CN111647847B - 掩膜板、蒸镀装置及蒸镀方法 - Google Patents

Abstract

本文公开了一种掩膜板、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及但不限于显示技术领域。掩膜板包括：支撑板和掩膜盘；所述支撑板包括蒸镀区域，所述蒸镀区域内设置至少一个贯通所述支撑板的安装槽；所述掩膜盘包括开口区和设置于所述开口区外围的遮挡区；所述掩膜盘嵌入所述安装槽，并与所述支撑板转动连接。本公开实施例提供的掩膜板、蒸镀装置及蒸镀方法，通过旋转支撑板和掩膜盘，掩膜盘开口区上除旋转中心的任一点与支撑板相对位置不断变化，减小开口区除旋转中心的任一点通过蒸发材料的差异，改善了基板成膜均一性，进而提高有机发光二极管产品的颜色和亮度均一性，提升显示效果。

Description

掩膜板、蒸镀装置及蒸镀方法

技术领域

本公开涉及但不限于显示技术领域，更具体地，涉及一种掩膜板、蒸镀装置及蒸镀方法。

背景技术

有机发光二极管(organic light-emitting diode，OLED)作为液晶显示后的新一代发光显示技术，具有可视角宽、对比度高、色彩鲜艳、可柔性显示等优点，已经被普遍应用于各种手机、可穿戴设备中，具有良好的应用前景。

有机发光二极管各发光层的制备主要采用蒸镀的方法将各种有机小分子材料沉积于基板上。蒸镀法具有掺杂简单、膜厚准确、膜层间的相互影响小等优点。然而，在蒸镀过程中，由于蒸镀材料以圆锥型放射状方式沉积在基板表面，造成基板上中间膜层和边缘膜层的厚度不一致，由此导致发光区域不同位置的效率和颜色有所偏差，最终造成显示产品出现亮度、颜色不均一的现象，这一现象在大尺寸有机发光二极管产品上更加明显。

发明内容

以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。

本公开实施例提供了一种掩膜板、蒸镀装置及蒸镀方法，可以有效提升镀膜的均匀性。

本公开实施例提供的掩膜板，包括：支撑板和掩膜盘；

所述支撑板包括蒸镀区域，所述蒸镀区域内设置至少一个贯通所述支撑板的安装槽；

所述掩膜盘包括开口区和设置于所述开口区外围的遮挡区；

所述掩膜盘嵌入所述安装槽，并与所述支撑板转动连接。

在一示例性实施例中，所述掩膜盘包括多个且以所述支撑板的几何中心为中心同心排列，所述安装槽与所述掩膜盘一一对应。

在一示例性实施例中，所述多个掩膜盘呈同心排列的至少一环。

在一示例性实施例中，每环内的多个所述掩膜盘等间距分布。

在一示例性实施例中，所述掩膜盘的开口区包括阵列排布的多个子开口区，相邻的所述子开口区之间为遮挡区。

在一示例性实施例中，所述多个子开口呈中心对称分布，所述多个子开口区的对称中心与所述掩膜盘的几何中心重合。

在一示例性实施例中，所述安装槽内壁远离基板一侧的周向上设置环形的凸起，所述掩膜盘远离基板的端面周向边缘设置环形的卡槽，所述凸起嵌入所述卡槽内。

在一示例性实施例中，所述掩膜盘靠近基板一侧表面设置有用于承载基板的承载槽。

本公开实施例还提供的蒸发方法，采用上述实施例的掩膜板，包括：旋转支撑板和掩膜盘，基板与所述掩膜盘同步运动。

在一示例性实施例中，基板与所述掩膜盘同步运动，包括：所述基板的转动速度和转动方向与所述掩膜盘的转动速度和转动方向相同，其中，所述掩膜盘的转动方向包括：所述掩膜盘的自转方向和掩膜盘随支撑板的转动方向，所述掩膜盘的转动速度包括：所述掩膜盘的自转速度和掩膜盘随支撑板的转动速度。

在一示例性实施例中，旋转支撑板和掩膜盘，基板和所述掩膜盘同步运动，包括：所述支撑板顺时针旋转，所述掩膜盘逆时针旋转；或所述支撑板逆时针旋转，所述掩膜盘顺时针旋转；或所述支撑板和所述掩膜盘均顺时针旋转或逆时针旋转。

在一示例性实施例中，所述掩膜盘包括承载槽，所述基板容置在所述承载槽内。

本公开实施例还提供的蒸镀装置，包括：壳体、旋转机构、子旋转机构和上述实施例的掩膜板，所述壳体围成蒸发室，所述旋转机构设置于蒸发室内并位于所述壳体的顶部，所述子旋转机构设置于所述旋转机构上，所述旋转机构与所述支撑板连接并用于驱动所述支撑板旋转，所述子旋转机构与所述掩膜盘连接并用于驱动所述掩膜盘旋转。

在一示例性实施例中，所述旋转机构包括第一驱动件和第一旋转架，所述第一驱动件设置于所述壳体上，所述第一旋转架包括第一水平支撑部和垂直连接于所述第一水平支撑部的第一竖直悬挂部，所述第一水平支撑部与所述第一驱动件的输出轴连接，所述第一竖直悬挂部与所述支撑板连接，所述子旋转机构设置于所述第一水平支撑部上；所述子旋转机构包括第二驱动件和第二旋转架，所述第二驱动件设置于所述第一水平支撑部上，所述第二旋转架包括第二水平支撑部和垂直连接于所述第二水平支撑部的第二竖直悬挂部，所述第二水平支撑部与所述第二驱动件的输出轴连接，所述第二竖直悬挂部与所述掩膜盘连接。

在一示例性实施例中，所述蒸镀装置还包括支架和与所述支架转动连接并用于承载基板的支撑框，所述支架和所述支撑框设置于所述掩膜板靠近所述旋转机构一侧，所述支撑框与所述掩膜盘位置和数量一一对应，所述支架与所述旋转机构连接，所述支撑框与所述子旋转机构连接。

本公开实施例提供的掩膜板、蒸镀装置及蒸镀方法，通过旋转支撑板和掩膜盘，掩膜盘开口区上除旋转中心的任一点与支撑板相对位置不断变化，减小开口区除旋转中心的任一点通过蒸发材料的差异，改善了基板成膜均一性，进而提高有机发光二极管产品的颜色、亮度均一性，提升显示效果。

本公开的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本公开而了解。本公开的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

在阅读并理解了附图和详细描述后，可以明白其他方面。

附图说明

附图用来提供对本公开技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本公开的技术方案，并不构成对本公开技术方案的限制。

图1a为本公开实施例掩膜板的主视图；

图1b为图1a中A-A位置剖面图；

图2为本公开示例性实施例另一种掩膜板的结构图；

图3为本公开示例性实施例另一种掩膜板的结构图；

图4a为一种使用本公开示例性实施例掩膜板的蒸镀装置结构图；

图4b为另一种使用本公开示例性实施例掩膜板的蒸镀装置结构图；

图5为本公开示例性实施例掩膜板工作原理示意图。

附图标记说明

1-掩膜板； 110-支撑板； 111-蒸镀区域；

112-外围区域； 113-安装槽； 114-凸起；

120-掩膜盘； 120a-右掩膜盘； 120b-左掩膜盘；

120c-上掩膜盘； 120d-下掩膜盘； 121-开口区；

121a-自开口区； 122-遮挡区； 123-卡槽；

124-承载槽； 2-蒸镀装置； 21-旋转机构；

211-第一驱动件； 212-第一旋转架； 213-第一水平支撑部；

214-第一竖直悬挂部； 214a-第一悬挂杆； 22-子旋转机构；

221-第二驱动件； 222-第二旋转架； 223-第二水平支撑部；

224-第二竖直悬挂部； 224a-第一悬挂杆； 23-蒸发源；

24-支架； 25-支撑框； 20-壳体；

111a-第一蒸镀区； 111b-第二蒸镀区。

具体实施方式

为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本公开的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。

在本公开中的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“一侧”、“另一侧”、“一端”、“另一端”、“边”、“相对”、“四角”、“周边”、““口”字结构”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本公开和简化描述，而不是指示或暗示所指的结构具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。

在本公开实施例的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”、“直接连接”、“间接连接”、“固定连接”、“安装”、“装配”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；术语“安装”、“连接”、“固定连接”可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。

本公开实施例提供了一种掩膜板，包括：支撑板和掩膜盘；

支撑板包括蒸镀区域，蒸镀区域内设置至少一个贯通支撑板的安装槽；

掩膜盘包括开口区和设置于开口区外围的遮挡区；

掩膜盘嵌入安装槽，并与支撑板转动连接。

下面结合附图示例性说明本公开实施例掩膜板的技术方案。

图1a为本公开实施例掩膜板的主视图，图1b为图1a中A-A位置剖面图。如图1a和1b所示，掩膜板1可以用于在基板上形成发光结构层。掩膜板1包括支撑板110和掩膜盘120。支撑板110用于支撑掩膜盘120，并能够与蒸镀装置的旋转机构连接，带动掩膜盘120旋转。支撑板110可以为如图1a所示的矩形板，或可以为圆形板(附图未示出)。支撑板110包括蒸镀区域111和设置于蒸镀区域111外围的外围区域112。蒸镀区域111为蒸镀装置的蒸发源对应，并能够形成有效膜层的区域。蒸镀区域111可以为如图1a所示的圆形(虚线所示区域)。外围区域112可以设置第一固定机结构，固定结构与旋转机构连接，第一固定结构可以为通孔。蒸镀区域111至少设置一个贯通支撑板110的安装槽113。掩膜盘120包括开口区121和遮挡区122。穿过开口区121的蒸发材料蒸气在基板上沉积成膜。掩膜盘呈圆形。开口区的形状可以为矩形，开口区的尺寸可以为400毫米*500毫米。遮挡区可以设置于与旋转机构上的子旋转机构连接的第二固定结构，第二固定结构可以为通孔。掩膜盘120嵌入安装槽113内，并与支撑板110转动连接。

本公开实施例提供的掩膜板，包括支撑板和掩膜盘，掩膜盘嵌入支撑板蒸镀区域内设置的安装槽。在蒸镀过程中，蒸镀装置的旋转机构带动支撑板旋转的同时，旋转机构上子旋转机构能够带动掩膜盘独立旋转，基板可以承载在掩膜盘上，随着掩膜盘旋转，也可以固定在其他支架，与掩膜盘同步运动。在支撑板旋转和掩膜盘旋转过程中，掩膜盘开口区上除旋转中心的任一点与支撑板相对位置不断变化，减小开口区除旋转中心的任一点通过蒸发材料的差异，改善了基板成膜均一性，进而提高有机发光二极管(特别是大尺寸有机发光二极管)产品的颜色、亮度均一性，提升显示效果。

在一示例性实施例中，如图1b所示，安装槽113内壁远离基板一侧的周向上设置环形的凸起114，掩膜盘120远离基板端面周向边缘设置环形的卡槽123，凸起114嵌入卡槽123内。为了提升掩膜盘的可旋转性，支撑板和掩膜盘之间还可设置轴承，轴承的外环嵌入安装槽内，轴承的内环包围掩膜盘的侧壁，并与侧壁连接。

在一示例性实施例中，如图1b所示，掩膜盘120靠近基板一侧表面设置有用于承载基板的承载槽124。在蒸镀过程中，基板可以承载在承载槽内，使得基板和掩膜盘同步转动，避免基板和掩膜板相对移动。

在一示例性实施例中，如图1a所示，掩膜盘120包括多个且以支撑板110的几何中心O为中心同心排列，安装槽113与掩膜盘120一一对应。支撑板110的几何中心O也是支撑板110的旋转中心。在一示例中，多个掩膜盘120呈同心排列的一环且多个掩膜盘120等间距分布。例如，如图1a所示，掩膜盘120的数量可以为4个，四个掩膜盘120分别为右掩膜盘120a、左掩膜盘120b、上掩膜盘120c和下掩膜盘120d，相邻掩膜盘120之间的距离相同，右掩膜盘120a开口区的几何中心A1、左掩膜盘120b开口区的几何中心A2、上掩膜盘120c开口区的几何中心A3和下掩膜盘120d开口区的几何中心A4到支撑板110的几何中心O的距离相同。多个掩膜盘呈同心排列的一环，在支撑板旋转过程中，可以保证多个掩膜盘的蒸镀环境基本相同，降低不同掩膜盘上的基板之间的膜层厚度差异。多个掩膜盘独自旋转时，掩膜盘开口区上与开口区的几何中心等距离的点均在靠近或远离支撑板几何中心间切换，蒸镀环境基本相同，降低基板自身膜层厚度差异，提升基板的成膜均一性。

图2为本公开示例性实施例另一种掩膜板的结构图。在一示例性实施例中，如图2所示，多个掩膜盘120呈同心排列的多环且每环内的多个掩膜盘等间距分布。例如，如图2所示，多个掩膜盘120呈同心排列的两环，支撑板110的蒸镀区域111分成同心设置的第一蒸镀区111a和第二蒸镀区111b，支撑板110的几何中心O位于第一蒸镀区111a内。多个掩膜盘120靠近支撑板120几何中心O的一环构成第一环，第一环位于第一蒸镀区111a内，另一环构成第二环，第二环位于第二蒸镀区111b内。第一环内的掩膜盘等间距排列，第二环内的掩膜盘等间距排列。第二环内的掩膜盘数量大于等于第一环的掩膜盘数量。第一环的掩膜盘尺寸可以与第二环掩膜盘尺寸相同，或可以不同。

图3为本公开示例性实施例另一种掩膜板的结构图。在一示例性实施例中，如图3所示，掩膜盘120的开口区121包括阵列排布的多个子开口区121a，相邻的子开口区121a之间为遮挡区122。多个子开口呈中心对称分布，多个子开口区的对称中心与掩膜盘的几何中心重合。子开口区121a的形状可以为矩形。每一个子开口区对应一块基板的蒸镀区域。

本公开的掩膜板可以用于蒸镀有机发光二极管的公共层(common layer)。公共层一般采用整面蒸镀的方式。公共层包括：空穴注入层、空穴传输层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层、金属层。或可以与精细金属掩膜版(Fine Metal Mask，FMM)结合，以用来蒸镀电子阻挡层和发光层。掩膜板的制备材料可以为铁镍合金，也称为不变刚或殷瓦合金。

下面通过掩膜板的工作原理示例性说明本公开掩膜板技术方案。

图4a为一种使用本公开示例性实施例掩膜板的蒸镀装置结构图；图4b为另一种使用本公开示例性实施例掩膜板的蒸镀装置结构图。如图4a和4b所示，支撑板110固定于蒸镀装置2的旋转机构21上，蒸镀装置2还包括设置于旋转机构21上的子旋转机构22，子旋转机构22与掩膜盘120连接，并驱动掩膜盘120旋转。蒸发源23位于掩膜板1远离基板3的一侧。

在一示例性实施例中，如图4a，基板3容置于掩膜盘120的承载槽124内。旋转机构21带动支撑板110顺时针旋转，子旋转机构22带动掩膜盘120逆时针旋转，蒸发材料的蒸气穿过掩膜盘120的开口区沉积在基板3上。在其他示例中，旋转机构21可以逆时针旋转，子旋转机构22可以顺时针旋转，或旋转机构21和子旋转机构22均顺时针旋转或逆时针旋转。

在一示例性实施例中，如图4b，蒸镀装置2还包括支架24和设置于支架24上并与支架24转动连接的支撑框25，支架24设置于掩膜板1上方，支架24和掩膜板1的支撑板110均与旋转机构21连接，掩膜盘120与支撑框25位置对应，并均与子旋转机构22连接。掩膜盘120和支撑框25可以同步运动。基板3设置于支撑框25内。旋转机构22带动支撑板110和支架24顺时针旋转，子旋转机构22带动掩膜盘120和支撑框25逆时针旋转，蒸发材料的蒸气穿过掩膜盘120的开口区沉积在基板3上。在其他示例中，旋转机构21可以逆时针旋转，子旋转机构22可以顺时针旋转，或旋转机构21和子旋转机构22均顺时针旋转或逆时针旋转

图5为本公开示例性实施例掩膜板工作原理示意图，图5为朝向蒸发源一侧的视角图。通过本公开掩膜板的工作原理可以看出，如图5所示，在蒸镀过程中，支撑板110旋转的同时，掩膜盘120也旋转，例如支撑板110沿着a方向顺时针旋转，掩膜盘120沿着b方向逆时针旋转。支撑板110旋转过程中，与支撑板110几何中心O距离相同的掩膜盘120对应的基板3的蒸镀环境基本相同，因此各个基板3的膜层厚度差异较小。在掩膜盘120旋转的过程中，与开口区121几何中心等距离的点在以掩膜盘的几何中心为圆心的圆上不断移动，例如右掩膜盘上的B和C两点，基板3上远离支撑板110几何中心O的C点可以靠近支撑板110的几何中心O到达B点，基板3上靠近支撑板110几何中心O的B点也可以远离支撑板110的几何中心O到达C点，进而减小基板3上各沉积位置的膜厚差异，提升显示产品亮度和颜色的均一性，支撑板110的几何中心在蒸发材料圆锥型放射状沉积方式的中心线上。

本公开实施例还提供了一种蒸镀装置2，如图4a所示，包括壳体20、旋转机构21、子旋转机构22和上述实施例的掩膜板，壳体20围成蒸发室，旋转机构21设置于蒸发室内并位于壳体20的顶部，子旋转机构22设置于旋转机构21上，旋转机构21与支撑板110连接并用于驱动支撑板110旋转，子旋转机构22与掩膜盘120连接并用于驱动掩膜盘120旋转。子旋转机构22与掩膜盘120的数量和位置一一对应。

在一示例性实施例中，旋转机构21包括第一驱动件211和第一旋转架212，第一驱动件211设置于壳体20上，第一旋转架212包括第一水平支撑部213和垂直连接于第一水平支撑部213的第一竖直悬挂部214，第一水平支撑部213与第一驱动件211的输出轴连接，第一竖直悬挂部214与支撑板110连接，子旋转机构22设置于第一水平支撑部213上。在一示例中，第一竖直悬挂部214包括间隔设置于第一水平支撑部213上的至少两个第一悬挂杆214a，第一悬挂杆214a远离第一水平支撑部213的端部设置螺纹，支撑板110上设置第一通孔，第一通孔位于支撑板110的外围区域，构成第一固定结构，第一悬挂杆214a穿设于第一通孔并且端部螺纹连接固定螺母。支撑板110为矩形板，第一通孔可以设置于支撑板110的角部位置。在本示例中，第一驱动件可以为驱动电机。

在一示例性实施例中，如图4a所示，子旋转机构22包括第二驱动件221和第二旋转架222，第二驱动件221设置于第一水平支撑部213上，第二旋转架222包括第二水平支撑部223和垂直连接于第二水平支撑部223的第二竖直悬挂部224，第二水平支撑部223与第二驱动件221的输出轴连接，第二竖直悬挂部224与掩膜盘120连接。在一示例中，第二竖直悬挂部224包括间隔设置于第二水平支撑部223上的至少两个第二悬挂杆224a，第二悬挂杆224a远离第二水平支撑部223的端部设置螺纹。掩膜盘120上设置第二通孔，第二通孔设置于掩膜盘120的遮挡区域，构成第二固定结构。第二悬挂杆224a穿设于第二通孔并且端部螺纹连接固定螺母。掩膜盘为圆形盘，第二通孔设置于掩膜盘内接矩形的角部位置，内接矩形可以为正方形。在本示例中，第二驱动件可以为驱动电机。

在一示例性实施例中，如图4a所示，蒸镀装置2还包括蒸发源23，蒸发源23设置于掩膜板1远离旋转机构21一侧。蒸发源可以为点蒸发源，或可以为线蒸发源。

上述实施例的掩膜盘120包括承载槽，基板3容置在承载槽内。

在一示例性实施例中，如图4b所示，蒸镀装置2还包括支架24和与支架24转动连接并用于承载基板的支撑框25，支架24和支撑框25设置于掩膜板2靠近旋转机构21一侧，支撑框25与掩膜盘120位置和数量一一对应，支架24与旋转机构21连接，支撑框25与子旋转机构22连接。支撑框与掩膜盘同步转动，也就是说，在蒸镀过程中，支撑框25的转动方向和速度与掩膜盘120的转动方向和速度相同。支架与掩膜板之间的距离越近越好。在一示例中，支架上设置第三通孔，第一悬挂杆穿设于第三通孔，支架通过固定螺母与第一悬挂杆螺纹连接固定于第一悬挂杆上。支架为矩形支架，第三通孔设置于矩形支架的角部位置，并与第一通孔位置和数量一一对应。支撑框上设置第四通孔，第二悬挂杆穿设于第四通孔，支撑框通过固定螺母与第二悬挂杆螺纹连接固定于第二悬挂杆上。支撑框为圆形框，第四通孔设置于圆形框的内接矩形的角部位置，第四通孔与第二通孔位置和数量一一对应。

本公开实施例还提供了一种蒸镀方法，采用上述实施例的掩膜板，包括：

旋转支撑板和掩膜盘，基板和掩膜盘同步运动。

在一示例性实施例中，掩膜盘和基板同步运动，包括基板的转动速度和转动方向与掩膜盘的转动速度和转动方向相同，其中，掩膜盘的转动方向包括：掩膜盘的自转方向和掩膜盘随支撑板的转动方向，掩膜盘的转动速度包括：掩膜盘的自转速度和掩膜盘随支撑板的转动速度。

在一示例性实施例中，旋转支撑板和掩膜盘，掩膜盘和基板同步运动，包括：支撑板顺时针旋转，掩膜盘逆时针旋转；或支撑板逆时针旋转，掩膜盘顺时针旋转；或支撑板和掩膜盘均顺时针旋转或逆时针旋转。

在一示例性实施例中，掩膜盘包括承载槽，基板容置在承载槽内。

在一示例性实施例中，基板可以为刚性基板，例如玻璃，或可以为柔性基板，例如聚酰亚胺。

虽然本公开所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本公开而采用的实施方式，并非用以限定本公开。任何本公开所属领域内的技术人员，在不脱离本公开所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本公开的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定为准。

Claims (12)

1.一种用于制备有机发光二极管的掩膜板，其特征在于，包括：支撑板和掩膜盘；

所述支撑板包括蒸镀区域，所述蒸镀区域内设置至少一个贯通所述支撑板的安装槽；

所述掩膜盘包括开口区和设置于所述开口区外围的遮挡区；所述掩膜盘靠近基板一侧表面设置有用于承载基板的承载槽；

所述掩膜盘嵌入所述安装槽，并与所述支撑板转动连接；

所述安装槽内壁远离基板一侧的周向上设置环形的凸起，所述掩膜盘远离基板的端面周向边缘设置环形的卡槽，所述凸起嵌入所述卡槽内。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于：所述掩膜盘包括多个且以所述支撑板的几何中心为中心同心排列，所述安装槽与所述掩膜盘一一对应。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于：所述多个掩膜盘呈同心排列的至少一环。

4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于：每环内的多个所述掩膜盘等间距分布。

5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于：所述掩膜盘的开口区包括阵列排布的多个子开口区，相邻的所述子开口区之间为遮挡区。

6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于：所述多个子开口呈中心对称分布，所述多个子开口区的对称中心与所述掩膜盘的几何中心重合。

7.一种用于制备有机发光二极管的蒸镀方法，采用权利要求1-6任一项所述的掩膜板，其特征在于：包括：旋转支撑板和掩膜盘，基板和所述掩膜盘同步运动；所述掩膜盘包括承载槽，所述基板容置在所述承载槽内；所述安装槽内壁远离基板一侧的周向上设置环形的凸起，所述掩膜盘远离基板的端面周向边缘设置环形的卡槽，所述凸起嵌入所述卡槽内。

8.根据权利要求7所述的蒸镀方法，其特征在于：基板与所述掩膜盘同步运动，包括：所述基板的转动速度和转动方向与所述掩膜盘的转动速度和转动方向相同，其中，所述掩膜盘的转动方向包括：所述掩膜盘的自转方向和掩膜盘随支撑板的转动方向，所述掩膜盘的转动速度包括：所述掩膜盘的自转速度和掩膜盘随支撑板的转动速度。

9.根据权利要求7所述的蒸镀方法，其特征在于：旋转支撑板和掩膜盘，基板和所述掩膜盘同步运动，包括：所述支撑板顺时针旋转，所述掩膜盘逆时针旋转；或所述支撑板逆时针旋转，所述掩膜盘顺时针旋转；或所述支撑板和所述掩膜盘均顺时针旋转或逆时针旋转。

10.一种用于制备有机发光二极管的蒸镀装置，其特征在于：包括：壳体、旋转机构、子旋转机构和权利要求1-6任一项所述的掩膜板，所述壳体围成蒸发室，所述旋转机构设置于所述蒸发室内并位于所述壳体的顶部，所述子旋转机构设置于所述旋转机构上，所述旋转机构与所述支撑板连接并用于驱动所述支撑板旋转，所述子旋转机构与所述掩膜盘连接并用于驱动所述掩膜盘旋转。

11.根据权利要求10所述的蒸镀装置，其特征在于：所述旋转机构包括第一驱动件和第一旋转架，所述第一驱动件设置于所述壳体上，所述第一旋转架包括第一水平支撑部和垂直连接于所述第一水平支撑部的第一竖直悬挂部，所述第一水平支撑部与所述第一驱动件的输出轴连接，所述第一竖直悬挂部与所述支撑板连接，所述子旋转机构设置于所述第一水平支撑部上；所述子旋转机构包括第二驱动件和第二旋转架，所述第二驱动件设置于所述第一水平支撑部上，所述第二旋转架包括第二水平支撑部和垂直连接于所述第二水平支撑部的第二竖直悬挂部，所述第二水平支撑部与所述第二驱动件的输出轴连接，所述第二竖直悬挂部与所述掩膜盘连接。

12.根据权利要求10所述的蒸镀装置，其特征在于：所述蒸镀装置还包括支架和与所述支架转动连接并用于承载基板的支撑框，所述支架和所述支撑框设置于所述掩膜板靠近所述旋转机构一侧，所述支撑框与所述掩膜盘位置和数量一一对应，所述支架与所述旋转机构连接，所述支撑框与所述子旋转机构连接。

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