CN111751193B - 一种玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元及染色机 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元及染色机，恒温染色仓单元包括染色腔，染色腔底部设有进排液孔或排液孔，所述染色腔内插设有玻片套，玻片套具有上部开口的、供玻片沿上下方向插入或取出的玻片腔，玻片腔的底部设有多个滤孔，滤孔用于供染色的反应液通过、对玻片碎渣阻拦。在使用过程中，玻片进行插入、取出的动作，玻片套是不动的，在使用一段时间后，如果有玻片的碎渣掉落，会沉积在玻片腔底部，可以定期将玻片套取下进行清理，进而避免堵塞进排液孔。
Description
技术领域
本发明涉及染色领域，具体涉及一种玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元及染色机。
背景技术
如申请公布号CN110286023A的发明专利公开的一种自动恒温高清染色装置，该装置设有若干个染色仓体单元，可以一次插入多个玻片，提高了效率。染色仓体单元内设有供玻片插入的染色腔，且设有玻片导槽，便于玻片插入、取出，操作方便。染色仓体单元底部设有进排液孔。但是在使用过程中发现了一个问题，染色仓体单元在经过在多次插、取玻片后，玻片会掉落玻璃碎渣并且经过积累后，会造成底部的进排液孔或排液孔堵塞，进排液孔或排液孔的位置及尺寸都使得不便于进行清理，维修很麻烦，影响用户的使用与体验。
发明内容
本发明的目的是提供一种玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元，以解决上述提到的染色仓底部排液孔在使用一段时间后容易堵塞的问题。同时，本发明还提供一种包括有该玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元的染色机。
为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：
一种玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元，包括染色腔，染色腔底部设有进排液孔或排液孔，所述染色腔内插设有玻片套，玻片套具有上部开口的、供玻片沿上下方向插入或取出的玻片腔，玻片腔的底部设有多个滤孔，滤孔用于供染色的反应液通过、对玻片碎渣或染液残渣阻拦。
进一步地，所述染色腔由与玻片套配套的矩形插孔及底部的V形槽构成，所述进排液孔或排液孔设置在V形槽的槽底。
进一步地，所述玻片套包括套体及位于套体上部两侧的凸耳。
进一步地，所述玻片套内于前后方向的间距大于玻片厚度，玻片套内于左右方向两侧均设有玻片导槽，用于对玻片宽度方向的两侧在玻片插入、取出导向，玻片导槽设有缺口，以形成液体平衡腔。
进一步地，所述玻片导槽底部高于玻片腔内的位于两个玻片导槽之间的腔底，玻片导槽底部用于支撑玻片，玻片腔内的位于两个玻片导槽之间的腔底部形成储渣槽。
进一步地，所述玻片套的前后侧壁均设有进出液凹槽，进出液凹槽由玻片套表面向内凹形成，进出液凹槽上设有多个通孔。
进一步地，所述玻片导槽的底部及所述储渣槽均设有所述的滤孔。
进一步地，所述恒温染色仓单元上部设有防止反应液溢出的防溢口，染色仓体单元上部于染色腔的一侧设有沉槽部，所述防溢口设置在该沉槽部；所述玻片套的侧壁设有第一溢流孔，以连通所述防溢口。
进一步地，所述玻片套的另一侧壁设有第二溢流孔，恒温染色仓单元上于防溢口的相对侧设有导流槽，导流槽收集由第二溢流孔排出的反应液，第二溢流孔的溢流位高于第一溢流孔的溢流位，以实现优先由第一溢流孔处溢流。
本发明的染色机采用如下技术方案：
染色机，包括壳体，壳体内设有如上述任一项所述的玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元。
本发明的有益效果：
本发明的恒温染色仓单元，在染色腔内插设有玻片套，玻片套供玻片插入，并供染色的反应液进入。染色的反应液能够从染色腔底部的进排液孔进入染色腔内，并经玻片套底部的滤孔进入玻片套内。在使用过程中，玻片进行插入、取出的动作，玻片套是不动的，在使用一段时间后，如果有玻片的碎渣掉落，会沉积在玻片腔底部，可以定期将玻片套取下进行清理，进而避免堵塞进排液孔。
进一步地，设有玻片导槽，便于玻片插入、取出，且对插入后的玻片起到定位作用。
进一步地，玻片下部由玻片导槽的底部支撑，玻片导槽的底部高于储渣槽的底部，当有少量沉积的碎渣或染色残渣时，也不影响正常的玻片插入，也不至于堵塞底部所以滤孔，进而也不影响染色使用；因此，减少了清理玻片套的频率。
进一步地，设置有第一溢流孔、第二溢流孔，正常情况下，溢出的反应液可以经第一溢流孔、防溢口排出；当防溢孔对应的通道也出现堵塞时，溢出的反应液还能通过第二溢流孔，流向导流槽，并集中收集，避免了污染设备台面等，用户可以继续使用一段时间。
附图说明
图1是包含有本发明的恒温染色仓单元的染色结构单元的示意图；
图2是图1中去除玻片套后的示意图；
图3是图2所示染色结构单元剖开后的示意图；
图4是图1中玻片套的结构示意图；
图5图1中玻片套的另一角度的结构示意图；
图6是是玻片套的剖开示意图；
图7是本发明恒温染色仓单元的断面示意图。
图中各标记对应的名称：
1、染色结构单元，2、恒温染色仓单元，20、安装槽，21、染色腔，211、矩形插孔，212、V形槽，22、防溢口，23、进排液孔，24、沉槽部，3、玻片套，30、套体，31、凸耳，32、玻片腔，33、通孔，34、第二溢流孔，35、第一溢流孔，36、玻片导槽，361、玻片导槽底部，37、滤孔，38、储渣槽，39、进出液凹槽，4、导流槽。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
本发明的实施例：
图1至7所示，一种玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元2，包括染色腔21，染色腔21底部设有进排液孔23，所述染色腔内插设有玻片套3，玻片套3具有上部开口的、供玻片沿上下方向插入或取出的玻片腔32。图1所示是一个染色结构单元1，设有一排共8个所述的恒温染色仓单元2。
染色腔21由与玻片套配套的矩形插孔211及底部的V形槽212构成，所述进排液孔23设置在V形槽的槽底。
玻片套3包括套体30及位于套体30上部两侧的凸耳31，套体整体外形呈矩形框，两个凸耳分别位于套体的宽度方向的两侧，宽度方向记为左右方向。凸耳可以供操作者手持，玻片套装入后，凸耳被支撑在染色腔的上部口沿。
染色腔的上部扩口设计，也即锥形扩口，是防止玻片插入后，玻片上的样本与染色腔的上部壁面接触而擦伤，便于玻片插入。
玻片套3内于前后方向的间距大于玻片厚度，玻片套内于左右方向两侧均设有玻片导槽36，用于对玻片宽度方向的两侧在玻片插入、取出导向。两个玻片导槽的开口相对，均是呈U形槽，上部开放、底部封闭。玻片导槽的前后内壁的间距与玻片厚度适配，起到导向作用，玻片套中间部分间距稍大些，便于玻片进出，并防止被刮掉玻片上的样本。
玻片导槽设有缺口(图中未示出)，以形成液体平衡腔。缺口也即在玻片导槽的上下方向某一处，也即玻片导槽为非连续导槽。设计该缺口，使得反应液在玻片前后两侧连通，以达到液体平衡。
玻片导槽底部361高于玻片腔内的位于两个玻片导槽之间的腔底，玻片导槽底部用于支撑玻片，玻片腔32内的位于两个玻片导槽之间的腔底部形成储渣槽38。
玻片腔的底部设有多个滤孔37，滤孔37用于供染色的反应液通过、对玻片碎渣阻拦。玻片导槽底部361及储渣槽38上均设有所述的滤孔37。
图4所示，玻片套3的前后侧壁均设有进出液凹槽39，进出液凹槽由玻片套表面向内凹形成，进出液凹槽仅是设置在玻片套的中下部位置，且向下是贯通的。进出液凹槽上设有多个通孔33，在前后方向贯穿玻片套的前后壁，通过设置该进出液凹槽，使得底部的进液既可通过上述的进排液孔，也可经由该进出液凹槽的通孔进入到玻片套内。因为考虑到如果仅是通过玻片套底部的滤孔进液较慢，因此需要增加进液孔，但玻片套与染色腔又是紧密配合的，必须设置该进出液凹槽39。上部的几排通孔的孔径可以稍大于下部的几排通孔的孔径。
染色的反应液能够从进排液孔23进入染色腔底部V形槽212，并经底部的滤孔37进入玻片套3内。在使用过程中，玻片进行插入、取出的动作，玻片套与染色腔是紧配合的，因此是不向外随动的，在使用一段时间后，如果有玻片的碎渣掉落或者染液残渣，会沉积在玻片腔底部的储渣槽38处，可以定期将玻片套取下进行清理，避免堵塞进排液孔。而且玻片导槽底部，对插入的玻片底部支撑，高于储渣槽的底部，因此有少量沉积的碎渣时，也不影响正常的玻片插入，也不至于堵塞底部的滤孔，进而也不影响染色使用。
恒温染色仓单元上部设有防止反应液溢出的防溢口22，染色仓体单元上部于染色腔的一侧设有沉槽部24，沉槽部24由上向下凹陷形成，且一侧与染色腔连通，防溢口22设置在该沉槽部。防溢口22向下贯通延伸形成防溢通道，防溢通道下部口形成排出口，排出口用于连接防溢管路。防溢管路上设有防溢阀和防溢泵，与背景技术中引用的专利类似，不再赘述。
玻片套3的侧壁设有第一溢流孔35，以连通所述防溢口22。在使用过程中，如有溢出，则染色的反应液会从第一溢流孔35溢出，流向防溢口22，经防溢通道流出，避免溢出的反应液污染设备台面等。
在使用过程中，防溢通道或防溢管路也有可能出现堵塞问题，为保证用户还能继续使用染色设备，进一步优化设计如下：
玻片套3的另一侧壁设有第二溢流孔34，恒温染色仓单元上于防溢口的相对侧设有导流槽4，导流槽4收集由第二溢流孔34溢出的反应液。导流槽将溢出的反应液，导流至收集箱等处。而且，第二溢流孔34的溢流位高于第一溢流孔35的溢流位，以实现优先由第一溢流孔35处溢流，也即第二溢流孔的孔底壁设置的稍高些，在防溢口、防溢通道正常使用时，第二溢流孔可不起作用。防溢通道或防溢管路也出现堵塞情况时，溢出的反应液还可以经第二溢流孔、导流槽排出并集中收集。
染色仓体单元的染色腔的内表面及玻片套内壁是经过处理的，设有不沾涂层，如铁氟龙涂层，便于清洗，使得染色反应液之间间及样本间不易产生交叉污染。
染色结构单元侧壁设置有用于安装可控恒温加热模块的安装槽20，实现恒温加热，这个也属于背景技术中引用专利中的内容。
上述实施例中，进液和排液都是通过进排液孔这一个孔，一口多功能；其他实施例中，可单独设置进液孔和排液孔，将进液孔设置在染色腔上部的某一位置，将排液孔设置在染色腔底部。
本发明染色机的实施例：
染色机，包括壳体，壳体内设有如上述所述的玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元，或者设置1个或若干个染色结构单元，设有若干排多个所述的恒温染色仓单元。染色机的工作原理不再赘述，类似于本申请背景技术所引用专利的内容。
本发明不局限于上述最佳实施方式，任何人在本发明的启示下都可得出其他各种形式的产品，但不论在其形状或结构上作任何变化，凡是具有与本申请相同或相近似的技术方案，均落在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元，包括染色腔，染色腔底部设有进排液孔或排液孔，其特征在于：所述染色腔内插设有玻片套，玻片套具有上部开口的、供玻片沿上下方向插入或取出的玻片腔，玻片腔的底部设有多个滤孔，滤孔用于供染色的反应液通过、对玻片碎渣或染液残渣阻拦。
2.根据权利要求1所述的玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元，其特征在于：所述染色腔由与玻片套配套的矩形插孔及底部的V形槽构成，所述进排液孔或排液孔设置在V形槽的槽底。
3.根据权利要求1所述的玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元，其特征在于：所述玻片套包括套体及位于套体上部两侧的凸耳。
4.根据权利要求1所述的玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元，其特征在于：所述玻片套内于前后方向的间距大于玻片厚度，玻片套内于左右方向两侧均设有玻片导槽，用于对玻片宽度方向的两侧在玻片插入、取出导向，玻片导槽设有缺口，以形成液体平衡腔。
5.根据权利要求4所述的玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元，其特征在于：所述玻片导槽底部高于玻片腔内的位于两个玻片导槽之间的腔底，玻片导槽底部用于支撑玻片，玻片腔内的位于两个玻片导槽之间的腔底部形成储渣槽。
6.根据权利要求4所述的玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元，其特征在于：所述玻片套的前后侧壁均设有进出液凹槽，进出液凹槽由玻片套表面向内凹形成，进出液凹槽上设有多个通孔。
7.根据权利要求5所述的玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元，其特征在于：所述玻片导槽的底部及所述储渣槽均设有所述的滤孔。
8.根据权利要求1所述的玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元，其特征在于：所述恒温染色仓单元上部设有防止反应液溢出的防溢口，染色仓体单元上部于染色腔的一侧设有沉槽部，所述防溢口设置在该沉槽部；所述玻片套的侧壁设有第一溢流孔，以连通所述防溢口。
9.根据权利要求8所述的玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元，其特征在于：所述玻片套的另一侧壁设有第二溢流孔，恒温染色仓单元上于防溢口的相对侧设有导流槽，导流槽收集由第二溢流孔排出的反应液，第二溢流孔的溢流位高于第一溢流孔的溢流位，以实现优先由第一溢流孔处溢流。
10.染色机，其特征在于：包括壳体，壳体内设有如权利要求1至9任一项所述的玻片正立半浸固定式恒温染色仓单元。
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