CN111653588A - 有机发光显示装置 - Google Patents

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CN111653588A CN202010143632.9A CN202010143632A CN111653588A CN 111653588 A CN111653588 A CN 111653588A CN 202010143632 A CN202010143632 A CN 202010143632A CN 111653588 A CN111653588 A CN 111653588A
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Abstract

本发明提供一种有机发光显示装置。有机发光显示装置可以包括：下部基板，具有包括子像素区域和透过区域的第一模块区域以及围绕第一模块区域且包括子像素区域的显示区域；多个下部电极，分别布置在下部基板上的第一模块区域所包括的子像素区域；发光层，布置在下部电极上，并且在下部电极中的相邻的两个下部电极之间具有第一开口；上部电极，布置在发光层上，并且具有与第一开口重叠的第二开口；以及第一功能性模块，布置在下部基板的底面上的第一模块区域。据此，可以不在有机发光显示装置形成开口而使第一功能性模块和第二功能性模块包含在有机发光显示装置中。

Description

有机发光显示装置
技术领域
本发明涉及有机发光显示装置。更详细地，本发明涉及包括功能性模块的有机发光显示装置。
背景技术
平板显示装置由于轻量和薄型等特性而正在被用作替代阴极射线管显示装置的显示装置。这种平板显示装置的代表性示例有液晶显示装置和有机发光显示装置。
近来，正在开发能够在有机发光显示装置的前面全部显示图像的有机发光显示装置。在此，所述有机发光显示装置还可以包括功能性模块。例如，所述功能性模块可以包括：相机模块，可以拍摄位于有机发光显示装置的前面上的事物的影像；人脸识别传感器模块，用于感测用户的脸部；瞳孔识别传感器模块，用于感测用户的眼珠；加速度传感器模块和地磁场传感器模块，用于判断有机发光显示装置的运动；接近传感器模块和红外线传感器模块，用于感测有机发光显示装置前方的接近与否；照度传感器模块，用于在放置于口袋或者包时测定亮度的程度；等。
为了使所述功能性模块包括于所述有机发光显示装置，可能在所述有机发光显示装置的一部分形成有开口，并且可能在所述开口布置有功能性模块。在此情形下，可能会发生如下的问题：在形成有所述开口的部分可能不显示图像，并且在形成所述开口的过程中有机发光显示装置会受到损伤。
发明内容
本发明的目的在于提供包括功能性模块的有机发光显示装置。
但是，本发明并不限于上述目的，本发明可以在不脱离本发明的思想和领域的范围内实现多种扩张。
为了达成前述的本发明的目的，根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置可以包括：下部基板，具有包括子像素区域和透过区域的第一模块区域以及围绕所述第一模块区域且包括所述子像素区域的显示区域；多个下部电极，分别布置在所述下部基板上的所述第一模块区域所包括的所述子像素区域；发光层，布置在所述下部电极上，并且在所述下部电极中的相邻的两个下部电极之间具有第一开口；上部电极，布置在所述发光层上，并且具有与所述第一开口重叠的第二开口；以及第一功能性模块，布置在所述下部基板的底面上的所述第一模块区域。
在示例性的实施例中，所述第一模块区域所包括的各个所述透过区域可以与布置有第一开口和第二开口的部分对应。
在示例性的实施例中，还可以包括：平坦化层，布置在所述下部基板上；以及像素限定膜，在所述平坦化层上的所述第一模块区域布置为覆盖各个所述下部电极的两侧部，在所述第一模块区域所包括的各个所述透过区域具有暴露所述平坦化层的上面的开口。
在示例性的实施例中，所述第一开口和所述第二开口可以在所述第一模块区域所包括的各个所述透过区域暴露所述平坦化层的所述上面。
在示例性的实施例中，还可以包括：下部分隔件，布置在所述下部基板上的所述第一模块区域所包括的各个所述透过区域。
在示例性的实施例中，所述第一开口和所述第二开口暴露所述下部分隔件的上面，所述下部分隔件的上面位于与所述像素限定膜的上面相同的水平高度，所述发光层和所述上部电极可以布置在所述下部分隔件的侧面的至少一部分。
在示例性的实施例中，还可以包括：上部分隔件，布置在所述下部分隔件上，所述第一开口和所述第二开口暴露所述上部分隔件的上面，所述上部分隔件的上面位于高于所述像素限定膜的上面的水平高度，所述发光层和所述上部电极可以布置在所述下部分隔件和所述上部分隔件各自的侧面的至少一部分。
在示例性的实施例中，所述下部基板还包括：第二模块区域，布置为与所述第一模块区域相隔，并且包括所述透过区域，并且，所述显示区域可以围绕所述第二模块区域。
在示例性的实施例中，还包括：第二功能性模块，布置在所述下部基板的底面上的所述第二模块区域，并且，所述第二模块区域的所述透过区域可以与所述第二功能性模块对应。
在示例性的实施例中，所述第一功能性模块可以包括人脸识别传感器模块、瞳孔识别传感器模块、加速度传感器模块、接近传感器模块、红外线传感器模块、照度传感器模块，所述第二功能性模块可以包括相机模块。
在示例性的实施例中，所述发光层可以在所述第二模块区域具有第三开口，所述上部电极可以在所述第二模块区域具有与所述第三开口重叠的第四开口。
在示例性的实施例中，还可以包括布置在所述下部基板上的平坦化层和布置在与所述平坦化层的所述第二模块区域相邻的所述显示区域的像素限定膜。
在示例性的实施例中，所述第三开口和所述第四开口可以暴露位于所述第二模块区域的所述平坦化层的上面。
在示例性的实施例中，还可以包括布置在所述下部基板上的所述第二模块区域的下部结构物。
在示例性的实施例中，所述第三开口和所述第四开口暴露所述下部结构物的上面，所述下部结构物的上面位于与所述像素限定膜的上面相同的水平高度，所述发光层和所述上部电极可以布置在所述下部结构物的侧面的至少一部分。
在示例性的实施例中，还包括布置在所述下部结构物上的上部结构物，所述第一开口和所述第二开口暴露所述上部结构物的上面，所述上部结构物的上面位于高于所述像素限定膜的上面的水平高度，所述发光层和所述上部电极可以布置在所述下部结构物和上部结构物各自的侧面的至少一部分。
在示例性的实施例中，在所述第一模块区域和所述显示区域可以显示图像，在所述第二模块区域可以不显示图像。
在示例性的实施例中，还包括布置在所述下部基板和所述发光层之间的多个半导体元件，所述半导体元件可以不布置在所述透过区域和所述第二模块区域。
在示例性的实施例中，还可以包括布置在所述下部基板上的栅极绝缘层、布置在所述栅极绝缘层上的层间绝缘层、布置在所述层间绝缘层上的平坦化层以及布置在所述平坦化层上且与所述下部基板对向的上部基板。
在示例性的实施例中，在所述第一模块区域中，外部光可以透过所述上部基板、所述第一开口和所述第二开口、所述平坦化层、所述层间绝缘层、所述栅极绝缘层以及所述下部基板而入射到所述第一功能性模块。
根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置通过包括包含子像素区域和透过区域的第一模块区域和包含透过区域的第二模块区域，从而可以不在有机发光显示装置形成开口的情况下将第一功能性模块和第二功能性模块包含于有机发光显示装置。
并且，通过在第一模块区域包括子像素区域，从而可以在第一模块区域显示图像。尤其，在第一模块区域所包括的透过区域和第二模块区域所包括透过区域不布置发光层和上部电极，因此外光能够容易地被供应到第一功能性模块和第二功能性模块。据此，第一功能性模块和第二功能性模块可以感测位于有机发光显示装置的第一面的周围情况或者拍摄事物的影像。
然而，本发明的效果并不限于上述效果，其可以在不脱离本发明的思想和领域的范围内实现多种扩张。
附图说明
图1是示出根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置的立体图。
图2是示出布置在图1的有机发光显示装置的背面的功能性模块的立体图。
图3和图4是用于说明图1的有机发光显示装置的显示区域、第一模块区域以及第二模块区域的平面图。
图5是放大示出图4的显示区域的“A”部分的局部放大平面图。
图6是放大示出图4的第一模块区域的“B”部分的局部放大平面图。
图7是示出图6的第一模块区域的一例的局部放大平面图。
图8是放大示出图4的第二模块区域的“C”部分的局部放大平面图。
图9是沿图5的I-I'线截取的剖面图。
图10是沿图6的II-II'线截取的剖面图。
图11是沿图4的III-III'线截取的剖面图。
图12和图13是示出根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置的剖面图。
图14和图15是示出根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置的剖面图。
图16至图31是示出根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置的制造方法的剖面图。
符号说明
10：显示区域 11：子像素区域
20：第一模块区域 21：透过区域
30：第二模块区域 100、500、600：有机发光显示装置
110：下部基板 130：有源层
150：栅极绝缘层 170：栅电极
190：层间绝缘层 200：子像素结构物
210：源电极 230：漏电极
250：半导体元件 270：平坦化层
290：下部电极 310：像素限定膜
330：发光层 340：上部电极
410：第一功能性模块 420：第二功能性模块
450：上部基板 510：下部分隔件
520：上部分隔件 610：下部结构物
620：上部结构物 710：尖端部
720：研磨带
具体实施方式
以下，参照附图详细说明根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置以及有机发光显示装置的制造方法。在附图中，针对相同或者相似的构成要素使用相同或者相似的附图标记。
图1是示出根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置的立体图，图2是示出布置在图1的有机发光显示装置的背面的功能性模块的立体图，图3和图4是用于说明图1的有机发光显示装置的显示区域、第一模块区域以及第二模块区域的平面图。
参照图1至图4，有机发光显示装置100可以包括：将在下面说明的下部基板(例如，图9、图10以及图11所示的下部基板110)；将在下面说明的上部基板(例如，图9、图10以及图11所示的上部基板450)；第一功能性模块410；第二功能性模块420等。有机发光显示装置100可以具有显示图像的第一面S1和与第一面S1相反的第二面S2。例如，所述上部基板的上面可以相当于第一面S1，所述下部基板的底面可以相当于第二面S2。第一功能性模块410和第二功能性模块420可以布置在有机发光显示装置100的第二面S2上的一侧，第一功能性模块410和第二功能性模块420可以以预定间距相隔而布置。
如图3和图4所示，有机发光显示装置100(例如，下部基板)可以包括显示区域10、第一模块区域20以及第二模块区域30。在此，第一模块区域20和第二模块区域30可以位于有机发光显示装置100的第一面S1上的一侧，第一模块区域20和第二模块区域30可以相隔预定间距而布置。并且，显示区域10可以围绕第一模块区域20和第二模块区域30，显示区域10的面积可以大于第一模块区域20和第二模块区域30各自的面积。在示例性的实施例中，可以以使第一功能性模块410对应于第一模块区域20的方式在有机发光显示装置100的底面上布置第一功能性模块410，并且可以以使第二功能性模块420对应于第二模块区域30的方式在有机发光显示装置100的底面上布置第二功能性模块420。
再次参照图1至图4，显示区域10可以包括多个子像素区域(例如，对应于图5的子像素区域11)，第一模块区域20可以包括多个子像素区域和多个透过区域(例如，对应于图6的子像素区域11和透过区域21)，第二模块区域30可以包括透过区域(例如，对应于图8的透过区域21)。在示例性的实施例中，有机发光显示装置100可以在显示区域10和第一模块区域20显示图像，而在第二模块区域30不显示图像。
第一功能性模块410可以与有机发光显示装置100的第二面S2上的第一模块区域20重叠而布置。换句话说，第一模块区域20的尺寸可以与第一功能性模块410的尺寸实质相同。即，第一模块区域20的形状可以根据第一功能性模块410的形状而被定义。第一功能性模块410可以包括：人脸识别传感器模块，用于感测用户的脸部；瞳孔识别传感器模块，用于感测用户的眼珠；加速度传感器模块和地磁场传感器模块，用于判断有机发光显示装置100的运动；接近传感器模块和红外线传感器模块，用于感测有机发光显示装置100前方的接近与否；照度传感器模块，用于在放置于口袋或者包时测定亮度的程度；等。在示例性的实施例中，相比于第二功能性模块420，第一功能性模块410可以利用相对较少的量的外部光而工作。例如，在从第一模块区域20入射到有机发光显示装置100的第一面S1并透过有机发光显示装置100的所述外部光的透过率为大约35％以上的情况下，第一功能性模块410可以工作。
第二功能性模块420可以与有机发光显示装置100的第二面S2上的第二模块区域30重叠而布置。换句话说，第二模块区域30的尺寸可以与第二功能性模块420的尺寸实质相同。即，第二模块区域30的形状可以根据第二功能性模块420的形状而被定义。第二功能性模块420可以包括能够拍摄(或者识别)位于有机发光显示装置100的第一面S1上的事物的影像的相机模块。在示例性的实施例中，第二功能性模块420为了以高分辨率拍摄所述事物的影像，相比于第一功能性模块410，第二功能性模块420可以利用相对更多的量的外部光而工作。
然而，虽然以本发明的第一模块区域20和第二模块区域30各自的形状为圆形的平面形状的情形进行了说明，但所述形状并不限于此。例如，第一模块区域20和第二模块区域30各自的形状还可以具有三角形的平面形状、菱形的平面形状、多边形的平面形状、矩形的平面形状、操场跑道形的平面形状或者椭圆形的平面形状。
图5是放大示出图4的显示区域的“A”部分的局部放大平面图，图6是放大示出图4的第一模块区域的“B”部分的局部放大平面图，图7是示出图6的第一模块区域的一例的局部放大平面图，图8是放大示出图4的第二模块区域的“C”部分的局部放大平面图。
参照图3、图5、图6以及图8，有机发光显示装置100可以具有显示区域10、第一模块区域20以及第二模块区域30。
如图5所示，显示区域10可以包括多个子像素区域11。在显示区域10内，子像素区域11可以沿与有机发光显示装置100的第一面S1平行的第一方向D1以及与第一方向D1垂直的第二方向D2排列。即，子像素区域11可以排列在整个(或几乎整个)的显示区域10内。例如，排列在显示区域10的子像素区域11可以利用如下方式进行排列：相同大小的矩形依次排列的RGB条状(RGB stripe)方式、包括具有相对较大的面积的蓝色子像素区域的S-条状(s-stripe)方式、还包括白色子像素区域的WRGB方式、以RG-GB反复形态排列的PenTile方式等。在示例性的实施例中，在显示区域10的各个子像素区域11可以布置有图9的半导体元件250、子像素结构物200等，并且可以通过半导体元件250以及子像素结构物200而在显示区域10中向第一面S1显示图像。
然而，虽然以本发明的显示区域10以及显示区域10所包括的各个子像素区域11的形状为四边形的平面形状的情形进行了说明，但所述形状并不限于此。例如，显示区域10以及显示区域10所包括的各个子像素区域11的形状还可以为三角形的平面形状、菱形的平面形状、多边形的平面形状、圆形的平面形状、操场跑道形的平面形状或者椭圆形的平面形状。
如图6所示，第一模块区域20可以包括多个子像素区域11和多个透过区域21。在此，外光可以通过透过区域21而透过。在第一模块区域20内，子像素区域11可以沿第一方向D1排列，透过区域21可以在与排列有子像素区域11的行不同的行上沿第一方向D1排列。即，子像素区域11和透过区域21可以排列在整个(或几乎整个)的第一模块区域20内。例如，排列在第一模块区域20的子像素区域11可以利用如下方式排列：相同大小的矩形依次排列的RGB条状方式、包括具有相对较大的面积的蓝色子像素区域的S-条状方式、还包括白色子像素区域的WRGB方式；以RG-GB反复形态排列的PenTile方式等。
在示例性的实施例中，在第一模块区域20的各个子像素区域11可以布置有图10的半导体元件250、子像素结构物200等，并且可以通过半导体元件250以及子像素结构物200而在第一模块区域20中向第一面S1显示图像。并且，通过第一模块区域20所包括的透过区域21而从外部入射的光(例如，外光)可以透过有机发光显示装置100，所述光可以被供应到布置在第一模块区域20的第一功能性模块410。尤其，布置在有机发光显示装置100的第二面S2上的第一模块区域20的第一功能性模块410可以通过第一模块区域20所包括的透过区域21而工作。换句话说，即使第一模块区域20所包括的各个透过区域21的尺寸相对小于第二模块区域30所包括的透过区域21的尺寸，第一功能性模块410也会利用相比于第二功能性模块420相对较少的量的外光而工作，因此在第一模块区域20中第一功能性模块410容易工作，与此同时，可以在第一模块区域20显示图像。
图5的显示区域10所包括的各个子像素区域11的尺寸可以与第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的尺寸实质相同。然而，由于透过区域21，第一模块区域20可能在每单位面积内包括相对较少的数量的子像素区域。换句话说，第一模块区域20的分辨率可能低于显示区域10的分辨率。
然而，虽然以本发明的第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的形状为四边形的平面形状的情形进行了说明，但所述形状并不限于此。例如，第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的形状还可以是三角形的平面形状、菱形的平面形状、多边形的平面形状、圆形的平面形状、操场跑道形的平面形状或者椭圆形的平面形状。
在其他示例性的实施例中，如图7所示，第一模块区域20也可以包括具有相对较宽的面积的透过区域21。换句话说，由于具有相对较宽的面积的透过区域21，图7的第一模块区域20可能在每单位面积内包括相对较少的数量的子像素区域。在此情形下，即使第一模块区域20的分辨率变得较低，由于具有相对较宽的面积的透过区域21，提供到第一功能性模块410的所述外光也可能变得相对更多。换句话说，有机发光显示装置100可以通过调节第一模块区域20所包括的各个透过区域21的尺寸，调节在第一模块区域20中朝向有机发光显示装置100的第一面S1入射并透过有机发光显示装置100的所述外部光的透过率。
如图8所示，第二模块区域30可以包括透过区域21。在此，图8的第二模块区域30所包括的透过区域21的尺寸可以大于图6的第一模块区域20所包括的各个透过区域21的尺寸。换句话说，第二模块区域30的尺寸可以和第二模块区域30所包括的透过区域21的尺寸实质相同。并且，外光可以透过第二模块区域30所包括的透过区域21。
在示例性的实施例中，如图11所示，在第二模块区域30、第一模块区域20所包括的各个透过区域21可以不被布置半导体元件和子像素结构物。即，所述半导体元件和所述子像素结构物并不布置于第二模块区域30，因此在第二模块区域30可能不显示图像。并且，外光可以通过第二模块区域30所包括的透过区域21而透过有机发光显示装置100，并且所述光可以被供应到布置在第二模块区域30的第二功能性模块420。尤其，布置在有机发光显示装置100的第二面S2上的第二模块区域30的第二功能性模块420可以通过第二模块区域30所包括的透过区域21而拍摄位于有机发光显示装置100的第一面S1上的事物的影像。换句话说，由于第二模块区域30所包括的透过区域21的尺寸相对大于第一模块区域20所包括的各个透过区域21的尺寸，因此所述外光可以相对较多地供应到第二功能性模块420，第二功能性模块420可以相对容易地识别位于有机发光显示装置100的第一面S1上的事物的影像。
然而，虽然说明了本发明的第二模块区域30所包括的透过区域21具有圆形的平面形状的情形，但所述形状并不限于此。例如，第二模块区域30所包括的透过区域21的形状还可以具有三角形的平面形状、菱形的平面形状、多边形的平面形状的情形、四边形的平面形状、操场跑道形的平面形状或者椭圆形的平面形状。
图9是沿图5的I-I'线截取的剖面图，图10是沿图6的II-II'线截取的剖面图，图11是沿图4的III-III'线截取的剖面图。
参照图9、图10以及图11，有机发光显示装置100可以包括下部基板110、半导体元件250、栅极绝缘层150、层间绝缘层190、平坦化层270、像素限定膜310、子像素结构物200、上部基板450、第一功能性模块410、第二功能性模块420等。在此，各个半导体元件250可以包括有源层130、栅电极170、源电极210以及漏电极230，各个子像素结构物200可以包括下部电极290、发光层330以及上部电极340。
为了便于说明，虽然假设为图9的半导体元件250和子像素结构物200与图10的半导体元件250和子像素结构物200具有相同的附图标记，但是图9的半导体元件250和子像素结构物200与图10的半导体元件250和子像素结构物200可以是彼此不同的半导体元件和彼此不同的子像素结构物。换句话说，图9的半导体元件250和子像素结构物200可以是布置在显示区域10所包括的各个子像素区域11的半导体元件和子像素结构物，图10的半导体元件250和子像素结构物200可以是布置在第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的半导体元件和子像素结构物。
有机发光显示装置100通过包括包含子像素区域11的显示区域10、包含子像素区域11和透过区域21的第一模块区域20以及包含透过区域21的第二模块区域30，从而下部基板110也可以被划分为包括包含子像素区域11的显示区域10、包含子像素区域11和透过区域21的第一模块区域20以及包含透过区域21的第二模块区域30。
可以提供包括透明或者不透明的材料的下部基板110。下部基板110可以包括石英(quartz)基板、合成石英(synthetic quartz)基板、氟化钙(calcium fluoride)基板、掺氟石英(F-doped quartz)基板、碱石灰(soda-lime)玻璃基板、无碱(non-alkali)玻璃基板等。
选择性地，下部基板110也可以利用具有柔性的透明树脂基板构成。作为能够用作下部基板110的透明树脂基板的示例，可以例举聚酰亚胺基板。在此情形下，所述聚酰亚胺基板可以利用第一聚酰亚胺层、阻挡膜层、第二聚酰亚胺层等构成。例如，所述聚酰亚胺基板可以具有在硬质的玻璃基板上依次层叠第一聚酰亚胺层、阻挡膜层以及第二聚酰亚胺层的结构。在此情形下，在有机发光显示装置的制造方法中，可以在所述聚酰亚胺基板的第二聚酰亚胺层上布置绝缘层之后，在所述绝缘层上布置上部结构物(例如，半导体元件250、子像素结构物200等)。在形成这些上部结构物后，可以去除所述硬质的玻璃基板。即，由于所述聚酰亚胺基板较薄且具有柔性，因此可能难以在所述聚酰亚胺基板上直接形成所述上部结构物。考虑到这一点，可以通过利用所述硬质的玻璃基板而形成所述上部结构物之后，去除所述玻璃基板，据此将所述聚酰亚胺基板利用为下部基板110。
在下部基板110上也可以布置有缓冲层(未示出)。所述缓冲层可以布置在整个(或几乎整个)的下部基板110上。所述缓冲层可以防止金属原子或者杂质从下部基板110扩散到所述上部结构物的现象，且可以在用于形成有源层130的晶化工序期间内调节热的传递速度而获得实质上均匀的有源层130。并且，在下部基板110的表面不均匀的情形下，所述缓冲层可以起到提高下部基板110的表面的平坦度的作用。根据下部基板110的类型，可以在下部基板110上提供两个以上的缓冲层或者不布置缓冲层。例如，所述缓冲层可以包括有机物质或者无机物质。
有源层130可以布置在下部基板110上的显示区域10所包括的子像素区域11和第一模块区域20所包括的子像素区域11。换句话说，有源层130可以不布置在第二模块区域30。有源层130可以包括氧化物半导体、无机物半导体(例如，非晶硅(amorphous silicon)、多晶硅(poly silicon)或者有机物半导体等。各个有源层130可以具有沟道区域、源极区域以及漏极区域。
栅极绝缘层150可以布置在有源层130以及下部基板110上的显示区域10、第一模块区域20以及第二模块区域30。在示例性的实施例中，栅极绝缘层150可以布置在整个(或几乎整个)的下部基板110上。例如，栅极绝缘层150可以在下部基板110上充分地覆盖有源层130，并且可以在有源层130的周围不形成阶梯差而具有实质上平坦的上面。选择性地，栅极绝缘层150也可以在下部基板110上覆盖有源层130，并且沿有源层130的轮廓以均匀的厚度布置。栅极绝缘层150可以包括硅化合物、金属氧化物等。例如，栅极绝缘层150可以包括硅氧化物(SiOx)、硅氮化物(SiNx)、硅氮氧化物(SiOxNy)、硅碳氧化物(SiOxCy)、硅碳氮化物(SiCxNy)、铝氧化物(AlOx)铝氮化物(AlNx)、钽氧化物(TaOx)、铪氧化物(HfOx)、锆氧化物(ZrOx)、钛氧化物(TiOx)等。在其他示例性的实施例中，栅极绝缘层150还可以具有包括利用彼此不同的物质构成的多个绝缘层的多层结构。
栅电极170可以布置在栅极绝缘层150上的显示区域10所包括的子像素区域11和第一模块区域20所包括的子像素区域11。换句话说，栅电极170可以不布置在第二模块区域30。例如，各个栅电极170可以布置在栅极绝缘层150中的下部布置有各个有源层130的部分上(例如，与有源层130的所述沟道区域重叠而布置)。各个栅电极170可以包括金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质等。例如，各个栅电极170可以包括金(Au)、银(Ag)、铝(Al)、铂(Pt)、镍(Ni)、钛(Ti)、钯(Pd)、镁(Mg)、钙(Ca)、锂(Li)、铬(Cr)、钽(Ta)、钨(W)、铜(Cu)、钼(Mo)、钪(Sc)、钕(Nd)、铱(Ir)、含金合金、含银合金、含铝合金、含铂合金、含铬合金、含铜合金、含钼合金、铝氮化物(AlNx)、钛氮化物(TiNx)、铬氮化物(CrNx)、钽氮化物(TaNx)、钨氮化物(WNx)、锶钌氧化物(SrRuxOy)、锌氧化物(ZnOx)、锡氧化物(SnOx)、铟氧化物(InOx)、镓氧化物(GaOx)、铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)等。它们可以被单独使用或者被彼此组合而使用。选择性地，各个栅电极170还可以具有包括多个层的多层结构。
在栅电极170和栅极绝缘层150上的显示区域10、第一模块区域20以及第二模块区域30可以布置有层间绝缘层190。在示例性的实施例中，层间绝缘层190可以布置在整个(或几乎整个)的栅极绝缘层150上。例如，层间绝缘层190可以在栅极绝缘层150上充分地覆盖栅电极170，并且可以在栅电极170的周围不形成阶梯差而具有实质上平坦的上面。选择性地，层间绝缘层190也可以在栅极绝缘层150上覆盖栅电极170，并且沿栅电极170的轮廓以均匀的厚度布置。层间绝缘层190可以包括硅化合物、金属氧化物等。在其他示例性的实施例中，层间绝缘层190也可以具有利用彼此不同的物质构成的多个绝缘层的多层结构。
源电极210和漏电极230可以布置在层间绝缘层190上的显示区域10所包括的子像素区域11和第一模块区域20所包括的子像素区域11。各个源电极210可以通过去除栅极绝缘层150以及层间绝缘层190的第一部分而形成的接触孔连接到各个有源层130的所述源极区域，各个漏电极230可以通过去除栅极绝缘层150和层间绝缘层190的第二部分而形成的接触孔连接到各个有源层130的所述漏极区域。源电极210和漏电极230各自可以包括金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质等。它们可以被单独使用或者被彼此组合而使用。选择性地，源电极210和漏电极230各自也可以具有包括多个层的多层结构。
据此，在显示区域10所包括的各个子像素区域11可以布置有包含有源层130、栅电极170、源电极210以及漏电极230的半导体元件250，在第一模块区域20所包括的各个子像素区域11中可以布置有包含有源层130、栅电极170、源电极210以及漏电极230的半导体元件250。
然而，虽然以各个半导体元件250具有上部栅极结构的情形进行了说明，但本发明的结构并不限于此。例如，各个半导体元件250也可以具有下部栅极结构、双栅极结构等。
并且，虽然以有机发光显示装置100在显示区域10所包括的各个子像素区域11和第一模块区域20所包括的各个子像素区域11具有一个半导体元件的情形进行了说明，但本发明的结构并不限于此。例如，有机发光显示装置100也可以在显示区域10所包括的各个子像素区域11和第一模块区域20所包括的各个子像素区域11包含至少一个半导体元件、至少一个存储电容器等。
在层间绝缘层190和半导体元件250上的显示区域10、第一模块区域20以及第二模块区域30可以布置有平坦化层270，在平坦化层270可以形成有使布置在显示区域10所包括的各个子像素区域11的漏电极230的一部分以及布置在第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的漏电极230的一部分暴露的接触孔。在示例性的实施例中，平坦化层270可以布置在整个(或几乎整个)的层间绝缘层190上。平坦化层270可以以充分地覆盖半导体元件250的方式布置为相对较厚的厚度，在这种情形下，平坦化层270可以具有实质上平坦的上面，而为了呈现这种平坦化层270的平坦的上面，可以对平坦化层270附加执行平坦化工序。平坦化层270可以包括有机物质或者无机物质等。在示例性的实施例中，平坦化层270可以包括有机物质。例如，平坦化层270可以包括光致抗蚀剂、聚丙烯酸类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂、硅氧烷类树脂、丙烯酸类树脂、环氧类树脂等。
下部电极290可以布置在平坦化层270上的显示区域10所包括的子像素区域11和第一模块区域20所包括的子像素区域11。例如，布置在显示区域10所包括的各个子像素区域11的下部电极290可以通过平坦化层270的所述接触孔而与布置在显示区域10所包括的各个子像素区域11的漏电极230直接接触，布置在显示区域10所包括的各个子像素区域11的下部电极290可以与布置在显示区域10所包括的各个子像素区域11的半导体元件250电连接。并且，布置在第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的下部电极290可以通过所述接触孔而与布置在第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的漏电极230直接接触，布置在第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的下部电极290可以与布置在第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的半导体元件250电连接。各个下部电极290可以包括金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质等。它们可以被单独使用或者被彼此组合而使用。在其他示例性的实施例中，各个下部电极290也可以具有包括多个层的多层结构。
像素限定膜310可以布置在平坦化层270上的显示区域10和第一模块区域20。换句话说，像素限定膜310可以不布置在第二模块区域30。例如，像素限定膜310可以覆盖各个下部电极290的两侧部，并且可以具有暴露各个下部电极290的上面的一部分的开口。在示例性的实施例中，像素限定膜310可以在第一模块区域20中具有使第一模块区域20所包括的透过区域21和位于与各个所述透过区域21相邻的第一模块区域20的平坦化层270的上面暴露的开口301，并且可以在显示区域10中具有使位于第二模块区域30的平坦化层270的上面暴露的开口302。像素限定膜310可以利用有机物质或者无机物质构成。在示例性的实施例中，像素限定膜310可以包括有机物质。选择性地，像素限定膜310也可以布置在第二模块区域30所包括的透过区域21。在此情形下，像素限定膜310可以包括透明物质。
发光层330可以布置在像素限定膜310、下部电极290以及平坦化层270的一部分上的显示区域10、第一模块区域20的一部分，但不布置在第二模块区域30。在示例性的实施例中，发光层330可以在显示区域10中布置在整个(或几乎整个)的像素限定膜310和下部电极290上。并且，发光层330可以在第一模块区域20中布置在布置于各个子像素区域11的下部电极290和布置在第一模块区域20的像素限定膜310上，但不布置在透过区域21。换句话说，发光层330可以在第一模块区域20所包括的各个透过区域21具有暴露平坦化层270的上面的第一开口331。尤其，发光层330可以在第二模块区域30所包括的透过区域21具有暴露平坦化层270的上表面的第三开口332。因此，发光层330具有形成于第一模块区域20的第一开口331以及形成于第二模块区域30的第三开口332，据此可以使从外部入射的光容易地在第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21透过。
发光层330可以具有包括有机发光层(EML：organic light emission layer)、空穴注入层(HIL：hole injection layer)、空穴传输层(HTL：hole transport layer)、电子传输层(ETL：electron transport layer)、电子注入层(EIL：electron injection layer)等的多层结构。在示例性的实施例中，有机发光层(EML)、空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)以及电子注入层(EIL)可以在显示区域10和第一模块区域20所包括的子像素区域11以及布置在显示区域10和第一模块区域20的像素限定膜310上全部布置。在其他示例性的实施例中，有机发光层(EML)可以仅布置在显示区域10和第一模块区域20所包括的子像素区域11，而除了有机发光层(EML)以外的空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)以及电子注入层(EIL)可以布置在布置于显示区域10和第一模块区域20的像素限定膜310上。
发光层330的有机发光层(EML)可以使用能够根据子像素而发出不同颜色的光(即，红色光、绿色光、蓝色光等)的发光物质中的至少一个而形成。与此不同地，发光层330的有机发光层(EML)还可以层叠能够产生红色光、绿色光、蓝色光等不同颜色的光的多个发光物质而整体发出白色光。在这种情形下，在布置于下部电极290上的发光层330上可以布置有滤色器。所述滤色器可以包括红色滤色器、绿色滤色器、蓝色滤色器中的至少一个。选择性地，所述滤色器也可以包括黄色(Yellow)滤色器、蓝绿色(Cyan)滤色器以及紫红色(Magenta)滤色器。所述滤色器可以包括感光性树脂或者彩色光致抗蚀剂。
上部电极340可以布置在发光层330上的显示区域10和第一模块区域20的一部分，并且不布置在第二模块区域30。在示例性的实施例中，上部电极340可以在显示区域10中布置在整个(或几乎整个)的发光层330上。并且，上部电极340可以在第一模块区域20中与发光层330重叠而布置。换句话说，上部电极340可以在第一模块区域20所包括的各个透过区域21中具有与暴露平坦化层270的上面的第一开口331重叠的第二开口341。并且，上部电极340可以在第二模块区域30所包括的透过区域21中具有与暴露平坦化层270的上面的第三开口332重叠的第四开口342。据此，通过使上部电极340具有形成于第一模块区域20的第二开口341和形成于第二模块区域30的第四开口342，从而使从外部入射的光可以容易地在第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21透过。
在示例性的实施例中，布置有第一开口331和第二开口341的部分可以各自对应于第一模块区域20所包括的透过区域21，布置有第三开口332和第四开口342的部分可以对应于第二模块区域30所包括的透过区域21。
上部电极340可以包括金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质等。它们可以被单独使用或者被彼此组合而使用。选择性地，上部电极340也可以具有包括多个层的多层结构。
据此，在显示区域10所包括的各个子像素区域11可以布置有包括下部电极290、发光层330以及上部电极340的子像素结构物200，在第一模块区域20所包括的各个子像素区域11可以布置有包括下部电极290、发光层330以及上部电极340的子像素结构物200。在此，位于显示区域10的发光层330和位于第一模块区域20的发光层330可以形成为一体，位于显示区域10的上部电极340和位于第一模块区域20的上部电极340也可以形成为一体。
在其他示例性的实施例中，有机发光显示装置100还可以包括覆盖层，所述覆盖层可以布置在上部电极340上的显示区域10和第一模块区域20的一部分，而不布置在第二模块区域30。所述覆盖层可以在显示区域10中布置在整个(或几乎整个)的上部电极340上。并且，所述覆盖层可以在第一模块区域20中与上部电极340重叠而布置。换句话说，所述覆盖层可以在第一模块区域20所包括的各个透过区域21具有与暴露平坦化层270的上面的第一开口331和第二开口341重叠的开口。尤其，所述覆盖层可以在第二模块区域30所包括的透过区域21具有暴露平坦化层270的上面的开口。所述覆盖层可以保护子像素结构物200，并且可以包括有机物质或者无机物质。在示例性的实施例中，所述覆盖层可以包括三胺(triamine)衍生物、亚芳基二胺(arylenediamine)衍生物、4,4'-双(N-咔唑基)-1,1'-联苯(CBP：4,4'-bis(N-carbazolyl)-1,1'-biphenyl)、三(8-羟基喹啉)铝(Alq3：tris-8-hydroxyquinoline aluminum)等有机物质。
在上部电极340上可以布置有上部基板450，上部基板450可以与下部基板110对向。上部基板450可以具有与下部基板110实质相同的材料。例如，上部基板450可以包括石英基板、合成石英基板、氟化钙基板、掺氟石英基板、碱石灰玻璃基板、无碱玻璃基板等。在其他示例性的实施例中，上部基板450也可以包括透明无机物质或者柔性塑料。例如，上部基板450可以包括具有柔性的透明树脂基板。在这种情形下，为了提高有机发光显示装置100的柔性，可以具有交替层叠至少一个无机层以及至少一个有机层的结构。所述层叠结构可以利用第一无机层、有机层以及第二无机层构成。例如，沿上部电极340的轮廓可以布置有具有柔性的第一无机层，在所述第一无机层上可以布置有具有柔性的有机层，在所述有机层上可以布置有具有柔性的第二无机层。即，所述层叠结构可相当于与所述上部电极340直接接触的薄膜封装结构物。
第一功能性模块410可以与下部基板110的底面(例如，有机发光显示装置100的第二面S2)上的第一模块区域20重叠而布置。第一功能性模块410可以通过第一模块区域20所包括的透过区域21而感测有机发光显示装置100的第一面S1上的周围情况或者感测事物的影像。在示例性的实施例中，第一功能性模块410可以包括人脸识别传感器模块、瞳孔识别传感器模块、加速度传感器模块、地磁场传感器模块、接近传感器模块、红外线传感器模块、照度传感器模块等。
第二功能性模块420可以与下部基板110的底面上的第二模块区域30重叠而布置。第二功能性模块420可以通过第二模块区域30所包括的透过区域21而拍摄位于有机发光显示装置100的第一面S1上的事物的影像。在示例性的实施例中，第二功能性模块420可以包括相机模块。
据此，可以布置有包括下部基板110、半导体元件250、栅极绝缘层150、层间绝缘层190、平坦化层270、像素限定膜310、子像素结构物200、上部基板450、第一功能性模块410、第二功能性模块420的有机发光显示装置100。
根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置100包含包括子像素区域11和透过区域21的第一模块区域20和包括透过区域21的第二模块区域30，从而可以不在有机发光显示装置100形成开口的情况下将第一功能性模块410和第二功能性模块420包括于有机发光显示装置100。
并且，通过在第一模块区域20包括子像素区域11，从而可以在第一模块区域20显示图像。尤其，通过使发光层330和上部电极340不布置在第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21，从而可以将外光容易地供应到第一功能性模块410和第二功能性模块420。据此，第一功能性模块410和第二功能性模块420可以感测位于有机发光显示装置100的第一面S1的周围情况或者拍摄事物的影像。
图12和图13是示出根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置的剖面图。例如，图12是沿图6的II-II'线截取的剖面图，图13是沿图4的III-III'线截取的剖面图。对在图12和图13举例示出的有机发光显示装置500而言，除了下部分隔件510和下部结构物610以外，可以与参照图1至图11说明的有机发光显示装置100具有实质相同或者相似的结构。在图12和图13，针对与参照图1至图11说明的构成要素实质相同或者相似的构成要素省略重复的说明。
参照图9、图12和图13，有机发光显示装置500可以包括下部基板110、半导体元件250、栅极绝缘层150、层间绝缘层190、平坦化层270、像素限定膜310、下部分隔件510、下部结构物610、子像素结构物200、上部基板450、第一功能性模块410、第二功能性模块420等。在此，各个子像素结构物200可以包括下部电极290、发光层330以及上部电极340。
像素限定膜310可以布置在平坦化层270上的显示区域10和第一模块区域20。换句话说，像素限定膜310可以不布置在第二模块区域30。例如，像素限定膜310可以覆盖各个下部电极290的两侧部，并且可以具有暴露各个下部电极290的上面的一部分的开口。在示例性的实施例中，像素限定膜310可以在第一模块区域20中具有暴露第一模块区域20所包括的透过区域21和位于与各个所述透过区域21相邻的第一模块区域20的平坦化层270的上面的开口301，并且可以在显示区域10中具有使位于第二模块区域30的平坦化层270的上面暴露的开口302。像素限定膜310可以利用有机物质构成。
下部分隔件510可以布置在平坦化层270上的第一模块区域20。例如，各个下部分隔件510可以在第一模块区域20中布置在像素限定膜310的开口301，并且可以与像素限定膜310相隔。在示例性的实施例中，各个下部分隔件510的上面可以位于与像素限定膜310的上面相同的水平高度(level)。各个下部分隔件510可以包括有机物质。例如，各个下部分隔件510可以包括光致抗蚀剂、聚丙烯酸类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂、硅氧烷类树脂、丙烯酸类树脂、环氧类树脂等。
下部结构物610可以布置在平坦化层270上的第二模块区域30。例如，下部结构物610可以在第二模块区域30中布置在像素限定膜310的开口302，并且可以与像素限定膜310相隔。在示例性的实施例中，下部结构物610的上面可以位于与像素限定膜310的上面和下部分隔件510的上面相同的水平高度。下部结构物610可以包括有机物质。
发光层330可以布置在像素限定膜310、下部电极290、下部分隔件510的一部分、下部结构物610的一部分以及平坦化层270的一部分上的显示区域10、第一模块区域20的一部分，而不布置在第二模块区域30。在示例性的实施例中，发光层330在显示区域10中布置在整个(或几乎整个)的像素限定膜310和下部电极290上。并且，发光层330虽然在第一模块区域20中布置在布置于各个子像素区域11的下部电极290和布置在第一模块区域20的像素限定膜310上，但可以不布置在透过区域21。换句话说，发光层330可以在第一模块区域20所包括的各个透过区域21具有暴露下部分隔件510的上面的第一开口331。在此情形下，发光层330可以布置在下部分隔件510的侧面的至少一部分。尤其，发光层330可以在第二模块区域30所包括的透过区域21中具有暴露下部结构物610的上面的第三开口332。在此情形下，发光层330可以布置在下部结构物610的侧面的至少一部分。据此，通过使发光层330具有形成于第一模块区域20的第一开口331以及形成于第二模块区域30的第三开口332，从而可以使从外部入射的光容易地在第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21透过。
发光层330的有机发光层(EML)可以使用能够根据子像素而发出不同颜色的光的发光物质中的至少一个而形成。与此不同地，发光层330的有机发光层(EML)还可以层叠能够产生红色光、绿色光、蓝色光等不同颜色的光的多个发光物质而整体发出白色光。
上部电极340可以布置在发光层330上的显示区域10和第一模块区域20的一部分，并且不布置在第二模块区域30。在示例性的实施例中，上部电极340可以在显示区域10中布置在整个(或几乎整个)的发光层330上。并且，上部电极340可以在第一模块区域20中与发光层330重叠而布置。换句话说，上部电极340可以在第一模块区域20所包括的各个透过区域21中具有与暴露下部分隔件510的上面的第一开口331重叠的第二开口341。在此情形下，上部电极340可以布置为与下部分隔件510的侧面的至少一部分重叠。尤其，上部电极340可以在第二模块区域30所包括的透过区域21中具有与暴露下部结构物610的上面的第三开口332重叠的第四开口342。在此情形下，上部电极340可以布置为与下部结构物610的侧面的至少一部分重叠。据此，通过使上部电极340具有形成于第一模块区域20的第二开口341和形成于第二模块区域30的第四开口342，从而使从外部入射的光可以容易地在第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21透过。
在示例性的实施例中，布置有第一开口331和第二开口341的部分可以对应于第一模块区域20所包括的各个透过区域21，布置有第三开口332和第四开口342的部分可以对应于第二模块区域30所包括的透过区域21。
上部电极340可以包括金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质等。它们可以被单独使用或者被彼此组合而使用。选择性地，上部电极340也可以具有包括多个层的多层结构。
根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置500可以包括下部分隔件510以及下部结构物610。在有机发光显示装置500的制造方法中，为了在第一模块区域20和第二模块区域30中的发光层330和上部电极340形成第一开口331、第二开口341、第三开口332以及第四开口342而可以使用研磨带。可以利用所述研磨带在第一模块区域20和第二模块区域30去除发光层330和上部电极340的一部分。通过使有机发光显示装置500包括下部分隔件510和下部结构物610，可以使将要通过所述研磨带而被去除的发光层330和上部电极340的水平高度相对变高。据此，可以相对容易地执行所述研磨带的研磨工序。例如，在有机发光显示装置500不包括下部分隔件510和下部结构物610的情形下，所述研磨带需要去除布置在像素限定膜310的开口301以及布置在开口302的内部的发光层330和上部电极340，因此所述研磨工序可能相对更困难。
图14和图15是示出根据本发明的实施例性的实施例的有机发光显示装置的剖面图。例如，图14是沿图6的II-II'线截取的剖面图，图15是沿图4的III-III'线截取的剖面图。对在图14和图15举例示出的有机发光显示装置600而言，除了上部分隔件520和上部结构物620以外，可以与参照图12至图13说明的有机发光显示装置500具有实质相同或者相似的结构。在图14和图15，针对与参照图12至图13说明的构成要素实质相同或者相似的构成要素省略重复的说明。
参照图9、图14和图15，有机发光显示装置600可以包括下部基板110、半导体元件250、栅极绝缘层150、层间绝缘层190、平坦化层270、像素限定膜310、下部分隔件510、上部分隔件520、下部结构物610、上部结构物620、子像素结构物200、上部基板450、第一功能性模块410、第二功能性模块420等。在此，各个子像素结构物200可以包括下部电极290、发光层330以及上部电极340。
上部分隔件520可以分别布置在下部分隔件510上。例如，各个上部分隔件520可以在第一模块区域20中布置在像素限定膜310的开口301，并且可以与像素限定膜310相隔。在示例性的实施例中，各个上部分隔件520的上面可以位于高于像素限定膜310的上面的水平高度。各个上部分隔件520可以包括有机物质。例如，各个上部分隔件520可以包括光致抗蚀剂、聚丙烯酸类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂、硅氧烷类树脂、丙烯酸类树脂、环氧类树脂等。
上部结构物620可以布置在下部结构物610上。例如，上部结构物620可以在第二模块区域30中布置在像素限定膜310的开口302，并且可以与像素限定膜310相隔。在示例性的实施例中，上部结构物620的上面可以位于高于像素限定膜310的上面和下部分隔件510的上面的水平高度。上部结构物620可以包括有机物质。
发光层330可以布置在像素限定膜310、下部电极290、下部分隔件510、上部分隔件520的一部分、下部结构物610、上部结构物620的一部分以及平坦化层270的一部分上的显示区域10、第一模块区域20的一部分，但不布置在第二模块区域30。在示例性的实施例中，发光层330可以在显示区域10中布置在整个(或几乎整个)的像素限定膜310和下部电极290上。并且，发光层330可以在第一模块区域20中布置在布置于各个子像素区域11的下部电极290和布置于第一模块区域20的像素限定膜310上，但不布置在透过区域21。换句话说，发光层330可以在第一模块区域20所包括的各个透过区域21中具有暴露上部分隔件520的上面的第一开口331。在此情形下，发光层330可以布置在上部分隔件520的侧面的至少一部分。并且，发光层330可以在第二模块区域30所包括的透过区域21具有暴露上部结构物620的上面的第三开口332。在此情形下，发光层330可以布置在上部结构物620的侧面的至少一部分。据此，通过使发光层330具有形成于第一模块区域20的第一开口331和形成于第二模块区域30的第三开口332，从而使从外部入射的光可以容易地通过第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21。
发光层330的有机发光层(EML)可以使用能够根据子像素而发出不同颜色的光的发光物质中的至少一个而形成。与此不同地，发光层330的有机发光层(EML)还可以层叠能够产生红色光、绿色光、蓝色光等不同颜色的光的多个发光物质而整体发出白色光。
上部电极340可以布置在发光层330上的显示区域10和第一模块区域20的一部分，并且不布置在第二模块区域30。在示例性的实施例中，上部电极340可以在显示区域10中布置在整个(或几乎整个)的发光层330上。并且，上部电极340可以在第一模块区域20中与发光层330重叠而布置。换句话说，上部电极340可以在第一模块区域20所包括的各个透过区域21中具有与暴露上部分隔件520的上面的第一开口331重叠的第二开口341。在此情形下，上部电极340可以布置为与上部分隔件520的侧面的至少一部分重叠。尤其，上部电极340可以在第二模块区域30所包括的透过区域21中具有与暴露上部结构物620的上面的第三开口332重叠的第四开口342。在此情形下，上部电极340可以布置为与上部结构物620的侧面的至少一部分重叠。据此，通过使上部电极340具有形成于第一模块区域20的第二开口341和形成于第二模块区域30的第四开口342，从而使从外部入射的光可以容易地在第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21透过。
在示例性的实施例中，布置有第一开口331和第二开口341的部分可以对应于第一模块区域20所包括的各个透过区域21，布置有第三开口332和第四开口342的部分可以对应于第二模块区域30所包括的透过区域21。
上部电极340可以包括金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质等。它们可以被单独使用或者被彼此组合而使用。选择性地，上部电极340也可以具有包括多个层的多层结构。
根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置600可以包括下部分隔件510、上部分隔件520、下部结构物610以及上部结构物620。在有机发光显示装置600的制造方法中，为了在第一模块区域20和第二模块区域30中的发光层330和上部电极340形成第一开口331、第二开口341、第三开口332以及第四开口342而可以使用研磨带。可以利用所述研磨带在第一模块区域20和第二模块区域30去除发光层330和上部电极340的一部分。通过使有机发光显示装置600包括下部分隔件510、上部分隔件520、下部结构物610以及上部结构物620，可以使将要通过所述研磨带而被去除的发光层330和上部电极340的水平高度相对变高。据此，可以相对容易地执行所述研磨带的研磨工序。例如，由于布置在第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21的发光层330和上部电极340布置为相对突出，因此研磨带可以固定在同一位置而去除所述发光层330和所述上部电极340。或者，由于布置在第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21的发光层330和上部电极340布置为相对突出，因此可以利用相对较宽的研磨带一次性去除相对较多数量的位于上部分隔件520的发光层330和上部电极340。
图16至图31是示出根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置的制造方法的剖面图。
参照图16、图17和图18，可以提供有包括透明或者不透明的材料的下部基板110。下部基板110可以使用石英基板、合成石英基板、氟化钙基板、掺氟石英基板、碱石灰玻璃基板、无碱玻璃基板等而形成。
在下部基板110上也可以形成有缓冲层。所述缓冲层可以形成于整个(或几乎整个)的下部基板110上。所述缓冲层可以防止金属原子或者杂质从下部基板110扩散到所述上部结构物的现象，并且可以在用于形成有源层130的晶化工序期间内调节热的传递速度而获得实质上均匀的有源层130。并且，在下部基板110的表面不均匀的情形下，所述缓冲层可以执行提高下部基板110的表面的平坦度的作用。根据下部基板110的类型，可以在下部基板110上提供两个以上的缓冲层或者不形成缓冲层。例如，所述缓冲层可以使用有机物质或者无机物质来形成。
有源层130可以形成在下部基板110上的显示区域10所包括的子像素区域11和第一模块区域20所包括的子像素区域11。换句话说，有源层130可以不形成在第二模块区域30。有源层130可以包括氧化物半导体、无机物半导体或者有机物半导体等。各个有源层130可以具有沟道区域、源极区域以及漏极区域。
栅极绝缘层150可以形成于有源层130以及下部基板110上的显示区域10、第一模块区域20以及第二模块区域30。在示例性的实施例中，栅极绝缘层150可以布置在整个(或几乎整个)的下部基板110上。例如，栅极绝缘层150可以在下部基板110上充分地覆盖有源层130，并且可以在有源层130的周围不形成阶梯差而具有实质上平坦的上面。选择性地，栅极绝缘层150也可以形成为在下部基板110上覆盖有源层130，并且沿有源层130的轮廓以均匀的厚度形成。栅极绝缘层150可以使用硅化合物、金属氧化物等而形成。例如，栅极绝缘层150可以包括硅氧化物、硅氮化物、硅氮氧化物、硅碳氧化物、硅碳氮化物、铝氧化物、铝氮化物、钽氧化物、铪氧化物、锆氧化物、钛氧化物等。在其他示例性的实施例中，栅极绝缘层150还可以具有包括利用彼此不同的物质构成的多个绝缘层的多层结构。
栅电极170可以形成于栅极绝缘层150上的显示区域10所包括的子像素区域11和第一模块区域20所包括的子像素区域11。换句话说，栅电极170可以不形成于第二模块区域30。例如，各个栅电极170可以形成于栅极绝缘层150中的下部布置有各个有源层130的部分上(例如，与有源层130的所述沟道区域重叠而形成)。各个栅电极170可以使用金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质等而形成。例如，各个栅电极170可以包括金、银、铝、铂、镍、钛、钯、镁、钙、锂、铬、钽、钨、铜、钼、钪、钕、铱、含金合金、含银合金、含铝合金、含铂合金、含铬合金、含铜合金、含钼合金、铝氮化物、钛氮化物、铬氮化物、钽氮化物、钨氮化物、锶钌氧化物、锌氧化物、锡氧化物、铟氧化物、镓氧化物、铟锡氧化物、铟锌氧化物等。它们可以被单独使用或者被彼此组合而使用。选择性地，各个栅电极170还可以具有包括多个层的多层结构。
在栅电极170和栅极绝缘层150上的显示区域10、第一模块区域20以及第二模块区域30可以形成有层间绝缘层190。在示例性的实施例中，层间绝缘层190可以形成于整个(或几乎整个)的栅极绝缘层150上。例如，层间绝缘层190可以在栅极绝缘层150上充分地覆盖栅电极170，并且可以在栅电极170的周围不形成阶梯差而具有实质上平坦的上面。选择性地，层间绝缘层190也可以在栅极绝缘层150上覆盖栅电极170，并且沿栅电极170的轮廓以均匀的厚度形成。层间绝缘层190可以使用硅化合物、金属氧化物等而形成。在其他示例性的实施例中，层间绝缘层190也可以具有利用彼此不同的物质构成的多个绝缘层的多层结构。
参照图19、图20以及图21，源电极210和漏电极230可以形成于层间绝缘层190上的显示区域10所包括的子像素区域11和第一模块区域20所包括的子像素区域11。各个源电极210可以通过去除栅极绝缘层150以及层间绝缘层190的第一部分而形成的接触孔连接到各个有源层130的所述源极区域，各个漏电极230可以通过去除栅极绝缘层150和层间绝缘层190的第二部分而形成的接触孔连接到各个有源层130的所述漏极区域。源电极210和漏电极230各自可以使用金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质等而形成。它们可以被单独使用或者被彼此组合而使用。选择性地，源电极210和漏电极230各自也可以具有包括多个层的多层结构。
据此，在显示区域10所包括的各个子像素区域11可以形成有包含有源层130、栅电极170、源电极210以及漏电极230的半导体元件250，在第一模块区域20所包括的各个子像素区域11可以形成有包含有源层130、栅电极170、源电极210以及漏电极230的半导体元件250。换句话说，半导体元件250可以不形成于第二模块区域30。
在层间绝缘层190和半导体元件250上的显示区域10、第一模块区域20以及第二模块区域30可以形成有平坦化层270，在平坦化层270可以形成有使形成于显示区域10所包括的各个子像素区域11的漏电极230的一部分以及形成于第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的漏电极230的一部分暴露的接触孔。在示例性的实施例中，平坦化层270可以形成于整个(或几乎整个)的层间绝缘层190上。平坦化层270可以形成为相对较厚的厚度，以充分地覆盖半导体元件250，在此情形下，平坦化层270可以具有实质上平坦的上面，为了呈现这种平坦化层270的平坦的上面，可以对平坦化层270附加执行平坦化工序。平坦化层270可以使用有机物质而形成。
下部电极290可以形成于平坦化层270上的显示区域10所包括的子像素区域11和第一模块区域20所包括的子像素区域11。例如，形成于显示区域10所包括的各个子像素区域11的下部电极290可以通过平坦化层270的所述接触孔而与形成于显示区域10所包括的各个子像素区域11的漏电极230直接接触，形成于显示区域10所包括的各个子像素区域11的下部电极290可以与形成于显示区域10所包括的各个子像素区域11的半导体元件250电连接。并且，形成于第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的下部电极290可以通过所述接触孔而与形成于第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的漏电极230直接接触，形成于第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的下部电极290可以与形成于第一模块区域20所包括的各个子像素区域11的半导体元件250电连接。各个下部电极290可以使用金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质等而形成。它们可以被单独使用或者被彼此组合而使用。在其他示例性的实施例中，各个下部电极290也可以具有包括多个层的多层结构。
参照图22、图23以及图24，像素限定膜310可以形成于平坦化层270上的显示区域10和第一模块区域20。换句话说，像素限定膜310可以不形成于第二模块区域30。例如，像素限定膜310可以覆盖各个下部电极290的两侧部，并且可以具有暴露各个下部电极290的上面的一部分的开口。在示例性的实施例中，像素限定膜310可以在第一模块区域20具有使第一模块区域20所包括的透过区域21和位于与各个所述透过区域21相邻的第一模块区域20的平坦化层270的上面暴露的开口301，并且可以在显示区域10中具有使位于第二模块区域30的平坦化层270的上面暴露的开口302。像素限定膜310可以使用有机物质形成。选择性地，像素限定膜310也可以形成于第二模块区域30所包括的透过区域21。在此情形下，像素限定膜310可以使用透明物质形成。
下部分隔件510可以形成于平坦化层270上的第一模块区域20。例如，各个下部分隔件510可以在第一模块区域20中形成于像素限定膜310的开口301，并且可以与像素限定膜310相隔。各个下部分隔件510可以使用有机物质形成。例如，各个下部分隔件510可以包括光致抗蚀剂、聚丙烯酸类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂、硅氧烷类树脂、丙烯酸类树脂、环氧类树脂等。
下部结构物610可以布置在平坦化层270上的第二模块区域30。例如，下部结构物610可以在第二模块区域30中形成于像素限定膜310的开口302，并且可以与像素限定膜310相隔。下部结构物610可以使用有机物质形成。在示例性的实施例中，下部结构物610、像素限定膜310以及下部分隔件510可以在同一层中使用同一种物质而同时形成。
上部分隔件520可以分别形成于下部分隔件510上。例如，各个上部分隔件520可以在第一模块区域20中形成于像素限定膜310的开口301，并且可以与像素限定膜310相隔。各个上部分隔件520可以使用有机物质而形成。
上部结构物620可以形成于下部结构物610上。例如，上部结构物620可以在第二模块区域30中形成于像素限定膜310的开口302，并且可以与像素限定膜310相隔。上部结构物620可以使用有机物质而形成。在示例性的实施例中，上部分隔件520和上部结构物620可以使用同一种物质而同时形成。
参照图25、图26以及图27，发光层330可以形成于像素限定膜310、下部电极290、下部分隔件510、上部分隔件520、下部结构物610、上部结构物620以及平坦化层270上的显示区域10、第一模块区域20以及第二模块区域30上。换句话说，发光层330可以形成于整个(或几乎整个)的下部基板110上。发光层330可以具有包括有机发光层(EML)、空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)、电子注入层(EIL)等的多层结构。发光层330的有机发光层(EML)可以使用能够根据子像素而发出不同颜色的光的发光物质中的至少一个形成。与此不同地，发光层330的有机发光层(EML)还可以通过层叠能够产生红色光、绿色光、蓝色光等不同颜色的光的多个发光物质而整体发出白色光。
上部电极340可以形成于发光层330上的显示区域10、第一模块区域20以及第二模块区域30上。换句话说，上部电极340可以形成于整个(或几乎整个)的发光层330上。上部电极340可以使用金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质等形成。它们可以被单独使用或者被彼此组合而使用。选择性地，上部电极340也可以具有包括多个层的多层结构。
据此，在显示区域10所包括的各个子像素区域11可以形成有包括下部电极290、发光层330以及上部电极340的子像素结构物200，在第一模块区域20所包括的各个子像素区域11可以形成有包括下部电极290、发光层330以及上部电极340的子像素结构物200。
参照图28和图29，可以使用尖端部(tip)710以及研磨带720而进行研磨工序。可以通过所述研磨工序去除形成于上部分隔件520上的发光层330和上部电极340以及形成于上部结构物620上的发光层330和上部电极340。选择性地，由于形成于第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21的发光层330以及上部电极340相对突出而布置，因此可以利用尖端部710和研磨带720而一次性去除相对多的数量的位于上部分隔件520的发光层330和上部电极340。
例如，在现有的有机发光显示装置的制造方法中，为了使第一功能性模块410和第二功能性模块420包括于所述现有的有机发光显示装置，可以在所述现有的有机发光显示装置的一部分形成有开口。在这种情形下，在形成有所述开口的部分无法显示图像，并且在形成所述开口的过程中，所述现有的有机发光显示装置有可能会受损。并且，在以掩模工序替代所述研磨工序而去除位于透过区域21的发光层330和上部电极340的情形下，在所述掩模中不形成相同图案的开口部(或者左右对称的开口部)，且为了去除位于透过区域21的发光层330和上部电极340而可能形成不同图案的开口部(或者非左右对称的开口部)。在此情形下，所述掩模得不到均匀的拉伸而可能引起发光层330和上部电极340的不良。并且，在通过蚀刻工序而去除位于透过区域21的发光层330和上部电极340的情形下，可能产生颗粒(particle)和烟尘(fume)而对相邻的发光层330造成污染。即，为了去除位于透过区域21的发光层330和上部电极340，只能使用所述研磨工序。
参照图30和图31，在所述研磨工序后，在第一模块区域20所包括的各个透过区域21中，可以在发光层330形成有暴露上部分隔件520的上面的第一开口331以及在第二模块区域30所包括的透过区域21暴露上部结构物620的上面的第三开口332。据此，由于发光层330具有形成于第一模块区域20的第一开口331和形成于第二模块区域30的第三开口332，从而可以使从外部入射的光容易地通过第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21。
并且，在第一模块区域20所包括的各个透过区域21中，可以在上部电极340形成有第二开口341和第四开口342，所述第二开口341与使上部分隔件520的上面暴露的第一开口331重叠，所述第四开口342在第二模块区域30所包括的透过区域21中与使上部结构物620的上面暴露的第三开口332重叠。据此，通过使上部电极340具有形成于第一模块区域20的第二开口341和形成于第二模块区域30的第四开口342，从而可以使从外部入射的光容易地在第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21透过。
参照图9、图14和图15，可以在上部电极340上形成上部基板450，上部基板450可以与下部基板110对向。上部基板450可以使用实质上与下部基板110相同的材料而形成。例如，上部基板450可以包括石英基板、合成石英基板、氟化钙基板、掺氟石英基板、碱石灰玻璃基板、无碱玻璃基板等。
第一功能性模块410可以与下部基板110的底面上的第一模块区域20重叠而形成。第一功能性模块410可以通过第一模块区域20所包括的透过区域21而感测上部基板450的上面上的周围情况或者感测上部基板450的上面上的事物的影像。在示例性的实施例中，第一功能性模块410可以使用人脸识别传感器模块、瞳孔识别传感器模块、加速度传感器模块、地磁场传感器模块、接近传感器模块、红外线传感器模块、照度传感器模块等而形成。
第二功能性模块420可以与下部基板110的底面上的第二模块区域30重叠而形成。第二功能性模块420可以通过第二模块区域30所包括的透过区域21而拍摄位于上部基板450的上面上的事物的影像。在示例性的实施例中，第二功能性模块420可以使用相机模块而形成。
据此，可以制造图14和图15所示的有机发光显示装置600。如前所述，通过利用所述研磨工序方法，还可以容易地制造图10和图11所示的有机发光显示装置100以及图12和图13所示的有机发光显示装置500。
在根据本发明的示例性的实施例的有机发光显示装置的制造方法中，通过在第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21去除发光层330和上部电极340，从而可以使从外部入射的光能够容易地在第一模块区域20所包括的透过区域21和第二模块区域30所包括的透过区域21透过。
如上所述，虽然参照本发明的示例性的实施例进行了说明，但只要是在本技术领域中具有普通知识的人员，则应当理解在不脱离本发明的思想和领域的范围内可以对本发明进行多种修改以及变更。
产业上的可利用性
本发明可以应用于能够配备有机发光显示装置的多种显示设备。例如，本发明可以应用于车辆用、船舶用以及飞行设备用显示装置、便携式通信装置、展示用或者传递信息用显示装置、医疗用显示装置等多种显示设备。

Claims (10)

1.一种有机发光显示装置，包括：
下部基板，具有包括子像素区域和透过区域的第一模块区域以及围绕所述第一模块区域且包括所述子像素区域的显示区域；
多个下部电极，分别布置在所述下部基板上的所述第一模块区域所包括的所述子像素区域；
发光层，布置在所述下部电极上，并且在所述下部电极中的相邻的两个下部电极之间具有第一开口；
上部电极，布置在所述发光层上，并且具有与所述第一开口重叠的第二开口；以及
第一功能性模块，布置在所述下部基板的底面上的所述第一模块区域。
2.如权利要求1所述的有机发光显示装置，其特征在于，
所述第一模块区域所包括的各个所述透过区域与布置有第一开口和第二开口的部分对应。
3.如权利要求1所述的有机发光显示装置，其特征在于，还包括：
平坦化层，布置在所述下部基板上；以及
像素限定膜，在所述平坦化层上的所述第一模块区域布置为覆盖各个所述下部电极的两侧部，在所述第一模块区域所包括的各个所述透过区域具有暴露所述平坦化层的上面的开口。
4.如权利要求3所述的有机发光显示装置，其特征在于，
所述第一开口和所述第二开口在所述第一模块区域所包括的各个所述透过区域暴露所述平坦化层的所述上面。
5.如权利要求3所述的有机发光显示装置，其特征在于，还包括：
下部分隔件，布置在所述下部基板上的所述第一模块区域所包括的各个所述透过区域。
6.如权利要求5所述的有机发光显示装置，其特征在于，
所述第一开口和所述第二开口暴露所述下部分隔件的上面，所述下部分隔件的上面位于与所述像素限定膜的上面相同的水平高度，所述发光层和所述上部电极布置在所述下部分隔件的侧面的至少一部分。
7.如权利要求5所述的有机发光显示装置，其特征在于，还包括：
上部分隔件，布置在所述下部分隔件上，
所述第一开口和所述第二开口暴露所述上部分隔件的上面，所述上部分隔件的上面位于高于所述像素限定膜的上面的水平高度，所述发光层和所述上部电极布置在所述下部分隔件和所述上部分隔件各自的侧面的至少一部分。
8.如权利要求1所述的有机发光显示装置，其特征在于，
所述下部基板还包括：
第二模块区域，布置为与所述第一模块区域相隔，并且包括所述透过区域，
所述显示区域围绕所述第二模块区域。
9.如权利要求8所述的有机发光显示装置，其特征在于，还包括：
第二功能性模块，布置在所述下部基板的底面上的所述第二模块区域，
所述第二模块区域的所述透过区域与所述第二功能性模块对应。
10.如权利要求9所述的有机发光显示装置，其特征在于，
所述第一功能性模块包括人脸识别传感器模块、瞳孔识别传感器模块、加速度传感器模块、接近传感器模块、红外线传感器模块、照度传感器模块，所述第二功能性模块包括相机模块。
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