CN111647920A - 一种钕铁硼磁体的电镀工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明属于永磁体制备技术领域，具体的说是一种钕铁硼磁体的电镀工艺，包括底座、电镀箱和控制器；所述底座斜坡形设计；所述底座斜坡形上表面通过丝杆铰接有支撑板；所述支撑板远离底座一侧表面固连有电镀箱；所述底座位于支撑板远离铰接点一端固连有气缸；所述气缸与控制器电连接；所述气缸伸出端连接于支撑板下表面；所述电镀箱内部空腔设置；所述电镀箱远离气缸一侧固连有电动机；所述电镀箱六边形空腔结构设计；所述电动机输出轴延伸至电镀箱空腔内设置；本发明通过设置电镀箱和多个滚筒，利用电机转动带动多个滚筒于电镀箱内进行转动，并通过滚筒内设置的螺旋板使钕铁硼磁体于滚筒内均匀分布，进而使钕铁硼磁体表面镀层更加均匀。

Description

一种钕铁硼磁体的电镀工艺
技术领域
本发明属于永磁体制备技术领域，具体的说是一种钕铁硼磁体的电镀工艺。
背景技术
钕铁硼磁体中的钕是稀土元素，化学活性很强，在空气中极易氧化，耐蚀性差，因此，钕铁硼磁体的表面都会电镀上若干层金属镀层，如采用镍铜镍镀层组合体系，在钕铁硼磁体表面镀上金属层之前，要对钕铁硼磁体进行前处理，以提高镀层与钕铁硼基体间的结合力，同时由于钕铁硼磁体其本身为粉末冶金产物，质地较为脆硬，且易受撞击影响表面产生掉粉现象，因此在进行电镀工序时需要防止钕铁硼磁体镀件之间发生撞击，从而导致钕铁硼磁体发生损伤，同时现有电镀箱在使用时本身进出料较为不便，不利于工作人员进行操作。
中国专利发布的一种用于钕铁硼磁体滚镀工艺的滚镀装置，专利号：201911393501X，包括第一滚筒支架、塑料滚筒、金属滚筒、第一驱动装置、第二驱动装置、翻转装置、第二滚筒支架、第四驱动装置和控制器，该发明的滚镀装置，同时具备用于前处理工序的金属滚筒和用于电镀工序的塑料滚筒，可以自动地将金属滚筒中的钕铁硼磁体转移到塑料滚筒内，不用人工进行操作，降低了钕铁硼电镀企业的人工成本，但是该方案中针对滚筒内钕铁硼磁体电镀过程并没有进行优化，在电镀时由于单个电镀滚筒进行操作不仅生产效率较慢，而且很容易由于单个滚筒直径较大，从而导致钕铁硼磁体在滚筒内自由落体高度差较大，进而使钕铁硼磁体受损，导致制备的永磁体品质下降。
发明内容
为了弥补现有技术的不足，解决现有技术中钕铁硼磁体在进行电镀时由于其本身为粉末冶金产物，质地较为脆硬，且易受撞击影响表面产生掉粉现象，因此在进行电镀工序时需要防止钕铁硼磁体镀件之间发生撞击，从而导致钕铁硼磁体发生损伤，同时现有电镀箱在使用时本身进出料较为不便，不利于工作人员进行操作的问题，本发明提出的一种钕铁硼磁体的电镀工艺。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：本发明所述的一种钕铁硼磁体的电镀工艺，所述钕铁硼磁体的电镀工艺包括以下步骤：
S1：将烧结好的钕铁硼磁体冷却至常温后立刻通入打磨机中，控制打磨机滚筒转速35-40r/min，滚筒内钢珠磨料与钕铁硼磁体掺量比为4:1，进行匀速打磨35-40min后通入无水乙醇中进行漂洗；通过对钕铁硼磁体进行打磨进而进行倒角处理，有效地使钕铁硼磁体边角处不同的电势差减小，进而便于后续电镀工序中电镀层和基层之间的结合力度，同时预先进行打磨还可以使钕铁硼磁体表面粘连不牢固的粉渣脱落，进而挑选牢固的钕铁硼磁体材料；
S2：将S1中经过无水乙醇漂洗后的钕铁硼磁体浸泡于添加有缓蚀剂的封孔液中进行封孔处理，控制封孔液内部温度处于45-55℃，封孔处理35-40min后通入超声波震荡装置中进行除油处理；由于钕铁硼磁体为粉末冶金技术生成的产物，其内部含有较大的空隙比，进而使钕铁硼磁体在进行后续工序时易容纳油液、氢离子等，进而造成钕铁硼磁体表面镀层使用寿命较短的现象，封孔剂配合缓蚀剂，可以缓慢的将钕铁硼磁体表面空隙进行填补，进而便于后续酸洗、活化等有溶剂参与的工序的进行；
S3：将S2中经除油工艺处理后的钕铁硼磁体依次经酸洗、取回、活化后通入电镀装置中，控制电镀装置转速4-6r/min进行均匀电镀处理，并依次于钕铁硼磁体表面电镀锌层、铜层、镍层；控制电镀装置转速使电镀装置内的钕铁硼磁体位移量尽可能的减小，从而有效地避免质地较脆的钕铁硼磁体随电镀装置转动过程中受到撞击，从而产生掉角等现象，从而影响制得的钕铁硼磁体的品质；
S4：将S3中经过电镀处理后的钕铁硼磁体经循环水进行清理后立刻进行烘干处理，以使镀层内蕴含的氢离子析出，进而完成钕铁硼磁体的电镀工艺流程；电镀过程中电流对电镀液易产生电解现象，进而生成大量的氢离子，氢离子随电镀的进行进入镀层中，从而使镀层本身脆性较强，电镀完成后进行烘干处理，可以使氢离子快速散逸，进而使电镀造成的氢脆现象对钕铁硼磁体成品的影响较小；
其中S3中所述电镀装置包括底座、电镀箱和控制器；所述底座斜坡形设计；所述底座斜坡形上表面通过丝杆铰接有支撑板；所述支撑板远离底座一侧表面固连有电镀箱；所述底座位于支撑板远离铰接点一端固连有气缸；所述气缸与控制器电连接；所述气缸伸出端连接于支撑板下表面；所述电镀箱内部空腔设置；所述电镀箱远离气缸一侧固连有电动机；所述电镀箱六边形空腔结构设计；所述电动机输出轴延伸至电镀箱空腔内设置；所述电镀箱内腔圆形设计；所述电动机输出轴位于电镀箱空腔内一端套接有主动轮；所述电镀箱空腔靠近主动轮一侧固连有齿环；所述齿环与主动轮之间啮合有均匀分布的从动轮；所述从动轮数量为四；所述从动轮均通过支撑杆固连有滚筒；所述滚筒均为狭长式圆柱形内空腔结构体；所述滚筒表面开设有均匀分布的导通孔；所述导通孔将滚筒内腔与电镀箱内腔之间导通；相邻两个所述滚筒之间相互接触；所述电镀箱远离电机一侧开口设计且开口处转动连接有密封板；所述滚动均贯穿密封板且滚筒外壁与密封板之间转动连接；所述支撑板靠近电镀箱开口一侧铰接有密封盖；所述密封盖与电镀箱开口相匹配；所述密封盖靠近电镀箱一侧固连有密封条；所述密封条由耐腐蚀橡胶材料制成；所述电镀箱上方固连有进液管、电镀箱位于电机下方固连有出液管；
现有技术中钕铁硼磁体在进行电镀工序时，由于其本身为粉末冶金产物，质地较为脆硬，且易受撞击影响表面产生掉粉现象，因此在进行电镀工序时需要防止钕铁硼磁体镀件之间发生撞击，从而导致钕铁硼磁体发生损伤，同时现有电镀箱在使用时本身进出料较为不便，不利于工作人员进行操作，工作时，通过控制器调控气缸，使气缸伸出端收缩，进而使电镀箱随支撑板一同转动，当电镀箱开口倾斜向下时，打开密封盖，将钕铁硼磁体与钢珠一同通入滚筒中，并控制气缸伸出，使电镀箱处于水平状态，此时通过进液管向电镀箱内填充电镀液，并开启电源，电动机转动带动套接在输出轴上的主动轮进行转动，由于齿环与主动轮之间从动轮的设置，且齿环与电镀箱之间固定连接，主动轮转动带动从动轮在进行自转的同时围绕齿环内圈进行转动，由于从动轮均通过支撑杆固连有滚筒，从动轮在进行转动时，带动滚筒进行自传和围绕电镀箱内径进行转动，在缓慢转动的过程中电镀液受电流影响于钕铁硼磁体表面析出，进而形成均匀的镀层，多个滚筒的设置，将电镀箱内滚筒直径缩小化、单个滚筒容积减小，进而有效地使单个滚筒中的钕铁硼磁体数量较少，且滚筒直径的减小可以有效地避免钕铁硼磁体在滚筒内产生较大的高度差，进而有效地避免钕铁硼磁体在向下滑落的过程中发生较为猛烈的撞击，进而导致钕铁硼磁体受损，同时密封板的设计与支撑杆分别处于滚筒的两端，对滚筒起到支撑作用，同时密封板与电镀箱和滚筒之间均转动连接，还可以将电镀箱和滚筒之间的缝隙堵塞，避免在填料时，使钕铁硼磁体填充至电镀箱和滚筒的缝隙内，同时气缸的设立与电镀箱交接设置与底座上，可以进出料时，通过调控器气缸起到辅助的作用，进而使填料与出料更加方便。
优选的，所述滚筒内部均固连有螺旋板；所述螺旋板相对于滚筒内壁弧形设计；所述螺旋板从滚筒底部延伸至开口处设置；工作时，在进行电镀时，由于滚筒为狭长式圆柱形空腔结构体，当电镀箱所处方位不是绝对水平时，钕铁硼磁体镀件在电镀过程中逐渐受转动影响，从而向倾斜一端汇聚，进而使钕铁硼磁体于电镀液中分布的较为不均，从而使电镀液浓度差异较大，进而导致电镀效果较差，镀层分布不均匀，通过控制器控制气缸伸出，使电镀箱以及滚筒朝向铰接点处微倾斜，在电镀过程中，随着滚筒的逐渐转动，滚筒内的钕铁硼磁体镀件逐渐受螺旋板影响产生顺螺旋板向上运动的趋势，并于螺旋板顶端重新滑落至滚筒底部，进而使钕铁硼磁体镀件在滚筒内均匀分布，同时运动式的电镀过程中，可以有效的使钕铁硼磁体镀件所受电镀液浓度更加均匀，进而使钕铁硼磁体成品之间镀层厚度更加均匀。
优选的，所述滚筒均为塑料材料制成；所述滚筒内壁均匀填充有吸附板；所述吸附板由掺杂有微量铁粉的塑料材料制成；工作时，由于钕铁硼磁体本身具备磁性，滚筒选用塑料材质可以有效地避免钕铁硼磁体吸附在滚筒侧壁上，进而使钕铁硼磁体与电镀液之间接触不良，进而导致钕铁硼磁体镀层存在漏洞或镀层厚度不均匀，同时滚筒侧壁吸附板的设立，使钕铁硼磁体与吸附板之间产生微弱的吸引力，在滚筒进行转动的过程中吸附板随滚筒转动，进而对钕铁硼磁体利用吸引力使滚筒内的钕铁硼磁体铺开面积更大，进而使钕铁硼磁体在滚筒内电镀进行的更加快速、均匀，同时钕铁硼磁体与吸附板之间微弱的引力随着滚筒的转动，逐渐使钕铁硼磁体受重力影响与滚筒侧壁之间分离，进而避免与电镀液之间接触不良。
优选的，所述底座靠近支撑板一侧表面固连有缓冲垫；所述缓冲垫内部固连有多个气弹簧，用于减缓振动对底座稳定性的影响；工作时，电机转动，进而带动主动轮、从动轮和滚筒在电镀箱内进行转动，由于电动机和滚筒在工作时易产生振动且电镀箱与底座之间铰接连接，震动的产生易使底座协同振动，进而导致底座不够稳定，通过缓冲垫和气弹簧的设定，电镀箱在进行振动时，振动力传输至缓冲垫和气弹簧，进而利用气弹簧和缓冲垫的缓冲作用，使传输至底座上的振动力大幅度减弱，进而使底座稳定的固定在地面上，从而使整个电镀釜运行的更加平稳。
优选的，所述电镀箱位于滚筒与主动轮之间固连有隔绝环；所述主动轮靠近隔绝环一侧通过导杆固连有转动板；所述转动板和隔绝环同一平面设计且隔绝环与转动板构成环形槽；所述支撑杆均贯穿环形槽设计；所述转动板与隔绝板相对一侧均开设有第一凹槽；所述第一凹槽内滑动连接有滑动板；所述滑动板数量为四；所述滑动板用于配合支撑杆将环形槽滑动密封；工作时，由于从动轮围绕主动轮进行转动，滚筒与从动轮之间固连，因此，主动轮和从动轮均设置于电镀箱内，随着时间的推移，电镀液与主动轮和从动轮之间接触，易对其造成腐蚀效果，进而使电镀釜运行受损，进而使电镀釜使用寿命减短，通过设立隔绝环、转动板和滑动板，在主动轮进行转动时，带动从动轮进行转动，从动轮转动带动支撑杆转动，进而使支撑杆在隔绝环和转动板形成的环形槽内滑动，进而对第一凹槽内的滑动板产生挤压力，使滑动板在第一滑槽内滑动，利用支撑杆和滑动板将环形槽形成滑动密封，进而使主动轮、从动轮和电镀液之间隔绝，进而有效地避免电镀工序进行时对内部构造的腐蚀效果，进而延长电镀釜的使用寿命。
优选的，所述电镀箱内部固连有均匀分布的摩擦板；所述转动板远离主动轮一侧固连有转动棒；所述摩擦板与转动棒表面均为弹性橡胶材料制成且表面粗糙设计，用于与滚筒外壁之间进行摩擦，从而对滚筒外壁起到清洁作用；工作时，主动轮在电动机输出轴的带动下进行转动，进而带动转动棒进行转动，同时从动轮上固连的支撑杆带动滚筒进行转动，由于主动轮和从动轮的传动导致其两者转动方向相反，转动棒与支撑杆之间反向转动，进而使滚筒与转动板之间方向转动接触，从而利用转动棒配合摩擦板对滚筒表面进行清洁，进而有效地防止导通孔堵塞，使电镀釜运行更加顺畅。
本发明的有益效果如下：
1.本发明所述的一种钕铁硼磁体的电镀工艺，通过设置底座、控制器和气缸，通过控制其气缸输出端伸出与收缩，进而使底座上铰接的电镀箱围绕铰接点进行，进而配合滚筒内设置的螺旋板从而起到快速填充物料和卸载物料的目的，同时螺旋板设置于滚筒内部，进而通过滚筒进行自转时，通过螺旋板的作用使滚筒内部的钕铁硼磁体均匀分散在滚筒内，进而有效地增强电镀液中钕铁硼磁体的分散程度，进而增强钕铁硼磁体表面镀层的均匀程度。
2.本发明所述的一种钕铁硼磁体的电镀工艺，通过设置隔绝环、转动板和滑动板，在主动轮进行转动时，带动从动轮进行转动，从动轮转动带动支撑杆转动，进而使支撑杆在隔绝环和转动板形成的环形槽内滑动，进而对第一凹槽内的滑动板产生挤压力，使滑动板在第一滑槽内滑动，利用支撑杆和滑动板将环形槽形成滑动密封，进而使主动轮、从动轮和电镀液之间隔绝，进而有效地避免电镀工序进行时对内部构造的腐蚀效果，进而延长电镀釜的使用寿命。
附图说明
下面结合附图对本发明作进一步说明。
图1是本发明的方法流程图；
图2是电镀装置的主视图
图3是电镀装置的剖视图；
图4是电镀箱的主视图；
图5是电镀装置的内部传动图；
图中：底座1、支撑板11、气缸12、密封盖13、密封条14、缓冲垫15、电镀箱2、电动机21、主动轮22、齿环23、从动轮24、支撑杆25、滚筒3、密封板31、螺旋板32、吸附板33、隔绝环4、滑动板41、摩擦板42、转动棒43。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。
如图1至图5所示，本发明所述的一种钕铁硼磁体的电镀工艺，所述钕铁硼磁体的电镀工艺包括以下步骤：
S1：将烧结好的钕铁硼磁体冷却至常温后立刻通入打磨机中，控制打磨机滚筒转速35-40r/min，滚筒内钢珠磨料与钕铁硼磁体掺量比为4:1，进行匀速打磨35-40min后通入无水乙醇中进行漂洗；通过对钕铁硼磁体进行打磨进而进行倒角处理，有效地使钕铁硼磁体边角处不同的电势差减小，进而便于后续电镀工序中电镀层和基层之间的结合力度，同时预先进行打磨还可以使钕铁硼磁体表面粘连不牢固的粉渣脱落，进而挑选牢固的钕铁硼磁体材料；
S2：将S1中经过无水乙醇漂洗后的钕铁硼磁体浸泡于添加有缓蚀剂的封孔液中进行封孔处理，控制封孔液内部温度处于45-55℃，封孔处理35-40min后通入超声波震荡装置中进行除油处理；由于钕铁硼磁体为粉末冶金技术生成的产物，其内部含有较大的空隙比，进而使钕铁硼磁体在进行后续工序时易容纳油液、氢离子等，进而造成钕铁硼磁体表面镀层使用寿命较短的现象，封孔剂配合缓蚀剂，可以缓慢的将钕铁硼磁体表面空隙进行填补，进而便于后续酸洗、活化等有溶剂参与的工序的进行；
S3：将S2中经除油工艺处理后的钕铁硼磁体依次经酸洗、取回、活化后通入电镀装置中，控制电镀装置转速4-6r/min进行均匀电镀处理，并依次于钕铁硼磁体表面电镀锌层、铜层、镍层；控制电镀装置转速使电镀装置内的钕铁硼磁体位移量尽可能的减小，从而有效地避免质地较脆的钕铁硼磁体随电镀装置转动过程中受到撞击，从而产生掉角等现象，从而影响制得的钕铁硼磁体的品质；
S4：将S3中经过电镀处理后的钕铁硼磁体经循环水进行清理后立刻进行烘干处理，以使镀层内蕴含的氢离子析出，进而完成钕铁硼磁体的电镀工艺流程；电镀过程中电流对电镀液易产生电解现象，进而生成大量的氢离子，氢离子随电镀的进行进入镀层中，从而使镀层本身脆性较强，电镀完成后进行烘干处理，可以使氢离子快速散逸，进而使电镀造成的氢脆现象对钕铁硼磁体成品的影响较小；
其中S3中所述电镀装置包括底座1、电镀箱2和控制器；所述底座1斜坡形设计；所述底座1斜坡形上表面通过丝杆铰接有支撑板11；所述支撑板11远离底座1一侧表面固连有电镀箱2；所述底座1位于支撑板11远离铰接点一端固连有气缸12；所述气缸12与控制器电连接；所述气缸12伸出端连接于支撑板11下表面；所述电镀箱2内部空腔设置；所述电镀箱2远离气缸12一侧固连有电动机21；所述电镀箱2六边形空腔结构设计；所述电动机21输出轴延伸至电镀箱2空腔内设置；所述电镀箱2内腔圆形设计；所述电动机21输出轴位于电镀箱2空腔内一端套接有主动轮22；所述电镀箱2空腔靠近主动轮22一侧固连有齿环23；所述齿环23与主动轮22之间啮合有均匀分布的从动轮24；所述从动轮24数量为四；所述从动轮24均通过支撑杆25固连有滚筒3；所述滚筒3均为狭长式圆柱形内空腔结构体；所述滚筒3表面开设有均匀分布的导通孔；所述导通孔将滚筒3内腔与电镀箱2内腔之间导通；相邻两个所述滚筒3之间相互接触；所述电镀箱2远离电机一侧开口设计且开口处转动连接有密封板31；所述滚动均贯穿密封板31且滚筒3外壁与密封板31之间转动连接；所述支撑板11靠近电镀箱2开口一侧铰接有密封盖13；所述密封盖13与电镀箱2开口相匹配；所述密封盖13靠近电镀箱2一侧固连有密封条14；所述密封条14由耐腐蚀橡胶材料制成；所述电镀箱2上方固连有进液管、电镀箱2位于电机下方固连有出液管；
现有技术中钕铁硼磁体在进行电镀工序时，由于其本身为粉末冶金产物，质地较为脆硬，且易受撞击影响表面产生掉粉现象，因此在进行电镀工序时需要防止钕铁硼磁体镀件之间发生撞击，从而导致钕铁硼磁体发生损伤，同时现有电镀箱2在使用时本身进出料较为不便，不利于工作人员进行操作，工作时，通过控制器调控气缸12，使气缸12伸出端收缩，进而使电镀箱2随支撑板11一同转动，当电镀箱2开口倾斜向下时，打开密封盖13，将钕铁硼磁体与钢珠一同通入滚筒3中，并控制气缸12伸出，使电镀箱2处于水平状态，此时通过进液管向电镀箱2内填充电镀液，并开启电源，电动机21转动带动套接在输出轴上的主动轮22进行转动，由于齿环23与主动轮22之间从动轮24的设置，且齿环23与电镀箱2之间固定连接，主动轮22转动带动从动轮24在进行自转的同时围绕齿环23内圈进行转动，由于从动轮24均通过支撑杆25固连有滚筒3，从动轮24在进行转动时，带动滚筒3进行自传和围绕电镀箱2内径进行转动，在缓慢转动的过程中电镀液受电流影响于钕铁硼磁体表面析出，进而形成均匀的镀层，多个滚筒3的设置，将电镀箱2内滚筒3直径缩小化、单个滚筒3容积减小，进而有效地使单个滚筒3中的钕铁硼磁体数量较少，且滚筒3直径的减小可以有效地避免钕铁硼磁体在滚筒3内产生较大的高度差，进而有效地避免钕铁硼磁体在向下滑落的过程中发生较为猛烈的撞击，进而导致钕铁硼磁体受损，同时密封板31的设计与支撑杆25分别处于滚筒3的两端，对滚筒3起到支撑作用，同时密封板31与电镀箱2和滚筒3之间均转动连接，还可以将电镀箱2和滚筒3之间的缝隙堵塞，避免在填料时，使钕铁硼磁体填充至电镀箱2和滚筒3的缝隙内，同时气缸12的设立与电镀箱2交接设置与底座1上，可以进出料时，通过调控器气缸12起到辅助的作用，进而使填料与出料更加方便。
作为本发明的一种实施方式，所述滚筒3内部均固连有螺旋板32；所述螺旋板32相对于滚筒3内壁弧形设计；所述螺旋板32从滚筒3底部延伸至开口处设置；工作时，在进行电镀时，由于滚筒3为狭长式圆柱形空腔结构体，当电镀箱2所处方位不是绝对水平时，钕铁硼磁体镀件在电镀过程中逐渐受转动影响，从而向倾斜一端汇聚，进而使钕铁硼磁体于电镀液中分布的较为不均，从而使电镀液浓度差异较大，进而导致电镀效果较差，镀层分布不均匀，通过控制器控制气缸12伸出，使电镀箱2以及滚筒3朝向铰接点处微倾斜，在电镀过程中，随着滚筒3的逐渐转动，滚筒3内的钕铁硼磁体镀件逐渐受螺旋板32影响产生顺螺旋板32向上运动的趋势，并于螺旋板32顶端重新滑落至滚筒3底部，进而使钕铁硼磁体镀件在滚筒3内均匀分布，同时运动式的电镀过程中，可以有效的使钕铁硼磁体镀件所受电镀液浓度更加均匀，进而使钕铁硼磁体成品之间镀层厚度更加均匀。
作为本发明的一种实施方式，所述滚筒3均为塑料材料制成；所述滚筒3内壁均匀填充有吸附板33；所述吸附板33由掺杂有微量铁粉的塑料材料制成；工作时，由于钕铁硼磁体本身具备磁性，滚筒3选用塑料材质可以有效地避免钕铁硼磁体吸附在滚筒3侧壁上，进而使钕铁硼磁体与电镀液之间接触不良，进而导致钕铁硼磁体镀层存在漏洞或镀层厚度不均匀，同时滚筒3侧壁吸附板33的设立，使钕铁硼磁体与吸附板33之间产生微弱的吸引力，在滚筒3进行转动的过程中吸附板33随滚筒3转动，进而对钕铁硼磁体利用吸引力使滚筒3内的钕铁硼磁体铺开面积更大，进而使钕铁硼磁体在滚筒3内电镀进行的更加快速、均匀，同时钕铁硼磁体与吸附板33之间微弱的引力随着滚筒3的转动，逐渐使钕铁硼磁体受重力影响与滚筒3侧壁之间分离，进而避免与电镀液之间接触不良。
作为本发明的一种实施方式，所述底座1靠近支撑板11一侧表面固连有缓冲垫15；所述缓冲垫15内部固连有多个气弹簧，用于减缓振动对底座1稳定性的影响；工作时，电机转动，进而带动主动轮22、从动轮24和滚筒3在电镀箱2内进行转动，由于电动机21和滚筒3在工作时易产生振动且电镀箱2与底座1之间铰接连接，震动的产生易使底座1协同振动，进而导致底座1不够稳定，通过缓冲垫15和气弹簧的设定，电镀箱2在进行振动时，振动力传输至缓冲垫15和气弹簧，进而利用气弹簧和缓冲垫15的缓冲作用，使传输至底座1上的振动力大幅度减弱，进而使底座1稳定的固定在地面上，从而使整个电镀釜运行的更加平稳。
作为本发明的一种实施方式，所述电镀箱2位于滚筒3与主动轮22之间固连有隔绝环4；所述主动轮22靠近隔绝环4一侧通过导杆固连有转动板；所述转动板和隔绝环4同一平面设计且隔绝环4与转动板构成环形槽；所述支撑杆25均贯穿环形槽设计；所述转动板与隔绝板相对一侧均开设有第一凹槽；所述第一凹槽内滑动连接有滑动板41；所述滑动板41数量为四；所述滑动板41用于配合支撑杆25将环形槽滑动密封；工作时，由于从动轮24围绕主动轮22进行转动，滚筒3与从动轮24之间固连，因此，主动轮22和从动轮24均设置于电镀箱2内，随着时间的推移，电镀液与主动轮22和从动轮24之间接触，易对其造成腐蚀效果，进而使电镀釜运行受损，进而使电镀釜使用寿命减短，通过设立隔绝环4、转动板和滑动板41，在主动轮22进行转动时，带动从动轮24进行转动，从动轮24转动带动支撑杆25转动，进而使支撑杆25在隔绝环4和转动板形成的环形槽内滑动，进而对第一凹槽内的滑动板41产生挤压力，使滑动板41在第一滑槽内滑动，利用支撑杆25和滑动板41将环形槽形成滑动密封，进而使主动轮22、从动轮24和电镀液之间隔绝，进而有效地避免电镀工序进行时对内部构造的腐蚀效果，进而延长电镀釜的使用寿命。
作为本发明的一种实施方式，所述电镀箱2内部固连有均匀分布的摩擦板42；所述转动板远离主动轮22一侧固连有转动棒43；所述摩擦板42与转动棒43表面均为弹性橡胶材料制成且表面粗糙设计，用于与滚筒3外壁之间进行摩擦，从而对滚筒3外壁起到清洁作用；工作时，主动轮22在电动机21输出轴的带动下进行转动，进而带动转动棒43进行转动，同时从动轮24上固连的支撑杆25带动滚筒3进行转动，由于主动轮22和从动轮24的传动导致其两者转动方向相反，转动棒43与支撑杆25之间反向转动，进而使滚筒3与转动板之间方向转动接触，从而利用转动棒43配合摩擦板42对滚筒3表面进行清洁，进而有效地防止导通孔堵塞，使电镀釜运行更加顺畅。
具体工作流程如下：
工作时，通过控制器调控气缸12，使气缸12伸出端收缩，进而使电镀箱2随支撑板11一同转动，当电镀箱2开口倾斜向下时，打开密封盖13，将钕铁硼磁体与钢珠一同通入滚筒3中，并控制气缸12伸出，使电镀箱2处于水平状态，此时通过进液管向电镀箱2内填充电镀液，并开启电源，电动机21转动带动套接在输出轴上的主动轮22进行转动，由于齿环23与主动轮22之间从动轮24的设置，且齿环23与电镀箱2之间固定连接，主动轮22转动带动从动轮24在进行自转的同时围绕齿环23内圈进行转动，由于从动轮24均通过支撑杆25固连有滚筒3，从动轮24在进行转动时，带动滚筒3进行自传和围绕电镀箱2内径进行转动，在缓慢转动的过程中电镀液受电流影响于钕铁硼磁体表面析出，进而形成均匀的镀层。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (6)

1.一种钕铁硼磁体的电镀工艺，其特征在于：所述钕铁硼磁体的电镀工艺包括以下步骤：
S1：将烧结好的钕铁硼磁体冷却至常温后立刻通入打磨机中，控制打磨机滚筒转速35-40r/min，滚筒内钢珠磨料与钕铁硼磁体掺量比为4:1，进行匀速打磨35-40min后通入无水乙醇中进行漂洗；
S2：将S1中经过无水乙醇漂洗后的钕铁硼磁体浸泡于添加有缓蚀剂的封孔液中进行封孔处理，控制封孔液内部温度处于45-55℃，封孔处理35-40min后通入超声波震荡装置中进行除油处理；
S3：将S2中经除油工艺处理后的钕铁硼磁体依次经酸洗、取回、活化后通入电镀装置中，控制电镀装置转速4-6r/min进行均匀电镀处理，并依次于钕铁硼磁体表面电镀锌层、铜层、镍层；
S4：将S3中经过电镀处理后的钕铁硼磁体经循环水进行清理后立刻进行烘干处理，以使镀层内蕴含的氢离子析出，进而完成钕铁硼磁体的电镀工艺流程；
其中S3中所述电镀装置包括底座(1)、电镀箱(2)和控制器；所述底座(1)斜坡形设计；所述底座(1)斜坡形上表面通过丝杆铰接有支撑板(11)；所述支撑板(11)远离底座(1)一侧表面固连有电镀箱(2)；所述底座(1)位于支撑板(11)远离铰接点一端固连有气缸(12)；所述气缸(12)与控制器电连接；所述气缸(12)伸出端连接于支撑板(11)下表面；所述电镀箱(2)内部空腔设置；所述电镀箱(2)远离气缸(12)一侧固连有电动机(21)；所述电镀箱(2)六边形空腔结构设计；所述电动机(21)输出轴延伸至电镀箱(2)空腔内设置；所述电镀箱(2)内腔圆形设计；所述电动机(21)输出轴位于电镀箱(2)空腔内一端套接有主动轮(22)；所述电镀箱(2)空腔靠近主动轮(22)一侧固连有齿环(23)；所述齿环(23)与主动轮(22)之间啮合有均匀分布的从动轮(24)；所述从动轮(24)数量为四；所述从动轮(24)均通过支撑杆(25)固连有滚筒(3)；所述滚筒(3)均为狭长式圆柱形内空腔结构体；所述滚筒(3)表面开设有均匀分布的导通孔；所述导通孔将滚筒(3)内腔与电镀箱(2)内腔之间导通；相邻两个所述滚筒(3)之间相互接触；所述电镀箱(2)远离电机一侧开口设计且开口处转动连接有密封板(31)；所述滚筒(3)均贯穿密封板(31)且滚筒(3)外壁与密封板(31)之间转动连接；所述支撑板(11)靠近电镀箱(2)开口一侧铰接有密封盖(13)；所述密封盖(13)与电镀箱(2)开口相匹配；所述密封盖(13)靠近电镀箱(2)一侧固连有密封条(14)；所述密封条(14)由耐腐蚀橡胶材料制成；所述电镀箱(2)上方固连有进液管、电镀箱(2)位于电机下方固连有出液管。
2.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体的电镀工艺，其特征在于：所述滚筒(3)内部均固连有螺旋板(32)；所述螺旋板(32)相对于滚筒(3)内壁弧形设计；所述螺旋板(32)从滚筒(3)底部延伸至开口处设置。
3.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体的电镀工艺，其特征在于：所述滚筒(3)均为塑料材料制成；所述滚筒(3)内壁均匀填充有吸附板(33)；所述吸附板(33)由掺杂有微量铁粉的塑料材料制成。
4.根据权利要求3所述的一种钕铁硼磁体的电镀工艺，其特征在于：所述底座(1)靠近支撑板(11)一侧表面固连有缓冲垫(15)；所述缓冲垫(15)内部固连有多个气弹簧，用于减缓振动对底座(1)稳定性的影响。
5.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体的电镀工艺，其特征在于：所述电镀箱(2)位于滚筒(3)与主动轮(22)之间固连有隔绝环(4)；所述主动轮(22)靠近隔绝环(4)一侧通过导杆固连有转动板；所述转动板和隔绝环(4)同一平面设计且隔绝环(4)与转动板构成环形槽；所述支撑杆(25)均贯穿环形槽设计；所述转动板与隔绝板相对一侧均开设有第一凹槽；所述第一凹槽内滑动连接有滑动板(41)；所述滑动板(41)数量为四；所述滑动板(41)用于配合支撑杆(25)将环形槽滑动密封。
6.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体的电镀工艺，其特征在于：所述电镀箱(2)内部固连有均匀分布的摩擦板(42)；所述转动板远离主动轮(22)一侧固连有转动棒(43)；所述摩擦板(42)与转动棒(43)表面均为弹性橡胶材料制成且表面粗糙设计，用于与滚筒(3)外壁之间进行摩擦，从而对滚筒(3)外壁起到清洁作用。
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