CN113013359B - 一种显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示面板和显示装置，包括显示区、隔断区和开孔区，隔断区包围开孔区，显示区至少部分包围隔断区；显示面板包括：基板、依次位于基板表面的发光阵列层、封装层和平坦化层；发光阵列层仅位于显示区，封装层和平坦化层由显示区的发光阵列层表面延伸至隔断区的基板表面；封装层和平坦化层均具有隔断柱；隔断柱位于隔断区，且隔断柱包围开孔区；隔断柱至少隔断封装层和平坦化层中的有机层，以避免水汽进入封装层和平坦化层中的有机层，影响显示面板的显示效果和触控效果。

Description

一种显示面板和显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，更具体地说，涉及一种显示面板和显示装置。

背景技术

全面屏技术，通过窄边框甚至无边框的设计，实现了大于90％的屏占比。其在机身不变的情况下，实现了显示面积的最大化，使得显示效果更加惊艳。基于全面屏的结构设计，需要在显示面板的显示区设置通孔，以在通孔内安装摄像头、听筒、感应器等器件。但是，在对显示面板进行切割形成通孔之后，水汽会从通孔进入显示面板内部，影响显示面板的显示效果和触控效果。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种显示面板和显示装置，以免水汽从通孔进入显示面板内部，影响显示面板的显示效果和触控效果。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种显示面板，包括显示区、隔断区和开孔区，所述隔断区包围所述开孔区，所述显示区至少部分包围所述隔断区；

所述显示面板包括：基板、依次位于所述基板表面的发光阵列层、封装层和平坦化层；所述发光阵列层仅位于所述显示区，所述封装层和所述平坦化层由所述显示区的发光阵列层表面延伸至所述隔断区的基板表面；

所述封装层和所述平坦化层均具有隔断柱；所述隔断柱位于所述隔断区，且所述隔断柱包围所述开孔区；所述隔断柱至少隔断所述封装层和所述平坦化层中的有机层。

一种显示装置，包括如上任一项所述的显示面板。

与现有技术相比，本发明所提供的技术方案具有以下优点：

本发明所提供的显示面板和显示装置，封装层和平坦化层由显示区的发光阵列层表面延伸至隔断区的基板表面，以使封装层和平坦化层包裹发光阵列层，避免水汽等进入发光阵列层，影响发光阵列层的显示效果。并且，由于隔断区具有位于封装层和平坦化层的隔断柱，隔断柱包围开孔区，且隔断柱至少隔断封装层和平坦化层中的有机层，因此，可以避免水汽进入封装层中的有机层，并通过封装层中的有机层进一步扩散到发光阵列层，影响发光阵列层的显示效果，同时避免水汽进入平坦化层中的有机层，影响平坦化层的介电特性，进而影响平坦化层表面的触控电极的触控性能。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本发明一个实施例提供的显示面板的俯视结构示意图；

图2为图1所示的显示面板沿切割线AA’的剖面结构示意图；

图3为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图；

图4为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图；

图5为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图；

图6为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图；

图7为本发明一个实施例提供的隔断区和开孔区的俯视结构示意图；

图8为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图；

图9为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图；

图10为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图；

图11为本发明另一实施例提供的隔断区和开孔区的俯视结构示意图；

图12为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图；

图13为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图；

图14为本发明另一实施例提供的隔断区和开孔区的俯视结构示意图；

图15为本发明一个实施例提供的显示装置的结构示意图。

具体实施方式

以上是本发明的核心思想，为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供了一种显示面板，如图1所示，图1为本发明一个实施例提供的显示面板的俯视结构示意图，显示面板包括显示区A1、隔断区A2和开孔区A3，隔断区A2包围开孔区A3，显示区A1至少部分包围隔断区A2。其中，通过在开孔区A3内挖孔，并在孔内设置摄像头、听筒以及感应器等器件，可以减小显示面板的边框宽度，实现全面屏。

如图2所示，图2为图1所示的显示面板沿切割线AA’的剖面结构示意图，该显示面板包括：基板10、位于基板10表面的发光阵列层20、封装层30和平坦化层40。其中，发光阵列层20仅位于显示区A1，封装层30和平坦化层40由显示区A1的发光阵列层20表面延伸至隔断区A2的基板10表面。

也就是说，在显示区A1内，发光阵列层20、封装层30和平坦化层40依次位于基板10表面，在隔断区A2内，封装层30和平坦化层40依次位于基板10表面。基于此，通过使封装层30和平坦化层40由显示区A1的发光阵列层20表面延伸至隔断区A2的基板10表面，可以使封装层30和平坦化层40包裹发光阵列层20，以避免水汽等进入发光阵列层20，影响发光阵列层20的显示效果。

本发明实施例中，如图2所示，封装层30和平坦化层40均具有隔断柱50，该隔断柱50位于隔断区A2，并且，如图1所示，隔断柱50包围开孔区A3。或者说，隔断区A2具有隔断柱50，该隔断柱50包围开孔区A3，并且，该隔断柱50位于封装层30和平坦化层40。并且，隔断柱50至少隔断封装层30和平坦化层40中的有机层。

基于此，可以避免水汽进入封装层30中的有机层，并通过封装层30中的有机层进一步扩散到发光阵列层20，影响发光阵列层20的显示效果。

本发明一些实施例中，如图3所示，图3为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图，显示面板还包括位于平坦化层40表面的触控电极层60，该触控电极层60由显示区A1延伸至隔断区A2。

需要说明的是，由于靠近开孔区A3的封装层30的表面是凹凸不平的，因此，本发明实施例中在封装层30的表面形成了平坦化层40，以便在平整的表面上形成触控电极层60，避免凹凸不平的表面影响触控电极层60中触控电极的触控性能。

但是，制作在平坦化层40表面的触控电极层60中的触控电极经常会出现容值偏大的问题，发明人研究发现，导致这一问题的主要原因是，开孔区A3内挖孔后，水汽会从孔内进入平坦化层40中的有机层，改变平坦化层40的介电特性，影响电容式触控电极的性能，导致触控电极层60中的触控电极出现容值偏大的问题。

基于此，本发明实施例中，通过使平坦化层40具有位于隔断区A2的隔断柱50，并且，在垂直于基板10的方向上，触控电极层60的投影与隔断柱50的投影至少部分不交叠，以通过隔断柱50隔断平坦化层40中位于触控电极层60底部的有机层和靠近开孔区A3的有机层，避免水汽从隔断柱50右侧的平坦化层40中的有机层进入隔断柱50左侧的平坦化层40中的有机层，从而避免水汽进入触控电极层60底部的平坦化层40中的有机层，影响触控电极层60底部的平坦化层40的介电特性，进而影响触控电极层60中触控电极的触控性能。

本发明一些实施例中，如图2所示，封装层30包括第一有机层301和第一无机层302，第一有机层301和第一无机层302在垂直于基板的方向上交替排布，平坦化层40包括第二有机层401。本发明一些实施例中，任一有机层位于相邻的两个无机层之间。如第一有机层301位于两个第一无机层302之间，第二有机层401表面还具有第二无机层402，第二有机层401位于第一无机层302和第二无机层402之间，以通过无机层隔绝水汽，避免水汽进入有机层，影响有机层的性能。

在此基础上，本发明实施例中，隔断柱50至少隔断封装层30中的有机层包括：隔断柱50至少将位于隔断柱50左侧的第一有机层301与隔断柱50右侧的有机层隔断，即隔断柱50左侧的第一有机层301与隔断柱50右侧的有机层完全断开，以避免水汽从隔断柱50右侧的有机层扩散到隔断柱50左侧的第一有机层301，影响第一有机层301的性能以及封装层30的封装效果。

隔断柱50至少隔断平坦化层40中的有机层包括：隔断柱50至少将位于隔断柱50左侧的第二有机层401与隔断柱50右侧的第二有机层401隔断，即隔断柱50左侧的第二有机层401与隔断柱50右侧的第二有机层401完全断开，以避免水汽从隔断柱50右侧的第二有机层401扩散到隔断柱50左侧的第二有机层401，影响第二有机层401的介电特性以及触控电极的触控效果。

当然，本发明并不仅限于此，在另一些实施例中，隔断柱50不仅隔断封装层30和平坦化层40中的有机层，而且隔断封装层30中的无机层。如图2所示，隔断柱50不仅隔断封装层30中的第一有机层301和平坦化层40中的第二有机层401，而且还隔断封装层30中的至少一层第一无机层302。如图4所示，图4为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图，隔断柱50隔断封装层30中的两层第一无机层302。

但是，需要说明的是，如图4所示，隔断柱50至少靠近显示区A1的一侧如左侧被无机层包裹，或者，如图2所示，隔断柱50顶部和侧面都被无机层包裹，以通过无机层隔绝水汽进入到隔断柱50中，避免水汽通过隔断柱50进入到显示区A1。

本发明一些实施例中，如图2所示，隔断柱50从封装层30底部延伸至平坦化层40顶部，或者说，隔断柱50从基板10顶部延伸至平坦化层40顶部，以通过同一隔断柱50同时隔断封装层30和平坦化层40中的有机层。并且，隔断柱50包括第一堆叠层501和包裹第一堆叠层501顶部和侧面的无机层500，其中，第一堆叠层501中的部分有机层与发光阵列层20中的有机层同层；无机层500与封装层30中的无机层同层。

本发明一些实施例中，显示区A1包括多个阵列排布的子像素，每个子像素都包括位于发光阵列层20中的驱动电路和发光器件，驱动电路至少包括驱动晶体管T，发光器件包括阳极F1、发光层F2和阴极F3。

如图2所示，第一堆叠层501中的第一个有机层5010与发光阵列层20中的栅极绝缘层201同层，该栅极绝缘层201位于驱动晶体管T的栅极和有源层之间，第一堆叠层501中的第二个有机层5011与发光阵列层20中的层间绝缘层202同层，该层间绝缘层202位于驱动晶体管T的栅极和源漏极之间，第一堆叠层501中的第三个有机层5012与发光阵列层20中的钝化层203同层，该钝化层203位于驱动晶体管T的源漏极和发光器件的阳极F1之间，第一堆叠层501中的第四个有机层5013与发光阵列层20中的平坦层204同层，该平坦层204位于阳极F1与阴极F3之间。

其中，栅极绝缘层201、层间绝缘层202、钝化层203和平坦层204均为有机层。并且，包裹第一堆叠层501顶部和侧面的无机层500与封装层30中的第一无机层302同层。如图2所示，第一堆叠层501左侧的部分无机层与一层第一无机层302同层，其他部分无机层与另一层第一无机层302同层。

需要说明的是，本发明实施例中的同层是指采用同一工艺形成的同一膜层。但是，本发明并不仅限于此，在另一些实施例中，包裹第一堆叠层501顶部和侧面的无机层500也可以采用单独的工艺或工序形成，在此不再赘述。

需要说明的是，本发明实施例中的阴极F3是整面蒸镀的，因此，第一堆叠层501中也可以包括阴极层，但是，本发明并不仅限于此，在任一实施例中，如图5所示，图5为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图，隔断柱50也可以将阴极F3隔断。需要说明的是，由于阴极F3的材料是金属而不是有机材料，因此，水汽对阴极F3的影响较小，即水汽不会从阴极F3扩散至显示区A1对显示效果产生影响。

还需要说明的是，第一堆叠层501还包括位于第四个有机层5013顶部的第五个有机层5014，该第五个有机层5014可以通过沉积等工艺形成，第五个有机层5014的材料可以与栅极绝缘层201、层间绝缘层202、钝化层203、平坦层204或显示面板中的支撑柱等的材料相同。

在本发明的任一实施例中，如图6所示，图6为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图，隔断区A2的基板10包括第一隔断槽101，第一隔断槽101位于隔断柱50和显示区A1之间，并且，如图7所示，图7为本发明另一实施例提供的隔断区A2和开孔区A3的俯视结构示意图，第一隔断槽101包围隔断柱50，以进一步避免水汽进入显示区A1，影响显示区A1的显示效果。

需要说明的是，本发明一些实施例中，如图6所示，基板10包括底层有机层102、中间无机层103、顶层有机层104和缓冲层105，其中，第一隔断槽101贯穿缓冲层105并延伸至顶层有机层104底部。

本发明另一些实施例中，如图8所示，图8为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图，隔断柱50包括第一隔断柱502和第二隔断柱503。第一隔断柱502至少隔断平坦化层40中的有机层；第二隔断柱503至少隔断封装层30中的有机层。

本发明一些实施例中，如图8所示，在垂直于基板10的方向上，第一隔断柱502的投影与第二隔断柱503的投影交叠，如第一隔断柱502形成在第二隔断柱503顶部，以使第一隔断柱502和第二隔断柱503共同构成隔断柱50。但是，本发明并不仅限于此，在另一些实施例中，在垂直于基板10的方向上，第一隔断柱502的投影与第二隔断柱503的投影也可以不交叠。

本发明一些实施例中，如图8所示，第二隔断柱503包括第二堆叠层5030和包裹第二堆叠层5030顶部和侧面的无机层5031。本发明一些实施例中，第二堆叠层5030中的部分有机层与发光阵列层20中的有机层同层，无机层5031与封装层30中的无机层如第一层第一无机层302同层。

如图8所示，第二堆叠层5030中的第一个有机层5031与发光阵列层20中的栅极绝缘层201同层，第二堆叠层5030中的第二个有机层5032与发光阵列层20中的层间绝缘层202同层，第二堆叠层5030中的第三个有机层5033与发光阵列层20中的钝化层203同层，第二堆叠层5030中的第四个有机层5034与发光阵列层20中的平坦层204同层。

本发明一些实施例中，如图8所示，第一隔断柱502包括第一隔断层5020和包裹第一隔断层5020顶部和侧面的无机层5021。无机层5021与封装层30中的无机层如第二层第一无机层302同层。

可选地，第一隔断层5020为有机层，并且，第一隔断层5020可以通过沉积等工艺形成。本发明一些实施例中，第一隔断层5020的材料包括显示面板中支撑柱的材料。当然，本发明并不仅限于此，在另一些实施例中，第一隔断层5020的材料可以与栅极绝缘层201、层间绝缘层202、钝化层203或平坦层204等的材料相同。

同样，如图8所示，第二隔断柱503至少将位于第二隔断柱503左侧的第一有机层301与第二隔断柱503右侧的有机层隔断，即第二隔断柱503左侧的第一有机层301与第二隔断柱503右侧的有机层完全断开，以避免水汽从第二隔断柱503右侧的有机层扩散到第二隔断柱503左侧的第一有机层301，影响第一有机层301的性能以及封装层30的封装效果。

第一隔断柱502至少将位于第一隔断柱502左侧的第二有机层401与第一隔断柱502右侧的第二有机层401隔断，即第一隔断柱502左侧的第二有机层401与第一隔断柱502右侧的第二有机层401完全断开，以避免水汽从第一隔断柱502右侧的第二有机层401扩散到第一隔断柱502左侧的第二有机层401，影响第二有机层401的介电特性以及触控电极的触控效果。

在此基础上，本发明的一些实施例中，如图9所示，图9为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图，隔断区A2的基板10包括第一隔断槽101，第一隔断槽101位于第二隔断柱503和显示区A1之间，并且，第一隔断槽101包围第二隔断柱503，以进一步避免水汽进入显示区A1，影响显示区A1的显示效果。

在此基础上，本发明的一些实施例中，如图10所示，图10为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图，在基板10所在平面上，第一隔断槽101的投影与第一隔断柱502的投影重叠。其中，平坦化层40还包括第三无机层403，如图10所示，包裹第一隔断层5020顶部和侧面的无机层5021与平坦化层40中的第三无机层403同层。

如图11所示，图11为本发明另一实施例提供的隔断区A2和开孔区A3的俯视结构示意图，第一隔断柱502包围开孔区A3，且第一隔断柱502位于显示区A1和第二隔断柱503之间。基于此，第一隔断槽101和第一隔断柱502可以共用同一掩膜板，从而不需要新增掩膜板来制作第一隔断柱502，进而可以降低制作成本。

需要说明的是，本发明实施例中是先采用掩膜板作为掩膜，对基板10表面的光刻胶进行曝光，并采用显影后的光刻胶作为掩膜对基板10进行刻蚀，来形成第一隔断槽101的，之后，再采用同一掩膜板作为掩膜，在有机层401表面沉积有机材料，来形成第一隔断柱502的。由于掩膜板镂空的区域是固定的，因此，第一隔断槽101和第一隔断柱502的位置是对应的，即在基板10所在平面上，第一隔断槽101的投影与第一隔断柱502的投影重叠。

本发明一些实施例中，如图12所示，图12为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图，隔断区A2的基板10还包括多个第二隔断槽106，多个第二隔断槽106位于第二隔断柱503和开孔区A3之间，第二隔断槽106包围开孔区A3，并且，多个第二隔断槽106在隔断区A2指向开孔区A3的方向上依次排列，以进一步隔绝水汽等，避免其进入显示区A1，影响显示效果。

在此基础上，本发明一些实施例中，如图13所示，图13为本发明另一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图，显示面板还包括多个第三隔断柱504，第三隔断柱504至少隔断平坦化层40中的有机层，如隔断第三隔断柱504左右两侧的第二有机层401，以进一步避免水汽进入显示区A1的第二有机层401，影响第二有机层401的介电特性和触控电极的触控性能。

如图14所示，图14为本发明另一实施例提供的隔断区A2和开孔区A3的俯视结构示意图，第三隔断柱504包围开孔区A3，并且，多个第三隔断柱504在隔断区A2指向开孔区A3的方向上依次排列。

本发明一些实施例中，在基板10所在平面上，第三隔断柱504的投影与第二隔断槽106的投影对应重叠。基于此，第一隔断槽101、第一隔断柱502、第二隔断槽106和第三隔断柱504共用同一掩膜版，以降低制作成本。

需要说明的是，本发明实施例中是先采用掩膜板作为掩膜，对基板10表面的光刻胶进行曝光，并采用显影后的光刻胶作为掩膜对基板10进行刻蚀，来形成第一隔断槽101和第二隔断槽106，之后，再采用同一掩膜板作为掩膜，在有机层401表面沉积有机材料，来形成第一隔断柱502和第三隔断柱504。即，第一隔断柱502和第三隔断柱504可以采用同一工艺同一材料形成，在此不再赘述。由于掩膜板镂空的区域是固定的，因此，第一隔断槽101和第一隔断柱502的位置是对应的，第二隔断槽106和第三隔断柱504的位置是对应的，即在基板10所在平面上，第一隔断槽101的投影与第一隔断柱502的投影重叠，第三隔断柱504的投影与第二隔断槽106的投影对应重叠。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上任一实施例提供的显示面板。如图15所示，图15为本发明一个实施例提供的显示装置的结构示意图，该显示装置P包括但不仅限于全面屏手机、平板电脑和数码相机等。

需要说明的是，本发明实施例中仅以显示面板为OLED显示面板为例进行说明，但是，本发明并不仅限于此，在另一些实施例中，显示面板还可以为LED显示面板或液晶显示面板等。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (11)

1.一种显示面板，其特征在于，包括显示区、隔断区和开孔区，所述隔断区包围所述开孔区，所述显示区至少部分包围所述隔断区；

所述显示面板包括：基板、依次位于所述基板表面的发光阵列层、封装层和平坦化层；所述发光阵列层仅位于所述显示区，所述封装层和所述平坦化层由所述显示区的发光阵列层表面延伸至所述隔断区的基板表面；

所述封装层和所述平坦化层均具有隔断柱；所述隔断柱位于所述隔断区，且所述隔断柱包围所述开孔区；所述平坦化层至少包括第二有机层；所述隔断柱至少隔断所述封装层和所述平坦化层中的有机层，包括：所述隔断柱至少将位于所述隔断柱左侧的第二有机层与所述隔断柱右侧的第二有机层隔断；

所述显示面板还包括位于所述平坦化层表面的触控电极层；所述触控电极层由所述显示区延伸至所述隔断区，且在所述基板所在平面上，所述触控电极层的投影与隔断柱的投影至少部分不交叠；

所述隔断柱包括第一隔断柱和第二隔断柱；所述第一隔断柱至少隔断所述平坦化层中的有机层；所述第二隔断柱至少隔断所述封装层中的有机层；

所述隔断区的基板包括第一隔断槽，所述第一隔断槽位于所述第二隔断柱和所述显示区之间，且所述第一隔断槽包围所述第二隔断柱；在所述基板所在平面上，所述第一隔断槽的投影与所述第一隔断柱的投影重叠。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述封装层包括第一有机层和第一无机层，所述第一有机层和所述第一无机层在垂直于所述基板的方向上交替排布；

并且，任一有机层位于相邻的两个无机层之间。

3.根据权利要求1~2任一项所述的显示面板，其特征在于，在垂直于所述基板的方向上，所述隔断柱贯穿所述封装层和所述平坦化层。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述隔断柱包括第一堆叠层和包裹所述第一堆叠层顶部和侧面的无机层；

所述第一堆叠层中的部分有机层与所述发光阵列层中的有机层同层；

所述无机层与所述封装层中的无机层同层。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二隔断柱包括第二堆叠层和包裹所述第二堆叠层顶部和侧面的无机层；

所述第二堆叠层中的部分有机层与所述发光阵列层中的有机层同层；

所述无机层与所述封装层中的无机层同层。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一隔断柱包括第一隔断层和包裹所述第一隔断层顶部和侧面的无机层；

所述无机层与所述平坦化层或所述封装层中的无机层同层。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第一隔断层的材料包括所述显示面板中支撑柱的材料。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔断区的基板还包括多个第二隔断槽，所述多个第二隔断槽位于所述第二隔断柱和所述开孔区之间；

所述第二隔断槽包围所述开孔区，并且，所述多个第二隔断槽在所述隔断区指向所述开孔区的方向上依次排列。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括多个第三隔断柱，所述第三隔断柱至少隔断所述平坦化层中的有机层；

所述第三隔断柱包围所述开孔区，并且，所述多个第三隔断柱在所述隔断区指向所述开孔区的方向上依次排列；

在所述基板所在平面上，所述第三隔断柱的投影与所述第二隔断槽的投影对应重叠。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述第一隔断槽、所述第一隔断柱、所述第二隔断槽和所述第三隔断柱共用同一掩膜版。

11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1~10任一项所述的显示面板。

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