CN111816664B - 显示面板及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显示面板及其制备方法，显示面板包括：在显示面板的层叠方向上，贯穿显示面板的通孔；玻璃基板；显示区域，显示区域的玻璃基板上设置有阵列膜层；以及，邻接于显示区域和通孔的间隔区域，在显示区域的阵列膜层和间隔区域的玻璃基板上设置有像素定义层，且像素定义层覆盖阵列膜层靠近间隔区域的侧端面；在间隔区域，玻璃基板上设置有至少一个第一凹槽，第一凹槽开口于玻璃基板朝向阵列膜层的表面，且第一凹槽的侧壁位于像素定义层靠近阵列膜层的一侧；发光层，发光层在第一凹槽处断开，包括不连续的第一发光层及第二发光层，第一发光层位于阵列膜层以及像素定义层上，第二发光层位于第一凹槽内，能够有效隔绝水氧侵入。

Description

显示面板及其制备方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

随着泛在屏时代的到来，用户对大尺寸、全面屏手机的需求也越来越强烈，通过在显示区开孔，以将摄像头设置在显示区的开孔位置来增大屏占比，是当前显示领域研究的热点，虽然并不能够实现真正的全面屏，但是在移动终端、车载屏幕等行业具有巨大的市场空间。

目前，在显示区开设贯穿AMOLED(active-matrixorganiclightemittingdiode，有源矩阵有机发光二极管)显示面板的通孔会导致AMOLED显示面板在显示区通孔处的膜层暴露在空气中，水汽或氧气很容易从通孔的侧壁侵入，导致显示面板的显示效果较差，产品良率较低，并且使用寿命较短。

发明内容

基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种能够有效隔绝水氧侵入的显示面板及其制备方法。

本发明第一方面提供一种显示面板，包括：在显示面板的膜层堆叠方向上，贯穿显示面板的通孔；玻璃基板；显示区域，显示区域的玻璃基板上设置有阵列膜层；以及邻接于显示区域和通孔的间隔区域，在显示区域的阵列膜层和间隔区域的所述玻璃基板上设置有像素定义层，且像素定义层覆盖阵列膜层靠近间隔区域的侧端面；在间隔区域，玻璃基板上设置有至少一个第一凹槽，第一凹槽开口于玻璃基板朝向阵列膜层的表面，且第一凹槽的侧壁位于像素定义层靠近阵列膜层的一侧；发光层，发光层在第一凹槽处断开，包括不连续的第一发光层及第二发光层，第一发光层位于阵列膜层以及像素定义层上，第二发光层位于第一凹槽内。

如上所述的显示面板，可选地，第一凹槽自像素定义层靠近通孔的侧壁向着显示区域延伸的宽度为1μm-4μm；第一凹槽沿平行于所述显示面板的膜层堆叠方向上的深度为1μm-3μm。

如上所述的显示面板，可选地，显示面板还包括：设置于间隔区域的至少一个隔离柱；其中玻璃基板上形成有至少一个第二凹槽，第一凹槽和第二凹槽之间形成有朝向阵列膜层的凸起结构，隔离柱设置于凸起结构上，且隔离柱在玻璃基板上的正投影宽度大于凸起结构在玻璃基板上的正投影宽度；发光层还包括不连续的第三发光层和第四发光层，第三发光层位于第二凹槽内，第四发光层位于隔离柱上，第四发光层与第三发光层以及第二发光层均不连续。

如上所述的显示面板，可选地，第二凹槽自隔离柱的靠近通孔的边缘向显示区域延伸的宽度为1μm-4μm；第二凹槽沿平行于显示面板的膜层堆叠方向上的深度为1μm-3μm。

如上所述的显示面板，可选地，隔离柱环绕通孔，且隔离柱为环形结构。

如上所述的显示面板，可选地，还包括封装层，封装层至少覆盖发光层、第一凹槽以及第二凹槽的侧壁。

本发明第二方面提供一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：

提供第一基板，第一基板包括玻璃基板、阵列膜层以及像素定义层，阵列膜层层叠设置于玻璃基板，像素定义层设置在阵列膜层以及玻璃基板上，且覆盖阵列膜层的侧端面；图案化第一基板，在玻璃基板上形成至少一个第一凹槽，第一凹槽开口于玻璃基板朝向阵列膜层的表面，且第一凹槽的侧壁位于像素定义层靠近阵列膜层的一侧；形成发光层，发光层在第一凹槽处断开，形成位于阵列膜层以及像素定义层上的第一发光层和位于第一凹槽内的第二发光层，第一发光层和第二发光层之间不连续；图案化第一基板和发光层，形成贯穿显示面板的通孔。

如上所述的显示面板的制备方法，可选地，图案化第一基板的步骤，具体包括：采用氢氟酸溶液刻蚀第一基板，在玻璃基板上形成至少一个第一凹槽，第一凹槽开口于玻璃基板朝向阵列膜层的表面，且第一凹槽的侧壁位于像素定义层靠近阵列膜层的一侧。

如上所述的显示面板的制备方法，可选地，图案化第一基板的步骤，具体包括：在所述玻璃基板上形成至少一个隔离柱，所述隔离柱与所述像素定义层间隔设置；

采用氢氟酸溶液刻蚀第一基板，在玻璃基板上分别形成至少一个第一凹槽和至少一个第二凹槽，第一凹槽和第二凹槽之间形成朝向阵列膜层的凸起结构，隔离柱设置于凸起结构上，且隔离柱在玻璃基板上的正投影宽度大于凸起结构在玻璃基板上的正投影宽度；其中发光层在隔离柱的侧壁断开，形成不连续的第三发光层和第四发光层，第三发光层位于第二凹槽内，第四发光层位于隔离柱上，第四发光层与第三发光层以及第二发光层均不连续。

如上所述的显示面板的制备方法，可选地，图案化第一基板和发光层的步骤，具体包括：在发光层、第一凹槽以及第二凹槽上形成封装层；采用激光打孔工艺在第二凹槽处形成通孔，通孔贯穿封装层、第三发光层以及玻璃基板。

本发明提供的显示面板及其制备方法中，通过在显示区域的阵列膜层和间隔区域的玻璃基板上设置有像素定义层，并且像素定义层覆盖阵列膜层靠近间隔区域的侧端面，以保护阵列膜层的侧壁；通过在间隔区域的玻璃基板上形成第一凹槽，并且第一凹槽的侧壁位于像素定义层靠近阵列膜层的一侧，即像素定义层与凹槽处的玻璃基板的形成段差，以使得发光层在第一凹槽的对应位置处断开，形成设置在阵列膜层以及像素定义层上的第一发光层和设置在第一凹槽内的第二发光层之间不连续，进而使得水汽和氧气向着显示区域内入侵的路径在第一凹槽的对应位置处被切断，从而能够有效防止从通孔侵入的水汽和氧气向显示区域蔓延，有利于提高显示面板的可靠性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或传统技术中的技术方案，下面将对实施例或传统技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明一实施例中的显示面板的结构示意图；

图2为本发明另一实施例中的显示面板的结构示意图；

图3为本发明一实施例中的显示面板的制备方法流程示意图；

图4(a)-图4(f)为本发明一实施例中的显示面板的工艺流程图；

图5(a)-图5(g)为本发明另一实施例中的显示面板的工艺流程图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

在附图中，为了清楚说明，可以夸大层和区域的尺寸。可以理解的是，当层或元件被称作“在”另一层或基底“上”时，该层或元件可以直接在所述另一层或基底上，或者也可以存在中间层。另外，还可以理解的是，当层被称作“在”两个层“之间”时，该层可以是所述两个层之间的唯一层，或者也可以存在一个或更多个中间层。另外，同样的附图标记始终表示同样的元件。

在下面的实施例中，当层、区域或元件被“连接”时，可以解释为所述层、区域或元件不仅被直接连接还通过置于其间的其他组成元件被连接。例如，当层、区域、元件等被描述为被连接或电连接时，所述层、区域、元件等不仅可以被直接连接或被直接电连接，还可以通过置于其间的另一层、区域、元件等被连接或被电连接。

在下文中，尽管可以使用诸如“第一”、“第二”等这样的术语来描述各种组件，但是这些组件不必须限于上面的术语。上面的术语仅用于将一个组件与另一组件区分开。还将理解的是，以单数形式使用的表达包含复数的表达，除非单数形式的表达在上下文中具有明显不同的含义。

当诸如“……中的至少一种(个)(者)”的表述位于一列元件(元素)之后时，修饰整列元件(元素)，而不是修饰该列中的个别元件(元素)。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。发明文件中使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项的任意组合和所有组合。还应当理解的是，术语“包括/包含”或“具有”等指定所陈述的特征、整体、步骤、操作、组件、部分或它们的组合的存在，但是不排除存在或添加一个或更多个其他特征、整体、步骤、操作、组件、部分或它们的组合的可能性。

虽然在文中已经特别描述了显示模块和包括显示模块的显示装置的示例性实施例，但是很多修改和变化对于本领域技术人员将是显而易见的。因此，将理解的是，可除了如文中特别描述的那样以外地实施根据本发明的原理构成的显示模块和包括显示模块的显示装置。本发明还被限定在权利要求及其等同物中。

如背景所述，为了提高屏占比，现有的AMOLED显示面板采用屏内摄像头的结构形式，通过在显示面板的显示区开设贯穿显示面板的通孔，以用于安装摄像头等功能元件，由于通孔的开设会导致显示面板在通孔处的膜层暴露在空气中，水汽或氧气很容易从通孔的侧壁侵入，导致显示面板的显示效果较差，产品良率较低，并且使用寿命较短。

为此，现有技术提供了两种解决方式，方式一，通过新增干刻设备，对现有的基板进行灰化处理，以形成用于断开发光层的凹槽，但是这种方式需要新增干刻设备，工艺较为复杂，对产能的影响较大；方式二，通过将基板设置成TiAlTi结构，通过内挖Al结构，以形成用于断开发光层的凹槽，但是这种方式的工艺较为复杂，工艺窗口较小，产品良率得不到保证。

请参见图1以及图2，本发明实施例提供一种显示面板10，包括依次层叠设置的玻璃基板110、阵列膜层120、像素定义层130以及发光层200，该显示面板10还包括通孔300，该通孔300在显示面板10的膜层堆叠方向上贯穿显示面板10，以用于安装摄像头等功能元件。

该显示面板10具有显示区域400和邻接于显示区域400和通孔300的间隔区域500，通孔300可以设置在显示面板10的显示区域的中间位置，此时，显示区域400环绕间隔区域500，间隔区域500环绕通孔300，通孔还可以设置在显示面板10的显示区域的边缘，此时，沿显示面板10的边缘朝向中心的方向，通孔300、间隔区域500以及显示区域400依次设置，间隔区域500围绕部分通孔300，显示区域400围绕部分间隔区域500。

阵列膜层120设置于显示区域400的玻璃基板110上，在具体设置时，阵列膜层120包括依次层叠设置在显示区域400的玻璃基板110上的阻挡层121、栅绝缘层122、电介质层123、层间介质层124、平坦层125以及阳极层126，阻挡层121的材料可以为SiO(氧化硅)/SiN(氮化硅)，栅绝缘层122的材料可以为SiO，电介质层123的材料可以为SiN，层间介质层124的材料可以为SiO/SiN。

像素定义层130设置在阵列膜层120和间隔区域500的玻璃基板110上，并且像素定义层130覆盖阵列膜层120靠近间隔区域500的侧端面；在具体设置时，像素定义层130的一部分设置在阵列膜层120上，像素定义层130的一部分设置在间隔区域500的玻璃基板110上，从而使得像素定义层130覆盖阵列膜层120靠近间隔区域500的侧端面。

在间隔区域500的玻璃基板110上开设有至少一个第一凹槽111，第一凹槽111开口于玻璃基板110朝向阵列膜层120的表面，第一凹槽111向着背离阵列膜层120的方向延伸一定的距离，并且第一凹槽111的侧壁位于像素定义层130靠近阵列膜层120的一侧；在具体设置时，第一凹槽111的数目可以为一个、两个、三个或是三个以上，多个第一凹槽111间隔设置在间隔区域500的玻璃基板110上，而第一凹槽111的具体数目和设置方式根据显示面板10的实际情况确定。

发光层200包括不连续的第一发光层210及第二发光层220，第一发光层210位于阵列膜层120以及像素定义层130上，第二发光层220位于第一凹槽111内，第一发光层210和第二发光层220在第一凹槽111处断开不连续，在具体设置时，发光层200包括OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)显示单元，第一发光层210和第二发光层220之间不连续，即第一发光层210和第二发光层220在垂直于显示面板的膜层堆叠方向上也不连续。

上述显示面板10中，通过在显示区域400的阵列膜层120以及间隔区域500的玻璃基板110上设置像素定义层130，并且该像素定义层130覆盖阵列膜层120靠近间隔区域500的侧端面，以保护阵列膜层120的侧壁；通过在间隔区域500的玻璃基板110上形成第一凹槽111，并且第一凹槽111得侧壁位于像素定义层130靠近阵列膜层120的一侧，以使得发光层200在第一凹槽111的对应位置处断开，使得设置在阵列膜层120以及像素定义层130上的第一发光层210和设置在第一凹槽111内的第二发光层220之间不连续，进而使得水汽和氧气向着显示区域400内入侵的路径在第一凹槽111的对应位置处被切断，从而能够有效防止从通孔300侵入的水汽和氧气向显示区域400蔓延，有利于提高显示面板10的可靠性。

为了保证第一发光层210和第二发光层220不连续，一种优选实施方式，第一凹槽111自像素定义层130靠近通孔300的侧壁向着显示区域400延伸的宽度为1μm-4μm，第一凹槽111沿平行于显示面板10的膜层堆叠方向上的深度为1μm-3μm。在具体设置时，第一凹槽111自像素定义层130靠近通孔300的侧壁向着显示区域400延伸的宽度可以为1μm、1.5μm、2μm、2.5μm、3μm、3.5μm、4μm，当然，第一凹槽111自像素定义层130靠近通孔300的侧壁向着显示区域400延伸的宽度还可以为1μm-4μm范围内的其它值；第一凹槽111沿平行于显示面板10的膜层堆叠方向上的深度可以为1μm、1.5μm、2μm、2.5μm、3μm，当然，第一凹槽111沿平行于显示面板10的层叠方向上的深度还可以为1μm-3μm范围内的其它值。

上述显示面板10中，通过限定第一凹槽111自像素定义层130靠近通孔300的侧壁向着显示区域400延伸的宽度为1μm-4μm，保证玻璃基板110对像素定义层130的支撑强度，从而保证像素定义层130以及显示面板10的结构稳定性。通过限定第一凹槽111沿平行于显示面板10的膜层堆叠方向上的深度为1μm-3μm，以在保证玻璃基板110结构强度的基础上增大第一凹槽111的深度，结合通过限定第一凹槽111自像素定义层130靠近通孔300的侧壁向着显示区域400延伸的宽度为1μm-4μm的设置，使像素定义层和凹槽内得玻璃基板形成段差，使得发光层200在第一凹槽111的对应位置处断开，从而能够保证第一发光层210和第二发光层220不连续。在具体设置时，在满足显示面板10的结构稳定性的基础上，第一凹槽111自像素定义层130靠近通孔300的侧壁向着显示区域400延伸的距离并不局限于1μm-4μm，还可以为其它范围值，同样，在保证第一发光层210和第二发光层220不连续的基础上，第一凹槽111沿平行于显示面板10的层叠方向上的深度并不局限于1μm-3μm，还可以为其它范围值。

为了进一步提高显示面板10的可靠性，一种优选实施方式，请参见图2，显示面板10还包括设置于间隔区域500的至少一个隔离柱140，隔离柱140通过第一凹槽111与相邻的像素定义层130间隔设置，在具体设置时，隔离柱140的数目可以为一个、两个、三个或是三个以上，多个隔离柱140沿平行于显示面板10膜层堆叠的方向上的高度可以相同，以便于制备，多个隔离柱140沿平行于显示面板10膜层堆叠的方向上的高度也可以不同，以获得不同的隔离效果。当隔离柱140的个数为一个时，隔离柱140与像素定义层130之间通过第一凹槽111间隔设置，当隔离柱140的个数为多个时，第一凹槽111包括多个部分，相邻隔离柱140之间通过第一凹槽111间隔设置，隔离柱140与像素定义层130之间通过第一凹槽111间隔设置。其中：

玻璃基板110上开设有至少一个第二凹槽112，第二凹槽112开口于玻璃基板110朝向阵列膜层120的表面，并且向着背离阵列膜层120的方向延伸一定的距离，第一凹槽111和第二凹槽112之间形成朝向阵列膜层120的凸起结构113，隔离柱140设置在凸起结构113上，并且隔离柱140在玻璃基板110上的正投影宽度大于凸起结构113在玻璃基板110上的正投影宽度，即凸起结构113在玻璃基板110上的正投影位于隔断柱140在玻璃基板110上的正投影内，而且凸起结构113的最大宽度小于隔断柱140的宽度，例如，凸起结构113的在垂直于显示面板的膜层堆叠方向的横向最大宽度小于隔断柱140的在垂直于显示面板的膜层堆叠方向的横向宽度。在具体设置时，凸起结构113设置在第一凹槽111和第二凹槽112之间，凸起结构113的数目可以为一个、两个、三个或是三个以上，多个凸起结构113间隔设置在间隔区域500的玻璃基板110上，第二凹槽112的数目可以为一个、两个、三个或是三个以上，多个第二凹槽112间隔设置在间隔区域500的玻璃基板110上，而凸起结构113和第二凹槽112的具体数目和设置方式根据显示面板10的实际情况确定。

发光层200还包括不连续的第三发光层230和第四发光层240，第三发光层230位于第二凹槽112内，第四发光层240位于隔离柱140上，第三发光层230与第四发光层240在第二凹槽112处断开不连续，第四发光层240与第二发光层220之间断开不连续，在具体设置时，第三发光层230与第四发光层240之间在平行于显示面板10膜层堆叠方向上不连续，并且第三发光层230与第四发光层240在垂直于显示面板10膜层堆叠的方向上也不连续；第四发光层240与第二发光层220之间在平行于显示面板10膜层堆叠方向上不连续，并且第四发光层240与第二发光层220之间在垂直于显示面板10膜层堆叠方向上也不连续。

上述显示面板10中，通过第一凹槽111和第二凹槽112之间形成朝向阵列膜层120的凸起结构113，隔离柱140设置在凸起结构113上，并且隔离柱140在玻璃基板110上的正投影宽度大于凸起结构113在玻璃基板110上的正投影宽度，以使得发光层200在隔离柱的两侧壁对应位置处断开，使得位于隔离柱140上的第四发光层240与第一凹槽111内的第二发光层220之间不连续，并且位于第二凹槽112内的第三发光层230与隔离柱140上的第四发光层240之间不连续，水汽和氧气向着显示区域400内入侵的路径不仅在第一凹槽111的对应位置处被切断，还在第二凹槽112的对应位置处被断开，从而能够进一步防止从通孔300侵入的水汽和氧气向显示区域400蔓延，有利于提高显示面板10的可靠性。

为了保证第三发光层230和第四发光层240之间均不连续，一种优选实施方式，第二凹槽112自隔离柱140的靠近通孔300的边缘向着显示区域400延伸的宽度为1μm-4μm，第二凹槽112沿平行于显示面板10膜层堆叠方向上的深度为1μm-3μm。在具体设置时，第二凹槽112自隔离柱140的靠近通孔300的边缘向着显示区域400延伸的宽度可以为1μm、1.5μm、2μm、2.5μm、3μm、3.5μm、4μm，当然，第二凹槽112自隔离柱140的靠近通孔300的边缘向着显示区域400延伸的宽度还可以为1μm-4μm范围内的其它值；第二凹槽112沿平行于显示面板10膜层堆叠方向上的深度可以为1μm、1.5μm、2μm、2.5μm、3μm，当然，第二凹槽112沿平行于显示面板10膜层堆叠方向上的深度还可以为1μm-3μm范围内的其它值。

上述显示面板10中，通过限定第二凹槽112自隔离柱140的靠近通孔300的边缘向着显示区域400延伸的宽度为1μm-4μm，以保证玻璃基板110对隔离柱140的支撑强度，从而保证隔离柱140以及显示面板10的结构稳定性；通过限定第二凹槽112沿平行于显示面板10膜层堆叠方向上的深度为1μm-3μm，以在保证玻璃基板110结构强度的基础上增大第二凹槽112的深度，使得发光层200在第二凹槽112的对应位置处断开，从而能够保证第三发光层230和第四发光层240以及第一发光层210之间均不连续。在具体设置时，在满足显示面板10的结构稳定性的基础上，第二凹槽112自隔离柱140的靠近通孔300的边缘向着显示区域400延伸的宽度并不局限于1μm-4μm，还可以为其它范围值，同样，在保证第三发光层230和第四发光层240以及第一发光层210均不连续的基础上，第二凹槽112沿平行于显示面板10膜层堆叠方向上的深度并不局限于1μm-3μm，还可以为其它范围值。

隔离柱140的结构形式具有多种，例如隔离柱140可以为设置在间隔区域500上的多个单体，这多个单体之间可以具有间隙，而为了便于制备，具体地，隔离柱140环绕通孔300，隔离柱140为连续的环形结构，在具体设置时，可以具有一个环状结构的隔离柱140，还可以具有多个环状结构的隔离柱140，并且多个隔离柱140相互环绕，也可以具有一个环状结构的隔离柱140以及多个单体的隔离柱140，而隔离柱140的具体结构形式根据显示面板10的实际情况进行确定。

上述显示面板10中，通过限定隔离柱140环绕通孔300，隔离柱140为连续的环形结构，以形成环状隔离柱140，以使得发光层200在第二凹槽112对应位置处完全断开，第三发光层230与第一发光层210之间完全不连续，并且第三发光层230与第四发光层240之间完全不连续，水汽和氧气向着显示区域400内入侵的路径在第二凹槽112的对应位置处被全部断开，从而能够更好地防止从通孔300侵入的水汽和氧气向显示区域400蔓延，从而更有利于提高显示面板10的可靠性。

为了进一步隔绝水氧，请参见图1以及图2，一种优选实施方式，显示面板10还包括封装层600，封装层600至少覆盖发光层200、第一凹槽111以及第二凹槽112的侧壁。在具体设置时，封装层600可以的材料可以为SiN(氮化硅)/SiON(氮氧化硅)，能够较好地覆盖并封装发光层200、第一凹槽111以及第二凹槽112的侧壁，当然封装层600还可以采用其它能够满足封装要求的材料。上述显示面板10中，通过设置封装层600，该封装层600用于封装发光层200、第一凹槽111以及第二凹槽112，通过限定封装层600覆盖发光层200、第一凹槽111以及第二凹槽112的侧壁，以保证封装的完整性，能够进一步隔绝水氧，提高了显示面板10的可靠性。

另外，请参见图3，本发明还提供了一种显示面板10的制备方法，具体步骤包括：

步骤S301，提供第一基板100，第一基板100包括玻璃基板110、阵列膜层120以及像素定义层130，阵列膜层120层叠设置在玻璃基板110上，像素定义层130设置在阵列膜层120和玻璃基板110上，并且像素定义层130覆盖阵列膜层120靠近的侧端面；

在具体设置时，通过在玻璃基板110上依次形成阻挡膜层、栅绝缘膜层、电介质膜层、层间介质膜层，然后刻蚀层间介质膜层，以形成层间介质层124；接着通过光刻工艺对层结构进行图案化处理，以剥离玻璃基板110上方的部分区域的阻挡膜层、栅绝缘膜层、电介质膜层，以形成阻挡层121、栅绝缘层122、电介质层123，形成如图4(a)或图5(a)的结构；然后形成一层平坦膜层和阳极层126，并通过图案化平坦膜层形成平坦层125；最后，形成一层像素定义膜层，并通过光刻工艺图案化，以形成像素定义层130，形成如图4(b)或图5(b)的结构；

步骤S302，图案化第一基板100，以在玻璃基板110上形成至少一个第一凹槽111，第一凹槽111开口于玻璃基板110朝向阵列膜层120的表面，并且第一凹槽111的侧壁位于像素定义层130靠近阵列膜层120的一侧，在具体设置时，第一基板100的图案化处理可以采用湿法刻蚀的方式实现，例如，通过刻蚀液对第一基板100进行图案化处理；

具体地，图案化第一基板100具体包括：采用氢氟酸溶液刻蚀第一基板100，在玻璃基板110上形成第一凹槽111，第一凹槽111开口于玻璃基板110朝向阵列膜层120的表面，并且第一凹槽111的侧壁位于像素定义层130靠近阵列膜层120的一侧，而采用氢氟酸溶液对第一基板100进行湿法刻蚀，以形成如图4(c)的结构，其中，氢氟酸溶液的浓度为2.8％左右，工艺过程简单，能够方便快捷地形成第一凹槽111，并且不需要新增刻蚀设备，对现有刻蚀设备产能影响较低，可靠性较好，产品良率较高；

具体地，图案化第一基板100具体包括：在玻璃基板110上形成至少一个隔离柱140，隔离柱140与像素定义层130间隔设置，以形成如图5(c)的结构；然后采用氢氟酸溶液刻蚀第一基板100，在玻璃基板110上形成第一凹槽111，第一凹槽111开口于玻璃基板110朝向阵列膜层120的表面，并且第一凹槽111的侧壁位于像素定义层130靠近阵列膜层120的一侧，在玻璃基板110上形成第二凹槽112，并且第二凹槽112和第一凹槽111之间形成有朝向阵列膜层120的凸起结构113，隔离柱140设置在凸起结构113上，第二凹槽112开口于玻璃基板110朝向阵列膜层120的表面，并且隔离柱140在玻璃基板110上的正投影宽度大于凸起结构113在玻璃基板110上的正投影宽度，以形成如图5(d)的结构；上述步骤中，通过在玻璃基板110上形成至少一个隔离柱140，并且限定隔离柱140与像素定义层130间隔设置，然后采用氢氟酸溶液对形成有至少一个隔离柱140的第一基板100进行湿法刻蚀，以方便快捷地形成至少一个第一凹槽114和至少一个第二凹槽112，以使得后续步骤形成的发光层200在第一凹槽111和第二凹槽112对应位置处断开，从而能够使得发光层200具有更多的断开处，进而使得采用上述制备方法形成的显示面板10的水氧隔绝效果更好，从而有利于提高显示面板10的可靠性；

步骤S303，通过蒸镀工艺在完成步骤S302的第一基板100上蒸镀形成发光层200，发光层200包括位于阵列膜层120以及像素定义层130上的第一发光层210和位于第一凹槽111内的第二发光层220，第一发光层210和第二发光层220之间不连续；

在具体设置时，通过蒸镀工艺在第一基板100上蒸镀形成发光层200，以形成如图4(d)的结构，此时，第一发光层210和第二发光层220在第一凹槽111处断开不连续；

在具体设置时，通过蒸镀工艺在第一基板100上蒸镀形成发光层200，以形成如图5(e)的结构，此时，第一发光层210和第二发光层220在第一凹槽111处断开不连续、第三发光层230和第四发光层240在第二凹槽112处断开不连续、第四发光层240和第二发光层220在第一凹槽111处断开不连续；

步骤S304，图案化第一基板100和发光层200，在玻璃基板110上仅层叠有玻璃基板110和发光层200的区域形成贯穿发光层200以及玻璃基板110的通孔300。具体地，图案化第一基板100和发光层200中在形成通孔300之前还包括形成封装层600，以较好地封装发光层200和第一基板100，保证封装的完整性，能够使得采用上述制备方法形成的显示面板10的进一步隔绝水氧，提高了显示面板10的可靠性；采用激光打孔工艺形成通孔300，通过激光打孔工艺能够快速形成贯穿发光层200以及玻璃基板110的通孔300，提高加工效率；

在具体设置时，在发光层200、第一凹槽111上形成封装层600，以形成如图4(e)的结构；采用激光打孔工艺形成贯穿发光层200以及玻璃基板110的通孔300，以形成如图4(f)的结构；

在具体设置时，在发光层200、第一凹槽111以及第二凹槽112上形成封装层600，以形成如图5(f)的结构；采用激光打孔工艺形成通孔300，通孔300贯穿封装层600、发光层200以及玻璃基板110，以形成如图5(g)的结构。

上述显示面板10的制备方法中，通过步骤S301提供第一基板100，并限定第一基板100中阵列膜层120设置在玻璃基板110上，像素定义层130设置在阵列膜层120以及玻璃基板110上，并且覆盖阵列膜层120的侧端面，以保护阵列膜层120的侧壁；通过步骤S302图案化第一基板100，以在玻璃基板110上形成第一凹槽111；通过步骤S303在第一基板100上形成发光层200，该发光层200在第一凹槽111的对应位置处断开，以使得设置在阵列膜层120以及像素定义层130上的第一发光层210和设置在第一凹槽111内的第二发光层220之间不连续，进而使得水汽和氧气向着显示区域400内入侵的路径在第一凹槽111的对应位置处被切断，从而能够有效防止从通孔300侵入的水汽和氧气向显示区域400蔓延；通过步骤S304图案化第一基板100和发光层200，以形成贯穿发光层200和玻璃基板110的通孔300，该通孔300用于摄像头等微型元件的设置。因此，通过上述显示面板10的制备方法能够方便快捷地制备显示面板10，并且该显示面板10的可靠性较好，屏占比较大。

在本说明书的描述中，参考术语“有些实施例”、“其他实施例”、“理想实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特征包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性描述不一定指的是相同的实施例或示例。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

在所述显示面板的膜层堆叠方向上，贯穿所述显示面板的通孔；

玻璃基板；

显示区域，所述显示区域的所述玻璃基板上设置有阵列膜层；以及

邻接于所述显示区域和所述通孔的间隔区域，在所述显示区域的所述阵列膜层和所述间隔区域的所述玻璃基板上设置有像素定义层，且所述像素定义层覆盖所述阵列膜层靠近所述间隔区域的侧端面；

在所述间隔区域，所述玻璃基板上设置有至少一个第一凹槽，所述第一凹槽开口于所述玻璃基板朝向所述阵列膜层的表面，且所述第一凹槽的侧壁位于所述像素定义层靠近所述阵列膜层的一侧，且与所述像素定义层靠近所述通孔的侧壁间隔设置；

发光层，所述发光层在所述第一凹槽处断开，包括不连续的第一发光层及第二发光层，所述第一发光层位于所述阵列膜层以及所述像素定义层上，所述第二发光层位于所述第一凹槽内。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一凹槽自所述像素定义层靠近所述通孔的侧壁向着所述显示区域延伸的宽度为1μm-4μm；

所述第一凹槽沿平行于所述显示面板的膜层堆叠方向上的深度为1μm-3μm。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

设置于所述间隔区域的至少一个隔离柱；其中

所述玻璃基板上形成有至少一个第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽之间形成有朝向所述阵列膜层的凸起结构，所述隔离柱设置于所述凸起结构上，且所述隔离柱在所述玻璃基板上的正投影宽度大于所述凸起结构在所述玻璃基板上的正投影宽度；

所述发光层还包括不连续的第三发光层和第四发光层，所述第三发光层位于所述第二凹槽内，所述第四发光层位于所述隔离柱上，所述第三发光层、所述第四发光层、所述第二发光层以及所述第一发光层中相邻两者之间均不连续。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第二凹槽自所述隔离柱的靠近所述通孔的边缘向所述显示区域延伸的宽度为1μm-4μm；

所述第二凹槽沿平行于所述显示面板的膜层堆叠方向上的深度为1μm-3μm。

5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述隔离柱环绕所述通孔，且所述隔离柱为环形结构。

6.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，还包括封装层，所述封装层至少覆盖所述发光层、所述第一凹槽以及所述第二凹槽的侧壁。

7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法的步骤包括：

提供第一基板，所述第一基板包括玻璃基板、阵列膜层以及像素定义层，所述阵列膜层层叠设置于所述玻璃基板，所述像素定义层设置在所述阵列膜层以及所述玻璃基板上，且覆盖所述阵列膜层的侧端面；

图案化所述第一基板，在所述玻璃基板上形成至少一个第一凹槽，所述第一凹槽开口于所述玻璃基板朝向所述阵列膜层的表面，且所述第一凹槽的侧壁位于所述像素定义层靠近所述阵列膜层的一侧，且与所述像素定义层靠近所述通孔的侧壁间隔设置；

形成发光层，所述发光层在所述第一凹槽处断开，形成位于所述阵列膜层以及所述像素定义层上的第一发光层和位于所述第一凹槽内的第二发光层，所述第一发光层和所述第二发光层之间不连续；

图案化所述第一基板和所述发光层，形成贯穿所述显示面板的通孔。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述图案化所述第一基板的步骤，具体包括：采用氢氟酸溶液刻蚀所述第一基板，在所述玻璃基板上形成至少一个第一凹槽，所述第一凹槽开口于所述玻璃基板朝向所述阵列膜层的表面，且所述第一凹槽的侧壁位于所述像素定义层靠近所述阵列膜层的一侧。

9.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述图案化所述第一基板的步骤，具体包括：

在所述玻璃基板上形成至少一个隔离柱，所述隔离柱与所述像素定义层间隔设置；

采用氢氟酸溶液刻蚀所述第一基板，在所述玻璃基板上分别形成至少一个第一凹槽和至少一个第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽之间形成朝向所述阵列膜层的凸起结构，所述隔离柱设置于所述凸起结构上，且所述隔离柱在所述玻璃基板上的正投影宽度大于所述凸起结构在所述玻璃基板上的正投影宽度；其中

所述发光层在所述隔离柱的侧壁断开，形成不连续的第三发光层和第四发光层，所述第三发光层位于所述第二凹槽内，所述第四发光层位于所述隔离柱上，所述第三发光层、所述第四发光层、所述第二发光层以及所述第一发光层中相邻两者之间均不连续。

10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述图案化所述第一基板和所述发光层的步骤，具体包括：

在所述发光层、所述第一凹槽以及所述第二凹槽上形成封装层；

采用激光打孔工艺在所述第二凹槽处形成所述通孔，所述通孔贯穿所述封装层、所述第三发光层以及所述玻璃基板。