基组成的组中的至少一种基团的化合物。
[3]根据[2]所述的转印膜，其包含选自由具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2,000的化合物及具有磷酸基且分子量小于2,000的化合物组成的组中的至少一种化合物。
[4]根据[3]所述的转印膜，其中，上述具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2,000的化合物及上述具有磷酸基且分子量小于2,000的化合物的合计含量相对于上述含金属氧化物粒子层的总质量为0.1质量％～20质量％。
[5]根据[2]至[4]中任一项所述的转印膜，其包含如下树脂，该树脂具有羧基及磷酸基中的至少一种，分子量为2,000以上且10,000以下，玻璃化转变温度为23℃以下，并且酸值为80mgKOH/g以上。
[6]根据[1]至[5]中任一项所述的转印膜，其中，上述粘合层在23℃下的tanδ为1.5以上，在23℃下的断裂伸长率为600％以上，在23℃下的粘度为1.0×106Pa·s以下。
[7]根据[1]至[6]中任一项所述的转印膜，其在60℃下的水蒸气透过率为1,100g/(m2·天)以下。
[8]根据[1]至[7]中任一项所述的转印膜，其中，上述粘合层的厚度为5μm～200μm。
[9]根据[1]至[8]中任一项所述的转印膜，其中，上述含金属氧化物粒子层的厚度为30nm～1,000nm。
[10]一种层叠体的制造方法，其包括在透明电极图案上依次层叠[1]至[9]中任一项所述的转印膜中的上述含金属氧化物粒子层及上述粘合层的工序。
[11]一种层叠体，其依次具有：
透明电极图案；
含金属氧化物粒子层，其包含金属氧化物粒子且与上述透明电极图案相邻地配置；及
粘合层，其与上述含金属氧化物粒子层相邻地配置，
上述含金属氧化物粒子层中的上述金属氧化物粒子的含量在膜厚方向的变动量为10％以下。
(层叠体)
[12]根据[11]所述的层叠体，其中，上述含金属氧化物粒子层包含具有选自由羧基及磷酸基组成的组中的至少一种基团的化合物。
[13]根据[12]所述的层叠体，其包含选自由具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2,000的化合物及具有磷酸基且分子量小于2,000的化合物组成的组中的至少一种化合物。
[14]根据[13]所述的层叠体，其中，上述具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2,000的化合物及上述具有磷酸基且分子量小于2,000的化合物的合计含量相对于上述含金属氧化物粒子层的总质量为0.1质量％～20质量％。
[15]根据[11]至[14]中任一项所述的层叠体，其中，上述粘合层在23℃下的tanδ为1.5以上，在23℃下的断裂伸长率为600％以上，在23℃下的粘度为1.0×106Pa·s以下。
[16]根据[11]至[15]中任一项所述的层叠体，其中，将上述粘合层及上述含金属氧化物粒子层组合而成的层在60℃下的水蒸气透过率为1,100g/(m2·天)以下。
[17]根据[11]至[16]中任一项所述的层叠体，其中，上述粘合层的厚度为5μm～200μm。
[18]根据[11]至[17]中任一项所述的层叠体，其中，上述含金属氧化物粒子层的厚度为30nm～1,000nm。
[19]一种静电电容型输入装置，其包含[11]至[18]中任一项所述的层叠体。
[20]一种图像显示装置，其具备[19]所述的静电电容型输入装置。
发明效果
根据本发明所涉及的实施方式，提供一种能够依次形成含金属氧化物粒子层及粘合层，并且可获得降低透明电极图案的可见性优异的层叠体的转印膜及使用上述转印膜的层叠体的制造方法。
根据本发明所涉及的另一实施方式，能够提供一种依次具有含金属氧化物粒子层及与上述含金属氧化物粒子层相邻的粘合层，并且降低透明电极图案的可见性优异的层叠体、包含上述层叠体的静电电容型输入装置及具备上述静电电容型输入装置的图像显示装置。
附图说明
图1是表示本发明的一实施方式所涉及的转印膜的一例的概略剖视图。
图2是表示本发明的一实施方式所涉及的静电电容型输入装置的结构的一例的剖面示意图。
图3是表示本发明的一实施方式所涉及的透明电极图案与非图案区域的关系的一例的说明图。
图4是表示本发明的一实施方式所涉及的透明电极图案的端部的锥形形状的一例的说明图。
图5是表示本发明的一实施方式所涉及的透明电极图案与非图案区域的关系的一例的说明图。
图6是表示本发明所涉及的层叠体的一例的剖视图的示意图。
图7是用于说明本发明的实施例中的段差追踪性的评价方法的说明图。
具体实施方式
以下，对本发明的一实施方式进行说明。
本发明中的基团(原子团)的标记中，未标有经取代及未经取代的标记是包含不具有取代基的基团和具有取代基的基团。例如，“烷基”是指，不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代烷基)，也包含具有取代基的烷基(经取代烷基)。
本发明中，使用“～”所表示的数值范围是指包含“～”的前后记载的数值作为下限值及上限值的范围。
在本发明中分阶段记载的数值范围中，以1个数值范围记载的上限值或下限值可置换为其他分阶段记载的数值范围的上限值或下限值。并且，本发明中所记载的数值范围中，其数值范围的上限值或下限值可置换为实施例所示的值。
本发明中，含金属氧化物粒子层等层中的各成分的量，在含金属氧化物粒子层等层中存在多种相当于各成分的物质时，除非另有说明，是指含金属氧化物粒子层等层中存在的上述多种物质的合计量。
本发明中，“(甲基)丙烯酸”是包括丙烯酸及甲基丙烯酸这两者的概念，“(甲基)丙烯酸酯”是包括丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者的概念，“(甲基)丙烯酰基”是包括丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两者的概念。
并且，本发明中的“工序”的术语不仅为独立的工序，而且即使在无法与其他工序明确区分的情况下，只要实现该工序的所期望的目的，则包含在本术语中。
并且，本发明中，“质量％”的含义与“重量％”的含义相同，“质量份”的含义与“重量份”的含义相同。
此外，本发明中，2以上的优选的方式的组合是更优选的方式。
并且，除非另有说明，本发明中的重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)是利用使用了TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(均为TOSOH CORPORATION制的产品名)的管柱的凝胶渗透色谱(GPC)分析装置，通过溶剂THF(四氢呋喃)、差示折射计来检测，使用聚苯乙烯作为标准物质而换算的分子量。
分子量具有分子量分布时，只要无特别说明，则是重均分子量。
聚合物中的结构单元的成分比，只要无特别说明，则是摩尔比。
本发明中，总固体成分量是指去除组合物中的溶剂等挥发性成分而得的成分的总质量。
本发明中的附图中，对相同的结构赋予相同符号，并省略详细情况的说明。
本发明中，“光”是包括γ射线、β射线、电子束、紫外线、可见光线、红外线之类的活性能量射线的概念。
除非另有说明，本发明中的“曝光”，不仅包含利用汞灯的明线光谱、以准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线、X射线及EUV(Extreme ultraviolet)光等进行的曝光，还包含利用电子束及离子束等粒子束进行的曝光。
本发明中，“透明”是指在23℃下的波长在400nm～800nm中的总透光率为80％以上(优选为90％以上，更优选为95％以上)。利用积分球式透光率测量装置(例如，KONICAMINOLTA,INC.制的商品名称“CM-3600A”)测量上述总透光率。
(转印膜)
本发明所涉及的转印膜依次具有临时支承体、粘合层及包含金属氧化物粒子的含金属氧化物粒子层，上述含金属氧化物粒子层中的上述金属氧化物粒子的含量在膜厚方向的变动量为10％以下。
本发明人进行了深入研究的结果发现了，通过采用上述结构，能够在透明电极图案上依次形成含金属氧化物粒子层及粘合，并且可获得降低透明电极图案的可见性优异的层叠体。
关于获得上述效果的机理尚未明确，但推测为如下。
本发明中的含金属氧化物粒子层包含金属氧化物粒子，其目的是提高折射率以降低透明电极图案的可见性。
该金属氧化物粒子的含量在膜厚方向的变动量为10％以下，由此认为可降低含金属氧化物粒子层的折射率的偏差，并进一步降低透明电极图案的可见性。
并且，本发明所涉及的转印膜能够一次形成含金属氧化物粒子层及粘合层。
此外，上述粘合层能够形成为比上述外涂层还柔软的层。
因此，将本发明所涉及的转印膜贴合到具有段差的部件时，认为容易抑制段差部分中气泡的产生。
并且，例如，认为还容易适用于显示部等具有柔软性的触摸面板显示装置。
以下，对构成本发明所涉及的转印膜的各必要条件进行说明。
＜转印膜的结构＞
图1是本发明所涉及的转印膜20的概略剖视图。
转印膜20在临时支承体16上依次具有粘合层18及含金属氧化物粒子层12。
优选为临时支承体16与粘合层18相邻。然而，可以具有与临时支承体一同剥离的层，以使剥离临时支承体16时粘合层成为最外层。
粘合层18与含金属氧化物粒子层12之间可以具有中间层等，但从降低透明电极图案的可见性及段差追踪性的观点出发，优选粘合层18与含金属氧化物粒子层12相邻。
含金属氧化物粒子层12优选具有转印时剥离的保护膜(未图示)。
并且，从降低透明电极图案的可见性的观点及在层叠体中与透明电极图案相邻为优选观点出发，含金属氧化物粒子层12优选为最外层或与保护膜相邻。
〔WVTR〕
从抑制透明电极图案及金属配线(铜配线等)的腐蚀的观点出发，转印膜的在60℃下的水蒸气透过率(WVTR)优选为1100g/(m2·天)以下，更优选为200g/(m2·天)～600g/(m2·天)，进一步优选为200g/(m2·天)～400g/(m2·天)。在60℃、90％RH的环境下通过MOCON公司制的AQUATRAN(MODEL-1)来测量WVTR。
转印膜的在60℃下的WVTR在从转印膜剥离临时支承体的状态下被测量。并且，转印膜具有后述覆盖膜时，在覆盖膜也剥离的状态下被测量。在实际测量中，测量转印到膜滤器的层叠体的WVTR(膜滤器的WVTR与转印膜的WVTR相比WVTR极其高，实质上成为测量了转印膜本身的WVTR)。
在本发明中，转印膜的在60℃下的WVTR例如能够通过设计后述粘合层的组成、厚度等而设为上述范围内。
以下，对各层的详细情况进行说明。
＜含金属氧化物粒子层＞
本发明所涉及的转印膜具有含金属氧化物粒子层。
本发明中的含金属氧化物粒子层优选为透明。
并且，本发明中的含金属氧化物粒子层的、在23℃、波长400nm～750nm中的折射率优选为1.55～2.00，更优选为1.60～1.90，进一步优选为1.61～1.89，最优选为1.62～1.75。
本发明中，波长400nm～750nm下的折射率例如为1.50以上是指上述范围的波长的光中的平均折射率为1.50以上，具有上述范围的波长的所有光中的折射率无需为1.50以上。并且，平均折射率是将具有上述范围的波长的、对以每隔1nm的间隔测量的各光的折射率的测量值的总和除以测量点的数值而得的值。
本发明中的含金属氧化物粒子层的波长550nm下的折射率优选为1.55～2.00，更优选为1.60～1.90，进一步优选为1.61～1.89，最优选为1.62～1.75。
本发明中的含金属氧化物粒子层的波长633nm下的折射率优选为1.55～2.00，更优选为1.60～1.90，进一步优选为1.61～1.89，最优选为1.62～1.75。
本发明中的含金属氧化物粒子层的折射率优选为高于后述粘合层的折射率。
本发明中，只要无特别说明，折射率是在23℃、波长550nm下利用椭圆偏振计测量而得的值。
〔金属氧化物粒子〕
本发明中的含金属氧化物粒子层包含金属氧化物粒子。通过包含金属氧化物粒子，可获得折射率及透光性优异的含金属氧化物粒子层。
金属氧化物粒子的在23℃、波长400nm～750nm下的折射率优选为1.50以上，更优选为1.70以上，更优选为1.90以上。
金属氧化物粒子的折射率的上限并无特别限定，例如为3.0以下即可。
本发明中的金属氧化物粒子的金属还包含B、Si、Ge、As、Sb、Te等半金属。
作为透光性且折射率高的金属氧化物粒子，优选为包含Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Gd、Tb、Dy、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、Nb、Mo、W、Zn、B、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te等原子的氧化物粒子，更优选为氧化钛、钛复合氧化物、氧化锌、氧化锆、氧化锡、锆/锡氧化物、铟/锡氧化物、锑/锡氧化物，进一步优选为氧化钛、钛复合氧化物、氧化锡、氧化锆，尤其优选为氧化钛或氧化锆，最优选为氧化锆。作为氧化钛，优选为二氧化钛，作为二氧化钛，优选为尤其折射率高的金红石型。
这些金属氧化物粒子也能够为了赋予分散稳定性而用有机材料对表面进行处理。
-粒径-
从含金属氧化物粒子层的透明性的观点出发，上述金属氧化物粒子的平均一次粒径优选为1nm～200nm，尤其优选为3nm～80nm。金属氧化物粒子的平均一次粒径是指通过电子显微镜来测量任意200个粒子的粒径且其算数平均。并且，粒子的形状为非球形的情况下，将最长的径设为直径。
并且，上述金属氧化物粒子可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
含金属氧化物粒子层中的金属氧化物粒子的含量考虑所获得的光学部件所需的折射率、透光性等而适当的确定即可，相对于含金属氧化物粒子层的总质量，优选设为5质量％～95质量％，更优选设为50质量％～95质量％，最优选设为65质量％～90质量％。
作为氧化钛粒子的例子，可列举TAYCA CORPORATION制的TS-020(水分散液、不挥发分25.6质量％)、Nissan Chemical Corporation制二氧化钛溶胶R(甲醇分散液、不挥发成分32.1质量％)等。
作为氧化锆粒子的例子，可列举Nissan Chemical Corporation制的Nano UseOZ-S30M(甲醇分散液、不挥发成分30.5质量％)、Sakai Chemical Industry Co.,Ltd.制的SZR-CW(水分散液、不挥发分30质量％)、SZR-M(甲醇分散液、不挥发分30质量％)等。
-膜厚方向的变动量-
在本发明中，含金属氧化物粒子层中的金属氧化物粒子的含量在膜厚方向的变动量为10％以下，优选为8％以下，更优选为5％以下。
关于上述变动量，例如金属氧化物粒子包含氧化锆粒子时，使用XPS装置“PHI-5600”(ULVAC-PHI,INCORPORATED制)实施氩气·溅射(4kV)，从膜表面沿膜厚方向切割膜，通过X射线光电子能谱法来测量膜表面的Zr原子相对于碳原子的含有率。通过上述测量，分别测量相对于总膜厚的深度方向(膜厚方向)，10％膜厚、50％膜厚及90％膜厚中Zr原子相对于碳原子的含有率，在这些3点的平均值与这些3点各自的值的差的绝对值中，将最大值设为变动量。上述10％(50％或90％)膜厚是指从含金属氧化物粒子层的表面刮下含金属氧化物粒子层的膜厚的10％(50％或90％)的位置。
即使当金属氧化物粒子为其他粒子时，也能够与使用上述氧化锆粒子的情况同样地进行计算。
当含有多个金属氧化物粒子时，将各金属的合计设为金属氧化物粒子的含量。
〔树脂〕
含金属氧化物粒子层优选包含树脂。
作为粘合剂聚合物，能够使用公知的高分子。优选为在侧链上具有羧酸的丙烯酸树脂。重均分子量优选为5,000～50,000。例如，能够使用日本特开2011-095716号公报的0025段、日本特开2010-237589号公报的0033～0052段所记载的树脂(A)。
上述树脂并无特别限定，但优选为(甲基)丙烯酸树脂。
在此，(甲基)丙烯酸树脂是指包含来自于(甲基)丙烯酸的结构单元及来自于(甲基)丙烯酸酯的结构单元中的至少一种的树脂。
(甲基)丙烯酸树脂中的来自于(甲基)丙烯酸的结构单元及来自于(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计比例优选为30摩尔％以上，更优选为50摩尔％以上。上限并无特别限定，100摩尔％以下即可。
并且，树脂优选为具有烯键式不饱和基团。
树脂具有烯键式不饱和基团，因此与后述粘合层的密合性优异。
作为烯键式不饱和基团，可列举乙烯基、(甲基)丙烯酰基、烯丙基等。
这些烯键式不饱和基团例如可以在制造树脂时使用具有这些烯键式不饱和基团的单体导入到树脂中，也可以通过高分子反应等导入到树脂中。
并且，上述树脂除了上述(甲基)丙烯酸树脂以外，根据目的还能够适当的选择使用任意的膜形成树脂。为了提高表面硬度、耐热性，可以使用公知的感光性硅氧烷树脂材料等。
上述树脂可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
树脂的含量相对于上述含金属氧化物粒子层的总质量，优选为0质量％～40质量％，更优选为10质量％～30质量％。
〔具有选自由羧基及磷酸基组成的组中的至少一种基团的化合物〕
含金属氧化物粒子层优选为包含具有选自由羧基及磷酸基组成的组中的至少一种基团的化合物(以下，也称为“特定化合物”。)。
含金属氧化物粒子层含有特定化合物，由此在形成含金属氧化物粒子层时，可抑制在含金属氧化物粒子层中产生裂纹，并且更容易降低透明电极图案的可见性。
作为特定化合物，优选为选自由具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量(具有分子量分布时为重均分子量)小于2,000的化合物及具有磷酸基的分子量小于2,000的化合物组成的组中的至少一种化合物(以下，也称为“特定化合物A”。)。
-具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2,000的化合物-
具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2,000的化合物的分子量优选为120以上且1,000以下。
上述分子量能够通过公知的质谱分析法进行测量。
并且，具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2,000的化合物可以为仅具有1个羧基的化合物，也可以为具有多个羧基的化合物，但优选为具有多个羧基的化合物。
具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2,000的化合物中的羧基的pKa优选为1.0～6.0，更优选为1.0～4.0。具有羧基且分子量小于2,000的化合物具有多个pKa时，上述pKa为多个pKa中的最小值。
作为具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2,000的化合物，可列举邻苯二甲酸、偏苯三酸、顺丁烯二酸、苯甲酸、柠檬酸等。
-具有磷酸基且分子量小于2,000的化合物-
具有磷酸基且分子量小于2,000的化合物的分子量优选为120以上且1,000以下。
上述分子量能够通过公知的质谱分析法进行测量。
并且，具有磷酸基且分子量小于2,000的化合物优选为还具有烯键式不饱和基团。
作为上述烯键式不饱和基团虽无特别限定，但可列举(甲基)丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等。
并且，具有磷酸基且分子量小于2,000的化合物可以为仅具有1个磷酸基的化合物，也可以为具有多个磷酸基的化合物。
作为具有磷酸基且分子量小于2,000的化合物，可列举LIGHT ESTER P-2M(KYOEISHA CHEMICAL Co.,LTD.制)等。
-特定化合物B-
并且，作为特定化合物，还能够优选地使用具有羧基及磷酸基中的至少一种，分子量为2,000以上且10,000以下，玻璃化转变温度(Tg)为23℃以下，并且酸值为80mgKOH/g以上的树脂(以下，也称为“特定化合物B”。)。
在本发明中，树脂等聚合物的玻璃化转变温度能够利用差示扫描量热计(DSC)来测量。
根据JIS K 7121(1987年)或JIS K 6240(2011年)中记载的方法按顺序进行具体的测定方法。本说明书中的玻璃化转变温度使用外推玻璃化转变起始温度(以下，有时称为Tig)。
对玻璃化转变温度的测定方法进行更具体地说明。
求出玻璃化转变温度的情况下，在比预想的Tg低约50℃的温度下保持至装置稳定之后，以加热速度20℃/分钟，加热至比玻璃化转变终止温度高约30℃的温度，并描绘DTA曲线或DSC曲线。
求出外推玻璃化转变起始温度(Tig)即本说明书中的玻璃化转变温度Tg，作为将DTA曲线或DSC曲线中的低温侧的基准线沿高温侧延长的直线与在玻璃転移的阶梯状变化部分的曲线斜率最大的点绘制的切线的交点的温度。
作为将Tg调整为已叙述的优选的范围的方法，例如能够控制作为目标的聚合物的各构成单元的均聚物的Tg及由各构成单元的质量比将FOX式为准则而作为目标的特定聚合物的Tg。
关于FOX式，
将聚合物中所包含的第1构成单元的均聚物的Tg设为Tg1、将第1构成单元的共聚物中的质量分率设为W1、将第2构成单元的均聚物的Tg设为Tg2、将第2构成单元的共聚物中的质量分率设为W2时，包含第1构成单元及第2构成单元的共聚物的Tg0(K)能够根据以下的式来推断。
FOX式：1/Tg0＝(W1/Tg1)+(W2/Tg2)
利用已叙述的FOX式，调整共聚物中所包含的各构成单元的种类及质量分率，能够得到具有所期望的Tg的共聚物。
并且，通过调整聚合物的重均分子量，也能够调整聚合物的Tg。
本发明中的树脂等聚合物的酸值是表示为了中和每1g聚合物的酸性成分所需的氢氧化钾的质量的值。具体而言，使测量样品溶解于四氢呋喃/水＝9/1混合溶剂中，并使用电位滴定装置(商品名称：AT-510，KYOTO ELECTRONICS MANUFACTURING CO.,LTD.制)，在23℃下，通过0.1M氢氧化钠水溶液对所获得的的溶液进行中和滴定。将滴定pH曲线的拐点设为滴定终点，并通过下式来算出酸值。
A＝56.11×Vs×0.1×f/w
A：酸值(mgKOH/g)
Vs：滴定所需的0.1mol/l氢氧化钠水溶液的使用量(mL)
f：0.1mol/l氢氧化钠水溶液的滴定量
w：测量样品的质量(g)(固体成分换算)
＜＜具有羧基，重均分子量为2,000以上且10,000以下且Tg23℃以下的树脂＞＞
从抑制金属配线的腐蚀的观点出发，作为特定化合物，优选使用具有羧基，分子量为2,000以上且10,000以下，玻璃化转变温度(Tg)为23℃以下，并且酸值为80mgKOH/g以上的树脂。
上述分子量优选为2,000～8,000，更优选为2,500～5,000。
上述Tg优选为-40℃～30℃，更优选为-20℃～25℃。
上述酸值优选为80mgKOH/g～300mgKOH/g，从溶解性的观点出发，更优选为80mgKOH/g～200mgKOH/g。
作为上述树脂，优选为丙烯酸树脂。
作为优选的例子，可列举Soken Chemical&Engineering Co.,Ltd.制的ActflowCB-3060、CB-3098、CB-CBB-3098等。
＜＜具有磷酸基，重均分子量为2,000以上且10,000以下且Tg23℃以下的树脂＞＞
从抑制金属配线腐蚀的观点出发，作为特定化合物，优选使用具有磷酸基，分子量为2,000以上且10,000以下，Tg为23℃以下，并且酸值为80mgKOH/g以上的树脂。
作为具有上述磷酸基的树脂，优选为使用在侧链上具有磷酸基的树脂。
上述具有磷酸基的树脂可以具有烯键式不饱和基团，但优选为不具有烯键式不饱和基团的树脂。
具有磷酸基的树脂优选为具有包含磷酸基的结构单元的树脂。
具有磷酸基的树脂例如可在制造树脂时通过使用具有磷酸基的单体而获得。
-含量-
本发明所涉及的含金属氧化物粒子层可以单独含有1种特定化合物，也可以同时使用2种以上。
特定化合物的含量相对于上述含金属氧化物粒子层的总质量，优选为0.1质量％～50质量％，更优选为1.0质量％～40质量％。
并且，特定化合物A的合计含量相对于上述含金属氧化物粒子层的总质量，优选为0.1质量％～20质量％，更优选为1.0质量％～10.0质量％。
〔其他聚合性化合物〕
本发明中的含金属氧化物粒子层还可以具有除了上述树脂及特定化合物以外的其他聚合性化合物。
作为其他聚合性化合物，能够列举分子中具有至少一个可加成聚合的烯键式不饱和基团且沸点在常压下为100℃以上的化合物。能够列举聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等单官能丙烯酸酯或单官能甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、异氰尿酸三(丙烯酰氧基乙基)酯、氰尿酸三(丙烯酰氧基乙基)酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯；在三羟甲基丙烷或甘油等多官能醇上加成环氧乙烷或环氧丙烷之后(甲基)丙烯酸酯化而成的化合物；在二季戊四醇等多官能醇上加成二羧酸或羧酸酐后(甲基)丙烯酸酯化而成的化合物等多官能丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯。
〔聚合引发剂或聚合起始系〕
本发明中的含金属氧化物粒子层还可以包含聚合引发剂或聚合起始系。作为聚合引发剂或聚合起始系虽无特别限定，但可列举日本特开2011-095716号公报中记载的0031～0042段中记载的聚合引发剂或聚合起始系。
〔其他添加剂〕
含金属氧化物粒子层还可以包含其他添加剂。作为其他添加剂，例如可列举日本专利第4502784号公报的0017段、日本特开2009-237362号公报的0060～0071段中记载的表面活性剂或日本专利第4502784号公报的0018段中记载的热聚合抑制剂，进而可列举日本特开2000-310706号公报的0058～0071段中记载的其他添加剂等。
〔为正型材料的情况〕
含金属氧化物粒子层可以为正型材料。为含金属氧化物粒子层正型材料时，例如可使用日本特开2005-221726号公报中所记载的材料等，但并不限定于此。
〔厚度〕
含金属氧化物粒子层的厚度优选为30nm～1000nm，更优选为30nm～300nm，最优选为50nm～150nm。
＜粘合层＞
本发明所涉及的转印膜具有粘合层。
作为粘合层，只要为具有粘结性的层，则并无特别限定，粘贴玻璃基材时的剥离力优选为0.2N/mm以上。通过在室温环境(23℃)下以拉伸速度300mm/min进行180°剥离试验来测量上述剥离力。
〔粘合层的特性〕
-tanδ-
从使段差追踪性良好的观点出发，粘合层的在23℃下的tanδ优选为1.5以上，更优选为大于1.5，进一步优选为2.0～4.0。
在本发明中，tanδ作为在粘度测量中置于G’(储存弹性模量)和G”(损失弹性模量)的G”/G’的比率而获得。上述储存弹性模量G’及损失弹性模量G”通过JIS K 7244-1：1998中所记载的方法来测量。
-断裂伸长率-
从使段差追踪性良好的观点出发，本发明中的粘合层的、在23℃下的断裂伸长率优选为600％以上，更优选为600％～1000％。上述断裂伸长率通过使用拉伸试验机(Tensilon Co.,Ltd.制)拉伸膜厚75μm、长度30mm、宽度5mm的自支撑膜的样品膜来测量。上述测量在夹头间距离20mm、23℃、相对湿度50％下进行。
-粘度-
从使段差追踪性良好的观点出发，本发明中的粘合层的、在23℃下的粘度优选为1.0×106Pa·s以下，更优选为1.0×104Pa·s以上且1.0×106Pa·s以下。
上述粘度使用TA Instruments Japan Ltd.制流变计DHR-2(20mmf的平行板及帕耳帖板(Gap：约0.5mm))在测量开始温度20℃、测量结束温度50℃、升温速度5℃/min、频率1Hz、应变0.5％的条件下被测量。在帕耳帖板上将试样在约80℃下溶解并以Gap恒定(0.5mm)模式下测量样品。以载荷恒定(1N)模式测量膜厚，使得帕耳帖板上厚度成为75μm。
从段差追踪性的观点出发，本发明中的粘合层优选在23℃下的tanδ为1.5以上，在23℃下的断裂伸长率为600％以上，在23℃下的粘度为1.0×106Pa·s以下。
tanδ、断裂伸长率及粘度的优选范围分别如上所述。
-剥离力-
临时支承体与粘合层之间的剥离力优选为5.0N/25mm以下(0.2N/mm)，以使在临时支承体与粘合层之间的界面处容易剥离。
并且，粘合层与含金属氧化物粒子层之间的剥离力优选为5.0N/25mm以上，以使在粘合层与含金属氧化物粒子层的界面处不易剥离。
通过在室温环境(23℃)下以拉伸速度300mm/min进行180°剥离试验来测量上述剥离力。
-光学特性-
本发明中的粘合层优选为透明。
并且，本发明中的粘合层的、在23℃、波长400nm～750nm下的折射率优选为1.40～1.60，更优选为1.45～1.55。
〔粘合层形成用组合物〕
本发明中的粘合层通过将粘合层形成用组合物进行固化或干燥而获得。
例如，通过将包含橡胶、根据需要的增粘剂、聚合性单体及聚合引发剂的粘合层形成用组合物进行固化、或将包含聚合性单体、树脂及溶剂的粘合层形成用组合物进行干燥而获得。
以下，对本发明中的粘合层形成用组合物中所含有的成分及可以含有的成分进行说明。
-橡胶-
本发明中的粘合层形成用组合物优选为含有橡胶。粘合层形成用组合物(粘合层)含有橡胶，由此能够提高粘合层的疏水性并能够降低上述WVTR及所获得的的静电电容型输入装置中的相对介电常数。
本发明中的粘合层形成用组合物中所含有的橡胶优选为在常温(23℃)下是液态。并且，优选为同时使用在上述常温为液态的橡胶和后述追加添加橡胶。
在常温下为液态的橡胶的重均分子量优选为1000～10万，更优选为1000～5万，进一步优选为1000～3万5000。
在常温下为液态的橡胶的重均分子量在上述范围内，从而容易获得段差追踪性优异的粘合层，并且，粘合层形成用组合物的处理性提高。
并且，在常温下为液态的橡胶的重均分子量为1000以上，由此容易获得粘合力优异且可抑制流动、泄漏等的粘合层。
另一方面，在常温下为液态的橡胶的重均分子量为10万以下，从而粘合层的段差追踪性易优异，粘合层形成用组合物的粘度不会太高，因此处理性提高。
作为在常温下为液态的橡胶，例如包含未改性或改性的橡胶，更具体而言，可列举天然橡胶、(改性)聚异丁烯、(改性)聚丁二烯、(改性)氢化聚异戊二烯、(改性)氢化聚丁二烯、(改性)聚异戊二烯、(改性)聚丁烯、(改性)苯乙烯丁二烯共聚物、或从这些组中任意选择的组合的共聚物、这些的混合物等。另外，上述例示中的“(改性)A”(“A”为化合物名)是包含用任意的基团改性的A及未改性的A这两者的总称。
在常温下为液态的橡胶中可以包含具有聚合性基团的橡胶。具有聚合性基团的橡胶是改性橡胶的一种。作为这种聚合性基团，可列举公知的自由基聚合性基团((甲基)丙烯酰基、丙烯酰胺基、乙烯基、乙烯基苯基、烯丙基等)或公知的阳离子聚合性基团(环氧基等)。作为具有聚合性基团的第1橡胶，例如可列举具有(甲基)丙烯酰基的橡胶(例如，聚丁二烯、聚异戊二烯、氢化聚丁二烯及氢化聚异戊二烯等)。另外，具有聚合性基团的橡胶不包含于后述聚合性单体。
从实现低介电常数及低温度依赖性的观点出发，在常温下为液态的橡胶优选包含选自由聚丁二烯、聚异戊二烯、改性聚丁二烯及改性聚异戊二烯(优选为(甲基)丙烯酸改性聚异戊二烯)组成的组中的至少一种。
在本发明中的效果更优异的方面而言，在常温下为液态的橡胶的含量相对于粘合层形成用组合物的总质量，优选为5质量％～45质量％，更优选为10质量％～30质量％。
＜＜追加添加橡胶＞＞
粘合层形成用组合物除了在上述常温下为液态的橡胶以外还可以包含追加添加橡胶。
追加添加橡胶优选为重均分子量在25万～200万的范围内，并且在常温(23℃)下为固体的橡胶。通过还包含追加添加橡胶，可获得湿热密合性优异的粘合层。
若追加添加橡胶的重均分子量为25万以上，则容易提高粘合层的湿热密合性，并且，若追加添加橡胶的重均分子量为200万以下，则容易制备粘合层形成用组合物。
作为追加添加橡胶的具体例，由于与在常温下为液态的橡胶相同，因此省略其说明。
从实现低介电常数及低温度依赖性的观点出发，上述追加添加橡胶优选包含选自由聚丁二烯、聚异戊二烯、改性聚丁二烯及改性聚异戊二烯(优选为(甲基)丙烯酸改性聚异戊二烯)组成的组中的至少一种。
追加添加橡胶的含量相对于粘合层形成用组合物的总质量(100质量％)为10质量％以上，优选为10～25质量％。
这样，含量为10质量％以上，从而可获得湿热密合性优异的粘合层。并且，若追加添加橡胶的含量为25质量％以下，则粘合层的柔软性变得良好并且通过段差追踪性可获得优异的粘合层，并且，在制备粘合层形成用组合物时，溶解性趋于良好。
另一方面，若追加添加橡胶的含量小于10质量％，则粘合层的湿热密合性可能会不充分。
＜＜聚合性单体＞＞
本发明中的粘合层形成用组合物优选为包含聚合性单体。
聚合性单体是具有聚合性基团的化合物。作为聚合性基团，能够使用公知的聚合性基团，可列举所谓的自由基聚合性基团((甲基)丙烯酰基、丙烯酰胺基、乙烯基、乙烯基苯基、烯丙基等)或阳离子聚合性基团(环氧基等)。
其中，在处理性及聚合性优异且能够进一步提高所获得的粘合层的段差追踪性的方面而言，作为聚合性单体，优选为(甲基)丙烯酸单体，尤其，更优选为单官能性(甲基)丙烯酸单体。另外，通过聚合(甲基)丙烯酸单体而获得(甲基)丙烯酸聚合物(聚(甲基)丙烯酸酯)。
(甲基)丙烯酸单体是具有(甲基)丙烯酰基的聚合性单体。并且，单官能性(甲基)丙烯酸单体是具有1个(甲基)丙烯酰基的聚合性单体。
另外，作为聚合性单体，可以仅使用1种，也可以同时使用2种以上。
(甲基)丙烯酸单体的种类并无特别限制，在处理性优异的方面而言，优选为(甲基)丙烯酸烷基酯，更优选为由下述式(A)表示的单官能性(甲基)丙烯酸单体。
式(A)CH2＝CHR1-COO-R2
式(A)中，R1表示氢原子或烷基。作为烷基，优选为碳原子数1～3，更优选为碳原子数1。
R2表示可以具有杂原子的烃基。
其中，在所获得的的粘合层的段差追踪性更优异的方面而言，由R2表示的烃基中的碳原子的数(碳原子数)优选为6个以上，更优选为6个～16个，进一步优选为8个～12个。
作为烃基，可优选地列举脂肪族烃基、芳香族烃基或将这些组合而成的基团。脂肪族烃基可以为直链状、支链或环状，更具体而言，可列举直链状脂肪族烃基、支链状脂肪族烃基、环状脂肪族烃基(脂环式烃基)等。
作为脂肪族烃基，例如可列举烷基、环烷基、烯基等。作为芳香族烃基，例如可列举苯基、萘基等。
(甲基)丙烯酸单体的溶解度参数(SP值)并无特别限制，在本发明中的效果更优异的方面而言，优选为8.0MPa1/2～10.0MPa1/2。
在此，SP值是通过基于Michael M.Collman,John F.Graf,Paul C.Painter(Pensylvania State Univ.)的“Specific Interactions and the Miscibility ofPolymer Blends”(1991),Technomic Publishing Co.Inc.中所记载的计算而求出的值。
作为(甲基)丙烯酸单体，具体而言，可列举(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二酯、(甲基)丙烯酸正十三酯、(甲基)丙烯酸正十四酯、(甲基)丙烯酸正十六酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸苄酯、((甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基氧乙酯等。
作为(甲基)丙烯酸单体的优选的方式之一，从本发明中的效果更优异的观点出发，可列举同时使用2种(甲基)丙烯酸单体的方式，其中，可更优选地列举同时使用上述式(A)中的R2为链状脂肪族烃基(优选为支链状脂肪族烃基)的单体X及上述式(A)中的R2为环状脂肪族烃基的单体Y的方式。
并且，从提高粘合层的密合性的观点出发，优选为包含单官能烯键式不饱和化合物。作为单官能烯键式不饱和化合物，可列举单官能(甲基)丙烯酸酯化合物或(甲基)丙烯酸，可优选地列举(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、丁氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、丁氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸-3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羟基丁酯、四乙二醇单甲醚(甲基)丙烯酸酯、六乙二醇单甲醚(甲基)丙烯酸酯、八乙二醇单甲醚(甲基)丙烯酸酯、九乙二醇甲醚(甲基)丙烯酸酯、七丙二醇单甲醚(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇乙醚(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、八丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯缩水甘油醚、(甲基)丙烯酸-3,4-环氧环己基甲酯、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N-第三丁基(甲基)丙烯酰胺、N,N-异丙基(甲基)丙烯酰胺、N-第三辛基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲氨乙基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲氨丙基(甲基)丙烯酰胺、双丙酮丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰基吗啉、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己内酰胺等。
含有单官能烯键式不饱和化合物时的含量并无特别限定，相对于粘合层形成用组合物的总质量，优选为0.1质量％～10质量％，更优选为0.5质量％～3质量％。
并且，粘合层优选为包含多官能烯键式不饱和化合物。作为多官能烯键式不饱和化合物，可列举多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。
作为多官能(甲基)丙烯酸酯，例如可列举乙二醇(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双苯氧基乙醇茀二丙烯酸酯、双苯氧基乙醇茀二丙烯酸酯等2官能(甲基)丙烯酸酯、或三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三((甲基)丙烯酰氧基乙基)磷酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸乙酯丙烯酸酯低聚物等3官能以上的(甲基)丙烯酸酯等。
作为含有多官能烯键式不饱和化合物时的含量并无特别限定，相对于粘合层形成用组合物的总质量100质量％，优选为0.01～2质量％，更优选为0.1～1质量％。
聚合性单体的含量并无特别限制，相对于粘合层形成用组合物的总质量，优选为10质量％～45质量％，更优选为15质量％～30质量％，进一步优选为20质量％～30质量％。
-光聚合引发剂-
本发明中的粘合层形成用组合物可以包含光聚合引发剂。
光聚合引发剂的种类并无特别限制，能够使用公知的光聚合引发剂(自由基光聚合引发剂、阳离子光聚合引发剂)。例如，可列举烷基苯酮系光聚合引发剂、甲氧基酮系光聚合引发剂、酰基氧化膦系光聚合引发剂、羟基酮系光聚合引发剂(例如、IRGACURE184；1,2-α-羟烷基苯酮)、氨基酮系光聚合引发剂(例如，2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代-丙烷-1-酮(IRGACURE(注册商标)907))、肟系光聚合引发剂(例如，IRGACUREOXE-01)。
其中，作为光聚合引发剂，优选为酰基氧化膦系光聚合引发剂，更优选为包含选自由单酰基氧化膦及双酰基氧化膦中组成的组中的至少一个。
作为单酰基氧化膦的具体例，可列举苯甲酰基-二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、2,3,5,6-四甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、3,4-二甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲酰基-苯基乙氧基氧化膦等。
作为双酰基氧化膦的具体例，可列举双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦、双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基-戊基氧化膦、双(2,6-二甲基苯甲酰基)-乙基氧化膦等。
另外，作为光聚合引发剂，可以仅使用1种，也可以同时使用2种以上。
光聚合引发剂的含量并无特别限制，相对于粘合层形成用组合物的总质量，优选为1.0质量％～5.0质量％，更优选为1.5质量％～4.0质量％。
-增粘剂-
本发明中的粘合层形成用组合物优选为含有增粘剂。
作为增粘剂，在贴剂或贴附制剂的领域适当地选择使用公知的增粘剂即可。例如可列举石油系树脂(例如，芳香族系石油树脂、脂肪族系石油树脂、基于C9馏分的树脂等)、萜烯系树脂(例如，α蒎烯树脂、β蒎烯树脂、萜烯树脂、萜烯苯酚共聚物、氢化萜烯苯酚树脂、芳香族改性氢化萜烯树脂、芳香族改性萜烯树脂、松脂酸酯(abietic acid ester)系树脂)、松香系树脂(例如、部分氢化脂松香树脂、丁四醇改性木材松香树脂、妥尔油松香树脂、木松香树脂)、香豆酮-茚树脂(例如、香豆酮-茚苯乙烯共聚物)、苯乙烯系树脂(例如，聚苯乙烯、苯乙烯与α-甲基苯乙烯的共聚物等)等。作为更优选的增粘剂，可列举不含有极性基团的石油系树脂、萜烯系树脂、苯乙烯系树脂，最优选为萜烯系树脂。
上述萜烯系树脂中，优选为萜烯树脂、氢化萜烯树脂，最优选为氢化萜烯树脂。
这种萜烯系树脂能够使用市售品，具体而言，可列举CLEARON P150、CLEARONP135、CLEARON P125、CLEARON P115、CLEARON P105、CLEARON P85(YASUHARA CHEMICALCO.,LTD.制)等。
另外，作为增粘剂，可以仅使用1种，也可以同时使用2种以上。
在本发明所涉及的效果更优异的方面而言，增粘剂的含量相对于粘合层形成用组合物总质量(100质量％)，优选为5质量％～50质量％，更优选为20质量％～45质量％。
并且，在本发明所涉及的效果更优异的方面而言，增粘剂的含量相对于粘合层的总质量，优选为5质量％～50质量％，更优选为20质量％～45质量％。
-抗氧化剂-
本发明中的粘合层形成用组合物优选含有抗氧化剂。
通过含有抗氧化剂，能够在制备粘合层形成用组合物时，抑制聚合性单体等中包含的聚合性基团反应，因此能够提高粘合层的密合性。
作为抗氧化剂，例如可列举苯酚系抗氧化剂、对苯二酚系抗氧化剂、磷系抗氧化剂、羟胺系抗氧化剂等。
作为苯酚系或对苯二酚系抗氧化剂，例如可列举2,6-二-叔丁基-4-甲基苯酚、4,4’-硫代双-(6-叔丁基-3-甲基苯酚)、1,1’-双(4-羟基苯基)环己烷、2,2’-亚甲基双(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、2,5-二-叔丁基对苯二酚、季戊四醇-四[3-(3,5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]等。
作为磷系抗氧化剂，例如可列举三(4-甲氧基-3,5-二苯基)亚磷酸酯、三(壬基苯基)亚磷酸酯、三(2,4-二叔丁基苯基)亚磷酸酯、双(2,6-二-叔丁基-4-甲基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯、双(2,4-二-叔丁基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯等亚磷酸酯系抗氧化剂。
作为羟胺系抗氧化剂，例如可列举N,N-双十八烷基羟胺、N,N-二苄基羟胺等。
其中，从进一步发挥上述效果且聚合抑制小的观点出发，优选使用磷系抗氧化剂，更优选使用亚磷酸酯系抗氧化剂。
作为抗氧化剂，可以仅使用1种，也可以同时使用2种以上。
-其他成分-
＜＜链转移剂＞＞
本发明中的粘合层形成用组合物可以含有链转移剂。链转移剂的种类并无特别限制，可使用公知的链转移剂(例如、1-十二烷基硫醇、三羟甲基丙烷三硫代丙酸酯、季戊四醇四硫代丙酸酯等)。
＜＜交联剂＞＞
本发明中的粘合层形成用组合物还可以包含交联剂。
作为交联剂，例如能够使用异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂、多官能(甲基)丙烯酸酯等。
作为异氰酸酯系交联剂，例如可列举2,4-甲苯二异氰酸酯、2,6-甲苯二异氰酸酯、氢化甲苯二异氰酸酯、1,3-亚二甲苯二异氰酸酯、1,4-亚二甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、二苯甲烷-4,4-二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、1,3-双(异氰酸甲酯基)环己烷、四甲基亚二甲苯二异氰酸酯、1,5-萘二异氰酸酯、三苯基甲烷三异氰酸酯及这些聚异氰酸酯化合物与三羟甲基丙烷等多元醇化合物的加成物、这些聚异氰酸酯化合物的缩二脲体或异氰尿酸酯体等。异氰酸酯系交联剂中，从粘合层的介电常数的观点出发，优选为2,4-甲苯二异氰酸酯、2,6-甲苯二异氰酸酯酯、1,3-亚二甲苯二异氰酸酯、1,4-亚二甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯，从经过一段时间的着色的观点出发，更优选为六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯。
这些异氰酸酯系交联剂中的异氰酸酯基可以通过公知的封端剂封端。作为分解温度，优选为100℃～130℃。
作为环氧系交联剂，例如可列举双酚A·环氧氯丙烷型的环氧树脂、乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、甘油二缩水甘油醚、甘油三缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、山梨糖醇聚缩水甘油醚、聚甘油聚缩水甘油醚、季戊四醇聚缩水甘油基赤藓糖醇、二甘油聚缩水甘油醚等。环氧系交联剂中，从粘合层的柔软性的观点出发，优选为乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚，从介电常数的观点出发，更优选为1,6-己二醇二缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚。
作为含有交联剂时的含量并无特别限定，相对于粘合层形成用组合物的总质量100质量％，优选为0.01～2质量％，更优选为0.1～1质量％。
这些交联剂可以单独使用，也可以同时使用2种以上。
＜＜腐蚀抑制剂＞＞
为防止透明电极的腐蚀或防止引绕布线，粘合层或含金属氧化物粒子层中优选含有具有唑类结构的唑类化合物。唑类化合物的分子量优选为60以上且1,000以下。唑类化合物中也优选含有选自由咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物组成的组中的至少一种唑类化合物(以下，也称为特定唑类化合物)。
另外，在本说明书中，“咪唑化合物”是指具有咪唑结构的化合物，“三唑化合物”是指具有三唑结构的化合物，“四唑化合物”是指具有四唑结构的化合物，“噻唑化合物”是指具有噻唑结构的化合物，“噻二唑化合物”是指具有噻二唑结构的化合物。
通过含有特定唑类化合物，能够抑制触摸面板用配线的变色。
作为特定唑类化合物并无特别限制。
下述表1及表2中示出特定唑类化合物的具体例。但是，本发明中的特定唑类化合物并不限定于这些。
表1及表2中，除了化合物名称以外还示出分类、结构式、共轭酸的pKa及市售品的例子。
[表1]
Figure BDA0002689066480000271
[表2]
Figure BDA0002689066480000281
此外，作为特定唑类化合物的具体例，可列举作为咪唑化合物的、1-甲基咪唑、4-甲基咪唑、2-巯基-1-甲基咪唑、2-苯基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、咪唑、5,6-二甲基苯并咪唑、5-乙氧基-2-巯基苯并咪唑、2-苯基咪唑、2-巯基-5-甲基苯并咪唑、2-巯基-5-甲氧基苯并咪唑、2-巯基-5-苯并咪唑羧酸、2-(4-噻唑基)苯并咪唑、2-氨基-1-甲基苯并咪唑、2-氨基苯并咪唑、1-(3-氨基丙基)咪唑、6-氨基苯并咪唑、5-氨基苯并咪唑等。
这些中，作为特定唑类化合物，从进一步抑制触摸面板用配线的变色的观点出发，优选为选自由三唑化合物及四唑化合物组成的组中的至少一种的唑类化合物，更优选为选自1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、1,2,3-苯并三唑、及5-氨基-1H-四唑中的至少一种的唑类化合物，进一步优选为选自1,2,3-苯并三唑及5-氨基-1H-四唑中的至少一种的唑类化合物。
为了特别显示出上述特定唑类化合物的效果，优选为引绕布线是铜。
＜＜其他成分＞＞
本发明中的粘合层形成用组合物除了上述以外根据使用的用途还能够适当地添加溶剂(水、有机溶剂等)、阻聚抑制剂、表面润滑剂、流平剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、阻聚剂、硅烷偶联剂、无机填充剂或有机填充剂、金属粉、颜料等粉体、粒子状、箔状物等以往公知的各种添加剂。
〔厚度〕
粘合层的厚度优选为5μm～200μm，更优选为25μm～100μm。
＜临时支承体＞
本发明的转印膜包含临时支承体。
临时支承体优选为薄膜，更优选为树脂薄膜。
临时支承体优选为透明。
作为临时支承体，能够使用具有挠性，并且在加压下或加压及加热下不产生显著的变形、收缩或伸展的膜。
作为这种膜，例如可列举聚对苯二甲酸乙二酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚酰亚胺膜及聚碳酸酯膜。
其中，尤其优选为双轴延伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。
临时支承体的厚度并无特别限制，优选为5μm～200μm。从易于操作及通用性的观点出发，临时支承体的厚度尤其优选为10μm～150μm。
＜中间层＞
从防止涂布多个层时及涂布后的保存时的成分的混合的观点出发，本发明所涉及的转印膜可以在上述含金属氧化物粒子层与上述粘合层之间还包含中间层。
作为中间层，优选为日本特开平5-072724号公报中作为“分离层”记载的、具有阻氧功能的阻氧膜，并且曝光时的灵敏度增加，能够降低曝光机的负荷时间，生产性提高。
＜保护膜＞
本发明所涉及的转印膜优选为在上述含金属氧化物粒子层的表面进一步设置保护膜(保护剥离层)等。
作为上述保护膜，优选为丙烯酸树脂膜或聚丙烯树脂膜。并且，保护膜的膜厚优选为12μm～40μm。
能够适当地使用日本特开2006-259138号公报的0083～0087段及0093段中所记载的保护膜。
＜转印膜的制造方法＞
本发明所涉及的转印膜并无特别限定，例如优选为通过以下的本发明所涉及的转印膜的制造方法来制造。
本发明所涉及的转印膜的制造方法具有在临时支承体上形成粘合层的工序及在粘合层上形成含金属氧化物粒子层的工序。
〔形成粘合层的工序〕
粘合层通过对上述粘合层形成用组合物进行固化及干燥中的至少任一个而获得。
即，将上述粘合层形成用组合物赋予到临时支承体上，实施固化处理及干燥处理中的至少任一种而形成粘合层。
作为赋予粘合层形成用组合物的方法，例如可列举基于凹版涂布机、缺角轮涂布机(comma coater)、棒式涂布机、刮刀式涂布机、模涂布机、辊涂机等进行的涂布等。除此以外，只要能够在临时支承体上赋予粘合层形成用组合物则不限于涂布，能够利用公知的方法。
作为固化处理，根据粘合层形成用组合物的组成等选择适当的方法即可，例如可列举光固化处理、热固化处理等。
光固化处理可以包括多次的固化工序，所使用的的光波长可以从多个中适当选择。并且，热固化处理也可以包括多次固化工序，施加热的方法可以从烘箱、回焊炉、红外线加热器等适当的方法中选择。进而可以适当地组合光固化处理和热固化处理。
上述光固化处理时所使用的的光源并无特别限制，可列举低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、氙气灯、金属卤化物灯、无电极灯等。作为用于光固化处理的光优选为紫外光，例如，使用一般的紫外线照射装置，更具体而言，优选使用带式输送机式的紫外线照射装置。
上述光固化处理时的条件通过所使用的组合物的成分等适当地选择，作为照射量(例如，紫外线照射量)，优选为100mJ/cm2～2500mJ/cm2，优选为200mJ/cm2～1100mJ/cm2。
并且，上述曝光可以通过在所赋予的粘合层形成用组合物的表面上粘贴剥离片、在惰性气体环境下进行等来降低由氧引起的影响的基础上进行。
作为干燥处理并无特别限定，可列举自然干燥、通过送风机等装置进行的风干燥、通过加热板、烘箱等装置进行的加热干燥等方法。
在本发明中，干燥是指去除组合物中所含有的溶剂的至少一部分。
〔形成含金属氧化物粒子层的工序〕
含金属氧化物粒子层例如通过将含金属氧化物粒子层形成用组合物赋予到粘合层上而获得，该含金属氧化物粒子层形成用组合物通过将上述含金属氧化物粒子层中所包含的成分与公知的溶剂进行混合而获得。并且，也可以通过在粘合层上转印含金属氧化物粒子层而获得。
作为将含金属氧化物粒子层形成用组合物赋予到粘合层上的方法，可列举与赋予上述粘合层形成用组合物的方法相同的方法。
上述赋予后，通过干燥所赋予的含金属氧化物粒子层形成用组合物来获得含金属氧化物粒子层。作为干燥方法并无特别限定，例如可使用上述自然干燥、风干燥、加热干燥等公知的方法。
〔其他工序〕
除此以外，在本发明所涉及的转印膜的制造方法中，还可以包括设置保护膜的工序、设置中间层的工序等。
关于这些工序的详细情况，能够参考日本特开2014-108541号公报的记载。
在本发明的转印膜中，粘合层及含金属氧化物层的波长400nm下的透过率优选为85％以上，更优选为90％以上。
(层叠体)
本发明所涉及的层叠体依次具有透明电极图案、与上述透明电极图案相邻地配置且包含金属氧化物粒子的含金属氧化物粒子层及与上述含金属氧化物粒子层相邻地配置的粘合层，上述含金属氧化物粒子层中的上述金属氧化物粒子的含量在膜厚方向的变动量为10％以下。
根据本发明所涉及的层叠体，可降低透明电极图案的可见性。
〔WVTR〕
从抑制透明电极图案及金属配线(铜配线等)的腐蚀的观点出发，本发明所涉及的层叠体中的、将所述粘合层及所述含金属氧化物粒子层组合而成的层在60℃下的WVTR优选为1100g/(m2·天)以下，更优选为200g/(m2·天)～600g/(m2·天)，进一步优选为200g/(m2·天)～400g/(m2·天)。
＜层叠体的结构＞
〔粘合层及含金属氧化物粒子层〕
粘合层及含金属氧化物粒子层的优选范围与本发明所涉及的转印膜中的粘合层及含金属氧化物粒子层的优选范围相同。
从进一步改善透明电极图案的可见性的观点出发，本发明所涉及的层叠体优选为，在上述透明电极图案的与形成有上述含金属氧化物粒子层的一侧相反的一侧还具有折射率为1.60～1.78且膜厚为30nm以上且300nm以下的透明膜。另外，本发明中，除非特别说明，当记载为“透明膜”时，是指上述的“折射率1.60～1.78且膜厚为30nm以上且300nm以下的透明膜”。透明膜的膜厚更优选为55nm～110nm。
本发明所涉及的层叠体优选为，在上述折射率为1.60～1.78且膜厚为30nm以上且300nm以下的透明膜的与形成有上述透明电极图案的一侧相反的一侧还具有透明基材。
图2中示出本发明所涉及的层叠体的优选的方式的一例(也称为“方式A”。)。
图2中，具有透明基材1及折射率1.60～1.78且膜厚为30nm以上且300nm以下的透明膜11，进一步在面内具有依次层叠有透明电极图案4、含金属氧化物粒子层12及粘合层18的区域。
面内是指相对于与层叠体的透明基材平行的面大致平行的方向。在面内包括依次层叠有透明电极图案4、含金属氧化物粒子层12及粘合层18的区域，是指依次层叠有透明电极图案4、含金属氧化物粒子层12及粘合层18的区域的对于与层叠体的透明基材平行的面上的正投影存在于与层叠体的透明基材平行的面内。
在此，当将本发明所涉及的层叠体用于后述的静电电容型输入装置时，有时在行方向与列方向的大致正交的2个方向上分别设置透明电极图案作为第一透明电极图案及第二透明电极图案(例如，参考图5)。例如，在图5的构成中，本发明所涉及的层叠体中的透明电极图案可以为第二透明电极图案4，也可为第一透明电极图案3的垫部分3a。换言之，在以下的本发明所涉及的层叠体的说明中，有时由“4”来代表表示透明电极图案的符号，但本发明所涉及的层叠体中的透明电极图案并不限定于用于本发明所涉及的静电电容型输入装置中的第二透明电极图案4，例如也可用作第一透明电极图案3的垫部分3a。
本发明所涉及的层叠体优选包含未形成有上述透明电极图案的非图案区域。本发明中，所谓非图案区域，是指未形成有透明电极图案4的区域。
图3中示出本发明所涉及的层叠体包含非图案区域22的方式。
本发明所涉及的层叠体优选为在面内包含在未形成上述透明电极图案的非图案区域22的至少一部分中依次层叠有上述透明基板、上述透明膜及含金属氧化物粒子层的区域。
本发明所涉及的层叠体优选在依次层叠有上述透明基板、上述透明膜及含金属氧化物粒子层的区域中，上述透明膜及含金属氧化物粒子层相互邻接。
但是，在上述非图案区域22的其他区域中，只要不违反本发明的主旨，则也可以在任意的位置上配置其他部件，例如当将本发明所涉及的层叠体用于后述的静电电容型输入装置时，能够层叠图2中的掩模层2、或绝缘层5或导电性要件6等。
关于本发明所涉及的层叠体，优选为上述透明基材及透明膜相互邻接。
图2中示出在透明基材1上邻接并层叠有透明膜11的方式。
本发明所涉及的层叠体中，上述透明膜的厚度为55nm～110nm，优选为60nm～110nm，更优选为70nm～90nm。
在此、上述透明膜可以为单层结构，也可以为2层以上的层叠结构。当上述透明膜为2层以上的层叠结构时，上述透明膜的膜厚是指所有层的合计膜厚。
关于本发明所涉及的层叠体，优选为上述透明膜及上述透明电极图案相互邻接。
图2中示出在透明膜11的一部分区域上邻接并层叠有透明电极图案4的方式。
如图2所示，透明电极图案4的端部的形状并无特别限制，可以具有锥形形状，例如，可以具有上述透明基材侧的面比与上述透明基材相反的一侧的面宽的锥形形状。
在此，上述透明电极图案的端部为锥形形状时的透明电极图案的端部的角度(以下，也称为锥角)优选为30°以下，更优选为0.1°～15°，尤其优选为0.5°～5°。
本发明中的锥角的测量方法能够通过拍摄上述透明电极图案的端部的显微镜照片，将该显微镜照片的锥形部分近似成三角形，并直接测定锥角来求出。
图4表示透明电极图案的端部为锥形形状时的一例。图4中的近似锥形部分的三角形的底面为800nm，高度(与底面大致平行的上底部分中的膜厚)为40nm，此时的锥角α为约3°。近似锥形部分的三角形的底面优选为10nm～3000nm，更优选为100nm～1500nm，尤其优选为300nm～1000nm。另外，近似锥形部分的三角形的高度的优选的范围与透明电极图案的膜厚的优选的范围相同。
本发明所涉及的层叠体优选在面内包括上述透明电极图案及含金属氧化物粒子层相互邻接的区域。
图3中示出在依次层叠有上述透明电极图案、含金属氧化物粒子层及粘合层的区域21中，上述透明电极图案、含金属氧化物粒子层及粘合层相互邻接的方式。
并且，关于本发明所涉及的层叠体，上述透明电极图案及未形成有上述透明电极图案的非图案区域22两者连续并直接或经由其他层被上述透明膜及含金属氧化物粒子层包覆。
在此，所谓“连续”，是指上述透明膜及含金属氧化物粒子层为连续膜而非图案膜。即，从使透明电极图案难以被识别的观点出发，上述透明膜及含金属氧化物粒子层优选为不具有开口部。
并且，与上述透明电极图案及非图案区域22经由其他层而被上述透明膜及上述含金属氧化物粒子层包覆相比，优选为直接包覆。作为经由其他层而被包覆时的上述“其他层”，能够列举后述的本发明所涉及的静电电容型输入装置中所含有的绝缘层5、或当如后述的本发明所涉及的静电电容型输入装置般含有2层以上的透明电极图案时，能够列举第2层的透明电极图案等。
图3中示出横跨透明膜11上的未层叠透明电极图案4的区域与透明电极图案4上，与两者分别邻接来层叠有含金属氧化物粒子层12的方式。
并且，当透明电极图案4的端部为锥形形状时，优选为沿着锥形形状(以与锥角相同的斜度)层叠含金属氧化物粒子层12。
图3中，示出在含金属氧化物粒子层12的与形成有上述透明电极图案的表面相反的一侧的表面上层叠有粘合层18的方式。
＜层叠体的材料＞
〔透明基材〕
本发明所涉及的层叠体中，优选为上述透明基材是折射率1.50～1.55的玻璃基材或树脂薄膜基材。
上述透明基材由玻璃基材等透光性基材构成，能够使用环烯烃聚合物(COP)薄膜基材、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)基材、强化玻璃等。并且，作为上述透明基材，能够优选地使用日本特开2010-086684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中所使用的材料，将这些文献的内容编入本发明中。
〔透明电极图案〕
上述透明电极图案的折射率优选为1.75～2.10。
上述透明电极图案的材料并无特别限制，能够使用公知的材料。例如，能够由ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)或IZO(Indium Zinc Oxide：氧化铟锌)、SiO2等透光性的导电性金属酸化膜、Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等的金属等来制作。其中，尤其优选为折射率1.75～2.10的ITO膜。厚度能够设为10～200nm。并且，通过煅烧来将非晶态的ITO膜作为多晶的ITO膜，因此也能够减小电阻。并且，后述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及后述的导电性要件6也能够使用导电性纤维来制造。此外，当通过ITO等来形成第一导电性图案等时，能够参考日本专利第4506785号公报的0014～0016段等。
〔透明膜〕
本发明所涉及的层叠体的上述透明膜的折射率为1.60～1.78，优选为1.65～1.74。在此、上述透明膜可以为单层结构，也可以为2层以上的层叠结构。当上述透明膜为2层以上的层叠结构时，上述透明膜的折射率是指所有层的折射率。
只要满足这种折射率的范围，则上述透明膜的材料并无特别限制。
上述透明膜的材料的优选的范围和折射率等的物性的优选的范围与上述含金属氧化物粒子层的这些的优选的范围相同。
从光学的均匀性的观点出发，本发明所涉及的层叠体优选为上述透明膜与上述含金属氧化物粒子层由相同的材料构成。
本发明所涉及的层叠体优选上述透明膜为透明树脂膜。作为透明树脂膜中所使用的金属氧化物粒子或树脂(粘合剂)或其他添加剂，只要不违反本发明的主旨，则并无特别限制，能够优选地使用本发明所涉及的转印膜中的上述含金属氧化物粒子层中所使用的树脂或其他添加剂。
本发明所涉及的层叠体中，上述透明膜可以为无机膜。作为无机膜中所使用的材料，能够优选地使用本发明所涉及的转印膜中的上述含金属氧化物粒子层中所使用的材料。
在本发明所涉及的层叠体中，在与粘合层的含金属氧化物粒子层相反的一侧可以不具有任何物质，也可以具有上述临时支承体，也可以具有偏振片等光学部件，也可以具有例如液晶显示装置或有机EL显示装置等显示装置中的显示面板，也可以具有保护玻璃等保护部件。
例如，将图2或图3中所记载的层叠体中的与粘合层18的含金属氧化物粒子层12相反的一侧的面根据需要在剥离临时支承体之后贴附于上述光学部件或上述显示面板，由此可获得具有上述光学部件或上述显示面板的层叠体。
将本发明所涉及的层叠体的另一方式(以下，也称为“方式B”。)示于图6。
图6是表示本发明的层叠体13的一例的剖视图的示意图。
图6中，层叠体13依次具有粘合层18、含金属氧化物粒子层12、透明电极图案4及透明基材14。
作为显示装置15，可列举液晶显示装置、有机EL显示装置等。
通过将这种层叠体13的、与粘合层18的含金属氧化物粒子层12相反的一侧的面贴附于显示装置15来获得包括显示装置15的层叠体。
在这种方式中，例如可列举作为透明基材14使用玻璃基材的方式。并且，作为透明基材14使用树脂基材，并且可以在与上述树脂基材的含金属氧化物粒子层12相反的一侧的面进一步粘贴玻璃部件。
并且，通过将层叠体13的、与透明基材14的含金属氧化物粒子层12相反的一侧的面贴附于显示装置15的方式，也可获得包括显示装置15的层叠体。
在这种方式中，例如，可列举在与粘合层18的含金属氧化物粒子层12相反的一侧的面粘贴盖玻片等保护部件的方式。
在本发明中，作为保护部件，可列举玻璃、树脂等，例如可使用玻璃板、树脂片等。
此外，层叠体13也可以为，在透明基材14的两个面上形成有透明电极图案4，进一步在两个面上分别形成有含金属氧化物粒子层12及粘合层18的方式。
根据这种方式，例如能够将其中1个面上的粘合层18贴附于盖玻片等保护部件，将另1个面上的粘合层18贴附于显示装置15。
通过上述贴附，可获得依次具有保护部件、粘合层18、含金属氧化物粒子层12、透明电极图案4、透明基材14、透明电极图案4、含金属氧化物粒子层12、粘合层18及显示装置15的层叠体。
方式B中的粘合层18及含金属氧化物粒子层12的优选的范围分别与本发明所涉及的转印膜中的粘合层及含金属氧化物粒子层的优选的范围相同。
在方式B中，可以在透明基材14与透明电极图案4之间具有上述透明膜(未图示)。
并且，可以在透明电极图案4与透明基材14之间具有底涂层、外涂层。上述涂层可以由1层或2层以上的多层形成。上述涂层可以具有折射率调整功能。上述涂层的折射率优选为导电层的折射率以下。上述涂层中可以具有阻气功能、防锈功能。
方式B中的透明电极图案4的优选的方式与方式A中的透明电极图案4的优选的方式相同。
并且，透明电极图案4还可以包括金属纳米线或金属网。金属纳米线是指，材质为金属，形状为针状或丝状，直径为纳米尺寸的导电性物质。金属纳米线可以为直线状，也可以为曲线状。若使用由金属纳米线构成的透明导电层，则金属纳米线成为网眼状，由此即使为少量的金属纳米线，也能够形成良好的导电路径，并且能够获得电阻小的透明导电性薄膜。进而，通过金属纳米线成为网眼状，在网眼的间隙形成开口部而能够获得透光率高的透明导电性薄膜。
作为构成上述金属纳米线的金属，只要为导电性高的金属，能够使用任意适当的金属。作为构成上述金属纳米线的金属，例如可列举银、金、铜、镍等。并且，也可以使用对这些金属进行镀覆处理(例如，镀金处理)的材料。其中，从导电性的观点出发，优选为银、铜或金，更优选为银。
包含金属网的透明导电层在透明基材14上，金属细线形成为例如格子状的图案。能够使用与构成上述金属纳米线的金属相同的金属。包含金属网的透明导电层能够通过任意适当的方法形成。透明导电层例如能够通过将包含银盐的感光性组合物(透明导电层形成用组合物)涂布于基材层叠体上，然后进行曝光处理及显影处理，从而以规定的图案形成金属细线来获得。
透明基材14经过配线图案和黑矩阵的形成、结晶化处理等工序，因此优选具有优异的耐热性、耐化学性。作为透明基材14的材质，可列举玻璃、树脂基材等，可以由单层或几个部件的复合系统形成。树脂基材14的厚度优选为0.05mm～2.00mm，更优选为0.1mm～1.3mm，尤其优选为0.2mm～1.1mm。当使用厚度为0.2mm以下的玻璃时，可获得弯曲性优异的基板，但是为了防止裂纹的扩展及破裂的风险，优选在玻璃的单侧或两侧具备树脂层。并且，树脂基材的一部分或全部可以形成为弯曲、曲面形状。
透明基材14的材质为玻璃时，优选选择钠玻璃、无碱玻璃、硼硅酸玻璃、铝硅酸玻璃等强度及透过率优异的玻璃板。若选择强度优异的玻璃板，则能够薄型化，尤其，化学强化玻璃(铝硅酸盐、碱石灰)的耐压强度优异，因此优选被使用。
作为透明树脂基材的原料，例如能够使用PET、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯系树脂、COP、环烯烃共聚物(COC)等环烯烃系树脂、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯、乙烯·乙酸乙烯酯共聚物(EVA)等聚烯烃系树脂、乙烯基系树脂、聚碳酸酯系树脂、氨基甲酸酯系树脂、聚酰胺系、聚酰亚胺系、丙烯酸系树脂、环氧系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、硅倍半氧烷系树脂、三乙酰纤维素(TAC)等。为了避免因相位差而产生的着色干扰不均匀的产生，优选光学各向同性的基材。作为推荐的光学各向同性的树脂材料，可列举环烯烃系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚芳酯系树脂。
从显示装置15观察时，可以在透明基材14部件的外侧(可见侧)具有功能层。作为功能层，可列举硬涂(HC)层、防反射层、防污层、抗静电层、实施以防止扩散、防眩光为目的的处理的层等，可以将这些任意组合、复合而形成。并且，可以对覆盖部件或上述功能层赋予紫外线吸收功能。
可以在透明基材的外侧、内侧的任意侧层叠有用于防止飞散的保护膜。防飞散膜也可以具有前述功能层。为了避免由相位差导致的着色干扰不均匀的产生，优选使用光学各向同性的基材(未拉伸的环烯烃聚合物膜、通过流延法形成的聚碳酸酯膜)。此外，也可以设为在覆盖部件与图像显示装置之间的任意位置配置用于与太阳镜对应的相位差板(λ/4波长板)的结构。相位差板(λ/4波长板)优选配置成使慢轴相对于图像显示装置的可见侧偏振片的吸收轴成为45度。
透明基材14上也能够设置装饰层。例如，装饰层由树脂粘合剂及含有颜料或染料作为着色剂的着色油墨形成。通过网版印刷、胶版印刷、凹版印刷等方法以单层或多层形成，上述印刷层的厚度优选设为0.5～50μm左右。并且，为了表现金属光泽色，可以形成包括通过蒸镀法、溅射法形成的金属薄膜层的层。装饰层可以形成于覆盖部件的任意面，也可以形成并层叠于上述防飞散膜等膜上。并且，可以形成于保护部件。
(层叠体的制造方法)
本发明所涉及的层叠体的制造方法包括在透明电极图案上依次层叠本发明所涉及的转印膜中的上述含金属氧化物粒子层及上述粘合层的工序。
通过这种结构，能够统一转印层叠体的含金属氧化物粒子层及上述粘合层，并且能够容易且生产性良好地制造降低透明电极图案的可见性的层叠体。
另外，本发明所涉及的层叠体的制造方法中的上述含金属氧化物粒子层直接或经由其他层形成于上述透明电极图案上、上述非图案区域中的上述透明膜上。
＜透明基材的表面处理＞
并且，为了提高之后的转印工序中的由层压引起的各层的密合性，能够预先在透明基材(前面板)的非接触面实施表面处理。作为上述表面处理，能够实施使用硅烷化合物的表面处理(硅烷耦合处理)或电晕处理。
＜透明电极图案的成膜＞
上述透明电极图案利用后述的本发明所涉及的静电电容型输入装置的说明中的、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及不同的导电性要件6的形成方法等，能够在透明基材上或上述折射率为1.60～1.78且膜厚为30nm以上且300nm以下的透明膜上成膜，优选为使用感光性薄膜的方法。
＜粘合层及含金属氧化物粒子层的成膜＞
形成上述粘合层及上述含金属氧化物粒子层的方法可列举具有如下工序的方法：从本发明所涉及的转印膜中根据需要去除上述保护膜的保护膜去除工序；将去除上述保护膜而得的本发明所涉及的转印膜的上述粘合层及上述含金属氧化物粒子层转印到透明电极图案上的转印工序；根据需要对转印到透明电极图案上的粘合层及上述含金属氧化物粒子层进行曝光的曝光工序；及根据需要对经曝光的粘合层及上述含金属氧化物粒子层进行显影的显影工序。
〔转印工序〕
上述转印工序是将去除上述保护膜而得的本发明所涉及的转印膜的上述粘合层及上述含金属氧化物粒子层转印到透明电极图案上的工序。
此时，优选为包括将本发明所涉及的转印膜的上述粘合层及上述含金属氧化物粒子层层压于透明电极图案之后，将临时支承体去除的工序的方法。
上述粘合层及上述含金属氧化物粒子层的基材表面上的转印(贴合)通过将上述粘合层及上述含金属氧化物粒子层叠加于透明电极图案表面，并进行加压、加热来进行。贴合能够使用层压机、真空层压机、及能够进一步提高生产性的自动切割层压机等公知的层压机。
〔曝光工序及其他工序〕
作为上述曝光工序及其他工序的例子，在本发明中也能够优选地使用日本特开2006-023696号公报的0035～0051段中所记载的方法。
上述曝光工序是对转印到透明电极图案上的上述粘合层及上述含金属氧化物粒子层进行曝光的工序。
在此，作为上述曝光的光源，只要为能够照射能够固化上述粘合层及上述含金属氧化物粒子层的波长区域的光(例如，365nm、405nm等)，则能够适当地选择使用。具体而言，可列举超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯等。作为曝光量，优选为5mJ/cm2～200mJ/cm2左右，更优选为10mJ/cm2～100mJ/cm2左右。
上述层叠体的制造方法可以具有后曝光工序、后烘烤工序等其他工序。
＜透明膜的成膜＞
本发明所涉及的层叠体在上述透明电极图案的与形成有上述含金属氧化物粒子层的侧相反的一侧上进一步具有折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜时，上述透明膜在上述透明电极图案上直接或经由上述第三透明膜等其他层而成膜。
作为上述透明膜的成膜方法并无特别限制，优选为通过转印或溅射成膜。
其中，本发明所涉及的层叠体优选为上述透明膜通过将形成于临时支承体上的透明固化性树脂膜转印到上述透明基材上而成膜，更优选为转印后进行固化而成膜。作为转印及固化的方法，可列举使用日本特开2014-158541号公报的0105～0138段中所记载的具有光固化性树脂层的感光性薄膜，与转印本发明所涉及的层叠体的制造方法中的上述粘合层及上述含金属氧化物粒子层的方法同样地进行转印、曝光、显影及其他工序的方法。在该情况下，优选为通过使上述金属氧化物微粒子分散在上述感光性薄膜中的光固化性树脂层而在上述范围内调整上述透明膜的折射率。
另一方面，上述透明膜为无机膜时，优选为通过溅射而形成。即，本发明所涉及的层叠体的上述透明膜也优选通过溅射而形成。
作为溅射的方法，能够优选地使用日本特开2010-086684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中所记载的方法，将这些文献的内容编入本发明中。
(静电电容型输入装置)
本发明所涉及的静电电容型输入装置使用本发明所涉及的转印膜而制作或包含本发明所涉及的层叠体。
本发明所涉及的静电电容型输入装置优选为具有层叠体，该层叠体具有透明电极图案、与上述透明电极图案相邻地配置且包含金属氧化物粒子的含金属氧化物粒子层及与上述含金属氧化物粒子层相邻地配置的粘合层，上述含金属氧化物粒子层中的上述金属氧化物粒子的含量在膜厚方向的变动量为10％以下。
以下，对本发明所涉及的静电电容型输入装置的优选的方式的详细情况进行说明。
本发明所涉及的静电电容型输入装置优选为在前面板(相当于本发明所涉及的层叠体中的上述透明基材)、及在上述前面板的非接触面侧至少具有下述(3)～(5)、(7)及(8)的要件，且具有本发明所涉及的层叠体。
(3)多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案
(4)与上述第一透明电极图案电绝缘，且由在与上述第一方向交叉的方向上延伸而形成的多个垫部分构成的多个第二电极图案
(5)使上述第一透明电极图案与上述第二电极图案电绝缘的绝缘层
(7)以覆盖(3)～(5)的要件的全部或一部分的方式形成的含金属氧化物粒子层
(8)与(7)中的含金属氧化物粒子层邻接而形成的粘合层
在此，(7)含金属氧化物粒子层相当于本发明所涉及的层叠体中的上述含金属氧化物粒子层。并且，(8)粘合层相当于本发明所涉及的层叠体中的上述粘合层。
这样，通过制造具有粘合层的静电电容型输入装置，能够容易在上述粘合层上接合偏振膜、相位差膜、盖玻片、其他各种光学部件。
本发明所涉及的静电电容型输入装置中，(4)第二电极图案可以为透明电极图案，也可以并非透明电极图案，但优选为透明电极图案。
本发明所涉及的静电电容型输入装置还可以具有(6)的要件。
(6)与上述第一透明电极图案及上述第二电极图案的至少一个电连接、且与上述第一透明电极图案及上述第二电极图案不同的导电性要件。
本发明所涉及的静电电容型输入装置中的上述透明电极图案上所形成的层的WVTR在上述范围内，在抑制上述第一透明电极图案或第二透明电极图案的腐蚀方面而言为优选，尤其在起到抑制上述导电性要件的腐蚀的效果方面为优选。
在此，当(4)第二电极图案并非透明电极图案，且不具有(6)另一导电性要件时，(3)第一透明电极图案相当于本发明所涉及的层叠体中的透明电极图案。
当(4)第二电极图案为透明电极图案，且不具有(6)另一导电性要件时，(3)第一透明电极图案及(4)第二电极图案中的至少一个相当于本发明所涉及的层叠体中的透明电极图案。
当(4)第二电极图案并非透明电极图案，且具有(6)另一导电性要件时，(3)第一透明电极图案及(6)另一导电性要件中的至少一个相当于本发明所涉及的层叠体中的透明电极图案。
当(4)第二电极图案为透明电极图案，且具有(6)另一导电性要件时，(3)第一透明电极图案、(4)第二电极图案及(6)另一导电性要件中的至少一个相当于本发明所涉及的层叠体中的透明电极图案。
本发明所涉及的静电电容型输入装置优选在(3)第一透明电极图案与上述前面板之间、(4)第二电极图案与上述前面板之间、或(6)不同的导电性要件与上述前面板之间进一步具有(2)透明膜。在此，从进一步改善透明电极图案的可见性的观点出发，优选为(2)透明膜相当于本发明所涉及的层叠体中的折射率为1.60～1.78且膜厚为30nm以上且300nm以下的透明膜。
本发明所涉及的静电电容型输入装置根据需要优选为还具有(1)掩模层及/或装饰层。为了不从接触侧识别透明电极图案的引绕布线或为了进行装饰，上述掩模层也设置于利用手指或触控笔等所接触的区域的周围而作为黑色的边框。为了进行装饰，设置有上述装饰层，例如优选设置白色的装饰层。
优选为在(2)透明膜与上述前面板之间、(3)第一透明电极图案与上述前面板之间、(4)第二透明电极图案与上述前面板之间、或(6)不同的导电性要件与上述前面板之间具有(1)掩模层及/或装饰层。(1)掩模层及/或装饰层更优选与上述前面板相邻地配置。
本发明所涉及的静电电容型输入装置即使在包含这种各种部件的情况下，通过包含与透明电极图案相邻地配置的上述含金属氧化物粒子层、及与上述含金属氧化物粒子层相邻地配置的上述粘合层，也能够降低透明电极图案的可见性。进而，如上所述，使用上述折射率为1.60～1.78且膜厚为30nm以上且300nm以下的透明膜与上述含金属氧化物粒子层，并设为插入透明电极图案的结构，由此能够进一步改善透明电极图案的可见性的问题。
＜静电电容型输入装置的结构＞
首先，关于本发明所涉及的静电电容型输入装置的优选的结构，结合构成装置的各部件的制造方法来进行说明。图2是表示本发明所涉及的静电电容型输入装置的优选的结构的剖视图。图2中表示静电电容型输入装置10由透明基板(前面板)1、掩模层2、折射率为1.60～1.78且膜厚为30nm以上且300nm以下的透明膜11、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、导电性要件6、含金属氧化物粒子层12及粘合层18构成的方式。
导电性要件6能够由Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等金属来制作。从导电性的观点出发，最优选为铜。
并且，表示后述的图5中的X1-X2剖面的图3也同样为表示本发明所涉及的静电电容型输入装置的优选的结构的剖视图。图3中表示静电电容型输入装置10由透明基板(前面板)1、折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜11、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、含金属氧化物粒子层12及粘合层18构成的方式。
透明基材(前面板)1能够使用作为本发明所涉及的层叠体中的透明电极图案的材料所列举的材料。并且，在图2中，将前面板1的设置有各要件的侧称为非接触面侧。在本发明所涉及的静电电容型输入装置10中，使手指等接触前面板1的接触面(非接触面的相反面)等来进行输入。
并且，在前面板1的非接触面上设置有掩模层2。掩模层2为形成于触摸面板前面板的非接触侧的显示区域周围的边框状的图案，并且形成为使引绕布线等不被看见。
在前面板1的接触面上形成有：多个第一透明电极图案3，多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸来形成；多个第二透明电极图案4，与第一透明电极图案3电绝缘，并且包含在与第一方向交叉的方向上延伸而形成的多个垫部分；及绝缘层5，使第一透明电极图案3与第二透明电极图案4电绝缘。上述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及后述的导电性要件6能够使用作为本发明所涉及的层叠体中的透明电极图案的材料所列举的材料。
并且，第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的至少一个能够设置为横跨前面板1的非接触面及掩模层2的与前面板1相反的一侧的面这两个区域。图2中，示出第二透明电极图案设置为横跨前面板1的非接触面及掩模层2的与前面板1相反的一侧的面这两个区域的图。如此，在横跨需要一定的厚度的掩模层与前面板背面来层压感光性膜的情况下，即使不使用真空层压机等昂贵的设备，通过使用后述的具有特定的层结构的感光性膜，也能够以简单的工序进行在掩模部分边界不产生气泡的层压，。
使用图5对第一透明电极图案3及第二透明电极图案4进行说明。图5是表示本发明中的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。如图5所示，第一透明电极图案3形成为垫部分3a经由连接部分3b而在第一方向LY上延伸。并且，第二透明电极图案4通过绝缘层5而与第一透明电极图案3电绝缘，且由在与第一方向LY交叉的方向(图5中的第二方向LX)上延伸而形成的多个垫部分构成。在此，当形成第一透明电极图案3时，可将上述垫部分3a与连接部分3b制作成一体，也可仅制作连接部分3b，而将垫部分3a与第二透明电极图案4制作成一体(图案化)。如图5所示，当将垫部分3a与第二透明电极图案4制作成一体(图案化)时，以如下方式形成各层：连接部分3b的一部分与垫部分3a的一部分连结，并且第一透明电极图案3与第二透明电极图案4通过绝缘层5而电绝缘。
并且，图5中的未形成第一透明电极图案3或第二透明电极图案4或后述的导电性要件6的区域相当于本发明所涉及的层叠体中的非图案区域22。
在图2中，在掩模层2的与前面板1相反的一侧的面侧设置有导电性要件6。导电性要件6与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的至少一种电连接、且与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4是不同的要件。
并且，在图2中，以将各构成要件全部覆盖的方式设置有粘合层18。粘合层18可以构成为仅覆盖各构成要件的一部分。绝缘层5与粘合层18可以为相同的材料，也可以为不同的材料。作为构成绝缘层5的材料，能够优选地使用作为本发明所涉及的层叠体中的第一或含金属氧化物粒子层的材料所列举的材料。
＜静电电容型输入装置的制造方法＞
作为制造本发明所涉及的静电电容型输入装置的过程中所形成的方式例，能够列举日本特开2014-158541号公报的图3～图7的方式。
静电电容型输入装置的制造方法中，当形成上述含金属粒子层12及上述粘合层18时，能够通过使用本发明所涉及的转印膜，将上述粘合层及上述粘合层转印到任意地形成有各要件的上述前面板1的表面来形成。
静电电容型输入装置的制造方法中，可以使用依次具有临时支承体及光固化性树脂层的日本特开2014-158541号公报的0105～0138段中所记载的感光性薄膜来形成掩模层2、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5及导电性要件6的至少一要件。
若使用本发明所涉及的转印膜或上述感光性膜来形成上述各要件，则即使是具有开口部的基材(前面板)，抗蚀剂成分也不会或很少从开口部分漏出，尤其，因在需要形成遮光图案至前面板的边界线为止的掩模层而抗蚀剂成分不会从玻璃端渗出，因此抑制了基材背面侧的污染，而能够以简单的工序制造具有薄层化、轻量化的优点的触摸面板。
在使用上述感光性膜来形成利用上述掩模层、绝缘层、具有导电性的光固化性树脂层时的第一透明电极图案、第二透明电极图案及导电性要件等永久材料的情况下，将感光性膜层压于基材上后，根据需要曝光成图案状，在负型材料的情况下对非曝光部分进行显影处理来将其去除，在正型材料的情况下对曝光部分进行显影处理来将其去除，由此能够获得图案。显影可利用不同的液体将热塑性树脂层与光固化性层显影去除，也可利用同一种液体去除。根据需要，也可组合刷子或高压喷射等公知的显影设备。显影后，根据需要可进行后曝光、后烘烤。
(图像显示装置)
本发明所涉及的图像显示装置的特征在于具备本发明所涉及的静电电容型输入装置。
本发明所涉及的静电电容型输入装置及将上述静电电容型输入装置作为构成要件而具备的图像显示装置能够适用“最新触摸面板技术』(2009年7月6日发行，TechnoTimes Co.,Ltd.)、三谷雄二监修、“触摸面板的技术和开发”、CMC出版(2004，12)、FPDInternational 2009Forum T-11讲座教材、Cypress Semiconductor Corporation应用笔记AN2292等中揭示的结构。
实施例
以下举出实施例进一步具体说明本发明。以下的实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不脱离本发明的宗旨就能够适当地进行变更。从而，本发明的范围不限定于以下所示的具体例。另外，除非另有说明，“份”、“％”是质量基准。
(实施例1～实施例11、比较例1～比较例3)
＜转印膜的制作＞
〔粘合层形成用组合物的制作〕
如成为下述表3或表4所记载的组成那样，混合各成分，分别制备了粘合层形成用涂布液A-1～A-2及C-1～C-3。各表中的数值表示所使用的成分的质量份。
[表3]
Figure BDA0002689066480000471
表3中，化合物D为下述结构的树脂。表示结构单元的括号的添字表示各结构单元的含有比(质量比)。
[化学式1]
Figure BDA0002689066480000481
[表4]
Figure BDA0002689066480000482
表4中的缩写所记载的各成分的详细情况为如下所述。
〔聚合性单体〕
·EHA(2-丙烯酸乙基己酯，Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制，SP值7.8)
·IBXA(丙烯酸异冰片酯，KYOEISHA CHEMICAL CO.,LTD.制，SP值8.4)
〔密合提高剂〕
·CYCLOMER M-100(商品名称，Daicel Corporation制，3,4-环氧环己基甲基丙烯酸甲酯)
〔橡胶〕
·Kuraprene UC-102M(商品名称，KURARAY CO.,LTD，甲基丙烯酸酯改性聚异戊二烯，重均分子量17,000，SP值8.0)
·Polyvest110(商品名称，Evonik Japan Co.,Ltd.制，未改性液体聚丁二烯，重均分子量2,600，SP值8.3)
〔增粘剂〕
·UH-115(商品名称，YASUHARA CHEMICAL CO.,LTD.制，氢化萜烯苯酚树脂)
〔链转移剂〕
·DDT(商品名称，十二烷基硫醇，Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制)
〔光聚合引发剂〕
·Lucirin TPO(商品名称，BASF公司制，2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦)
〔含金属氧化物粒子层形成用组合物的制作〕
以成为下述表5中所记载的组成的方式，混合各成分，分别制备了含金属氧化物粒子层形成用组合物B-1～B-5及比较用B’-1。各表中的数值表示所使用的成分的质量份。
[表5]
Figure BDA0002689066480000491
〔转印膜的制作〕
在各实施例或比较例中，在临时支承体(Cerapeel 25WZ、Toray Industries,Inc.制,25μm)上，使用狭缝状喷嘴，以干燥后的膜厚成为75.0μm的方式调整涂布量，并涂布下述表6中所记载的粘合层形成用组合物A-1～A-2及C-1～C-3中的任一种，并在120℃下干燥2分钟。
然后，在涂布有粘合层形成用组合物C-1～C-3的例子中，在经涂布的粘合层形成用组合物上覆盖剥离膜，利用金属卤化物灯照射3分钟紫外线(曝光量：400mJ/cm2)而形成了粘合层。
在使用了粘合层形成用组合物A-1～A-2中的任一种的例子中，不进行曝光而设为粘合层。
然后，以如下方式形成了含金属氧化物粒子层。
在实施例1～8、10、11中，以干燥后的膜厚成为约70nm的膜厚的方式调整涂布量并使用狭缝状喷嘴将下述表6中记载的各含金属氧化物粒子层形成用组合物涂布于上述粘合层上。在实施例9中，使用狭缝状喷嘴以膜厚成为40nm的方式进行了涂布。
在比较例中，使用狭缝状喷嘴分别以与实施例1中的含金属氧化物粒子层形成用组合物B-1相同的涂布量将B’-1涂布于粘合层上。
然后，在120℃下干燥2分钟，形成了含金属氧化物粒子层。在含金属氧化物粒子层上压接保护膜(厚度12μm聚丙烯膜)，制作了实施例1～11及比较例1～3的转印膜。
＜折射率、变动量、tanδ、断裂伸长率、粘度及WVTR的测量＞
使用在各实施例或比较例中获得的转印膜，通过上述方法分别测量含金属氧化物粒子层折射率、及含金属氧化物粒子层中的金属氧化物粒子的含量在膜厚方向的变动量(变动量)、粘合层的在23℃下的tanδ、在23℃下的断裂伸长率、在23℃下的粘度、以及转印膜的在60℃下的WVTR，并记载于表6。
＜裂纹的评价＞
对各实施例或比较例中获得的转印膜进行表面扫描型电子显微镜(SEM)观察(400倍)，确认有无含金属氧化物粒子层的裂纹。
评价结果记载于表6中。当确认到裂纹时记载为“有”，当未确认到裂纹时记载为“无”。在实施例4中，观察到实际应用上没有问题的程度的些许裂纹。
＜WVTR的评价＞
使用在各实施例或比较例中获得的转印膜，通过上述方法测量WVTR，将测量结果记载于表6。
＜段差追踪性的评价＞
将各实施例或比较例中获得的转印膜切割成3.0cm×4.0cm，并剥离保护膜，将含金属氧化物粒子层侧贴合于预先粘贴有25μm厚的聚酰亚胺胶带(Kapton(注册商标)胶带，Du Pont-Toray Co.,Ltd.制)的玻璃基材上，以23℃、6m/min的转印速度、压力0.7kg/cm2形成了评价用层叠体。
关于制作的评价用层叠体，使用NIKON CORPORATION制光学显微镜观察Kapton胶带周边的段差，并测量了边界空隙宽度。
更具体而言，如图7所示，所获得的样品的结构相当于在贴合有Kapton胶带52的PET基材50上配置含金属氧化物粒子层及粘合层54及临时支承体56的方式。
如图7所示，在Kapton胶带52的段差部分中，PET基材50与含金属氧化物粒子层及粘合层54之间容易产生空隙58，所谓边界空隙宽度是指Kapton胶带52与含金属氧化物粒子层及粘合层54不接触的玻璃基材上的距离D。
可以认为距离D越小，段差追踪性越优异。评价结果优选为A或B。评价根据下述评价基准来进行，评价结果记载于表6中。
-评价基准-
A：边界空隙宽度(距离D)小于200μm。
B：边界空隙宽度(距离D)为200μm以上且小于1000μm。
C：边界空隙宽度(距离D)为1000μm以上。
＜铜的腐蚀抑制性的评价＞
除了将上述Kapton胶带设为铜膜(厚度6μm)以外，将通过与段差追踪性的评价相同的方法制作的评价用层叠体在85℃、85％RH的环境下放置了300小时。
然后，使用光学显微镜(倍率：50倍)观察粘合层及含金属氧化物粒子层下的铜膜的表面，根据下述评价基准评价了铜的变色。评价结果记载于表6。评价结果优选为A、B或C。可以说已变色的部分的比例越小，越可以抑制铜膜的腐蚀。
-评价基准-
A：完全没有确认到已变色的部分。
B：已变色的部分的比例为铜膜的表面的10％以下。
C：已变色的部分的比例大于铜膜的表面的10％且50％以下。
D：已变色的部分的比例大于铜膜的表面的50％。
＜可见性的抑制评价＞
准备了在其中1个面形成有透明膜而在另一面形成有透明电极图案的玻璃基材。
将各实施例或比较例中获得的转印膜切割成3.0cm×4.0cm，并剥离保护膜，将含金属氧化物粒子层侧贴合于上述玻璃基材的透明电极图案上，以23℃、6m/min的转印速度、压力0.7kg/cm2进行层压，从而形成了评价用层叠体。
经由透明粘接胶带(3M Company制，商品名称，OCA胶带8171CL)粘接层叠体的透明膜侧与黑色PET材料。
使用GENTOS LED灯(手电筒、亮度200流明，商品名称：闪335SG-335)一边对粘贴上述遮光后的评价用层叠体的转印膜的一侧照射光，一边从各种角度进行了观察。评价根据下述评价基准进行，评价结果记载于表6中的“可见性”一栏。评价结果优选为A或B。
-评价基准-
A：在目视下，从任何角度都几乎看不到透明电极图案。
B：在目视下，在一定角度，透明电极图案在LED灯的反射光中略微可见。
C：在目视下，在一定角度，透明电极图案在LED灯的反射光中闪闪可见。
D：在目视下，在任何角度，透明电极图案在LED灯的反射光中闪闪可见。
Figure BDA0002689066480000531
从表6中所记载的结果出发，根据本发明所涉及的转印膜，能够提供一种能够依次形成含金属氧化物粒子层及粘合层，并且获得降低透明电极图案的可见性优异的层叠体的转印膜及使用了上述转印膜的层叠体的制造方法。
并且，从表6中所记载的结果出发，可知根据本发明所涉及的转印膜，容易获得抑制裂纹的产生且段差追踪性优异，并且抑制铜腐蚀的层叠体。
尤其，可知当含金属氧化物粒子层包含特定化合物A时，可显著地抑制裂纹的产生。
并且，可知粘合层的、在23℃下的tanδ为1.5以上、在23℃下的断裂伸长率为600％以上、在23℃下的粘度为1.0×106Pa·s以下时，可显著地抑制段差追踪性。
此外，可知若WVTR为1100g/(m2·天)以下，则可显著地抑制铜腐蚀。并且，从实施例1及实施例7的结果可知，在包含具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2,000的化合物作为特定化合物A的情况及包含具有磷酸基且分子量小于2,000的化合物的情况下，容易抑制铜腐蚀。
(静电电容型输入装置的制作)
通过日本特开2014-108541号公报的0167～0191段中所记载的方法，获得了形成掩模层、透明膜、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要件的前面板。
通过与上述可见性评价相同的条件将各实施例或比较例中所获得的转印膜层压于上述前面板，从前面板侧依次形成了含金属氧化物粒子层及粘合层。
(图像显示装置的制作)
在通过日本特开2009-47936号公报中所记载的方法制造的液晶显示元件上贴合各实施例或比较例中形成含金属氧化物粒子层及粘合层的上述前面板，并通过公知的方法制作了将静电电容型输入装置作为构成要件具备的实施例101～108、比较例101～103的图像显示装置。
(评价)
针对各实施例中的图像显示装置，与上述可见性评价同样地一边从图面侧使用GENTOS LED灯(手电筒，亮度200流明，商品名称：闪335SG-335)照射光，一边从各种角度进行了观察。
通过与上述可见性评价中的评价基准相同的评价基准进行了评价。
评价结果与使用各实施例或比较例中的每1个转印膜进行了上述可见性评价时的评价结果相同。
符号说明
1-透明基材(前面板)，2-掩模层，3-透明电极图案(第一透明电极图案)，3a-垫部分，3b-连接部分，4-透明电极图案(第二透明电极图案)，5-绝缘层，6-另一导电性要件，10-静电电容型输入装置，11-透明膜，12-含金属氧化物粒子层(可以具有透明绝缘层的功能)，13-层叠体，14-覆盖部件，15-显示装置，16-临时支承体，18-粘合层，20-转印膜，21-依次层叠有透明电极图案、第二固化性透明树脂层及第一固化性透明树脂层的区域，22-非图案区域，50-PET基材，52-Kapton胶带，54-含金属氧化物粒子层及粘合层，56-临时支承体，58-空隙α锥角，D-边界空隙宽度，LY-第一方向，LX-第二方向。

Claims (20)

1.一种转印膜，其依次具有：
临时支承体；
粘合层；及
含金属氧化物粒子层，其包含金属氧化物粒子，
所述含金属氧化物粒子层中的所述金属氧化物粒子的含量在膜厚方向的变动量为10％以下。
2.根据权利要求1所述的转印膜，其中，
所述含金属氧化物粒子层包含具有选自由羧基及磷酸基组成的组中的至少一种基团的化合物。
3.根据权利要求2所述的转印膜，其包含选自由具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2000的化合物及具有磷酸基且分子量小于2000的化合物组成的组中的至少一种化合物。
4.根据权利要求3所述的转印膜，其中，
所述具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2000的化合物及所述具有磷酸基且分子量小于2000的化合物的合计含量相对于所述含金属氧化物粒子层的总质量为0.1质量％～20质量％。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的转印膜，其包含如下树脂，该树脂具有羧基及磷酸基中的至少一种，分子量为2000以上且10000以下，玻璃化转变温度为23℃以下，并且酸值为80mgKOH/g以上。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印膜，其中，
所述粘合层在23℃下的tanδ为1.5以上，在23℃下的断裂伸长率为600％以上，在23℃下的粘度为1.0×106Pa·s以下。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的转印膜，其在60℃下的水蒸气透过率为1100g/(m2·天)以下。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的转印膜，其中，
所述粘合层的厚度为5μm～200μm。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的转印膜，其中，
所述含金属氧化物粒子层的厚度为30nm～1000nm。
10.一种层叠体的制造方法，其包括在透明电极图案上依次层叠权利要求1至9中任一项所述的转印膜中的所述含金属氧化物粒子层及所述粘合层的工序。
11.一种层叠体，其依次具有：
透明电极图案；
含金属氧化物粒子层，其包含金属氧化物粒子且与所述透明电极图案相邻地配置；及
粘合层，其与所述含金属氧化物粒子层相邻地配置，
所述含金属氧化物粒子层中的所述金属氧化物粒子的含量在膜厚方向的变动量为10％以下。
12.根据权利要求11所述的层叠体，其中，
所述含金属氧化物粒子层包含具有选自由羧基及磷酸基组成的组中的至少一种基团的化合物。
13.根据权利要求12所述的层叠体，其包含选自由具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2000的化合物及具有磷酸基且分子量小于2000的化合物组成的组中的至少一种化合物。
14.根据权利要求13所述的层叠体，其中，
所述具有羧基且不具有烯键式不饱和基团的分子量小于2000的化合物及所述具有磷酸基且分子量小于2000的化合物的合计含量相对于所述含金属氧化物粒子层的总质量为0.1质量％～20质量％。
15.根据权利要求11至14中任一项所述的层叠体，其中，
所述粘合层在23℃下的tanδ为1.5以上，在23℃下的断裂伸长率为600％以上，在23℃下的粘度为1.0×106Pa·s以下。
16.根据权利要求11至15中任一项所述的层叠体，其中，
将所述粘合层及所述含金属氧化物粒子层组合而成的层在60℃下的水蒸气透过率为1100g/(m2·天)以下。
17.根据权利要求11至16中任一项所述的层叠体，其中，
所述粘合层的厚度为5μm～200μm。
18.根据权利要求11至17中任一项所述的层叠体，其中，
所述含金属氧化物粒子层的厚度为30nm～1000nm。
19.一种静电电容型输入装置，其包含权利要求11至18中任一项所述的层叠体。
20.一种图像显示装置，其具备权利要求19所述的静电电容型输入装置。
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