CN111687113A - 一种光刻胶涂胶托盘的清洁装置及方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种光刻胶涂胶托盘的清洁装置及方法，所述清洁装置包括清洁盘、承片台、清洁液喷洒机构、调节旋转机构；所述清洁盘设置在所述承片台上，所述清洁盘的正面与所述承片台接触，所述清洁盘的背面朝上；所述清洁液喷洒机构设置在所述承片台外部，所述清洁液喷洒机构包括第一喷头和第二喷头，第一喷头设置在承片台外部，第一喷头的喷头朝向所述清洗盘背面，所述第二喷头的一端连接有机械手臂，机械手臂位于清洁盘背面上方的中心处，第二喷头的喷头朝向清洗盘背面；所述调节旋转机构安装在所述承片台底端，用于驱动所述承片台转动并调节转速，本发明提高了对光刻胶涂胶托盘的清洗效果，缩短了清洗时间。

Description

一种光刻胶涂胶托盘的清洁装置及方法

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，尤其涉及一种光刻胶涂胶托盘的清洁装置及方法。

背景技术

随着微电子制造的重要性愈发凸显，光刻工艺作为微电子制造的关键一环，技术不断地创新与发展，对光刻工艺的要求也随之升高。光刻工艺包括涂胶工艺、曝光工艺、显影工艺。涂胶工艺作为光刻工艺的基础，在产线中使用频率很高，因此涂胶托盘的清洗也十分重要。

目前主流的涂胶托盘的清洗设备，针对常见的三层与四层托盘有不同的设计，清洗的工艺也不同，对设备的日常维护管理造成了不便。

现有技术中，专利申请号为201920861749.3，专利名称为“一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘”，该自清洁涂胶装置包含保护罩上盖、保护罩底座、承片托盘、清洗装置、真空吸附系统、驱动电机和转轴。承片托盘内部径向方向开设斜向上管道，用于喷射清洗液，承片托盘在旋转过程中能够对保护罩侧壁进行充分清洗；清洗装置包括清洗液供给装置和清洗液管；清洗液管与承片托盘底部相连。保护罩上盖侧壁在对应晶圆及其上方区域为圆弧形，用于改变光刻胶溅射方向，解决胶面彗尾等问题；承片托盘内部开设斜向上清洗液通道用于喷涂清洗液，全面清洗保护罩内壁；保护罩底部侧壁为圆弧斜坡形，易于排出清洗后废液，操作简单。整个装置复杂度低，成本低廉。

针对涂胶托盘的清洗工艺，目前主流的方式为采用单一的光阻稀释剂喷洒清洗，有效清洗区域局限在涂胶托盘中上或者中下，有很大的局限性，为了补偿清洗部位的缺陷，通过延长清洗时间的方式补偿，这也影响了设备的运行时间。

因此，有必要提供一种新型的光刻胶涂胶托盘的清洁装置及方法以解决现有技术中存在的上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光刻胶涂胶托盘的清洁装置及方法，提高了对光刻胶涂胶托盘的清洗效果，缩短了清洗时间，可有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本发明的所述一种光刻胶涂胶托盘的清洁装置，包括清洁盘、承片台、清洁液喷洒机构、调节旋转机构；

所述清洁盘设置在所述承片台上，所述清洁盘的正面与所述承片台接触，所述清洁盘的背面朝上；

所述清洁液喷洒机构设置在所述承片台外部，所述清洁液喷洒机构包括第一喷头和第二喷头，所述第一喷头设置在所述承片台外部，且所述第一喷头的喷头朝向所述清洗盘背面，所述第二喷头的一端连接有机械手臂，所述机械手臂位于所述清洁盘背面上方的中心处，所述第二喷头的喷头朝向所述清洗盘背面；

所述调节旋转机构安装在所述承片台底端，用于驱动所述承片台转动并调节转速。

本发明的有益效果在于：通过可自由调节转速的调节旋转机构，当清洁盘放置在承片台上的时候，通过改变调节旋转机构的转速带动承片台和清洁盘以不同的转速旋转，从而提高清洁盘上的清洁液对周围的涂胶托盘的清洁效果，缩短清洁时间，同时可以实现对涂胶托盘上中下部位的全方位覆盖，通过转速调整实现对涂胶托盘不同区域的补偿清洗，进一步提高整体的清洁效果。

优选的，所述清洁盘的背面包括相邻接触的中心圆形区和外圈环形区。

优选的，所述中心圆形区的直径范围是20-200mm，厚度是0.1-10mm。

优选的，所述外圈环形区为聚合物材质，所述中心圆形区采用硬度不小于蓝宝石的材料。

采用上述材料的中心圆形区具有较大的硬度，使得整个清洁盘表面真空吸附后容易发生形变的情况，而且聚合物材质的外圈环形区使得整个清洁盘具备一定的柔韧性，避免了整个清洁盘因为高硬度而出现易碎的问题。

优选的，所述外圈环形区靠近外边缘处设置有凸起环形区，所述凸起环形区表面分布有多个凸起颗粒。

在进行清洁的时候，多个凸起颗粒将清洁液打散雾化，并随着气流能够运动到更远的部位，从而对设备中的涂胶托盘起到更好的清洁作用。

优选的，所述凸起颗粒表面为光滑结构或磨砂结构。

优选的，所述凸起颗粒的直径为0.1-5mm，所述凸起环形区的宽度为5-40mm。

优选的，所述清洁盘的正面的外边缘设置有环形凸台结构，所述环形凸台结构上设置有多个倾斜孔道。

其中环形凸台结构用于阻挡部分清洁液，并将其引入到倾斜孔道中，从而将清洁液通过倾斜孔道流入到涂胶托盘更靠下的位置，提高清洁液对涂胶托盘的清洁效果。

优选的，所述倾斜孔道向下倾斜且指向所述清洁盘外部。

优选的，所述倾斜孔道在所述环形凸台结构上均匀分布，相邻的所述倾斜孔道之间在所述清洁盘上的分布角度为5-60°。

优选的，所述承片台上还安装有吸盘，所述吸盘将所述清洁盘吸附在所述承片台上。

优选的，所述调节旋转机构为伺服电机。

本发明还提供了一种光刻胶涂胶托盘的清洁方法，包括如下步骤：

将清洁盘吸附在承片台上，通过调节旋转机构使所述承片台以第一转速转动；

开启清洁液喷洒机构在所述清洁盘上喷洒清洁液，并通过调节旋转机构带动所述承片台转动；

关闭清洁液喷洒机构停止喷洒清洁液，并通过所述调节旋转机构带动所述承片台以第二转速转动，将所述清洁盘表面的溶液甩干，并解除所述清洁盘和所述承片台的吸附，完成清洗。

本发明的有益效果在于：通过上述的清洁方法，在清洁液喷洒在清洁盘上之后，通过不断切换承片台的转速，使得清洁液可以快速流动到每一层涂胶托盘上对涂胶托盘进行清洁，有效提高了清洁效果，缩短了清洁时间。

优选的，所述第一转速和第二转速的转速区间为300-1000rpm，转动时间均为2-20s。

优选的，所述开启清洁液喷洒机构在所述清洁盘上喷洒清洁液，并通过调节旋转机构带动所述承片台转动的过程包括：

同时开启所述清洁液喷洒机构的第一喷头和第二喷头，分别喷出第一清洁液和第二清洁液在所述清洁盘上；

在喷洒清洁液的同时，通过调节旋转机构带动所述承片台在第三转速和第五转速之间定时切换。

通过上述转速切换方式，可以将喷出的第一清洁液和第二清洁液充分混合在清洁盘上，提高清洁效果。

优选的，所述第三转速的转速区间为300-1000rpm，所述第五转速的转速区间为20-300rpm，所述第三转速和所述第五转速的转动时间为2-20s，所述第三转速和所述第五转速之间的切换频次为4-20次。

优选的，所述开启清洁液喷洒机构在所述清洁盘上喷洒清洁液，并通过调节旋转机构带动所述承片台转动的过程还包括：

开启所述清洁液喷洒机构的第一喷头，喷出第一清洁液在所述清洁盘表面，并通过所述调节旋转机构带动所述承片台在第三转速和第五转速之间定时切换；

关闭第一喷头，开启第二喷头并喷出第二清洁液在所述清洁盘表面，通过所述调节旋转机构带动所述承片台在第四转速和第六转速之间定时切换。

优选的，所述第四转速的转速区间为300-1000rpm，所述第六转速的转速区间为20-300rpm，所述第四转速和所述第六转速的转动时间为2-20s，所述第四转速和所述第六转速之间的切换频次为4-20次。

附图说明

图1为本发明的清洁装置整体结构示意图；

图2为本发明的清洁盘的背面俯视结构示意图；

图3为本发明的清洁盘的正面俯视结构示意图；

图4为本发明的凸台结构部分截面结构示意图；

图5为本发明的清洁盘的背面的立体结构示意图；

图6为本发明的清洁盘的正面的立体结构示意图；

图7为本发明的清洁装置清洗三层涂胶托盘的结构示意图；

图8为本发明的清洁装置清洗四层涂胶托盘的结构示意图；

图9为本发明的清洁方法工作流程示意图。

图中标号：

1-清洁盘；

101-中心圆形区；

102-外圈环形区；1021-凸起环形区；1022-凸起颗粒；

103-环形凸台结构；

104-倾斜孔道；

2-承片台；

3-清洁液喷洒机构；301-第一喷头；302-第二喷头；303-机械手臂；

4-调节旋转机构；5-吸盘；6-三层第一层涂胶托盘、7-三层第二层涂胶托盘；8-三层第三层涂胶托盘；9-四层第一层涂胶托盘；10-四层第二层涂胶托盘；11-四层第三层涂胶托盘；12-四层第四层涂胶托盘。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。除非另外定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本文中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。

针对现有技术存在的问题，如图1至图6所示，本发明的实施例提供了一种光刻胶涂胶托盘的清洁装置，包括清洁盘1、承片台2、清洁液喷洒机构3、调节旋转机构4；

所述清洁盘1设置在所述承片台2上，所述清洁盘1的正面与所述承片台2接触，所述清洁盘1的背面朝上。

在一种可能的实施方式中，所述清洁盘1的背面包括相邻接触的中心圆形区101和外圈环形区102。

进一步的，所述中心圆形区101的直径范围是20-200mm，厚度是0.1-10mm。

在一种可能的实施方式中，所述外圈环形区102为聚合物材质，所述中心圆形区101采用硬度不小于蓝宝石的材料。

优选的，外圈环形区102采用的材料为PPS，中心圆形区101采用的材料是蓝宝石材料。

采用上述材料的中心圆形区101具有较大的硬度，使得整个清洁盘1表面真空吸附后容易发生形变的情况，而且聚合物材质的外圈环形区102使得整个清洁盘1具备一定的柔韧性，避免了整个清洁盘1因为高硬度而出现易碎的问题。

在一种可能的实施方式中，所述外圈环形区102靠近外边缘处设置有凸起环形区1021，所述凸起环形区1021表面分布有多个凸起颗粒1022。

在进行清洁的时候，多个凸起颗粒1022将清洁液打散雾化，并随着气流能够运动到更远的部位，从而对设备中的涂胶托盘起到更好的清洁作用。

进一步的，所述凸起颗粒1022表面为光滑结构或磨砂结构。

更进一步的，所述凸起颗粒1022的直径为0.1-5mm，，所述凸起环形区1021的宽度为5-40mm。

在一种可能的实施方式中，所述清洁盘1的正面的外边缘设置有环形凸台结构103，所述环形凸台结构103上设置有多个倾斜孔道104。

其中环形凸台结构103用于阻挡部分清洁液，并将其引入到倾斜孔道104中，从而将清洁液通过倾斜孔道104流入到涂胶托盘更靠下的位置，提高清洁液的清洁效果。

优选的，倾斜孔道的直径为0.5-3mm，保证清洁液在倾斜孔道104内部的流速稳定。

在一种可能的实施方式中，所述倾斜孔道104向下倾斜且指向所述清洁盘1外部。

在一种可能的实施方式中，所述倾斜孔道104在所述环形凸台结构103上均匀分布，相邻的所述倾斜孔道104之间在所述清洁盘1上的分布角度为5-60°。

所述清洁液喷洒机构3设置在所述承片台2外部，所述清洁液喷洒机构3包括第一喷头301和第二喷头302，所述第一喷头301设置在所述承片台2外部，且所述第一喷头301的喷头朝向所述清洗盘1背面，所述第二喷头302的一端连接有机械手臂303，所述机械手臂303位于所述清洁盘1背面上方的中心处，所述第二喷头302的喷头朝向所述清洗盘1背面。

进一步的，第一喷头301位于清洁盘1背面靠近外边缘的位置，而第二喷头302位于清洁盘1背面上方的中心处。

更进一步的，在本实施例中，第一喷头301为BSR喷头，用于喷出BSR溶液，是一种光阻稀释剂，主要成分为丙二醇单甲醚和二醇单甲醚醋酸酯；而第二喷头302为RRC喷头，用于喷出RRC溶液，是一种光阻稀释剂，主要成分为丙二醇单甲醚和二醇单甲醚醋酸酯。

所述调节旋转机构4安装在所述承片台2底端，用于驱动所述承片台2转动并调节转速。

在一种可能的实施方式中，所述承片台2上还安装有吸盘5，所述吸盘5将所述清洁盘1吸附在所述承片台2上。

通过吸盘5将清洁盘1吸附在承片台2上，保证清洁盘1的稳定，优选的为真空吸盘。

在一种可能的实施方式中，所述调节旋转机构4为伺服电机。

需要说明的是，本方案中的调节旋转机构4的作用是为了带动承片台2转动并调节转速，能够实现转动并调节的现有技术中的旋转装置均可以应用于本方案中，本方案的调节旋转机构4包括但不限于上述伺服电机。

本发明的有益效果在于：通过可自由调节转速的调节旋转机构，当清洁盘放置在承片台上的时候，通过改变调节旋转机构的转速带动承片台和清洁盘以不同的转速旋转，从而提高清洁盘上的清洁液对周围的涂胶托盘的清洁效果，缩短清洁时间，同时可以实现对涂胶托盘上中下部位的全方位覆盖，进一步提高整体的清洁效果。

如图9所示，本发明还提供了一种光刻胶涂胶托盘的清洁方法，包括如下步骤：

S1、将清洁盘1吸附在承片台2上，通过调节旋转机构4使所述承片台2以第一转速转动；

S2、开启清洁液喷洒机构3在所述清洁盘1上喷洒清洁液，并通过调节旋转机构4带动所述承片台2转动；

S3、关闭清洁液喷洒机构3停止喷洒清洁液，并通过所述调节旋转机构4带动所述承片台2以第二转速转动，将所述清洁盘1表面的溶液甩干，并解除所述清洁盘1和所述承片台2的吸附，完成清洗。

在一种可能的实施方式中，所述第一转速和第二转速的转速区间为300-1000rpm，转动时间均为2-20s。

在一种可能的实施方式中，所述开启清洁液喷洒机构3在所述清洁盘1上喷洒清洁液，并通过调节旋转机构4带动所述承片台2转动的过程包括：

同时开启所述清洁液喷洒机构3的第一喷头301和第二喷头302，分别喷出第一清洁液和第二清洁液在所述清洁盘1上，进一步的，在本实施例中，第一喷头301为BSR喷头，用于喷出BSR溶液，是一种光阻稀释剂，主要成分为丙二醇单甲醚和二醇单甲醚醋酸酯；而第二喷头302为RRC喷头，用于喷出RRC溶液，是一种光阻稀释剂，主要成分为丙二醇单甲醚和二醇单甲醚醋酸酯。

在喷洒清洁液的同时，通过调节旋转机构4带动所述承片台2在第三转速和第五转速之间定时切换。

通过上述的清洁方法，在清洁液喷洒在清洁盘1上之后，通过不断切换承片台2的转速，使得清洁液可以快速流动到每一层涂胶托盘上对涂胶托盘进行清洁，提高了清洁效果，缩短了清洁时间。

在一种可能的实施方式中，所述第三转速的转速区间为300-1000rpm，所述第五转速的转速区间为20-300rpm，所述第三转速和所述第五转速的转动时间为2-20s，所述第三转速和所述第五转速之间的切换频次为4-20次。

其中通过调节旋转机构4带动所述承片台2在第三转速和第五转速之间定时切换的方式，使得清洁液能够更加均匀的流入到待清洁的涂胶托盘中，提高清洁效果。

在一种可能的实施方式中，所述开启清洁液喷洒机构3在所述清洁盘1上喷洒清洁液，并通过调节旋转机构4带动所述承片台2转动的过程还包括：

开启所述清洁液喷洒机构3的第一喷头301，喷出第一清洁液在所述清洁盘1表面，并通过所述调节旋转机构带动所述承片台2在第三转速和第五转速之间定时切换；

关闭第一喷头301，开启第二喷头302并喷出第二清洁液在所述清洁盘1表面，通过所述调节旋转机构4带动所述承片台2在第四转速和第六转速之间定时切换。

在一种可能的实施方式中，所述第四转速的转速区间为300-1000rpm，所述第六转速的转速区间为20-300rpm，所述第四转速和所述第六转速的转动时间为2-20s，所述第四转速和所述第六转速之间的切换频次为4-20次。

其中本方案的清洁液均采用光阻稀释剂。

在一实施例中，本清洁系统及方法分别应用在三层和四层涂胶托盘的清洁过程中，如图7和图8所示，图7为三层涂胶托盘的清洁过程示意图，由内到外分别包括三层第一层涂胶托盘6、三层第二层涂胶托盘7和三层第三层涂胶托盘8，图8为四层涂胶托盘的清洁装置示意图，由内到外分别包括四层第一层涂胶托盘9、四层第二层涂胶托盘10、四层第三层涂胶托盘11和四层第四层涂胶托盘12。

将三层、四层涂胶托盘内侧均匀涂上同一种光刻胶，光刻胶要求颜色与涂胶托盘本身有高对比性；在前道涂胶设备上分别安装三层、四层涂胶托盘；分别使用本发明设计的清洁装置、主流款式清洁装置进行清洗；执行完清洗过程后，对涂胶托盘内侧残留的光刻胶高度进行测量对比，包括整体的清洗工艺时间、托盘上半部分的有效清洁面积占比、托盘的下半部分的有效清洁面积占比。并检查清洁装置的装置形变情况。

其具体对比情况如下表所示。

表1不同设备清洗效率及工艺时间对比

结合上述对比数据可知，本方案中的清洁装置及方法有效解决了现有技术中的涂胶托盘清洁装置兼容性差、真空吸附后容易变形的问题，有效增强了涂胶托盘的清洁效果，缩短了整个清洁工艺的时间。

虽然在上文中详细说明了本发明的实施方式，但是对于本领域的技术人员来说显而易见的是，能够对这些实施方式进行各种修改和变化。但是，应理解，这种修改和变化都属于权利要求书中所述的本发明的范围和精神之内。而且，在此说明的本发明可有其它的实施方式，并且可通过多种方式实施或实现。

Claims (18)

1.一种光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，包括清洁盘、承片台、清洁液喷洒机构、调节旋转机构；

所述清洁盘设置在所述承片台上，所述清洁盘的正面与所述承片台接触，所述清洁盘的背面朝上；

所述清洁液喷洒机构设置在所述承片台外部，所述清洁液喷洒机构包括第一喷头和第二喷头，所述第一喷头设置在所述承片台外部，且所述第一喷头的喷头朝向所述清洗盘背面，所述第二喷头的一端连接有机械手臂，所述机械手臂位于所述清洁盘背面上方的中心处，所述第二喷头的喷头朝向所述清洗盘背面；

所述调节旋转机构安装在所述承片台底端，用于驱动所述承片台转动并调节转速。

2.根据权利要求1所述的光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，所述清洁盘的背面包括相邻接触的中心圆形区和外圈环形区。

3.根据权利要求2所述的光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，所述中心圆形区的直径范围是20-200mm，厚度是0.1-10mm。

4.根据权利要求2所述的光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，所述外圈环形区为聚合物材质，所述中心圆形区采用硬度不小于蓝宝石的材料。

5.根据权利要求2所述的光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，所述外圈环形区靠近外边缘处设置有凸起环形区，所述凸起环形区表面分布有多个凸起颗粒。

6.根据权利要求5所述的光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，所述凸起颗粒表面为光滑结构或磨砂结构。

7.根据权利要求5所述的光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，所述凸起颗粒的直径为0.1-5mm，所述凸起环形区的宽度为5-40mm。

8.根据权利要求1所述的光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，所述清洁盘的正面的外边缘设置有环形凸台结构，所述环形凸台结构上设置有多个倾斜孔道。

9.根据权利要求8所述的光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，所述倾斜孔道向下倾斜且指向所述清洁盘外部。

10.根据权利要求8或9所述的光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，所述倾斜孔道在所述环形凸台结构上均匀分布，相邻的所述倾斜孔道之间在所述清洁盘上的分布角度为5-60°。

11.根据权利要求1所述的光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，所述承片台上还安装有吸盘，所述吸盘将所述清洁盘吸附在所述承片台上。

12.根据权利要求1所述的光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，所述调节旋转机构为伺服电机。

13.一种光刻胶涂胶托盘的清洁方法，其特征在于，包括如下步骤：

将清洁盘吸附在承片台上，通过调节旋转机构使所述承片台以第一转速转动；

开启清洁液喷洒机构在所述清洁盘上喷洒清洁液，并通过调节旋转机构带动所述承片台转动；

关闭清洁液喷洒机构停止喷洒清洁液，并通过所述调节旋转机构带动所述承片台以第二转速转动，将所述清洁盘表面的溶液甩干，并解除所述清洁盘和所述承片台的吸附，完成清洗。

14.根据权利要求13所述的光刻胶涂胶托盘的清洁方法，其特征在于，所述第一转速和第二转速的转速区间为300-1000rpm，转动时间均为2-20s。

15.根据权利要求13所述的光刻胶涂胶托盘的清洁方法，其特征在于，所述开启清洁液喷洒机构在所述清洁盘上喷洒清洁液，并通过调节旋转机构带动所述承片台转动的过程包括：

同时开启所述清洁液喷洒机构的第一喷头和第二喷头，分别喷出第一清洁液和第二清洁液在所述清洁盘上；

在喷洒清洁液的同时，通过调节旋转机构带动所述承片台在第三转速和第五转速之间定时切换。

16.根据权利要求15所述的光刻胶涂胶托盘的清洁方法，其特征在于，所述第三转速的转速区间为300-1000rpm，所述第五转速的转速区间为20-300rpm，所述第三转速和所述第五转速的转动时间为2-20s，所述第三转速和所述第五转速之间的切换频次为4-20次。

17.根据权利要求13所述的光刻胶涂胶托盘的清洁方法，其特征在于，所述开启清洁液喷洒机构在所述清洁盘上喷洒清洁液，并通过调节旋转机构带动所述承片台转动的过程还包括：

开启所述清洁液喷洒机构的第一喷头，喷出第一清洁液在所述清洁盘表面，并通过所述调节旋转机构带动所述承片台在第三转速和第五转速之间定时切换；

关闭第一喷头，开启第二喷头并喷出第二清洁液在所述清洁盘表面，通过所述调节旋转机构带动所述承片台在第四转速和第六转速之间定时切换。

18.根据权利要求17所述的光刻胶涂胶托盘的清洁方法，其特征在于，所述第四转速的转速区间为300-1000rpm，所述第六转速的转速区间为20-300rpm，所述第四转速和所述第六转速的转动时间为2-20s，所述第四转速和所述第六转速之间的切换频次为4-20次。

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