CN106997894B - 有机发光显示装置 - Google Patents

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Abstract

提供了一种有机发光显示装置，所述有机发光显示装置包括基底、像素结构和触摸传感器电极。基底包括子像素区域和透明区域。像素结构在子像素区域中设置在基底上。触摸传感器电极在透明区域中设置在基底上。

Description

有机发光显示装置
技术领域
示例实施例总体上涉及有机发光显示装置。更具体地讲，本发明构思的实施例涉及包括透明区域的有机发光显示装置。
背景技术
因为平板显示(FPD)装置与阴极射线管(CRT)显示装置相比重量轻并且纤薄，所以FPD装置被广泛地用作电子设备的显示装置。FPD装置的典型示例为液晶显示(LCD)装置和有机发光显示(OLED)装置。与LCD装置相比，OLED装置具有诸如更高亮度和更宽视角的许多优势。另外，因为OLED装置不需要背光，所以OLED装置可以制造得更纤薄。在OLED装置中，电子和空穴通过阴极和阳极注入有机薄层中，然后在有机薄层中复合以产生激子，从而可以发射特定波长的光。
近来，已经开发出透明OLED装置，该透明OLED装置能够通过包括透明区域和像素区域来透射位于该OLED装置后面(例如，背面)的物体(或目标)的图像。这里，减少透明OLED装置的透射率的不透明金属布线不会设置在透明OLED装置的透明区域中。此外，触摸屏面板可以设置在透明OLED装置上并且可以电连接到透明OLED装置。触摸屏面板可以包括感测(或检测)透明OLED装置的用户的接触(例如，手指、触摸笔等)的感测电极。例如，触摸屏面板可以感测用户的接触(或输入)，为了感测用户的触摸，所述方法可以使用自电容、互电容等。这里，自电容方法的触摸屏面板可以包括多个触摸传感器电极和分别连接到触摸传感器电极的触摸传感器布线，该触摸屏面板可以感测在触摸传感器电极中产生的电容的变化。因此，当用户接触触摸屏面板的前面时，透明OLED装置可以感测用户的接触。然而，由于透明OLED装置包括用于感测触摸事件的触摸屏面板，所以透明OLED装置的厚度会增大。
发明内容
一些示例实施例提供了一种能够感测用户的接触的有机发光显示装置。
根据示例实施例的一些方面，有机发光显示(OLED)装置包括基底、像素结构和触摸传感器电极。基底包括子像素区域和透明区域。像素结构在子像素区域中设置在基底上。触摸传感器电极在透明区域中设置在基底上。
在示例实施例中，子像素区域和透明区域在平面图中不叠置。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括位于触摸传感器电极上的触摸传感器布线，该触摸传感器布线将触摸传感器电极和外部装置电连接，将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置并且将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。
在示例实施例中，基底可以包括多个像素区域，所述多个像素区域均具有子像素区域和透明区域。外部装置感测在透明区域中设置的触摸传感器电极中产生的电容的变化。
在示例实施例中，像素结构可以包括位于基底上的下电极、位于下电极上的发光层和位于发光层上的上电极。
在示例实施例中，触摸传感器电极和下电极可以使用相同材料同时形成，并且可以处于同一水平处。
在示例实施例中，触摸传感器电极和下电极可以同时形成，并且可以处于彼此不同的水平处。
在示例实施例中，当下电极包括多个电极层时，所述多个电极层中的至少一个电极层和触摸传感器电极可以具有相同的材料。
在示例实施例中，触摸传感器电极的厚度可以小于下电极的厚度，触摸传感器电极可以基本透明。
在示例实施例中，触摸传感器电极和上电极可以使用相同材料同时形成。
在示例实施例中，触摸传感器电极和上电极可以在子像素区域和透明区域的边界中彼此间隔开。
在示例实施例中，触摸传感器电极和上电极可以使用相同材料同时形成，并且可以处于彼此不同的水平处。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括像素限定层。像素限定层可以设置在基底上。像素限定层可以部分地暴露设置在子像素区域中的下电极，并且可以部分地暴露设置在透明区域中的触摸传感器电极。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括平坦化层。平坦化层可以设置在像素限定层与基底之间。平坦化层可以具有设置在透明区域中的接触孔。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括设置在触摸传感器电极下方的触摸传感器布线。触摸传感器布线可以经由平坦化层的接触孔将触摸传感器电极和外部装置电连接，将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置并且将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括半导体元件。半导体元件可以在子像素区域中设置在基底上。半导体元件可以包括位于基底上的有源层、位于有源层上的栅电极以及位于栅电极上的源电极和漏电极。
在示例实施例中，触摸传感器布线以及源电极和漏电极可以使用相同材料同时形成，并且触摸传感器布线的厚度可以小于源电极和漏电极的厚度。触摸传感器布线可以基本透明。
在示例实施例中，基底还可以包括在子像素区域与透明区域之间的不透明区域，像素限定层可以设置在不透明区域中。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括平坦化层。平坦化层可以具有设置在不透明区域中的接触孔。
在示例实施例中，触摸传感器电极可以在平坦化层上沿第一方向延伸，并且可以与不透明区域的至少一部分叠置。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括触摸传感器布线。触摸传感器布线可以设置在触摸传感器电极下方。触摸传感器布线可以经由平坦化层的接触孔将触摸传感器电极和外部装置电连接，并且可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置。触摸传感器布线可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括在子像素区域中位于基底上的半导体元件。半导体元件可以包括位于基底上的有源层、位于有源层上的栅电极以及位于栅电极上的源电极和漏电极。
在示例实施例中，触摸传感器布线以及源电极和漏电极可以使用相同材料同时形成。
在示例实施例中，触摸传感器布线的厚度可以与源电极和漏电极的厚度相同。
在示例实施例中，像素限定层可以是不透明的。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括光阻挡构件。光阻挡构件可以设置在像素限定层上，并且可以与触摸传感器布线叠置。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括平坦化层和像素限定层。像素限定层可以设置在平坦化层上，并且可以部分地暴露设置在子像素区域中的下电极。像素限定层可以在透明区域中暴露平坦化层的至少一部分。
在示例实施例中，触摸传感器电极可以设置在暴露于透明区域中的平坦化层上，上电极可以设置在下电极上。触摸传感器电极和上电极可以在像素限定层上彼此间隔开。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括触摸传感器布线和光阻挡构件。触摸传感器布线可以设置在像素限定层上。触摸传感器布线可以将触摸传感器电极和外部装置电连接，并且可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置。触摸传感器布线可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。光阻挡构件可以设置在像素限定层上，并且可以与触摸传感器布线叠置。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括平坦化层和像素限定层。平坦化层可以具有第一接触孔。像素限定层可以设置在平坦化层上，并且可以部分地暴露设置在子像素区域中的下电极。像素限定层可以在透明区域中暴露平坦化层的至少一部分，并且可以具有暴露第一接触孔的第二接触孔。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括触摸传感器布线。触摸传感器布线可以设置在像素限定层的下方，并且可以将贯穿第一接触孔和第二接触孔的触摸传感器电极和外部装置电连接。触摸传感器布线可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置，并且可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。像素限定层可以是不透明的。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括像素限定层。像素限定层可以在透明区域中设置在基底上，并且可以部分地暴露设置在子像素区域中的下电极。触摸传感器电极可以在透明区域中设置在像素限定层上。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括触摸传感器布线和光阻挡构件。触摸传感器布线可以设置在触摸传感器电极上，并且可以将触摸传感器电极和外部装置电连接。触摸传感器布线可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置，并且可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。光阻挡构件可以设置在像素限定层上，并且可以与触摸传感器布线叠置。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括位于基底上在子像素区域中的半导体元件。半导体元件可以包括位于基底上的有源层、位于有源层上的栅电极以及位于栅电极上的源电极和漏电极。
在示例实施例中，触摸传感器电极和有源层可以使用相同的材料同时形成。
在示例实施例中，触摸传感器电极的厚度可以小于有源层的厚度，触摸传感器布线可以基本透明。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括像素限定层。像素限定层可以设置在基底上，并且可以部分地暴露设置在子像素区域中的下电极。像素限定层可以部分地暴露设置在透明区域中的触摸传感器电极。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括触摸传感器布线。触摸传感器布线可以设置在触摸传感器电极上，并且可以将触摸传感器电极和外部装置电连接。触摸传感器布线可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置，并且可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。
在示例实施例中，基底还可以包括位于子像素区域与透明区域之间的不透明区域。像素限定层可以设置在不透明区域中。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括栅极绝缘层和层间绝缘层。栅极绝缘层可以设置在像素限定层与基底之间。栅极绝缘层可以在透明区域中部分地暴露触摸传感器电极，并且可以具有位于不透明区域中的第一接触孔。层间绝缘层可以设置在栅极绝缘层上。层间绝缘层可以覆盖栅电极，并且可以在透明区域中部分地暴露触摸传感器电极。层间绝缘层可以具有暴露第一接触孔的第二接触孔。
在示例实施例中，触摸传感器电极可以与不透明区域的至少一部分叠置。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括触摸传感器布线。触摸传感器布线可以设置在其下在不透明区域中在层间绝缘层上设置有触摸传感器电极的一部分上，并且可以经由第一接触孔和第二接触孔将触摸传感器电极和外部装置电连接。触摸传感器布线可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置，并且可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。
在示例实施例中，触摸传感器布线以及源电极和漏电极可以使用相同材料同时形成，并且触摸传感器布线的厚度可以与源电极和漏电极的厚度相同。
在示例实施例中，像素限定层可以是不透明的。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括光阻挡构件。光阻挡构件可以设置在像素限定层上，并且可以与触摸传感器布线叠置。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括位于基底上的至少一层绝缘层。
在示例实施例中，所述至少一层绝缘层可以不设置在整个基底上使得所述至少一层绝缘层暴露在基底上的透明区域，触摸传感器电极可以直接设置在基底上。
在示例实施例中，所述至少一层绝缘层可以在透明区域中设置在基底上，触摸传感器电极可以设置在所述至少一层绝缘层上。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括像素限定层。像素限定层可以设置在基底上，并且可以部分地暴露设置在子像素区域中的下电极。像素限定层可以在透明区域中部分地暴露触摸传感器电极。
在示例实施例中，基底还可以包括位于子像素区域与透明区域之间的不透明区域。像素限定层可以设置在不透明区域中。所述OLED装置还可以包括具有第一厚度和比第一厚度小的第二厚度的触摸传感器布线。具有第二厚度的触摸传感器布线可以在透明区域中与触摸传感器电极相接触，具有第一厚度的触摸传感器布线可以在不透明区域中设置在像素限定层上。
根据示例实施例的一些方面，有机发光显示(OLED)装置包括基底、下电极、发光层、上电极、触摸传感器电极和触摸传感器布线。基底包括多个像素区域，所述多个像素区域均具有子像素区域、与子像素区域对应的透明区域以及围绕子像素区域和透明区域的不透明区域。下电极可以在子像素区域中设置在基底上。发光层可以设置在下电极上。上电极可以在子像素区域中设置在发光层上。触摸传感器电极可以在透明区域和不透明区域的第一部分中设置在基底上，并且可以暴露子像素区域和围绕子像素区域的不透明区域的第二部分。触摸传感器电极可以与上电极彼此间隔开，并且可以围绕上电极。触摸传感器布线可以设置在触摸传感器电极上，并且可以将触摸传感器电极和外部装置电连接。触摸传感器布线可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置，并且可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。
在示例实施例中，像素区域可以沿第一方向和与第一方向垂直的第二方向布置。在像素区域中相邻的两个像素区域可以分别被定义为第一像素区域和第二像素区域，触摸传感器电极可以一体地形成为暴露在第一像素区域和第二像素区域中包括的子像素区域和不透明区域的第二部分。上电极在包括在第一像素区域和第二像素区域中的每者中的子像素区域中设置为岛的形状。
在示例实施例中，触摸传感器电极和上电极可以使用相同材料同时形成。
在示例实施例中，触摸传感器布线可以在触摸传感器电极上沿第二方向延伸，所述触摸传感器电极一体地形成在第一像素区域和第二像素区域中，沿第二方向延伸的触摸传感器布线可以具有条的平面形状。
在示例实施例中，OLED装置还可以包括平坦化层。平坦化层可以设置在基底上，并且可以具有位于透明区域中的接触孔。触摸传感器布线可以经由平坦化层的接触孔电连接到触摸传感器电极，并且可以在一体形成在第一像素区域和第二像素区域中的触摸传感器电极的下方沿第二方向延伸。沿第二方向延伸的触摸传感器布线可以具有条的平面形状。
根据示例实施例的一些方面，有机发光显示(OLED)装置可以包括包含子像素区域和透明区域的基底、在子像素区域中设置在基底上的像素结构以及在透明区域中设置的触摸传感器电极。触摸传感器电极可以不设置在子像素区域中。
由于根据示例实施例的OLED装置包括在透明区域中以使用自电容的感测方法操作的触摸传感器电极，所以OLED装置可以感测用户的接触。因此，OLED装置的厚度可以相对地减小。此外，因为使用下电极或上电极来形成触摸传感器电极，所以可以降低OLED装置的制造成本。此外，由于触摸传感器布线不设置在透明区域中，所以可以不降低OLED装置的透射率。此外，由于触摸传感器布线以及源电极和漏电极同时形成，所以可以使触摸传感器布线的布线电阻减小。
附图说明
通过下面结合附图的描述，示例实施例能被更详细地理解，在附图中：
图1是示出根据示例实施例的有机发光显示(OLED)装置的平面图；
图2是用于描绘图1的OLED装置中包括的触摸传感器电极和触摸传感器布线的平面图；
图3是用于描绘图1的OLED装置中包括的像素区域的平面图；
图4是沿图1的线I-I'截取的剖视图；
图5是用于描绘图4的OLED装置中包括的触摸传感器电极的剖视图；
图6是用于描绘电连接到图4的OLED装置中包括的触摸传感器电极的外部装置的框图；
图7、图8、图9和图10是示出根据示例实施例的制造OLED装置的方法的剖视图；
图11是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图；
图12是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图；
图13是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图；
图14是用于描绘图13的OLED装置中包括的触摸传感器电极和触摸传感器布线的平面图；
图15是用于描绘图13的OLED装置中包括的像素区域的平面图；
图16是沿图13的线II-II'截取的剖视图；
图17是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图；
图18是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图；
图19是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图；
图20是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图；
图21是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图；
图22是用于描绘图21的OLED装置中包括的触摸传感器电极、触摸传感器布线和连接布线的平面图；
图23是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图；
图24是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图；
图25是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图；
图26是用于描绘图25的OLED装置中包括的触摸传感器电极、触摸传感器布线和上电极的平面图；
图27是用于描绘图25的OLED装置中包括的像素区域的平面图；
图28是沿图25的线Ⅲ-Ⅲ'截取的剖视图；
图29是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图；
图30是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图；
图31是用于描绘图30的OLED装置中包括的触摸传感器电极、触摸传感器布线和上电极的平面图；
图32是用于描绘图30的OLED装置中包括的像素区域的平面图；
图33是沿图30的线IV-IV'截取的剖视图；
图34是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图；
图35是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图；以及
图36是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图。
具体实施方式
在下文中，将参照附图详细地解释本发明构思的实施例。
图1是示出根据示例实施例的有机发光显示(OLED)装置的平面图，图2是用于描绘图1的OLED装置中包括的触摸传感器电极和触摸传感器布线的平面图。图3是用于描绘图1的OLED装置中包括的像素区域的平面图。
参照图1、图2和图3，有机发光显示(OLED)装置100可以包括多个像素区域。多个像素区域中的一个像素区域10可以包括第一子像素区域15、第二子像素区域20、第三子像素区域25、透明区域30以及不透明区域35。例如，像素区域10可以在包括于OLED装置100中的整个基底上沿第一方向D1和第二方向D2布置，将在下面对其进行描述。这里，第一方向D1(例如，从透明区域30至子像素区域15的方向)可以平行于基底的上表面，第二方向D2可以垂直于第一方向D1。
第一子像素、第二子像素和第三子像素可以分别设置在第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25中。例如，第一子像素可以发红色的光、第二子像素可以发绿色的光。此外，第三子像素可以发蓝色的光。第一子像素至第三子像素可以基本上设置在同一水平处。
在透明区域30中，可以透射从外部入射的光。在示例实施例中，触摸传感器电极360可以设置在透明区域30中。由于触摸传感器电极360设置在对应的透明区域30中，所以OLED装置100可以感测(或检测)用户在OLED装置100的前面的接触(或输入)位置。
在不透明区域35中，可以设置包括在OLED装置100中的像素限定层，将在下面对其进行描述。例如，第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25以及透明区域30中的每个可以基本上被像素限定层围绕。即，像素限定层可以限定第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25以及透明区域30，像素限定层可以暴露第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25以及透明区域30。像素限定层可以沿第一方向D1和第二方向D2延伸以围绕第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25以及透明区域30。换言之，像素限定层可以设置在除了第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25以及透明区域30以外的部分中。金属布线(例如，数据信号布线、扫描信号布线、发光信号布线、电源电压布线等)可以设置在不透明区域35中。
在示例实施例中，透明区域30被像素限定层暴露，但不限于此。在一些示例实施例中，像素限定层可以设置在不透明区域35和透明区域30中。例如，透明区域30可以限定这样的区域：i)透射从外部入射的光；ii)未设置第一子像素、第二子像素和第三子像素。
在示例实施例中，触摸传感器布线260可以在透明区域30和不透明区域35中设置在基底上。例如，触摸传感器布线260可以设置在多个像素区域10中的沿第二方向D2布置的像素区域10中。换言之，触摸传感器布线260可以在基底上沿第二方向D2延伸，并且可以电连接到设置在多个像素区域10中的沿第二方向D2布置的像素区域10中的触摸传感器电极360。例如，触摸传感器布线260可以设置在触摸传感器电极360的下方，触摸传感器电极360可以通过接触孔与触摸传感器布线260相接触。设置在包括于像素区域10中的透明区域30中的触摸传感器电极360中的每个可以电连接到触摸传感器布线260。这里，触摸传感器布线260和触摸传感器电极360可以基本透明，在OLED装置100中包括的透明区域30的透射率可不被明显地降低。即，尽管触摸传感器布线260和触摸传感器电极360设置在透明区域30中，但是可透射位于OLED装置100的后面(或背面)的物体的图像。因此，OLED装置100可用作透明OLED装置。
在示例实施例中，OLED装置100的一个像素区域10包括第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25以及一个透明区域30，但不限于此。在一些示例实施例中，例如，多个像素区域10可以与一个透明区域30对应。
图4是沿图1的线I-I'截取的剖视图，图5是用于描绘图4的OLED装置中包括的触摸传感器电极的剖视图。图6是用于描绘电连接到图4的OLED装置中包括的触摸传感器电极的外部装置的框图。
参照图1、图2、图3、图4、图5和图6，OLED装置100可以包括基底110、栅极绝缘层150、层间绝缘层190、平坦化层270、半导体元件250、触摸传感器布线260、像素结构、触摸传感器电极360、像素限定层310、包封基底350等。这里，像素结构可以包括下电极290、发光层330和上电极340，半导体元件250可以包括有源层130、栅电极170、源电极210和漏电极230。
如上所述，OLED装置100可以包括多个像素区域。多个像素区域中的一个像素区域10可以具有子像素区域15、透明区域30和不透明区域35。半导体元件250、下电极290、发光层330和上电极340可以设置在子像素区域15中。像素限定层310可以设置在不透明区域35中。在示例实施例中，触摸传感器电极360和触摸传感器布线260可以设置在透明区域30中。触摸传感器布线260可以电连接到触摸传感器电极360。
半导体元件250、像素结构、触摸传感器布线260和触摸传感器电极360可以设置在基底110上。
基底110可以由透明材料形成。例如，基底110可以包括石英基底、人造石英基底、氟化钙基底、掺氟石英基底、钠钙玻璃基底、无碱玻璃基底等。可选地，基底110可以由诸如柔性透明树脂基底(例如，聚酰亚胺基底)的柔性透明材料来形成。例如，聚酰亚胺基底可以包括第一聚酰亚胺层、阻挡膜层、第二聚酰亚胺层等。由于聚酰亚胺基底相对纤薄且是柔性的，所以聚酰亚胺基底可以设置在刚性玻璃基底上以有助于支撑半导体元件250和像素结构的形成。即，基底110可以具有第一聚酰亚胺层、阻挡膜层和第二聚酰亚胺层堆叠在刚性玻璃基底上的结构。在制造OLED装置100中，在将绝缘层(例如，缓冲层)设置在聚酰亚胺基底的第二聚酰亚胺层上之后，可以在绝缘层上设置半导体元件250和像素结构。在绝缘层上形成半导体元件250和像素结构之后，可以去除其上设有聚酰亚胺基底的刚性玻璃基底。因为聚酰亚胺基底相对纤薄且是柔性的，所以可能难以在聚酰亚胺基底上直接形成半导体元件250和像素结构。因此，在聚酰亚胺基底和刚性玻璃基底上形成半导体元件250和像素结构，然后在去除刚性玻璃基底之后，聚酰亚胺基底可以用作OLED装置100的基底110。由于OLED装置100包括子像素区域15、透明区域30和不透明区域35，所以基底110也可以包括子像素区域15、透明区域30和不透明区域35。
缓冲层(未示出)可以设置在基底110上。缓冲层可以设置在整个基底110上。缓冲层可以防止金属原子和/或杂质从基底110扩散到半导体元件250中。另外，缓冲层可以控制在用于形成有源层130的结晶工艺中的传热速率，从而获得基本均匀的有源层130。此外，在基底110的表面相对不平坦时，缓冲层可以改善基底110的表面平整度。根据基底110的类型，可以在基底110上设置至少两个缓冲层，或者可以不设置缓冲层。例如，阻挡层可以包括有机材料或无机材料。
半导体元件250可以由有源层130、栅电极170、源电极210和漏电极230形成。例如，有源层130可以在子像素区域15中设置在基底110上，并且可以由氧化物半导体、无机半导体(例如，非晶硅、多晶硅等)、有机半导体等来形成。
栅极绝缘层150可以设置在有源层130上。栅极绝缘层150可以覆盖子像素区域15中的有源层130，并且可以在基底110上沿第一方向D1延伸。即，栅极绝缘层150可以设置在整个基底110上。
在示例实施例中，栅极绝缘层150可以充分覆盖有源层130，并且可以具有基本平坦的表面而没有围绕有源层130的台阶。可选地，栅极绝缘层150可以覆盖有源层130，并且可以沿着有源层130的轮廓设置为基本均匀的厚度。栅极绝缘层150可以由硅化合物、金属氧化物等形成。例如，栅极绝缘层150可以包括氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiOxNy)、碳氧化硅(SiOxCy)、氮碳化硅(SiCxNy)、氧化铝(AlOx)、氮化铝(AlNx)、氧化钽(TaOx)、氧化铪(HfOx)、氧化锆(ZrOx)、氧化钛(TiOx)等。
栅电极170可以设置在栅极绝缘层150上。栅电极170可以位于栅极绝缘层150的在其下设置了有源层130的一部分上，以在平面图中与有源层130叠置。栅电极170可以包括金属、金属合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等。
层间绝缘层190可以设置在栅电极170上。层间绝缘层190可以覆盖子像素区域15中的栅电极170。即，层间绝缘层190可以设置在整个栅极绝缘层150上。在示例实施例中，层间绝缘层190可以充分覆盖栅电极170，并且可以具有基本平坦的表面而没有围绕栅电极170的台阶。可选地，层间绝缘层190可以覆盖栅电极170，并且可以沿着栅电极170的轮廓设置为基本均匀的厚度。层间绝缘层190可以包括硅化合物、金属氧化物等。
源电极210、漏电极230和触摸传感器布线260可以设置在层间绝缘层190上。源电极210可以经由通过去除栅极绝缘层150和层间绝缘层190的一部分形成的接触孔与有源层130的第一侧相接触。漏电极230可以经由通过去除栅极绝缘层150和层间绝缘层190的一部分形成的接触孔与有源层130的第二侧接触。因此，可以形成包括有源层130、栅电极170、源电极210和漏电极230的半导体元件250。
触摸传感器布线260可以在透明区域30中设置在层间绝缘层190上。例如，触摸传感器布线260可以设置在触摸传感器电极360下方。如图6所示，在OLED装置100中包括的触摸传感器布线260可以电连接到触摸传感器电极360和外部装置105。此外，触摸传感器布线260可以将触摸传感器电极360的变化的电容传输到外部装置105，并且可以将从外部装置105产生的感测电压提供到触摸传感器电极360。例如，当OLED装置100的用户接触包封基底350的上表面(例如，用户的手指、身体的一部分、触摸笔等的接触)时，触摸传感器电极360的对应于(或邻近于)接触表面的电容会变化。换言之，会在身体接触包封基底350的上表面的部分与触摸传感器电极360之间产生变化的电容，电连接到触摸传感器布线260的外部装置105可以感测(或检测)变化的电容。在用户与OLED装置100的接触结束(例如，用户与OLED装置100电分离)之后，外部装置105可以将感测电压提供到触摸传感器电极360。因此，OLED装置100可以通过外部装置105感测用户的接触位置。在示例实施例中，外部装置105设置在OLED装置100的外部，但不限于此。例如，在一些示例实施例中，外部装置105可以设置在OLED装置100的内部。
源电极210、漏电极230和触摸传感器布线260中的每个可以使用相同的材料同时形成，并且可以包括金属、金属合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等。例如，源电极210、漏电极230和触摸传感器布线260中的每个可以由金(Au)、铝(Al)、铝合金、氮化铝(AlNx)、银(Ag)、银合金、钨(W)、氮化钨(WNx)、铜(Cu)、铜合金、镍(Ni)、铬(Cr)、氮化铬(CrNx)、钼(Mo)、钼合金、钛(Ti)、氮化钛(TiNx)、铂(Pt)、钽(Ta)、氮化钽(TaNx)、钕(Nd)、钪(Sc)、氧化锶钌(SRO)、氧化锌(ZnOx)、氧化锡(SnOx)、氧化铟(InOx)、氧化镓(GaOx)、氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)等来形成。可以单独使用或者以其适当的组合来使用这些材料。在示例实施例中，触摸传感器布线260的厚度可以小于源电极210和漏电极230的厚度。例如，由于触摸传感器布线260设置在透明区域30中，所以触摸传感器布线260的厚度可以形成为薄的厚度以使透明区域30的透射率不降低，并且触摸传感器布线260可以基本透明。即，触摸传感器布线260可以是透明的，源电极210和漏电极230可以是不透明的。此外，触摸传感器布线260与源电极210和漏电极230可以以彼此不同的工艺来形成。可选地，触摸传感器布线260与源电极210和漏电极230可以以同一工艺同时形成，并且触摸传感器布线260与源电极210和漏电极230可以是不透明的。
在示例实施例中，OLED装置100的半导体元件250具有顶栅结构，但不限于此。例如，在一些示例实施例中，半导体元件250可以具有底栅结构。
此外，OLED装置100的半导体元件250设置在子像素区域15中，但不限于此。在一些示例实施例中，半导体元件250可以设置在透明区域30或不透明区域35中。
平坦化层270可以设置在源电极210和漏电极230(或半导体元件250)以及触摸传感器布线260上。平坦化层270可以覆盖子像素区域15中的源电极210和漏电极230以及透明区域30中的触摸传感器布线260。即，平坦化层270可以设置在整个基底110上。例如，平坦化层270可以设置为相对高的厚度，以充分覆盖触摸传感器布线260以及源电极210和漏电极230。在这种情况下，平坦化层270可以具有基本平坦的上表面，还可以对平坦化层270执行平坦化工艺以实现平坦化层270的平坦的上表面。可选地，平坦化层270可以覆盖触摸传感器布线260以及源电极210和漏电极230，并且可以沿触摸传感器布线260以及源电极210和漏电极230的轮廓设置为基本均匀的厚度。平坦化层270可以具有暴露触摸传感器布线260的一部分的接触孔269。触摸传感器电极360可以通过接触孔269与触摸传感器布线260相接触，触摸传感器电极360可以电连接到触摸传感器布线260。平坦化层270可以包括有机材料或无机材料。
下电极290可以在子像素区域15中设置在平坦化层270上。触摸传感器电极360可以在透明区域30中设置在平坦化层270上。下电极290可以通过形成在平坦化层270中的接触孔与半导体元件250的漏电极230相接触。因此，下电极290可以电连接到半导体元件250。
当OLED装置100可被制造为在子像素区域15中的顶发射结构时，下电极290可以包括光反射层。例如，如图5所示，下电极290可以具有多层结构。多层结构可以包括第一电极层291、第二电极层292和第三电极层293。第一电极层291可以在子像素区域15中设置在平坦化层270上，第二电极层292和第三电极层293可以顺序地设置在第一电极层291上。这里，第一电极层291和第三电极层293可以包括基本相同的材料，第二电极层292可以置于第一电极层291与第三电极层293之间。第一电极层291和第三电极层293的厚度均可以基本上小于第二电极层292的厚度，第一电极层291的厚度可以与第三电极层293的厚度基本相同。
第一电极层291可以覆盖平坦化层270的上表面。由于第一电极层291设置在平坦化层270上，所以第一电极层291可以有助于第二电极层292的形成。由于第三电极层293设置在第二电极层292上，所以可容易地控制OLED装置100的颜色坐标。第二电极层292可以用作光反射层。第二电极层292可以在OLED装置100的前面(例如，与第一方向D1和第二方向D2垂直的第三方向D3)反射从发光层330发出的光。因此，包括第二电极层292的下电极290可以基本不透明。可选地，下电极290可以具有包括第一电极层291和第二电极层292的多层结构，或者可以具有包括第二电极层292的单层结构。例如，第二电极层292可以包括Au、Ag、Al、Pt、Ni、Ti、钯(Pd)、镁(Mg)、钙(Ca)、锂(Li)、Cr、Ta、W、Cu、Mo、Sc、Nd、铱(Ir)等。可以单独使用或者以其适当的组合来使用这些材料。可选地，第二电极层292可以由金属、金属合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等形成。第一电极层291和第三电极层293中的每个可以基本透明。例如，第一电极层291和第三电极层293中的每个可以包括透明导电材料等。例如，第一电极层291和第三电极层293中的每个可以包括ZnOx、SnOx、InOx、GaOx、ITO、IZO等。
在示例实施例中，触摸传感器电极360和下电极290可以在平坦化层270上彼此间隔开。触摸传感器电极360和第一电极层291可以使用相同的材料同时形成。即，触摸传感器电极360可以在形成下电极290的工艺中形成而没有额外的制造工艺。因此，OLED装置100的制造成本可以相对减少。可选地，触摸传感器电极360和第三电极层293可以使用相同材料同时形成。因此，触摸传感器电极360的厚度可以小于下电极290的厚度，触摸传感器电极360可以是透明的。如上所述，触摸传感器电极360可以通过接触孔269与触摸传感器布线260相接触。包括触摸传感器电极360和触摸传感器布线260的OLED装置100可以感测用户的触摸而没有额外设置在包封基底350上的触摸屏面板。
像素限定层310可以在不透明区域35中设置在平坦化层270上以暴露下电极290在子像素区域15中的部分(例如，中部)和触摸传感器电极360在透明区域30中的部分(例如，中部)。可选地，像素限定层310可以设置在不透明区域35和透明区域30中。发光层330可以位于下电极290上被像素限定层310暴露的至少一部分处。可选地，像素限定层310可以是透明的。像素限定层310可以包括有机材料或无机材料。
发光层330可以设置在下电极290的至少一部分被暴露的部分上。发光层330可以具有包括发射层(EL)、空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)、电子注入层(EIL)等的多层结构。根据图1所示的第一子像素、第二子像素和第三子像素，发光层330的EL可以使用能够产生不同颜色光(例如，红色光、蓝色光、绿色光等)的发光材料中的至少一种来形成。可选择地，发光层330的EL可以通过堆叠能够产生诸如红色光、绿色光、蓝色光等的不同颜色光的多种发光材料来总体上产生白色光。在一些示例实施例中，除EL之外，HIL、HTL、ETL、EIL等可以在透明区域30中设置在平坦化层270上。
上电极340可以设置在像素限定层310的一部分和发光层330上。上电极340可以覆盖子像素区域15中的发光层330，并且可以暴露透明区域30。上电极340可以由诸如金属、金属合金、金属氮化物、导电金属氧化物和透明导电材料的透明导电层来形成。可以单独使用或者以其适当的组合来使用这些材料。
包封基底350可以设置在像素限定层310、上电极340和触摸传感器电极360上。包封基底350和基底110可以包括基本相同的材料。例如，包封基底350可以包括石英、人造石英、氟化钙、掺氟石英、钠钙玻璃、无碱玻璃等。在一些示例实施例中，包封基底350可以包括透明无机材料或柔性塑料。例如，包封基底350可以包括柔性透明树脂基底。在这种情况下，为了增大OLED装置100的柔性，包封基底350可以包括至少一个无机层和至少一个有机层交替堆叠的堆叠结构。
由于根据示例实施例的OLED装置100包括在透明区域30中感测自电容的触摸传感器电极360以及电连接到触摸传感器电极360的触摸传感器布线260，所以OLED装置100可以感测用户的接触。因此，因为可以在同一工艺中形成下电极290和触摸传感器电极360，所以可以相对地减小OLED装置100的厚度，并且可以降低OLED装置100的制造成本。
图7、图8、图9和图10是示出根据示例实施例的制造OLED装置的方法的剖视图。
参照图7，可以在子像素区域15中在基底510上形成有源层530。可以使用石英、人造石英、氟化钙、掺氟石英、钠钙玻璃、无碱玻璃等来形成基底510。可选地，可以在基底510上形成缓冲层。可以在整个基底510上形成缓冲层。缓冲层可以防止金属原子和/或杂质从基底510扩散到半导体元件650中。可以使用氧化物半导体、无机半导体、有机半导体等来形成有源层530。可以在基底510上形成栅极绝缘层550。栅极绝缘层550可以覆盖有源层530。可以在子像素区域15、透明区域30和不透明区域35中在基底510上整体地形成栅极绝缘层550。可以使用硅化合物、金属氧化物等来形成栅极绝缘层550。可以在栅极绝缘层550的其下布置有源层530的一部分上将栅电极570形成为在平面图中与有源层530叠置。可以使用金属、金属合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等形成栅电极570。
参照图8，可以在栅电极570上形成层间绝缘层590。层间绝缘层590可以覆盖栅电极570。可以在子像素区域15、透明区域30和不透明区域35上整体地形成层间绝缘层590。可以使用硅化合物、金属氧化物等来形成层间绝缘层590。可以在层间绝缘层590上形成源电极610、漏电极630和触摸传感器布线660。可以使用相同的材料同时形成源电极610、漏电极630和触摸传感器布线660中的每个。源电极610可以经由通过去除栅极绝缘层550和层间绝缘层590的一部分形成的接触孔与有源层530的第一侧相接触。漏电极630可以经由通过去除栅极绝缘层550和层间绝缘层590的一部分形成的接触孔与有源层530的第二侧接触。因此，可以形成包括有源层530、栅电极570、源电极610和漏电极630的半导体元件650。
在示例实施例中，触摸传感器布线660的厚度可以小于源电极610和漏电极630的厚度。例如，由于在透明区域30中形成触摸传感器布线660，所以触摸传感器布线660的厚度可以形成为薄的厚度以不使透明区域30的透射率降低，并且触摸传感器布线660可以基本透明。例如，在同时形成源电极610和漏电极630以及触摸传感器布线660之后，可以部分地去除触摸传感器布线660。在一些示例实施例中，可以以彼此不同的工艺来形成触摸传感器布线660以及源电极610和漏电极630。可选地，当触摸传感器布线660以及源电极610和漏电极630具有包括透明电极层和不透明电极层的多层结构时，可以在同时形成源电极610和漏电极630以及触摸传感器布线660之后选择性地去除包括在触摸传感器布线660中的不透明电极层。
可以使用金属、金属合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等来形成源电极610和漏电极630以及触摸传感器布线660中的每个。可以单独使用或者以其适当的组合来使用这些材料。
参照图9，可以在层间绝缘层590上形成平坦化层670。平坦化层670可以覆盖子像素区域15中的源电极610和漏电极630以及透明区域30中的触摸传感器布线660。可以在子像素区域15、透明区域30和不透明区域35中在基底510上整体地形成平坦化层670。平坦化层670可以具有暴露触摸传感器布线660的一部分的接触孔669。触摸传感器电极760可以经由接触孔669与触摸传感器布线660相接触，触摸传感器电极760可以电连接到触摸传感器布线660。可以使用有机材料或无机材料来形成平坦化层670。
可以在子像素区域15中在平坦化层670上形成下电极690。下电极690可以经由穿过平坦化层670形成的接触孔与半导体元件650的漏电极630相接触。下电极690可以具有多层结构。如图5所示，多层结构可以包括第一电极层、第二电极层和第三电极层。可以在子像素区域15中在平坦化层670上形成第一电极层，可以在第一电极层上顺序地形成第二电极层和第三电极层。这里，第一电极层和第三电极层可以包括基本相同的材料，第二电极层可以置于第一电极层与第三电极层之间。第一电极层和第三电极层的厚度均可以基本上小于第二电极层的厚度，第一电极层的厚度可以与第三电极层的厚度基本相同。第二电极层可以基本不透明。例如，可以使用Au、Ag、Al、Pt、Ni、Ti、Pd、Mg、Ca、Li、Cr、Ta、W、Cu、Mo、Sc、Nd、Ir来形成下电极。可以单独使用或者以其适当的组合来使用这些材料。第一电极层和第三电极层中的每个可以基本透明。例如，可以使用透明导电材料等来形成第一电极层和第三电极层中的每个。
在示例实施例中，可以使用相同的材料同时形成触摸传感器电极760和第一电极层。例如，在平坦化层670上形成第一电极层、第二电极层和第三电极层之后，通过图案化形成下电极690和预备触摸传感器电极。然后，可以通过部分地蚀刻预备触摸传感器电极来形成触摸传感器电极760。因此，触摸传感器电极760的厚度可以小于下电极690的厚度，触摸传感器电极760可以基本透明。
如上所述，触摸传感器电极760可以经由接触孔669与触摸传感器布线660相接触。在一些示例实施例中，当OLED装置具有底发射结构时，下电极690可以形成为薄的厚度(例如，第一电极层的厚度)。即，下电极690可以基本透明。在这种情况下，下电极690的厚度可以与触摸传感器电极760的厚度基本相同，可以使用相同材料同时形成下电极690和触摸传感器电极760。
参照图10，可以在不透明区域35中在平坦化层670上形成像素限定层710以暴露下电极690在子像素区域15中的部分和触摸传感器电极760在透明区域30中的部分。可以使用有机材料或无机材料来形成像素限定层710。
可以在下电极690的至少一部分被暴露的部分上形成发光层730。发光层730可以具有包括EL、HIL、HTL、ETL、EIL等的多层结构。根据图1所示的第一子像素、第二子像素和第三子像素，可以使用能够产生不同颜色光(例如，红色光、蓝色光、绿色光等)的发光材料中的至少一种来形成发光层730的EL。可选择地，发光层730的EL可以通过堆叠能够产生诸如红色光、绿色光、蓝色光等不同颜色光的多种发光材料总体上产生白色光。在一些示例实施例中，除EL之外，可以在透明区域30中形成HIL、HTL、ETL、EIL等。可以在像素限定层710的一部分和发光层730上形成上电极740。上电极740可以覆盖子像素区域15中的发光层730，并且可以暴露透明区域30。可以使用金属、金属合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等形成上电极740。可以单独使用或者以其适当的组合来使用这些材料。
可以在像素限定层710、上电极740和触摸传感器电极760上形成包封基底750。包封基底750和基底510可以包括基本相同的材料。例如，可以使用石英、人造石英、氟化钙、掺氟石英、钠钙玻璃、无碱玻璃等来形成包封基底750。通过对上电极740执行包封工艺将包封基底750与基底510结合。因此，可以制造图4中示出的OLED装置。
图11是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图。除了像素限定层320、触摸传感器电极460和触摸传感器布线465之外，图11所示的OLED装置200可以具有与参照图4描述的OLED装置100的构造基本相同或相似的构造。在图11中，可以不再重复对与参照图4描述的元件基本相同或相似的元件的详细描述。
参照图4和图11，OLED装置200可以包括基底110、栅极绝缘层150、层间绝缘层190、平坦化层270、半导体元件250、触摸传感器布线465、像素结构、触摸传感器电极460、像素限定层320、包封基底350等。这里，像素结构可以包括下电极290、发光层330和上电极340，半导体元件250可以包括有源层130、栅电极170、源电极210和漏电极230。
触摸传感器布线465可以在不透明区域35中设置在层间绝缘层190上。例如，触摸传感器布线465可以设置在触摸传感器电极460下方。如图11所示，在OLED装置200中包括的触摸传感器布线465可以电连接到触摸传感器电极460和外部装置105。此外，触摸传感器布线465可以将触摸传感器电极460的变化的电容传输到外部装置105，并且可以将从外部装置105产生的感测电压提供到触摸传感器电极460。例如，当OLED装置200的用户接触包封基底350的上表面时，对应于接触表面的触摸传感器电极460的电容会变化。换言之，会在身体接触包封基底350的上表面的部分与触摸传感器电极460之间产生变化的电容，电连接到触摸传感器布线465的外部装置105可以感测变化的电容。在用户与OLED装置200的接触结束之后，外部装置105可以将感测电压提供到触摸传感器电极460。因此，OLED装置200可以通过外部装置105感测用户的接触位置。
源电极210、漏电极230和触摸传感器布线465中的每个可以使用相同的材料同时形成。在示例实施例中，触摸传感器布线465的厚度可以与源电极210和漏电极230的厚度均基本相同。例如，触摸传感器布线465可以基本不透明。
平坦化层270可以设置在源电极210和漏电极230以及触摸传感器布线465上。平坦化层270可以具有暴露触摸传感器布线465的一部分的接触孔470。触摸传感器电极460可以经由接触孔470与触摸传感器布线465相接触，触摸传感器电极460可以电连接到触摸传感器布线465。在示例实施例中，接触孔470可以位于不透明区域35中。平坦化层270可以包括有机材料或无机材料。
在示例实施例中，触摸传感器电极460可以在平坦化层270上沿第一方向D1延伸，所述第一方向D1可以平行于基底110的上表面。例如，触摸传感器电极460可以与不透明区域35的至少一部分叠置，接触孔470和触摸传感器布线465可以位于沿第一方向D1延伸的触摸传感器电极460下方。由于触摸传感器电极460设置在不透明区域35中，所以触摸传感器电极460可以经由接触孔470与触摸传感器布线465相接触。
像素限定层320可以在不透明区域35中设置在平坦化层270上。像素限定层320可以阻挡光从而防止外部光被设置在像素限定层320下方的触摸传感器布线465反射。例如，像素限定层320可以具有光阻挡材料以减小外部光的反射。光阻挡材料可以包括炭黑、氮氧化钛、钛黑(titanium black)、苯黑(phenylene black)、苯胺黑(aniline black)、菁黑(cyanine black)、苯胺酸性黑(nigrosine acid black)等。像素限定层320可以包括有机材料或无机材料。
由于根据示例实施例的OLED装置200包括不透明的像素限定层320以及具有相对厚的厚度并且位于像素限定层320下方的触摸传感器布线465，所以触摸传感器布线465的布线电阻可被减小。此外，由于触摸传感器布线465设置在像素限定层320的下方，所以透明区域30的透射率和OLED装置200的可视性可以相对地增加。
图12是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图。除了光阻挡构件370之外，图12所示的OLED装置300可以具有与参照图11描述的OLED装置200的构造基本相同或相似的构造。在图12中，可以不再重复对与参照图11描述的元件基本相同或相似的元件的详细描述。
参照图11和图12，OLED装置300可以包括基底110、栅极绝缘层150、层间绝缘层190、平坦化层270、半导体元件250、触摸传感器布线465、像素结构、触摸传感器电极460、像素限定层310、包封基底350等。这里，像素结构可以包括下电极290、发光层330和上电极340，半导体元件250可以包括有源层130、栅电极170、源电极210和漏电极230。
触摸传感器电极460可以在平坦化层270上沿第一方向D1延伸，所述第一方向D1可以平行于基底110的上表面。由于触摸传感器电极460设置在不透明区域35中，所以触摸传感器电极460可以经由接触孔470与触摸传感器布线465相接触。
像素限定层310可以在不透明区域35中设置在平坦化层270上以暴露下电极290在子像素区域15中的部分(例如，中部)和触摸传感器电极460在透明区域30中的部分(例如，中部)。像素限定层310可以包括有机材料或无机材料。
光阻挡构件370可以设置在像素限定层310上方。例如，光阻挡构件370可以设置在包封基底350的下表面以与像素限定层310叠置。当像素限定层310为基本透明时，外部光会被设置在像素限定层310下方的触摸传感器布线465反射。为了防止这种情况，阻挡光的光阻挡构件370可以与触摸传感器布线465叠置。
例如，光阻挡构件370可以具有光阻挡材料以减小外部光的反射。光阻挡材料可以包括炭黑、氮氧化钛、钛黑、苯黑、苯胺黑、菁黑、苯胺酸性黑等。光阻挡构件370可以包括具有光阻挡材料的树脂。能够被用作光阻挡构件370的树脂可以包括诸如环氧树脂、丙烯酸树脂、硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂等的聚合物树脂。
由于根据示例实施例的OLED装置300包括设置在像素限定层310上方的光阻挡构件370，所以防止外部光被触摸传感器布线465反射。因此，OLED装置300的可视性会相对地提高。
图13是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图，图14是用于描绘图13的OLED装置中包括的触摸传感器电极和触摸传感器布线的平面图。图15是用于描绘图13的OLED装置中包括的像素区域的平面图。除了触摸传感器布线263之外，图13、图14和图15所示的OLED装置400可以具有与参照图1、图2和图3描述的OLED装置100的构造基本相同或相似的构造。在图13、图14和图15中，可以不再重复对与参照图1、图2和图3描述的元件基本相同或相似的元件的详细描述。
参照图1、图2、图3、图13、图14和图15，OLED装置400可以包括多个像素区域。多个像素区域中的一个像素区域10可以包括第一子像素区域15、第二子像素区域20、第三子像素区域25、透明区域30以及不透明区域35。例如，像素区域10可以在包括于OLED装置400中的整个基底上沿第一方向D1和第二方向D2布置。这里，第一方向D1可以平行于基底的上表面，第二方向D2可以垂直于第一方向D1。此外，不透明区域35可以沿第一方向D1和第二方向D2延伸以围绕第一子像素区域15、第二子像素区域20、第三子像素区域25以及透明区域30。
第一子像素、第二子像素和第三子像素可以分别设置在第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25中。例如，第一子像素可以发红色的光，第二子像素可以发绿色的光。此外，第三子像素可以发蓝色的光。
在透明区域30中，可以透射从外部入射的光。在示例实施例中，触摸传感器电极360可以设置在透明区域30中。
在不透明区域35中，可以设置包括于OLED装置400中的像素限定层。例如，第一子像素区域15、第二子像素区域20、第三子像素区域25以及透明区域30可以基本上被像素限定层围绕。
在示例实施例中，触摸传感器布线263可以在透明区域30的至少一部分和不透明区域35中设置在基底上。例如，触摸传感器布线263可以设置在多个像素区域10中的沿第二方向D2布置的像素区域10中。换言之，触摸传感器布线263可以在基底上沿第二方向D2延伸，并且可以电连接到设置在多个像素区域10中的沿第二方向D2布置的像素区域10中的触摸传感器电极360。例如，触摸传感器布线263可以设置在触摸传感器电极360上。设置在包括于像素区域10中的透明区域30中的触摸传感器电极360均可以电连接到触摸传感器布线263。这里，触摸传感器布线263和触摸传感器电极360可以基本透明，触摸传感器布线263的至少一部分可以设置在透明区域30中使得触摸传感器布线263与触摸传感器电极360相接触。此外，触摸传感器布线263可以在不透明区域35中在像素限定层上沿第二方向D2延伸。在示例实施例中，触摸传感器布线263可以具有第一厚度和比第一厚度小的第二厚度。具有第二厚度的触摸传感器布线263可以在透明区域30中与触摸传感器电极360相接触。具有第二厚度的触摸传感器布线263可以在透明区域30中基本透明。同时，具有第一厚度的触摸传感器布线263可以设置在不透明区域35中，并且可以沿第二方向D2延伸。因此，可以使触摸传感器布线263的布线电阻减小。因此，在OLED装置400中包括的透明区域30的透射率可不明显地降低。
图16是沿图13中的线II-II'截取的剖视图。除了触摸传感器布线263之外，图16所示的OLED装置400可以具有与参照图4描述的OLED装置100的构造基本相同或相似的构造。在图16中，可以不再重复对与参照图4描述的元件基本相同或相似的元件的详细描述。
参照图4和图16，OLED装置400可以包括基底110、栅极绝缘层150、层间绝缘层190、平坦化层270、半导体元件250、触摸传感器布线263、像素结构、触摸传感器电极360、像素限定层310、包封基底350等。这里，像素结构可以包括下电极290、发光层330和上电极340，半导体元件250可以包括有源层130、栅电极170、源电极210和漏电极230。
触摸传感器布线263可以在透明区域30中设置在触摸传感器电极360上。如图16所示，在OLED装置400中包括的触摸传感器布线263可以电连接到触摸传感器电极360和外部装置105。此外，触摸传感器布线263可以将触摸传感器电极360的变化的电容传输到外部装置105，并且可以将从外部装置105产生的感测电压提供到触摸传感器电极360。
触摸传感器布线263和触摸传感器电极360可以基本透明，触摸传感器布线263的至少一部分可以设置在透明区域30中使得触摸传感器布线263与触摸传感器电极360相接触。此外，触摸传感器布线263可以在不透明区域35中在像素限定层310上沿第二方向D2延伸。在示例实施例中，在不透明区域35中的触摸传感器布线263可以具有第一厚度，在透明区域30中的触摸传感器布线263可以具有比第一厚度小的第二厚度。具有第二厚度的触摸传感器布线263可以在透明区域30中与触摸传感器电极360相接触。具有第二厚度的触摸传感器布线263可以在透明区域30中基本透明。同时，具有第一厚度的触摸传感器布线263可以设置在不透明区域35中，并且可以沿第二方向D2延伸。因此，可以使触摸传感器布线263的布线电阻减小。在示例实施例中，触摸传感器布线263和触摸传感器电极360可以包括彼此不同的材料。例如，在形成触摸传感器电极360之后，可以在整个基底110上形成预备触摸传感器布线。在蚀刻预备触摸传感器布线的工艺中，在部分蚀刻预备触摸传感器布线的同时，利用蚀刻速率的差异，可不蚀刻触摸传感器电极360。
图17是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图，图18是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图。除了触摸传感器电极361和触摸传感器布线272之外，图17和图18所示的OLED装置可以具有与参照图4描述的OLED装置100的构造基本相同或相似的构造。在图17和图18中，可以不再重复对与参照图4描述的元件基本相同或相似的元件的详细描述。
参照图4和图17，OLED装置500可以包括基底110、栅极绝缘层150、层间绝缘层190、平坦化层270、半导体元件250、触摸传感器布线272、像素结构、触摸传感器电极361、像素限定层310、包封基底350等。这里，像素结构可以包括下电极290、发光层330和上电极340，半导体元件250可以包括有源层130、栅电极170、源电极210和漏电极230。
在透明区域30中，基底110可以通过去除栅极绝缘层150、层间绝缘层190和平坦化层270的一部分来暴露。触摸传感器电极361可以设置在暴露的基底110上，触摸传感器布线272可以设置在触摸传感器电极361上的第一侧处。可选地，至少一层绝缘层可以设置在基底110上。
触摸传感器布线272和触摸传感器电极361可以基本透明。如图13所示，触摸传感器布线272的至少一部分可以设置在透明区域30中使得触摸传感器布线272与触摸传感器电极361相接触，触摸传感器布线272可以在不透明区域35中在像素限定层310上沿第二方向D2延伸。在示例实施例中，触摸传感器布线272和触摸传感器电极361可以包括彼此不同的材料。例如，在形成触摸传感器电极361之后，可以在整个基底110上形成预备触摸传感器布线。在蚀刻预备触摸传感器布线的工艺中，在部分蚀刻预备触摸传感器布线的同时，利用蚀刻速率的差异，可不蚀刻触摸传感器电极361。
触摸传感器电极361和上电极340可以使用相同材料同时形成。在这种情况下，除了EL之外，HIL、HTL、ETL、EIL等可以在透明区域30中设置在基底110上。可选地，触摸传感器电极361和下电极290可以使用相同材料同时形成。
在一些示例实施例中，如图18所示，触摸传感器电极361和有源层130可以使用相同的材料同时形成。例如，有源层130可以包括氧化物半导体，触摸传感器电极361可以通过执行杂质注入工艺用作导体。在这种情况下，栅极绝缘层150可以覆盖触摸传感器电极361的两侧部。例如，触摸传感器电极361的厚度可以小于有源层130的厚度，触摸传感器电极361可以基本透明。此外，触摸传感器布线272和触摸传感器电极361可以包括彼此不同的材料。
由于根据示例实施例的OLED装置500在透明区域30中均去除了栅极绝缘层150、层间绝缘层190和平坦化层270，所以在OLED装置500中包括的透明区域30的透射率可以相对地增加。
图19是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图，图20是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图。除了像素限定层320、触摸传感器电极361、触摸传感器布线261和光阻挡构件370之外，图19和图20示出的OLED装置可以具有与参照图4描述的OLED装置100的构造基本相同或相似的构造。在图19和图20中，可以不再重复对与参照图4描述的元件基本相同或相似的元件的详细描述。
参照图4和图19，OLED装置700可以包括基底110、栅极绝缘层150、层间绝缘层190、平坦化层270、半导体元件250、触摸传感器布线261、像素结构、触摸传感器电极361、像素限定层320、包封基底350等。这里，像素结构可以包括下电极290、发光层330和上电极340，半导体元件250可以包括有源层130、栅电极170、源电极210和漏电极230。
触摸传感器电极361可以在透明区域30中设置在基底110上。触摸传感器电极361和有源层130可以使用相同的材料同时形成。例如，有源层130可以包括氧化物半导体，触摸传感器电极361可以通过执行杂质注入工艺用作导体。触摸传感器电极361的厚度可以小于有源层130的厚度，触摸传感器电极361可以基本透明。在示例实施例中，触摸传感器电极361可以在基底110上沿第一方向D1延伸，并且可以与不透明区域35的至少一部分叠置。触摸传感器布线261可以设置在沿第一方向D1延伸的触摸传感器电极361上。
栅极绝缘层150可以设置在基底110上。栅极绝缘层150可以在透明区域30中暴露触摸传感器电极361的一部分。此外，栅极绝缘层150可以在不透明区域35中具有暴露触摸传感器电极361的一部分的第一接触孔。
层间绝缘层190可以设置在栅极绝缘层150上。层间绝缘层190可以在透明区域30中暴露触摸传感器电极361的一部分。此外，层间绝缘层190可以在不透明区域35中具有暴露第一接触孔的第二接触孔。第一接触孔和第二接触孔可以使用一个掩模同时形成。
触摸传感器布线261可以在不透明区域35中设置在层间绝缘层190上。例如，触摸传感器布线261可以位于其下方设置有触摸传感器电极361的一部分上。触摸传感器布线261可以经由第一接触孔和第二接触孔与触摸传感器电极361相接触。即，触摸传感器布线261可以电连接到触摸传感器电极361。
像素限定层320可以在不透明区域35中设置在平坦化层270上。在示例实施例中，像素限定层320可以基本不透明从而防止外部光被设置在像素限定层320下方的触摸传感器布线261反射。例如，像素限定层320可以具有光阻挡材料以减小外部光的反射。像素限定层320可以包括有机材料或无机材料。
在一些示例实施例中，如图20所示，光阻挡构件370可以设置在像素限定层310上方。例如，光阻挡构件370可以设置在包封基底350的下表面上以与像素限定层310叠置。当像素限定层310基本透明时，外部光会被设置在像素限定层310下方的触摸传感器布线261反射。为了防止这种情况，具有不透明颜色的光阻挡构件370可以与触摸传感器布线261叠置。
例如，光阻挡构件370可以具有光阻挡材料以减小外部光的反射。此外，光阻挡构件370可以包括具有光阻挡材料的树脂。
图21是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图，图22是用于描绘图21的OLED装置中包括的触摸传感器电极、触摸传感器布线和连接布线的平面图。图23是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图，图24是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图。图21、图22、图23和图24示出的OLED装置可以具有与参照图1、图2和图3描述的OLED装置100的构造基本相同或相似的构造。在图21、图22、图23和图24中，可以不再重复对与参照图1、图2和图3描述的元件基本相同或相似的元件的详细描述。
参照图1、图2、图3、图21和图22，OLED装置900可以包括多个像素区域。多个像素区域中的一个像素区域10可以包括第一子像素区域15、第二子像素区域20、第三子像素区域25、透明区域30以及不透明区域35。例如，像素区域10可以在包括于OLED装置900中的整个基底上沿第一方向D1和第二方向D2布置。这里，第一方向D1可以平行于基底的上表面，第二方向D2可以垂直于第一方向D1。此外，不透明区域35可以沿第一方向D1和第二方向D2延伸以围绕第一子像素区域15、第二子像素区域20、第三子像素区域25以及透明区域30。
触摸传感器布线260可以在基底上沿第二方向D2延伸，并且可以电连接到设置在多个像素区域10中的沿第二方向D2布置的像素区域10中的触摸传感器电极360。在示例实施例中，在像素区域10中在第一方向D1上相邻的两个像素区域10可分别被定义为第一像素区域和第二像素区域。设置在第一像素区域中的触摸传感器电极360可以与触摸传感器布线260叠置，并且可以经由接触孔269与触摸传感器布线260直接接触。同时，设置在第二像素区域中的触摸传感器电极360可以不与触摸传感器布线260叠置，并且可以通过连接布线264电连接到设置在第一像素区域中的触摸传感器电极360。例如，连接布线264可以具有与第一像素区域的触摸传感器电极360叠置的接触孔271和与第二像素区域的触摸传感器电极360叠置的接触孔272。
第一像素区域的触摸传感器电极360和第二像素区域的触摸传感器电极360可以分别经由接触孔271和接触孔272彼此电连接。在这种情况下，当用户接触与第一像素区域的触摸传感器电极360和第二像素区域的触摸传感器电极360中的至少一个对应的部分时，OLED装置900可以感测用户的接触。
在另一示例实施例中，如图23所示，OLED装置1000可以包括像素区域11，所述像素区域11具有将第一像素区域的透明区域30和第二像素区域的透明区域30相结合的透明区域，该透明区域可被定义为透明区域31。在OLED装置1000中包括的一个像素区域11中，透明区域31可以位于两个第一子像素区域15之间、两个第二子像素区域20之间和两个第三子像素区域25之间。触摸传感器电极362可以设置在具有相对大面积(或尺寸)的透明区域31中。像素区域11可以沿第一方向D1和第二方向D2布置。
触摸传感器布线260可以在基底上沿第二方向D2延伸，并且可以电连接到设置在多个像素区域11中的沿第二方向D2布置的像素区域11中的触摸传感器电极362。在这种情况下，当用户接触与具有相对大面积的触摸传感器电极362对应的部分时，OLED装置1000可以感测用户的接触。
在示例实施例中，由于触摸传感器布线260沿第二方向D2延伸，所以触摸传感器布线260可以连接到沿第二方向D2布置的触摸传感器电极362，但不限于此。在一些示例实施例中，触摸传感器布线260可以沿第一方向D1延伸，并且可以连接到沿第一方向D1布置的触摸传感器电极362。
在又一示例实施例中，如图24所示，OLED装置1100可以包括具有相对大面积的透明区域31，触摸传感器电极362可以设置在透明区域31中。
在像素区域11中的在第一方向D1上相邻的两个像素区域11可分别被定义为第一像素区域和第二像素区域。设置在第一像素区域中的触摸传感器电极362可以与触摸传感器布线260叠置，并且可以经由接触孔与触摸传感器布线260直接接触。同时，设置在第二像素区域中的触摸传感器电极362可以不与触摸传感器布线260叠置，并且可以通过连接布线264电连接到设置在第一像素区域中的触摸传感器电极362。例如，连接布线264可以具有与第一像素区域的触摸传感器电极362叠置的接触孔268和与第二像素区域的触摸传感器电极362叠置的接触孔269。第一像素区域的触摸传感器电极362和第二像素区域的触摸传感器电极362可以分别经由接触孔268和接触孔269彼此电连接。在这种情况下，当用户接触与第一像素区域的触摸传感器电极362和第二像素区域的触摸传感器电极362中的至少一个对应的部分时，OLED装置1100可以感测用户的接触。因此，由于触摸传感器布线260的数量减少，所以OLED装置1100的透射率可以相对地增加。
图25是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图，图26是用于描绘图25的OLED装置中包括的触摸传感器电极、触摸传感器布线和上电极的平面图。图27是用于描绘图25的OLED装置中包括的像素区域的平面图。除了触摸传感器电极363和上电极341之外，图25、图26和图27所示的OLED装置1200可以具有与参照图1、图2和图3描述的OLED装置100的构造基本相同或相似的构造。在图25、图26和图27中，可以不再重复对与参照图1、图2和图3描述的元件基本相同或相似的元件的详细描述。
参照图1、图2、图3、图25、图26和图27，OLED装置1200可以包括多个像素区域。多个像素区域中的一个像素区域10可以包括第一子像素区域15、第二子像素区域20、第三子像素区域25、透明区域30以及不透明区域35。例如，像素区域10可以在包括于OLED装置1200中的整个基底上沿第一方向D1和第二方向D2布置。这里，第一方向D1可以平行于基底的上表面，第二方向D2可以垂直于第一方向D1。此外，不透明区域35可以沿第一方向D1和第二方向D2延伸以围绕第一子像素区域15、第二子像素区域20、第三子像素区域25以及透明区域30。
第一子像素、第二子像素和第三子像素可以分别设置在第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25中。上电极341可以在第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25中设置在第一子像素、第二子像素和第三子像素上。
触摸传感器电极363可以在不透明区域35的第一部分和透明区域30中设置在基底上。触摸传感器电极363可以暴露第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25以及暴露不透明区域35的围绕第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25的第二部分。触摸传感器电极363和上电极341可以彼此间隔开，触摸传感器电极363可以基本上围绕上电极341。
在示例实施例中，在像素区域10中相邻的两个像素区域10可分别被定义为第一像素区域和第二像素区域。触摸传感器电极363可以在第一像素区域和第二像素区域中一体地形成为暴露在第一像素区域和第二像素区域中均包括的子像素区域15、20和25以及不透明区域35的第二部分两者。在这种情况下，上电极341可以在包括在第一像素区域和第二像素区域中的两组的每者中的第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25中设置为基本上岛的形状。以这种方式，触摸传感器电极363可以在相邻的至少两个像素区域10中一体地形成。如图25和图26所示，触摸传感器电极363可以在相邻的九个(3×3)像素区域10中一体地形成。
触摸传感器布线260可以在透明区域30和不透明区域35中设置在基底上。例如，触摸传感器布线260可以设置在一体形成的触摸传感器电极363下方。触摸传感器布线260可以沿第二方向D2延伸，并且可以具有条的平面形状。
图28是沿图25的线Ⅲ-Ⅲ'截取的剖视图，图29是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图。图28和图29所示的OLED装置可以具有与参照图4描述的OLED装置100的构造基本相同或相似的构造。在图28和图29中，可以不再重复对与参照图4描述的元件基本相同或相似的元件的详细描述。
参照图4和图28，OLED装置1300可以包括基底110、栅极绝缘层150、层间绝缘层190、平坦化层270、半导体元件250、触摸传感器布线260、像素结构、触摸传感器电极363、像素限定层310、包封基底350等。这里，像素结构可以包括下电极290、发光层330和上电极341，半导体元件250可以包括有源层130、栅电极170、源电极210和漏电极230。
上电极341可以经由接触孔电连接到不透明区域35中设置在基底110上的低电源电压布线(未示出)，低电源电压布线可以将低电源电压提供到上电极341。
触摸传感器电极363和上电极341可以使用相同材料同时形成，并且可以位于同一水平处。例如，在平坦化层270上整体地形成预备电极之后，可以通过部分蚀刻来形成像素限定层310、发光层330、触摸传感器电极363和上电极341。触摸传感器电极363和上电极341可以在不透明区域35中在像素限定层310上彼此间隔开。触摸传感器电极363可以经由接触孔268与触摸传感器布线260相接触。
触摸传感器布线260可以在一体形成的触摸传感器电极363的下方沿第二方向D2延伸，并且可以具有条的平面形状。
在一些示例实施例中，如图29所示，在OLED装置1400中包括的触摸传感器布线265可以在一体形成的触摸传感器电极363上沿第二方向D2延伸，并且可以具有条的平面形状。这里，上电极341可以经由接触孔电连接到在不透明区域35中设置在基底110上的低电源电压布线(未示出)，低电源电压布线可以将低电源电压提供到上电极341。此外，触摸传感器布线265和触摸传感器电极363可以包括彼此不同的材料。例如，在形成触摸传感器电极363之后，可以在整个基底110上形成预备触摸传感器布线。在蚀刻预备触摸传感器布线的工艺中，在部分蚀刻预备触摸传感器布线的同时，利用蚀刻速率的差异，可不蚀刻触摸传感器电极363。
图30是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图，图31是用于描绘图30的OLED装置中包括的触摸传感器电极、触摸传感器布线和上电极的平面图。图32是用于描绘图30的OLED装置中包括的像素区域的平面图。除了触摸传感器电极365和上电极342之外，图30、图31和图32所示的OLED装置1600可以具有与参照图25、图26和图27描述的OLED装置1200的构造基本相同或相似的构造。在图30、图31和图32中，可以不再重复对与参照图25、图26和图27描述的元件基本相同或相似的元件的详细描述。
参照图25、图26、图27、图30、图31和图32，OLED装置1600可以包括多个像素区域。多个像素区域中的一个像素区域10可以包括第一子像素区域15、第二子像素区域20、第三子像素区域25、透明区域30以及不透明区域35。例如，像素区域10可以在包括于OLED装置1600中的整个基底上沿第一方向D1和第二方向D2布置。这里，第一方向D1可以平行于基底的上表面，第二方向D2可以垂直于第一方向D1。此外，不透明区域35可以沿第一方向D1和第二方向D2延伸以围绕第一子像素区域15、第二子像素区域20、第三子像素区域25以及透明区域30。
第一子像素、第二子像素和第三子像素可以分别设置在第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25中。上电极342可以在第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25中设置在第一子像素、第二子像素和第三子像素上。例如，上电极342可以包括在基底上沿第一方向D1延伸的第一延伸件和在基底上沿第二方向D2延伸的第二延伸件。在像素区域10中在第一方向D1上相邻的三个像素区域10可分别被定义为第一像素区域、第二像素区域和第三像素区域。上电极342的第二延伸件均可设置在包括于第一像素区域中的第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25、包括于第二像素区域中的第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25以及包括于第三像素区域中的第一子像素区域15、第二子像素区域20和第三子像素区域25中。上电极342的每个第二延伸件的第一侧可以在包括于像素区域10中的不透明区域35的底部中与上电极342的沿第一方向D1延伸的第一延伸件相接触。上电极342的第一延伸件和第二延伸件可以一体地形成，并且可以具有基本上W的形状。上电极342的第一侧可以电连接到设置在OLED装置1600的边缘的低电源电压布线(未示出)，低电源电压布线可以将低电源电压提供到上电极342。
触摸传感器电极365可以设置在透明区域30中。例如，触摸传感器电极365可以包括在基底上沿第一方向D1延伸的第一延伸件和在基底上沿第二方向D2延伸的第二延伸件。在像素区域10中在第一方向D1上相邻的三个像素区域10可分别被定义为第一像素区域、第二像素区域和第三像素区域。触摸传感器电极365的第二延伸件均可以设置在包括在第一像素区域中的透明区域30、包括在第二像素区域中的透明区域30和包括在第三像素区域中的透明区域30上。触摸传感器电极365的每个第二延伸件的第一侧可以在包括于像素区域10中的不透明区域35的顶部中与触摸传感器电极365的沿第一方向D1延伸的第一延伸件相接触。触摸传感器电极365的第一延伸件和第二延伸件可以一体地形成，并且可以具有基本上M的形状。上电极342和触摸传感器电极365可以在基底上彼此间隔开。上电极342的第一延伸件与触摸传感器电极365的第一延伸件设置在相对于透明区域30的相对侧上。上电极342的第二延伸件和触摸传感器电极365的第二延伸件在第一方向D1上彼此交错。
触摸传感器布线262可以在不透明区域35中设置在基底上。例如，触摸传感器布线262可以设置在一体形成的触摸传感器电极365下方。触摸传感器布线262可以沿第二方向D2延伸，并且可以具有条的平面形状。
图33是沿图30的线IV-IV'截取的剖视图，图34是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图。图35是示出根据示例实施例的OLED装置的剖视图。图33、图34和图35所示的OLED装置可以具有与参照图28和图29描述的OLED装置的构造基本相同或相似的构造。在图33、图34和图35中，可以不再重复对与参照图28和图29描述的元件基本相同或相似的元件的详细描述。
参照图28、图29和图33，OLED装置1700可以包括基底110、栅极绝缘层150、层间绝缘层190、平坦化层270、半导体元件250、触摸传感器布线262、像素结构、触摸传感器电极365、像素限定层320、包封基底350等。这里，像素结构可以包括下电极290、发光层330和上电极342，半导体元件250可以包括有源层130、栅电极170、源电极210和漏电极230。
触摸传感器电极365和上电极342可以使用相同材料同时形成，并且可以位于同一水平处。例如，在平坦化层270上整体地形成预备电极之后，可以通过部分蚀刻来形成像素限定层310、发光层330、触摸传感器电极365和上电极342。触摸传感器电极365和上电极342在不透明区域35中在像素限定层320上彼此间隔开。触摸传感器电极365可以经由接触孔269与触摸传感器布线262相接触。
触摸传感器布线262可以在不透明区域35中在一体形成的触摸传感器电极365的下方沿第二方向D2延伸，并且可以具有条的平面形状。在示例实施例中，触摸传感器布线262的厚度可以与源电极210和漏电极230的厚度均相同。例如，触摸传感器布线262可以基本不透明。触摸传感器布线262以及源电极210和漏电极230可以通过同一工艺由相同的材料形成。
像素限定层320可以在不透明区域35中设置在平坦化层270上。在示例实施例中，像素限定层320可以基本不透明从而防止外部光被设置在像素限定层320下方的触摸传感器布线262反射。例如，像素限定层320可以具有光阻挡材料以减小外部光的反射。
在另一示例实施例中，如图34所示，在OLED装置1800中包括的光阻挡构件370可以设置在像素限定层310上方。例如，光阻挡构件370可以设置在包封基底350的下表面上以与像素限定层310叠置。当像素限定层310为基本透明时，外部光会被设置在像素限定层310上的触摸传感器布线265反射。为了防止这种情况，阻挡光的光阻挡构件370可以与触摸传感器布线265叠置。例如，光阻挡构件370可以具有光阻挡材料以减小外部光的反射。此外，光阻挡构件370可以包括具有光阻挡材料的树脂。在这种情况下，触摸传感器布线265可以具有相对厚的厚度。此外，触摸传感器布线265和触摸传感器电极365可以包括彼此不同的材料。例如，在形成触摸传感器电极365之后，可以在整个基底110上形成预备触摸传感器布线。在蚀刻预备触摸传感器布线的工艺中，在部分蚀刻预备触摸传感器布线的同时，利用蚀刻速率的差异，可不蚀刻触摸传感器电极365。
在又一示例实施例中，如图35所示，OLED装置1900可以包括像素限定层330，像素限定层330在透明区域30中设置在平坦化层270上。像素限定层330可以部分地暴露设置在子像素区域15中的下电极290，并且可以整体地设置在透明区域30中。触摸传感器电极366可以设置在像素限定层330上，并且具有基本平坦的表面。像素限定层330可以是透明材料。此外，触摸传感器布线265和触摸传感器电极366可以包括彼此不同的材料。
图36是示出根据示例实施例的OLED装置的平面图。
参照图36，OLED装置2000可以包括第一显示区域50和第二显示区域60。第一显示区域50可以与图1所示的OLED装置100中包括的像素区域相同。例如，包括触摸传感器电极360的多个像素区域可以布置在第一显示区域50中。包括具有相对大面积的触摸传感器电极362的多个像素区域可以布置在第二显示区域60中。在示例实施例中，在OLED装置2000中包括的第一显示区域50和第二显示区域60可以根据子像素的数量或透明区域30的尺寸来区分。例如，在第一显示区域50中的子像素的数量可以大于在第二显示区域60中的子像素的数量。高分辨率的图像可以在第一显示区域50中显示，因此，OLED装置2000的在第一显示区域50中的透射率会降低。同时，第二显示区域60的透明区域30的尺寸可以大于第一显示区域50的透明区域30的尺寸。因此，在第二显示区域60中，触摸传感器电极362的尺寸可以变大，触摸传感器电极362的灵敏度可提高。
本发明可以应用于包括有机发光显示装置的各种显示装置。例如，本发明可以应用于车用显示装置、船用显示装置、飞行器用显示装置、便携式通信装置、用于显示或用于信息传输的显示装置、医用显示装置等。
上述内容是对示例实施例的举例说明，并且不被解释为示例实施例的限制。尽管已经描述了一些示例实施例，但是本领域的技术人员将容易理解的是，在本质上不脱离本发明构思的新颖教导和优点的情况下，可在示例实施例中进行多种修改。因此，所有这样的修改意图包括在如权利要求中限定的本发明构思的范围内。因此，要理解的是，前述是各种示例实施例的举例说明，且不被解释为局限于公开的特定示例实施例，对公开的示例实施例的修改以及其它示例实施例意图包括在所附权利要求的范围之内。

Claims (54)

1.一种有机发光显示装置，所述有机发光显示装置包括：
基底，包括子像素区域、透明区域以及设置在所述子像素区域与所述透明区域之间的不透明区域；
像素结构，在所述子像素区域中设置在所述基底上；以及
触摸传感器电极，在所述透明区域中设置在所述基底上，
其中，所述触摸传感器电极在所述透明区域中感测自电容。
2.如权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，所述子像素区域和所述透明区域在平面图中不叠置。
3.如权利要求2所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
触摸传感器布线，位于所述触摸传感器电极上，所述触摸传感器布线将所述触摸传感器电极和外部装置电连接，将所述触摸传感器电极的变化的电容传输到所述外部装置并且将从所述外部装置产生的感测电压提供到所述触摸传感器电极。
4.如权利要求3所述的有机发光显示装置，其中，所述基底包括多个像素区域，所述多个像素区域均具有所述子像素区域和所述透明区域，
其中，所述外部装置感测在所述透明区域中设置的所述触摸传感器电极中产生的电容的变化。
5.如权利要求2所述的有机发光显示装置，其中，所述像素结构包括：
下电极，位于所述基底上；
发光层，位于所述下电极上；以及
上电极，位于所述发光层上。
6.如权利要求5所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器电极和所述下电极同时形成，并且处于彼此不同的水平处。
7.如权利要求5所述的有机发光显示装置，其中，当所述下电极包括多个电极层时，所述多个电极层中的至少一个电极层和所述触摸传感器电极具有相同的材料。
8.如权利要求5所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器电极的厚度小于所述下电极的厚度，所述触摸传感器电极是透明的。
9.如权利要求5所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器电极和所述上电极使用相同的材料同时形成。
10.如权利要求5所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器电极和所述上电极在所述子像素区域和所述透明区域的边界中彼此间隔开。
11.如权利要求5所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器电极和所述上电极使用相同材料同时形成，并且处于彼此不同的水平处。
12.如权利要求5所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
像素限定层，位于所述基底上，所述像素限定层部分地暴露设置在所述子像素区域中的所述下电极和设置在所述透明区域中的所述触摸传感器电极。
13.如权利要求12所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
平坦化层，位于所述像素限定层与所述基底之间，所述平坦化层具有设置在所述透明区域中的接触孔。
14.如权利要求13所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
触摸传感器布线，设置在所述触摸传感器电极下方，所述触摸传感器布线经由所述平坦化层的所述接触孔将所述触摸传感器电极和外部装置电连接，将所述触摸传感器电极的变化的电容传输到所述外部装置并且将从所述外部装置产生的感测电压提供到所述触摸传感器电极。
15.如权利要求14所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
半导体元件，在所述子像素区域中位于所述基底上，
其中，所述半导体元件包括：有源层，位于所述基底上；栅电极，位于所述有源层上；以及源电极和漏电极，位于所述栅电极上。
16.如权利要求15所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器布线以及所述源电极和所述漏电极使用相同材料同时形成，并且所述触摸传感器布线的厚度小于所述源电极和所述漏电极的厚度，
其中，所述触摸传感器布线是透明的。
17.如权利要求12所述的有机发光显示装置，其中，所述像素限定层设置在所述不透明区域中。
18.如权利要求17所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
平坦化层，位于所述像素限定层与所述基底之间，所述平坦化层具有设置在所述不透明区域中的接触孔。
19.如权利要求18所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器电极在所述平坦化层上沿第一方向延伸，并且与所述不透明区域的至少一部分叠置。
20.如权利要求19所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
触摸传感器布线，设置在所述触摸传感器电极下方，所述触摸传感器布线经由所述平坦化层的所述接触孔将所述触摸传感器电极和外部装置电连接，将所述触摸传感器电极的变化的电容传输到所述外部装置并且将从所述外部装置产生的感测电压提供到所述触摸传感器电极。
21.如权利要求20所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
半导体元件，在所述子像素区域中位于所述基底上，
其中，所述半导体元件包括：有源层，位于所述基底上；栅电极，位于所述有源层上；以及源电极和漏电极，位于所述栅电极上。
22.如权利要求21所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器布线以及所述源电极和所述漏电极使用相同的材料同时形成。
23.如权利要求21所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器布线的厚度与所述源电极和所述漏电极的厚度相同。
24.如权利要求20所述的有机发光显示装置，其中，所述像素限定层是不透明的。
25.如权利要求20所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
光阻挡构件，位于所述像素限定层上，所述光阻挡构件与所述触摸传感器布线叠置。
26.如权利要求5所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
平坦化层；以及
像素限定层，位于所述平坦化层上，所述像素限定层部分地暴露设置在所述子像素区域中的所述下电极和所述平坦化层的位于所述透明区域中的至少一部分。
27.如权利要求26所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器电极设置在暴露于所述透明区域中的所述平坦化层上，所述上电极设置在所述下电极上，
其中，所述触摸传感器电极和所述上电极在所述像素限定层上彼此间隔开。
28.如权利要求27所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
触摸传感器布线，设置在所述像素限定层上，所述触摸传感器布线将所述触摸传感器电极和外部装置电连接，将所述触摸传感器电极的变化的电容传输到所述外部装置并且将从所述外部装置产生的感测电压提供到所述触摸传感器电极；以及
光阻挡构件，设置在所述像素限定层上，所述光阻挡构件与所述触摸传感器布线叠置。
29.如权利要求5所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
平坦化层，具有第一接触孔；以及
像素限定层，设置在所述平坦化层上，所述像素限定层部分地暴露设置在所述子像素区域中的所述下电极和所述平坦化层的位于所述透明区域中的至少一部分，并且具有暴露所述第一接触孔的第二接触孔。
30.如权利要求29所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
触摸传感器布线，位于所述像素限定层下方，所述触摸传感器布线经由所述第一接触孔和所述第二接触孔将所述触摸传感器电极和外部装置电连接，将所述触摸传感器电极的变化的电容传输到所述外部装置并且将从所述外部装置产生的感测电压提供到所述触摸传感器电极，
其中，所述像素限定层是不透明的。
31.如权利要求5所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
像素限定层，在所述透明区域中位于所述基底上，所述像素限定层部分地暴露设置在所述子像素区域中的所述下电极，
其中，所述触摸传感器电极在所述透明区域中设置在所述像素限定层上。
32.如权利要求31所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
触摸传感器布线，位于所述触摸传感器电极上，所述触摸传感器布线将所述触摸传感器电极和外部装置电连接，将所述触摸传感器电极的变化的电容传输到所述外部装置并且将从所述外部装置产生的感测电压提供到所述触摸传感器电极；以及
光阻挡构件，位于所述像素限定层上，所述光阻挡构件与所述触摸传感器布线叠置。
33.如权利要求5所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
半导体元件，在所述子像素区域中位于所述基底上，
其中，所述半导体元件包括：有源层，位于所述基底上；栅电极，位于所述有源层上；以及源电极和漏电极，位于所述栅电极上。
34.如权利要求33所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器电极和所述有源层使用相同的材料同时形成。
35.如权利要求34所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器电极的厚度小于所述有源层的厚度，所述触摸传感器电极是透明的。
36.如权利要求35所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
像素限定层，位于所述基底上，所述像素限定层部分地暴露设置在所述子像素区域中的所述下电极和设置在所述透明区域中的所述触摸传感器电极。
37.如权利要求36所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
触摸传感器布线，位于所述触摸传感器电极上，所述触摸传感器布线将所述触摸传感器电极和外部装置电连接，将所述触摸传感器电极的变化的电容传输到所述外部装置并且将从所述外部装置产生的感测电压提供到所述触摸传感器电极。
38.如权利要求36所述的有机发光显示装置，其中，所述像素限定层设置在所述不透明区域中。
39.如权利要求38所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
栅极绝缘层，位于所述像素限定层与所述基底之间，所述栅极绝缘层覆盖所述有源层，在所述透明区域中部分地暴露所述触摸传感器电极并且具有设置在所述不透明区域中的第一接触孔；以及
层间绝缘层，位于所述栅极绝缘层上，所述层间绝缘层覆盖所述栅电极，在所述透明区域中部分地暴露所述触摸传感器电极并且具有暴露所述第一接触孔的第二接触孔。
40.如权利要求39所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器电极与所述不透明区域的至少一部分叠置。
41.如权利要求40所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
触摸传感器布线，在所述不透明区域中在层间绝缘层上设置在所述触摸传感器电极上，所述触摸传感器布线经由所述第一接触孔和所述第二接触孔将所述触摸传感器电极和外部装置电连接，将所述触摸传感器电极的变化的电容传输到所述外部装置并且将从所述外部装置产生的感测电压提供到所述触摸传感器电极。
42.如权利要求41所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器布线以及所述源电极和所述漏电极使用相同材料同时形成，并且所述触摸传感器布线的厚度与所述源电极和所述漏电极的厚度相同。
43.如权利要求42所述的有机发光显示装置，其中，所述像素限定层是不透明的。
44.如权利要求42所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
光阻挡构件，位于所述像素限定层上，所述光阻挡构件与所述触摸传感器布线叠置。
45.如权利要求5所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
位于所述基底上的至少一层绝缘层。
46.如权利要求45所述的有机发光显示装置，其中，所述至少一层绝缘层不设置在整个所述基底上，使得所述至少一层绝缘层暴露位于所述基底上的所述透明区域，所述触摸传感器电极直接设置在所述基底上。
47.如权利要求45所述的有机发光显示装置，其中，所述至少一层绝缘层在所述透明区域中设置在所述基底上，所述触摸传感器电极设置在所述至少一层绝缘层上。
48.如权利要求5所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括：
像素限定层，位于所述基底上，所述像素限定层部分地暴露设置在所述子像素区域中的所述下电极和位于所述透明区域中的所述触摸传感器电极。
49.如权利要求48所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括具有第一厚度和比所述第一厚度小的第二厚度的触摸传感器布线，
其中，所述像素限定层设置在所述不透明区域中，
其中，具有所述第二厚度的所述触摸传感器布线在所述透明区域中与所述触摸传感器电极相接触，具有所述第一厚度的所述触摸传感器布线在不透明区域中设置在所述像素限定层上。
50.一种有机发光显示装置，所述有机发光显示装置包括：
基底，包括多个像素区域，所述多个像素区域均具有子像素区域、与所述子像素区域对应的透明区域、围绕所述子像素区域和所述透明区域的不透明区域；
下电极，在所述子像素区域中位于所述基底上；
发光层，位于所述下电极上；
上电极，在所述子像素区域中位于所述发光层上；
触摸传感器电极，在所述透明区域和所述不透明区域的第一部分中位于所述基底上，所述触摸传感器电极暴露所述子像素区域和所述不透明区域的围绕所述子像素区域的第二部分，与所述上电极间隔开并且围绕所述上电极；以及
触摸传感器布线，位于所述触摸传感器电极上，所述触摸传感器布线将所述触摸传感器电极和外部装置电连接，将所述触摸传感器电极的变化的电容传输到所述外部装置并且将从所述外部装置产生的感测电压提供到所述触摸传感器电极，
其中，所述触摸传感器电极感测自电容。
51.如权利要求50所述的有机发光显示装置，其中，所述多个像素区域沿第一方向和与所述第一方向垂直的第二方向布置，
其中，在所述多个像素区域中的相邻的两个像素区域分别被定义为第一像素区域和第二像素区域，所述触摸传感器电极一体地形成为暴露所述第一像素区域和所述第二像素区域中包括的所述子像素区域和所述不透明区域的所述第二部分，
其中，所述上电极在包括在所述第一像素区域和所述第二像素区域中的每者中的所述子像素区域中设置为岛的形状。
52.如权利要求50所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器电极和所述上电极使用相同的材料同时形成。
53.如权利要求51所述的有机发光显示装置，其中，所述触摸传感器布线在所述触摸传感器电极上沿所述第二方向延伸，所述触摸传感器电极一体地形成在所述第一像素区域和所述第二像素区域中，沿所述第二方向延伸的所述触摸传感器布线具有条的平面形状。
54.一种有机发光显示装置，所述有机发光显示装置包括：
基底，包括子像素区域和透明区域；
像素结构，在所述子像素区域中设置在所述基底上；以及
触摸传感器电极设置在所述透明区域中，
其中，所述触摸传感器电极在所述透明区域中感测自电容，并且
其中，所述触摸传感器电极不设置在所述子像素区域中。
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