CN111660182A - 研磨机 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种研磨机，其包含有：一基座；一第一研磨单元，其设于该基座；一第二研磨单元，其设于该基座，且相邻于该第一研磨单元；一第一载台单元，其设于该基座，且于该第一研磨单元的下方；以及一第二载台单元，其设于该基座，并且于该第二研磨单元的下方，而且相邻于该第一载台单元。

Description

研磨机

技术领域

本发明涉及一种研磨机，尤指一种能够同时进行粗研磨与细研磨，以提升效率与缩短时间成本的研磨机。

背景技术

现有半导体制程中，研磨半导体是无法避免的制程之一。然随着电子产品的研发趋势，半导体系朝向薄的方向发展，所以半导体的研磨制成更显其重要性。

现有的半导体研磨装置系采用双系统设计，一为粗研磨系统，另一为细研磨系统。将欲研磨的工件，如条状半导体，送入粗研磨系统中研磨，此为粗研磨制程。待粗研磨完成后，再将经过粗研磨的工件送入细研磨系统中，以进行工件的细研磨。

粗研磨系统与细研磨系统分别为两套不同的系统，所以半导体厂商会将会将经过粗研磨的工件收集至一定数量后，再送至细研磨系统进行细研磨的制程。因此无形中增加研磨制程中的时间成本，以及成效不佳的问题。

发明内容

有鉴于前述现有技术所存在的问题，本发明的发明目的在于提供研磨机，其系能够降低研磨制程中的时间成本，以及提升效率。

为了达到上述的发明目的，本发明提出的一种研磨机，其包含有：

一基座；

一第一研磨单元，其设于该基座；

一第二研磨单元，其设于该基座，且相邻于该第一研磨单元；

一第一载台单元，其设于该基座，且位于该第一研磨单元的下方；以及

一第二载台单元，其设于该基座，并且位于该第二研磨单元的下方，而且相邻于该第一载台单元。

于一实施例，该基座更具有一龙门；该第一研磨单元具有一第一位移模块，该第一位移模块设于该龙门的一侧；该第二研磨单元具有一第二位移模块，该第二位移模块设于该龙门的另一侧。

于一实施例，该第一研磨单元更具有一第一砂轮整修模块、一第一细磨模块与一第一厚度测量模块，该第一砂轮整修模块、该第一细磨模块与该第一厚度测量模块设于该第一位移模块；该第二研磨单元更具有一第二砂轮整修模块、一第二粗磨模块与一第二厚度测量模块，该第二砂轮整修模块、该第二粗磨模块与该第二厚度测量模块设于该第二位移模块。

于一实施例，该第一载台单元具有一第一滑轨与一第一载台，该第一滑轨设于该基座，该第一载台设于该第一滑轨；该第二载台单元具有一第二滑轨与一第二载台，该第二滑轨设于该基座，该第二载台设于该第二滑轨。

于一实施例，一上载单元设于该基座，并相邻于该第一研磨单元；一下载单元设于该基座，并相邻于该上载单元；一取料单元设于该基座，并相邻该下载单元；一送料单元设于该基座，并相邻于该取料单元；一干燥单元设于该基座，并位于该取料单元与该下载单元之间；一进料单元设于该基台；一载台清洁模块设于该进料单元。

综合上述，本发明的研磨机，其是在同一基座中设置有第一研磨单元与第二研磨单元。第一研磨单元可进行细研磨，第二研磨单元可进行粗研磨。因此本发明可同时进行粗研磨与细研磨，将此降低研磨制程中的时间成本，以及提升效率。

附图说明

图1为本发明的一种研磨机的示意图。

图2为一载台清洁模块的示意图。

附图标记说明：1-基座；10-上载单元；100-出料杆；11-下载单元；12-载台清洁模块；13-进料单元；130-侧移动模块；131-设置架；132-纵移模块；133- 取放模块；134-长轨；14-干燥单元；15-送料单元；16-取料单元；17-龙门；2- 第一研磨单元；20-第一位移模块；21-第一细研磨组；22-第一厚度测量模块； 23-第一砂轮整修模块；3-第一载台单元；30-第一滑轨与；31-第一载台；4-第二研磨单元；40-第二位移模块；41-第二粗研磨模块；42-第二厚度测量模块；43- 第二砂轮整修模块；5-第二载台单元；50-第二滑轨；51-第二载台；60-清洗单元。

具体实施方式

请配合参考图1所示，本发明是一种研磨机，其包含有一基座1、一第一研磨单元2、一第一载台单元3、一第二研磨单元4与一第二载台单元5。

基座1具有一上载单元10、一下载单元11、一载台清洁模块12、一进料单元13、一干燥单元14、一送料单元15、一取料单元16与一龙门17。

上载单元10位于基座1的一侧，上载单元10系供待研磨的工件的收纳匣或收纳盒设置之用。举例而言，工件可为条状半导体。

下载单元11位于基座1的一侧，并且相邻于上载单元10。下载单元11系供收纳已研磨的工件的收纳匣或收纳盒设置之用。

进料单元13位于基座1的一端。进料单元13可为机械手臂、取物叉与线性滑轨的组合、真空吸附装置。进料单元13的吸附技术为业界常用的取放工件的技术手段，故不予此多做赘述。

请配合参考图2与图1所示，于一实施例，进料单元13具有一长轨134、一侧移动模块130、一设置架131、至少一纵移模块132、至少一取放模块133。侧移动模块130可移动地设于长轨134。设置架131设于设于侧移动模块130。纵移模块132可移动地设于设置架131。取放模块133设于纵移模块132。

载台清洁模块12为一清洁滚筒。载台清洁模块12设于上述的纵移模块132 或取放模块133。侧移动模块130与纵移模块132系调整载台清洁模块12相对于下述的第一载台31或第二载台51的位置，而使载台清洁模块12能够清洁下述的第一载台31或第二载台51的位置，或者位于第一载台31或第二载台51 的工件，以避免加工留下来的研磨屑，影响工件的吸附/取放。

以图2为例，载台清洁模块12设于纵移模块132上，且载台清洁模块12 位于该取放模块133的侧边，在该取放模块133要将待研磨工件放置于第二载台51的前，该纵移模块132调整该载台清洁模块12相对该第二载台51的位置并对其进行清洁；再者当待研磨工件放置于第二载台51之后，也可控制该载台清洁模块12对第二载台51上的待研磨工件进行清洁。

干燥单元14位于基座1，并且相邻于下载单元11。干燥单元14系用于干燥经过研磨的工件。

送料单元15位于基座1，并且位于干燥单元14与下载单元11之间。

取料单元16位于基座1的另一端，并且相邻于送料单元15。送料单元15 与取料单元16可为机械手臂、取物叉与线性滑轨的组合、真空吸附装置。送料单元15与取料单元16的推送或吸附技术为业界常用的取放工件的技术手段，故不予此多做赘述。龙门17位于基座1。

第一载台单元3位于基座1，并位于龙门17的下方。第一载台单元3具有第一滑轨30与第一载台31。第一滑轨30位于基座1。第一载台31设于第一滑轨30，并且第一载台31是在第一滑轨30往复移动。

第一研磨单元2具有一第一位移模块20、第一细研磨组21、一第一厚度测量模块22与一第一砂轮整修模块23。

第一位移模块20设于龙门17的一侧。第一细研磨组21与第一厚度测量模块22设于第一位移模块20。第一砂轮整修模块23设于第一载台31。

第二载台单元5设于基座1，并位于龙门17的下方，而且相邻于第一载台单元3。第二载台单元5具有一第二滑轨50与一第二载台51。第二滑轨50位于基座1，并相邻于第一滑轨30。第二载台51设于第一滑轨50，并且第二载台 51是在第二滑轨50往复移动。

第二研磨单元4具有一第二位移模块40、一第二粗研磨模块41、一第二厚度测量模块42与一第二砂轮整修模块43。

第二位移模块40设于龙门17的另一侧。第二粗研磨模块41与第二厚度测量模块42设于第二位移模块40。第二砂轮整修模块43设于第二载台51。

请再配合参考图1所示，上载单元10设有一出料杆100，出料杆100可自上载单元10的收纳匣或收纳盒中移出待研磨的工件，再由进料单元13将工件放置于第二载台51。第二粗研磨模块41系对工件进行粗研磨。第二位移模块 40系相对于龙门17移动第二粗研磨模块41相对于工件的位置，以使工件能够被均匀研磨。若收纳匣或收纳盒中的工件已减少至一设定数量或已无任何工件，则可将具有工件的收纳匣或收纳盒替换原有的收纳匣或收纳盒。

若更进一步论述，出料杆100自上载单元10的收纳匣或收纳盒中移出待研磨的工件，侧移动模块130系相对于长轨134移动，纵移模块132系相对于设置架131移动，以调整取放模块133相对于位于出料杆100的工件的位置，而使取放模块133可由出料杆100取下工件。侧移动模块130与纵移模块132系调整位于取放模块133的工件相对于第二载台51的位置，而使取放模块133能够将工件放置于第二载台51。

上述的进料单元13将工件放置于第二载台51。若进一步论述，第二载台51系朝向进料单元13移动，以使进料单元13能将工件放置于第二载台51。待工件放置于第二载台51后，第二载台51系朝向第二研磨单元4方向移动，以使工件进行粗研磨。

于粗研磨过程中或粗研磨完毕后，第二厚度测量模块42系测量工件的厚度。第二厚度测量模块42系将所测量的厚度上传给一控制系统。

若在粗研磨过程中、粗研磨前或粗研磨后，第二粗研磨模块41的砂轮可凭借第二砂轮整修模块43或第一砂轮整修模块23进行调整或修正。

待工件完成粗研磨后，第二载台51移载该经粗研磨后的工作至该龙门17 的另一侧(依图1而言为龙门17的左侧)，且该第一位移模块20移载该第一细研磨组21至该第二载台51的上方，而可对已经粗研磨后的工作进行细研磨作业。而空载的第一载台31系移至该龙门17的一侧(依图1而言为龙门17的右侧)。。

进料单元13将待研磨的工件移至第一载台31的上方，并将工件放置于第一载台31，且第二位移模块40移载第二研磨单元4至第一载台31的上方，以进行粗研磨作业。第一位移模块20移载第一细研磨模块21至第二载台51的上方，以进行细研磨作业。

位于第二载台51的工件，第一细研磨模块21系对工件进行系研磨。第一位移模块20系相对于龙门17移动相对于工件的位置，以使工件能够被均匀研磨。

若在细研磨过程中、细研磨前或细研磨后，第一细研磨模块21的砂轮可凭借第一砂轮整修模块23或第二砂轮整修模块43进行调整或修正。

于细研磨过程中或细研磨完毕后，第一厚度测量模块22系测量工件的厚度。第一厚度测量模块22系将所测量的厚度上传给控制系统。

待工件完成细研磨后，取料单元16系将工件由第二载台51中取出，并送至一清洗单元60清洗。待清洗单元将工件洗涤完成后，取料单元16续将工件输送至送料单元15。当然，该取料单元16设置有功能雷同前述的纵移模块132 及取放模块133的机构，而可将工件取离第二载台51或第一载台31。

送料单元15系将工件输送至干燥单元14，以使干燥单元14对工件进行干燥。待工件干燥后，送料单元15续将工件输送至位于下载单元11的收纳匣或收纳盒中。待收纳匣或收纳盒的工件已达一设定数量后，则可将收纳匣或收纳盒由下载单元11中取出，并送至下一制程。

综合上述，本发明的研磨机，其是在同一基座1中设置有第一研磨单元2 与第二研磨单元4。第一研磨单元2可进行细研磨，第二研磨单元4可进行粗研磨，也即，将第一研磨单元2与第二研磨单元4分别设置于该龙门17的二侧，而第一载台单元3及第二载台单元5可分别相对移动于该龙门17的二侧，而可控制第一载台单元3及第二载台单元5分别于该龙门17的二侧进行研磨作业。也即，该第二载台51承载工件先于龙门17右侧，由该第二研磨单元4进行粗研磨，的后该第二载台51移动至龙门17的左侧，转由该第一研磨单元2进行细研磨。当第二载台51上的工件于龙门17的右侧，由该第二研磨单元4完成粗研磨后，该第二载台51移载至龙门17的左侧，转由该第一研磨单元2对第二载台51上的工件进行细研磨作业；又，当第一研磨单元2对第二载台51上的工件进行细研磨作业时，空载的该第一载台31则移动至该龙门17的右侧，待由该进料单元13将另一待研磨的工件放置于该第一载台31后，再由该第二研磨单元4对该第一载台31上的另一待研磨工件进行粗研磨。

因此本发明可控制该进料单元13向第一载台31及第二载台51轮流放置待研磨工件，再通过第一研磨单元2与第二研磨单元4分别对第一载台31及第二载台51上的工件进行研磨，而可令本发明的研磨机同时进行粗研磨与细研磨，将此降低研磨制程中的时间成本，以及提升效率。

以上说明对本发明而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下，可作出许多修改、变化或等效，但都将落入本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种研磨机，其特征在于，包含有：

一基座；

一第一研磨单元，其设于该基座；

一第二研磨单元，其设于该基座，且相邻于该第一研磨单元；

一第一载台单元，其设于该基座，且位于该第一研磨单元的下方；以及

一第二载台单元，其设于该基座，并且位于该第二研磨单元的下方，而且相邻于该第一载台单元。

2.根据权利要求1所述的研磨机，其特征在于：该基座还具有一龙门；该第一研磨单元具有一第一位移模块，该第一位移模块设于该龙门的一侧；该第二研磨单元具有一第二位移模块，该第二位移模块设于该龙门的另一侧。

3.根据权利要求2所述的研磨机，其特征在于：该第一研磨单元还具有一第一砂轮整修模块、一第一细磨模块与一第一厚度测量模块，该第一砂轮整修模块、该第一细磨模块与该第一厚度测量模块设于该第一位移模块；该第二研磨单元还具有一第二砂轮整修模块、一第二粗磨模块与一第二厚度测量模块，该第二砂轮整修模块、该第二粗磨模块与该第二厚度测量模块设于该第二位移模块。

4.根据权利要求1所述的研磨机，其特征在于：该第一载台单元具有一第一滑轨与一第一载台，该第一滑轨设于该基座，该第一载台设于该第一滑轨；该第二载台单元具有一第二滑轨与一第二载台，该第二滑轨设于该基座，该第二载台设于该第二滑轨。

5.根据权利要求1所述的研磨机，其特征在于：还具有一上载单元，该上载单元设于该基座，并相邻于该第一研磨单元。

6.根据权利要求5所述的研磨机，其特征在于：还具有一下载单元，该下载单元设于该基座，并相邻于该上载单元。

7.根据权利要求6所述的研磨机，其特征在于：还具有一取料单元，该取料单元设于该基座，并相邻该下载单元。

8.根据权利要求7所述的研磨机，其特征在于：还具有一送料单元，该送料单元设于该基座，并相邻于该取料单元。

9.根据权利要求7所述的研磨机，其特征在于：还具有一干燥单元，该干燥单元设于该基座，并位于该取料单元与该下载单元之间。

10.根据权利要求7所述的研磨机，其特征在于：还具有一进料单元与一载台清洁模块，该进料单元设于该基台，该载台清洁模块设于该进料单元。

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