CN111663610A - 盥洗场所布置结构 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种盥洗场所布置结构，包括：具有盥洗盆水槽的盥洗台；包括多个排水喷嘴的第一排水装置，所述多个排水喷嘴布置在盥洗盆水槽中的喷嘴分配区域内并构造成以喷泉射流形式排出水，喷泉射流以弧形状从盥洗盆水槽向上流出；以及第二排水装置，其构造成以花洒射流形式排出水并且包括花洒射流出口主体。根据本发明，第一排水装置的喷嘴分配区域位于盥洗盆水槽的背对用户侧的后半部中，且最多跨水槽圆周的一半延伸。第二排水装置的花洒射流出口主体位于盥洗盆水槽和盥洗台的背对用户侧的后侧上，且在盥洗盆水槽和盥洗台上方的一定高度水平上。第二排水装置被构造成用于沿朝向前方倾斜地向下指向的花洒射流方向排出。一种用于浴室设置的用途。

Description

盥洗场所布置结构

技术领域

本发明涉及一种盥洗场所布置结构，该盥洗场所布置结构包括：盥洗台，其具有盥洗盆水槽；第一排水装置，其包括多个排水喷嘴，所述多个排水喷嘴布置在盥洗盆水槽中的喷嘴分配区域内并且被构造成用于以喷泉射流的形式排出水，该喷泉射流通过直到最大高度的向上部分以弧形式从盥洗盆水槽向上流出，并且通过向下部分向下返回到盥洗盆水槽；以及第二排水装置，其被构造成用于以花洒射流的形式排出水并且具有花洒射流出口主体。盥洗场所布置结构可例如定位在浴室中。在盥洗台处，用户可盥洗或执行各种其他身体护理措施。

背景技术

在专利公开US 7,155,759 B2和US 7,461,419 B2中公开了最初引用的类型的盥洗场所布置结构。在其中所公开的盥洗场所布置结构中，用于排出喷泉射流的排水喷嘴由盥洗盆水槽中的排水开口形成，所述排水开口以优选地不规则的图案布置在整个水槽上，或者在任何情况下在水槽的整个圆周上布置在水槽的上部区域中。排水喷嘴（具有其相关联的单独射流装置）全部都朝向盥洗盆水槽的中心区域定向，以便给出圆屋顶形的喷泉射流。关于盥洗台的面向用户的前侧（即，在这种情况下，前侧被定义为用户在他希望使用盥洗场所布置结构时通常站立以便正确使用的那一侧），呈手握式花洒形式的第二排水装置布置在盥洗台的在靠近盥洗盆水槽的那一侧处的侧部区域中，优选地连接到柔性软管并且具有被构造成提供高速花洒射流的球形花洒射流出口主体。

发明内容

本发明基于以下技术问题：提供最初引用的类型的盥洗场所布置结构，该盥洗场所布置结构提供了优于上文提到的现有技术的显著优势，特别是在其排水性质及其可能的应用和应用性质方面。

本发明通过提供具有权利要求1的特征的盥洗场所布置结构来解决这个问题。在该盥洗场所布置结构中，第一排水装置的喷嘴分配区域位于盥洗盆水槽的背对用户侧的后半部中，并且最多跨水槽圆周的一半延伸。第二排水装置的花洒射流出口主体位于盥洗盆水槽和盥洗台的背对用户侧的后侧上，并且在盥洗盆水槽和盥洗台上方的一定高度处，其中，第二排水装置被构造成用于沿朝向前方倾斜地向下指向的花洒射流方向排出花洒射流。

两个排水装置的这种特殊组合以及特定的喷泉射流和特定的花洒射流（其中花洒射流方向朝向前方倾斜地向下指向）的所得到的特殊组合给予根据本发明的盥洗场所布置结构对于许多应用来说极为有利的排水性质。第一排水装置的喷嘴分配区域在盥洗盆水槽的背离用户侧的后半部中的特殊定位以及该喷嘴分配区域在水槽圆周的最多一半上的有限延伸允许第一排水装置沿朝向用户的盥洗盆水槽和盥洗台的前面的方向提供相对有针对性的和/或良好成束的喷泉射流。特别地，借助于该喷嘴分配区域或布置在其中的排水喷嘴，喷泉射流可以设置有朝向用户指向的射流方向分量。喷嘴分配区域优选地由带状水槽区域形成，该带状水槽区域沿水槽周向方向具有更大范围（即更长的带长度）以及与其垂直的更短范围（即更小的带宽度）。与所述常规的圆屋顶状喷泉射流相比，在当前情况下，喷泉射流可提供这样的水流，即该水流在其射流路线上更加局部化并且使盥洗盆水槽的较大区域不受水流影响，使得用户在该区域中行动时不会不必要地或不期望地变湿。在分配水的区域中，喷泉射流在其射流路线上可具有相对密集的水流，用户可以将该水流有效地用于相应的应用。喷泉射流与常规的洪流射流以及使用出口配件（具有在水槽上方终止的出口管）的其他常规排水射流的不同之处在于：其路线以抛物线形式倾斜地向上且然后倾斜地向下指向；以及其由排水喷嘴喷出的大量单独射流的组合物。

根据需要，第一排水装置和第二排水装置可单独地或一起被激活，即，用户具有以下选项：针对他的应用仅使用喷泉射流、仅使用花洒射流或两种射流组合使用，以及针对他的各种应用使用相应的优化射流类型，所述各种应用诸如是洗手、洗脸、清洁牙齿、用水填充大口杯或类似物、盥洗或漂洗物体、洗头、胡须清洁等。由于在本盥洗场所布置结构中，盥洗盆水槽上的水出口管不是绝对需要的，因此对于用户的盥洗应用来说（例如，当洗头或清洁胡须时对于头来说），用户在盥洗盆水槽上具有不受阻碍的空间。

在本发明的改进中，第一排水装置和第二排水装置被构造成使得：当两个排水装置都有效时，花洒射流在喷泉射流的向上部分中撞击喷泉射流。这提供了两个排水装置的对于许多应用（对于其中仅喷泉射流抑或仅花洒射流有效的应用，或者在喷泉射流和花洒射流组合有效的应用中）有利的构造。

在本发明的改进中，第一排水装置和第二排水装置被构造成使得：当两个排水装置都有效时，花洒射流在盥洗盆水槽上方的喷泉射流的最大高度的至少四分之一的高度处撞击喷泉射流。这再次构成了两个排水装置的对于许多应用有利的构造。在有利的实施例中，花洒射流在相当于盥洗盆水槽上方的喷泉射流的最大高度的至少三分之一或至少一半的高度处撞击喷泉射流。在替代实施例中，花洒射流在小于盥洗盆水槽上方的喷泉射流的最大高度的四分之一的高度处撞击喷泉射流。在另外的替代实施例中，花洒射流在其向下部分中撞击喷泉射流，或者不撞击喷泉射流而是形成不与喷泉射流组合的分开的花洒射流。

在本发明的改进中，第二排水装置的花洒射流出口主体的高度水平位于盥洗盆水槽上方的喷泉射流的最大高度的一半处或上方。以这种方式，可以提供花洒射流以供在相应地大的高度处单独地抑或与同时有效的喷泉射流组合使用。

在本发明的改进中，第一排水装置的排水喷嘴是雾化/细射流喷嘴。在此，特别地，可使用特殊的雾化/细射流喷嘴，诸如由申请人以商品名PowderRain出售并且如由申请人在特许公开出版物DE 10 2016 225 987 A1中公开的花洒装置。在替代实施例中，排水喷嘴由通常也用于花洒头中的其他常规喷嘴形成。

在本发明的改进中，第二排水装置的花洒射流出口主体包括多个细/针射流喷嘴。特别地，这些可以是本领域技术人员已知的用于花洒头中的细射流喷嘴或针射流喷嘴。替代地，雾化/细射流喷嘴可采用本申请人的PowderRain喷嘴或常规的标准射流喷嘴或本领域技术人员已知的用于花洒头中的洪流射流喷嘴的形式。

在本发明的改进中，盥洗场所布置结构具有壁装式容纳主体，花洒射流出口主体被容纳在该壁装式容纳主体中。因此，可省略要安装在盥洗台处或盥洗台上以用于容纳花洒射流出口主体的配件或容纳主体。在替代实施例中，这种盥洗台安装式容纳主体可被提供成用于花洒射流出口主体。

在本发明的实施例中，容纳主体是在顶侧上具有放置表面的放置主体。以这种方式，容纳主体除了它容纳花洒射流出口主体的功能之外，还可实现放置功能。通常在盥洗场所布置结构上需要的盥洗用具或类似物可放置在放置表面上。

在本发明的一个实施例中，盥洗场所布置结构具有壁装式镜子，其中，容纳主体至少以包含花洒射流出口主体的部分位于镜子前面并与镜子邻接。以这种方式，可以将对于盥洗场所布置结构来说通常期望的后部镜子的存在以技术功能的方式与花洒射流出口主体的容纳或固持有利地组合。

在本发明的改进中，盥洗场所布置结构包括另外的第三排水装置，第三排水装置被构造成用于以层流射流的形式沿朝向前方倾斜地向下指向的层流射流方向排出水并且包括层流射流出口主体。这通过以下能力来扩展盥洗场所布置结构的功能：当需要时，将水单独地抑或与花洒射流组合或与喷泉射流组合或与花洒射流和喷泉射流组合地作为层流射流排出到盥洗盆水槽中。

在本发明的一个实施例中，层流射流方向和花洒射流方向之间的角度差异最多为15°。这意味着，层流射流方向和花洒射流方向可根据需要被建立成彼此平行或彼此仅相差相对微小的差异角度。这可有利地用于特定应用。

在本发明的一个实施例中，层流射流出口主体被容纳在容纳主体中。这意味着，层流射流出口主体和花洒射流出口主体被一起容纳在容纳主体中，这带来了盥洗场所布置结构的构造紧凑性方面以及在所需的安装空间方面的优势，使得在盥洗盆水槽上方的区域中留下足够的空间可供用户用于盥洗/清洁应用。

附图说明

在附图中描绘了本发明的有利的实施例。在下文中更详细地描述了本发明的这些和另外的实施例。在附图中：

图1示出了盥洗场所布置结构的图解透视图，

图2是来自图1的盥洗场所布置结构的图解主视图，

图3是从上方到来自图1的盥洗场所布置结构上的图解俯视图，

图4是沿着图3中的线IV-IV的剖视图，

图5是盥洗场所布置结构的选取部分的侧视图，其具有激活的喷泉射流，

图6是来自图5的视图，其具有激活的花洒射流，

图7是来自图5的视图，其具有激活的层流射流，

图8是来自图5的视图，其具有激活的喷泉射流、花洒射流和层流射流，以及

图9是根据图1的选取部分的透视图，其具有激活的喷泉射流、花洒射流和层流射流。

具体实施方式

在附图中所图示的盥洗场所布置结构包含：盥洗台1，其具有盥洗盆水槽2；第一排水装置3，其包括多个排水喷嘴4，所述多个排水喷嘴布置在盥洗盆水槽2中的喷嘴分配区域6内并且被构造成以喷泉射流5的形式排出水；以及第二排水装置7，其被构造成以花洒射流8的形式排出水并且具有花洒射流出口主体9。第一排水装置3的喷嘴分配区域6位于盥洗盆水槽2的背对用户侧的后半部2a中，并且最多在盥洗盆水槽2的一半圆周上延伸。特别地，如从图5、图8和图9显而易见的，当激活第一排水装置3时，喷泉射流5通过从喷嘴分配区域6或排水喷嘴4向上指向的向上部分5a以弧形式从盥洗盆水槽2流出，并且然后通过向下部分5b向下返回到盥洗盆水槽2中。

第二排水装置7的花洒射流出口主体9位于盥洗盆水槽2和盥洗台1的背对用户侧的后部10上，并且在位于盥洗盆水槽2和盥洗台1上方的高度Hn处。第二排水装置7被构造成沿朝向前方倾斜地向下指向的花洒射流方向R_B排出花洒射流8。

第一排水装置3被构造成沿喷泉射流方向R_F排出喷泉射流5，该喷泉射流方向在喷泉射流5的向上部分5a中朝向前方倾斜地向上指向，并且在喷泉射流5的向下部分5b中朝向前方倾斜地向下指向。在对应的设计中，第一排水装置3被构造成从排水喷嘴4的单独射流产生呈扇状抛物线形式的喷泉射流5，其中，轨迹高度（即，喷泉射流5在盥洗盆水槽2上方的最大高度H_F）优选地相当于喷泉射流5的轨迹宽度（即，区域F_A的水平距离A_F）的80%和120%之间，在区域F_A中喷泉射流5从喷嘴分配区域6撞击盥洗盆水槽2。在典型的情况下，这意味着喷泉射流高度H_F在水槽2上方约20 cm和约40 cm之间。在有利的实施例中，排水喷嘴4被构造为PowderRain类型的雾化/细射流喷嘴。

在有利实施例中，排水喷嘴4沿水槽周向方向布置成彼此接连的若干个喷嘴组，其中，相应的喷嘴组的排水喷嘴4具有相同的射流出口方向或彼此相差相对较小的方向，而两个相邻喷嘴组的两个排水喷嘴彼此相差更大。

在所示示例中，排水喷嘴4特别地沿水槽周向方向布置成彼此接连的三个喷嘴组，其中，相应的喷嘴组的排水喷嘴4具有相同的射流出口方向，并且两个侧向喷嘴组的射流出口方向朝向中间喷嘴组的射流出口方向延伸且所成的角度相差相同的差异角度量。特别地，在该示例中，侧向射流带成角度，以便朝向中间射流带会聚，并且所有三个射流带实际上具有其抛物线状弧形式的相同轨迹高度和宽度。喷泉射流5在其向下部分5b中保持射流束形式和/或远至其在水槽2上的撞击区域F_A的基本上恒定的射流宽度。

这给出具有高度有利的对称射流图案的喷泉射流，其中三个喷嘴组的三个射流带组合成相对均匀的完整射流作为喷泉射流5。为此，在有利实施例中，排水喷嘴4在喷嘴分配区域6内部以单排或几排的形式布置在盥洗盆水槽2中，在这种情况下，该喷嘴分配区域优选地形成为带。任选地，两个相邻排的排水喷嘴4可沿侧向（即，水平）方向彼此偏移，例如中心地偏移。

在对应的实施例中，如在所示示例中，第一排水装置3和第二排水装置7被构造成使得花洒射流8在其向上部分5a中撞击喷泉射流5，如特别地从图8和图9显而易见。

在对应的实施例中，如在所示示例中，第一排水装置3和第二排水装置7被构造成使得花洒射流8在在盥洗盆水槽2上方的高度H_T处撞击喷泉射流5，高度H_T相当于喷泉射流5的总高度H_F的至少四分之一。有利地，如在所示示例中，该高度H_T是喷泉射流总高度H_F的至少三分之一或至少一半，且优选地在55％和75％之间，这已证明在许多应用中对于喷泉射流5和花洒射流8的组合水射流的最佳射流行为以及对于分开使用单独激活的喷泉射流5或花洒射流8来说特别有利。

在对应的实施例中，如在所示示例中，在其处布置有第二排水装置7的花洒射流出口主体9的高度水平Hn位于盥洗盆水槽2上方的喷泉射流5的总高度H_F的一半处或上方。在对应的实施例中，花洒射流出口主体9位于在盥洗盆水槽2上方的喷泉射流5的约最大高度HF或上方的高度或者在下方最多仅20％的高度。

在有利的实施例中，如本领域技术人员已知的，第二排水装置7的花洒射流出口主体9包含多个细/针射流喷嘴以用于装备对应的花洒主体，例如作为在对应地穿孔的金属板中具有相对较小的直径的孔。在替代实施例中，如本领域技术人员已知的，花洒射流出口主体9配备有所谓的标准射流喷嘴或洪流射流喷嘴以用于安装到花洒头以便提供标准花洒射流。

在对应的实施例中，如在所示的示例中，盥洗场所布置结构包括壁装式容纳主体11，花洒射流出口主体9被容纳在该壁装式容纳主体中。在附图中图解地指示了在盥洗台1的后部10上的相关联的壁表面13，容纳主体11可以安装在该壁表面上并且该壁表面形成盥洗场所布置结构的后终止部。替代地，花洒射流出口主体9可位于安装在盥洗台1上的水出口配件中。

在对应的实施例中，如在所示示例中，容纳主体11被构造为在顶部上具有放置表面12的放置主体。可以以通常的方式将通常在盥洗场所布置结构处使用的用具安放在放置表面12上。

在对应的实施例中，如在所示示例中，盥洗场所布置结构包括壁装式镜子14，其中，容纳主体11位于镜子14前面并与镜子14邻接，容纳主体11至少具有包含花洒射流出口主体9的部分11a。

在有利的实施例中，如在所示示例中，盥洗场所布置结构具有第三排水装置15，第三排水装置15被构造成以层流射流16形式沿朝向前方倾斜地向下指向的层流射流方向R_L排出水并且具有层流射流出口主体17。这样的排水装置以及相关联的层流射流出口主体是本领域技术人员众所周知的，例如来自出口配件，所述出口配件具有管状水出口作为通常在端部上设置有射流调节器、过滤器（perlator）、颗粒筛或类似物的层流射流出口主体，并且因此无需进一步解释。

在对应的实施例中，如在所示示例中，层流喷嘴16的层流射流方向R_L和花洒射流8的花洒射流方向R_B之间的角度差异相当于最大值15°。在对应的实施例中，层流射流方向R_L和花洒射流方向R_B相同或彼此最多仅相差几个角度，例如最大值5°。

在对应的实施例中，如在所示示例中，层流射流出口主体17布置成沿向前方向相对于花洒射流出口主体9偏移，即朝向盥洗台1的面向用户的前侧1a偏移，其中——如在所示示例中——同时，它也可布置成沿竖直方向略微偏移。水平和/或竖直偏移相对微小，并且在有利的实施例中，最多相当于3cm和6cm之间。在有利的实施例中，如在所示的示例中，花洒射流出口主体9和层流射流出口主体17被一起布置在同一个容纳主体11中。在替代实施例中，花洒射流出口主体9和层流射流出口主体17被容纳在不同的容纳主体中。

在对应的实施例中，如在所示示例中，盥洗盆水槽2具有排水件19，排水件19位于水槽2的面向用户侧的区域2b中，并且例如呈狭槽的形式，其中狭槽纵向轴线平行于盥洗台的面向用户的前侧1a。在有利的实施例中，排水件19位于水槽2的喷泉射流冲击区域F_A中或略微在该区域前方，即在喷泉射流冲击区域F_A和水槽2的面向盥洗台前侧1a的前终止部之间。

在有利的实施例中，对于第一排水装置3和第二排水装置7以及对于任选的第三排水装置15，以常规的方式且因此未示出，提供了可电动致动的阀以便调节水流以及被供应到相应的排水装置3、7、15的水的水温。同样常规的控制单元（因此未更详细示出）被分配给这些阀。在对应的实施例中，如在所示的示例中，遥控操作元件18被提供为可以由用户操作以调整水流和/或水温的操作元件，其中，这些操作元件18被构造为可自由移动的冰球状操作元件，其可以定位在任何点处（例如，在盥洗台1的顶侧上，位于盥洗盆水槽2外部（如图所示））并在那里自由地移动或移位。替代地，可使用用于排水装置3、7、15的常规的手动操作元件和阀，诸如手动操作的截止阀、混合器或转换阀，例如呈由旋钮或杠杆致动的阀或配件的形式。

如上文示出和解释的示例性实施例清楚地图示，本发明提供了一种对用户具有明显优势的盥洗场所布置结构。在盥洗场所处或在盥洗盆水槽2上方，水可要么被提供作为喷泉射流，和/或要么被提供作为花洒射流，和/或任选地还被提供作为层流射流。可省略具有在水槽上方终止的出口管的常规管道（plumbing）。这对于盥洗场所布置结构的可用性具有优势，因为不需要顾及出口配件的出口管。喷泉射流和花洒射流以及任选的层流射流的组合特别地例如对于在盥洗场所处在盥洗盆水槽上洗头和洗胡须提供了优势。

另外，盥洗台总体上可形成有非常平坦的表面，这可显著地便于清洁盥洗台布置结构。特别地，在对应的实施例中，盥洗盆水槽可无接缝地和/或无阶梯地转变到盥洗台的相邻平坦区域中。另外，在盥洗盆水槽的区域中没有通常安装在盥洗台上的出口配件（具有在水槽上方终止的出口管），这便于清洁盥洗台布置结构。

Claims (10)

1.一种盥洗场所布置结构，其包括：

-盥洗台（1），其具有盥洗盆水槽（2）；

-第一排水装置（3），其包括多个排水喷嘴（4），所述多个排水喷嘴布置在所述盥洗盆水槽中的喷嘴分配区域（6）内并且被构造成用于以喷泉射流（5）的形式排出水，所述喷泉射流通过直到最大高度（H_F）的向上区段（5a）以弧形状从所述盥洗盆水槽向上流出，并且通过向下区段（5b）向下返回到所述盥洗盆水槽；以及

-第二排水装置（7），其被构造成用于以花洒射流（8）的形式排出水并且包括花洒射流出口主体（9），

其特征在于，

-所述第一排水装置（3）的所述喷嘴分配区域（6）位于所述盥洗盆水槽（2）的背对用户侧的后半部（2a）中，并且最多跨水槽圆周的一半延伸，并且

-所述第二排水装置（7）的所述花洒射流出口主体（9）位于所述盥洗盆水槽和所述盥洗台的背对所述用户侧的后侧（10）上，并且在所述盥洗盆水槽和所述盥洗台上方的一高度水平（Hn）上，并且所述第二排水装置被构造成用于沿朝向前方倾斜地向下指向的花洒射流方向（R_B）排出所述花洒射流（8）。

2.根据权利要求1所述的盥洗场所布置结构，其特征还在于，所述第一排水装置和第二排水装置被构造成使所述花洒射流在所述喷泉射流的向上区段中撞击所述喷泉射流。

3.根据权利要求1或2所述的盥洗场所布置结构，其特征还在于，所述第一排水装置和第二排水装置被构造成使所述花洒射流在所述盥洗盆水槽上方的所述喷泉射流的所述最大高度（H_F）的至少四分之一的高度（H_T）上撞击所述喷泉射流。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的盥洗场所布置结构，其特征还在于，所述第二排水装置的所述花洒射流出口主体的所述高度水平位于在所述盥洗盆水槽上方的所述喷泉射流的所述最大高度的一半处或上方。

5. 根据权利要求1至4中任一项所述的盥洗场所布置结构，其特征还在于，

-所述第一排水装置的所述排水喷嘴是雾化/细射流喷嘴，和/或

-所述第二排水装置的所述花洒射流出口主体包括细/针射流喷嘴。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的盥洗场所布置结构，其特征还在于壁装式容纳主体（11），所述花洒射流出口主体被容纳在所述壁装式容纳主体中。

7.根据权利要求6所述的盥洗场所布置结构，其特征还在于，所述容纳主体是具有顶侧放置表面（12）的放置主体。

8.根据权利要求6或7所述的盥洗场所布置结构，其特征还在于壁装式镜子（14），其中，所述容纳主体位于所述镜子前面并与所述镜子邻接，所述容纳主体至少具有包括所述花洒射流出口主体的区段（11a）。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的盥洗场所布置结构，其特征还在于第三排水装置（15），所述第三排水装置被构造成用于以层流射流（16）的形式沿朝向前方倾斜地向下指向的层流射流方向（R_L）排出水并且包括层流射流出口主体（17）。

10. 根据权利要求9所述的盥洗场所布置结构，其特征还在于，

-所述层流射流方向和所述花洒射流方向的角度差异为最多15°，和/或

-所述层流射流出口主体被容纳在所述容纳主体中。

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