CN111627968B - 柔性显示用基板及其制备方法、柔性显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供一种柔性显示用基板及其制备方法,柔性显示装置,涉及显示技术领域,可以解决无机绝缘层在弯折时产生的应力容易传递到第一导电图案上,导致第一导电图案发生断裂的问题,该柔性显示用基板包括柔性衬底;设置在所述柔性衬底上的第一绝缘层,所述第一绝缘层包括:无机绝缘层和有机绝缘图案,所述无机绝缘层在远离所述柔性衬底的表面上设置有去除部,所述有机绝缘图案填充在所述去除部中;以及设置在所述第一绝缘层远离所述柔性衬底一侧且与所述第一绝缘层接触的第一导电图案,所述第一导电图案在所述柔性衬底上的正投影与所述有机绝缘图案在所述柔性衬底上的正投影具有重叠区域。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种柔性显示用基板及其制备方法、柔性显示装置。
背景技术
柔性显示装置具有体积小、便于携带、可实现弯曲折叠、窄边框等优点,因而成为目前显示装置的主流发展趋势。
目前,柔性显示装置中包括多层金属层,例如,源漏图案层(SD层)、栅图案层等,相邻两层金属层之间具有无机绝缘层。然而,由于无机绝缘层的材料为无机材料,耐弯折性较差,因此在将柔性显示装置弯折时,可能会导致无机绝缘层发生断裂,且弯折时产生的应力会传递至金属层,从而导致金属层的断裂,进而导致柔性显示装置显示不良。
发明内容
本申请的实施例提供一种柔性显示用基板及其制备方法、柔性显示装置,可以解决无机绝缘层在弯折时产生的应力容易传递到第一导电图案上,导致第一导电图案发生断裂的问题。
为达到上述目的,本申请的实施例采用如下技术方案:
第一方面、提供一种柔性显示用基板,其特征在于,包括:柔性衬底;设置在所述柔性衬底上的第一绝缘层,所述第一绝缘层包括:无机绝缘层和有机绝缘图案,所述无机绝缘层在远离所述柔性衬底的表面上设置有去除部,所述有机绝缘图案填充在所述去除部中;以及设置在所述第一绝缘层远离所述柔性衬底一侧且与所述第一绝缘层接触的第一导电图案,所述第一导电图案在所述柔性衬底上的正投影与所述有机绝缘图案在所述柔性衬底上的正投影具有重叠区域。
在一些实施例中,所述柔性显示用基板还包括:设置在所述柔性衬底上的有源层;所述有机绝缘图案在所述柔性衬底上的正投影与所述有源层在所述柔性衬底上的正投影不重叠。
在一些实施例中,所述第一导电图案中的一部分覆盖在所述无机绝缘层上,另一部分覆盖在所述有机绝缘图案上,且所述有机绝缘图案中的一部分被所述第一导电图案露出。
在一些实施例中,所述柔性显示用基板还包括:设置在所述第一导电图案远离所述柔性衬底一侧的第二绝缘层;以及,设置在所述第二绝缘层远离所述柔性衬底一侧的第二导电图案;其中,所述第二绝缘层主要由有机绝缘材料构成。
在一些实施例中,所述第二绝缘层和所述有机绝缘图案的材料相同。
在一些实施例中,所述第二导电图案贯穿所述第二绝缘层,与所述第一导电图案电连接。
在一些实施例中,所述去除部为通孔或凹槽。
在一些实施例中,所述第一导电图案为金属图案。
第二方面、提供一种柔性显示装置,其特征在于,包括如上述的柔性显示用基板。
第三方面、提供一种柔性显示用基板的制备方法,所述制备方法包括:在柔性衬底上形成无机绝缘薄膜;在所述无机绝缘薄膜上形成的第一导电图案;在形成有所述无机绝缘薄膜和所述第一导电图案的柔性衬底上,形成光刻胶图案,所述光刻胶图案至少覆盖所述第一导电图案,并将所述无机绝缘薄膜的第一部分中的至少一部分露出,所述无机绝缘薄膜的第一部分为无机绝缘薄膜中位于第一导电图案周边的部分;对所述无机绝缘薄膜中被所述光刻图案露出的部分,以及所述无机绝缘薄膜的第二部分中的一部分进行刻蚀,以形成具有去除部的无机绝缘层,其中所述无机绝缘薄膜的第二部分为所述无机绝缘薄膜中被所述第一导电图案覆盖的部分;向所述去除部中填充有机材料,以形成有机绝缘图案。
由于本发明实施例中的第一绝缘层包括:无机绝缘层和有机绝缘图案,而有机绝缘图案的弯折性较好,因此可以使得第一绝缘层的弯折性较好,在将柔性显示用基板弯折时,降低了第一绝缘层在有机绝缘图案的位置处发生断裂的几率;而第一导电图案在柔性衬底上的正投影与有机绝缘图案在柔性衬底上的正投影具有重叠区域,因此第一绝缘层在弯折时产生的应力不会集中在第一导电图案上,从而避免第一导电图案发生断裂,进而解决柔性显示装置显示不良的问题。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种柔性显示装置的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的一种显示面板的区域划分示意图;
图3为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图;
图4为本发明实施例提供的一种电致发光显示面板的结构示意图;
图5为本发明实施例提供的另一种柔性显示装置的结构示意图;
图6为本发明实施例提供的另一种柔性显示装置的结构示意图;
图7为本发明实施例提供的另一种柔性显示装置的结构示意图;
图8为本发明实施例提供的再一种柔性显示装置的结构示意图;
图9为本发明实施例提供的一种显示面板中像素电路(2T1C)的结构示意图;
图10为本发明实施例提供的一种像素电路(2T1C)的结构示意图;
图11为本发明实施例提供的一种柔性显示用基板的结构示意图;
图12为本发明实施例提供的另一种柔性显示用基板的结构示意图;
图13为本发明实施例提供的另一种柔性显示用基板的结构示意图;
图14为本发明实施例提供的另一种柔性显示用基板的结构示意图;
图15a为本发明实施例提供的另一种像素电路(2T1C)的结构示意图;
图15b为本发明实施例图15a在AA’向的剖面示意图;
图16a为本发明实施例提供的再一种像素电路(2T1C)的结构示意图;
图16b为本发明实施例图16a在BB’向的剖面示意图;
图17为本发明实施例提供的再一种柔性显示用基板的结构示意图;
图18为本发明实施例提供的一种像素电路(7T1C)的结构示意图;
图19a为本发明实施例图18中的M部分的一种剖面示意图;
图19b为本发明实施例图18中的M部分的另一种剖面示意图;
图19c为本发明实施例图18中的M部分的再一种剖面示意图;
图20为本发明实施例提供的一种柔性显示用基板的制备方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
以下,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
此外,本申请中,“上”、“下”、“左”、“右”等方位术语可以包括但不限于相对附图中的部件示意置放的方位来定义的,应当理解到,这些方向性术语可以是相对的概念,它们用于相对于的描述和澄清,其可以根据附图中部件附图所放置的方位的变化而相应地发生变化。
本发明实施例提供一种柔性显示装置1000,对于柔性显示装置1000的类型不进行限定,可以是液晶显示装置(Liquid Crystal Display,简称LCD),也可以是电致发光显示装置。在柔性显示装置1000为电致发光显示装置的情况下,电致发光显示装置可以是有机电致发光显示装置(Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)或量子点电致发光显示装置(Quantum Dot Light Emitting Diodes,简称QLED)。
此外,本发明实施例提供的柔性显示装置1000可以为电子纸、手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件,本发明实施例对此不作限制。
如图1所示,柔性显示装置1000的主要结构包括框架1、盖板2、显示面板3以及电路板4等其它配件。在柔性显示装置1000为液晶显示装置的情况下,柔性显示装置还包括背光组件。
其中,框架1的纵截面呈U型,显示面板3、电路板4以及其它配件均设置于框架1内,电路板4置于显示面板3的下方(即背面,背离显示面板3的显示面的一面),盖板2设置于显示面板3远离电路板4的一侧。在柔性显示装置1000为液晶显示装置,液晶显示装置包括背光组件的情况下,背光组件设置于电路板4的下方,即电路板4设置于显示面板3和背光组件之间。
需要说明的是,电路板4与显示面板3电连接,电路板4一般包括柔性印刷电路板(Flexble Printed Circuit,简称FPC)、驱动芯片(Integrated Circuit,简称IC)以及印刷电路板(Printed Circuit Board,简称PCB)、接续基板等;电路板4的作用是通电后向显示面板3提供各种显示画面的信息。
应当理解到,显示面板3为柔性显示面板。如图2所示,显示面板3划分为显示区A1和位于显示区A1至少一侧的周边区A2,附图2以周边区A2包围显示区A1为例进行示意。显示区A1可以被限定为其中显示画面的区域,周边区A2可以被限定为其中不显示画面的区域。显示区A1包括多个亚像素P。周边区A2用于布线,此外,也可以将栅极驱动电路设置于周边区A2。
在柔性显示装置1000为液晶显示装置的情况下,显示面板3为液晶显示面板,如图3所示,液晶显示面板的主要结构包括柔性显示用基板10(也可称为阵列基板)、对盒基板11以及设置于柔性显示用基板10和对盒基板11之间的液晶层12。
在柔性显示装置1000为电致发光显示装置的情况下,显示面板3为电致发光显示面板,如图4所示,电致发光显示面板的主要结构包括柔性显示用基板10以及用于封装柔性显示用基板10的封装层13。此处,封装层可以为封装基板也可以为封装薄膜。
柔性显示装置1000具有可弯折或者可卷曲的性能。可选的,如图5所示,柔性显示装置1000在其中显示画面的区域(显示区A1)进行弯折,例如,当该柔性显示装置1000的终端设备为手机(弯折屏)时,在手机的中间位置进行弯折(即对折),即在图5所示的弯折区S的位置处进行弯折;相应的,柔性显示用基板10也在图5所示的弯折区S的位置处弯折。如图6所示,显示面板3在其中不显示画面的区域(即周边区A2)进行弯折,例如,在显示面板3的边缘区域(弯折区S)进行弯折;相应的,柔性显示用基板10也在图6所示的弯折区S的位置处弯折。如图7所示,柔性显示装置还可以包括绑定在显示面板3的绑定区(周边区A2的一部分)上的FPC(Flexible Printed Circuit board,柔性线路板),FPC上可设置驱动电路(例如IC),显示面板3内的走线(例如数据线、触控线、电源线等)由显示面板3的显示区A1延伸至绑定区与FPC电连接,进而与驱动电路电连接。在一些实施例中,为了实现显示面板3的窄边框,会在显示面板3的弯折区S进行弯折,将其设置于显示面板3的背面;相应的,柔性显示用基板10也在图7所示的弯折区S的位置处弯折。如图8所示,显示面板3为可卷曲的显示面板;相应的,柔性显示用基板10也为可卷曲的柔性显示用基板。
如图9和图10所示,以柔性显示装置1000为电致发光显示装置为例,柔性显示用基板10包括由多条栅线G和多条数据线Data交叉界定的多个亚像素P,每个亚像素P均包括像素电路;以像素电路的结构为2T1C为例进行示意,参考图9和图10所示,像素电路包括驱动晶体管Td和第一晶体管T,第一晶体管T的栅极40a与栅线G电连接,第一极40b与数据线Data电连接;驱动晶体管Td的栅极50a与第一晶体管T的第二极40c以及存储电容Cst的一端电连接;第一极50c与发光器件L电连接,第二极50b与存储电容Cst的另一端以及电源线VDD电连接。
此处,第一极可以为源极(Source)也可以为漏极(Drain)。应当理解到,在第一极为源极的情况下,第二极为漏极;在第一极为漏极的情况下,第二极为源极,本发明实施例对此不进行限定。
对于源极和漏极的材料不进行限定。源极和漏极的材料可以为铜基金属,例如,铜(Cu)、铜钼合金(Cu/Mo)、铜钛合金(Cu/Ti)、铜钼钛合金(Cu/Mo/Ti)、铜钼钨合金(Cu/Mo/W)、铜钼铌合金(Cu/Mo/Nb)等;或者,也可以为铬基金属,例如,铬钼合金(Cr/Mo)、铬钛合金(Cr/Ti)、铬钼钛合金(Cr/Mo/Ti)等或者其他适合的材料,本发明实施例对此不作限制。
需要说明的是,上述像素电路中的栅极、栅线、数据线、电源线等由金属材料构成,而在柔性显示用基板10中包括绝缘层,绝缘层用于将相邻的导电层(例如:栅图案层、源漏图案层、阳极图案层等)进行绝缘,以防止发生短路,其中栅图案层可以包括:栅极和栅线等,其中,栅极和栅线电连接,栅极可以是栅线的一部分;源漏图案层可以包括:源极、漏极、数据线、电源线等;阳极图案层可以包括阳极等。此外,柔性显示用基板10还包括有源层,有源层和栅图案层之间也设置有绝缘层,该绝缘层可以称为栅绝缘层GI(Gate insulatinglayer)。作为示例,沿着远离衬底的方向上,柔性显示用基板10可以依次设置有栅图案层、绝缘层(可称为栅绝缘层)、有源层、绝缘层(可以称为层间绝缘层)、源漏图案层、绝缘层(可以称为平坦层)、阳极图案层。而为了起到更好的绝缘作用,这些绝缘层中的至少一层一般为无机绝缘层,例如栅绝缘层和层间绝缘层一般是无机绝缘层,平坦层可以是有机绝缘层。由于无机绝缘层的材料为无机材料,其耐弯折性较差,因此在将柔性显示用基板10进行弯折时,会导致无机绝缘层发生断裂,且弯折的应力会传递至上述的栅极、栅线、数据线、电源线等(即金属图案层中的导电图案,即金属图案),从而导致像素电路中,第一晶体管T的栅极40a与栅线G之间,第一极40b与数据线Data之间;驱动晶体管Td的栅极50a与第一晶体管T的第二极40c之间;第一极50c与发光器件L的阳极610之间,第二极50b与存储电容Cst的另一端之间以及电源线VDD本身等发生断裂(发生断路),进而导致显示不良。此外,柔性显示用基板10的周边区也设置有电路,例如:GOA电路;与GOA电路连接的走线,例如起始信号线、时钟信号线等;以及从显示区延伸到周边区的走线,例如栅线、数据线、电源线等,这些电路中包含的导电图案,一般也都是金属图案。
基于此,本发明实施例提供一种柔性显示用基板10,可以应用于上述的柔性显示装置中。
如图11所示,该柔性显示用基板10包括柔性衬底100,设置在柔性衬底100上的第一绝缘层101;第一绝缘层101包括:无机绝缘层101a和有机绝缘图案101b,无机绝缘层101a在远离柔性衬底100的表面上设置有去除部H,有机绝缘图案101b填充在有去除部H中;柔性显示装置10还包括设置在第一绝缘层101远离柔性衬底100一侧且与第一绝缘层101接触的第一导电图案102,第一导电图案102在柔性衬底100上的正投影与有机绝缘图案101b在柔性衬底100上的正投影具有重叠区域。
此处,柔性衬底100例如可以为PI(Polyimide,聚酰亚胺)、PET(Polyethyleneterephthalate,聚对苯二甲酸乙二醇酯)或者为其它合适的材料,本发明实施例对此不作限定。
此外,对于有机绝缘图案101b的材料不进行限定,有机绝缘图案101b的材料例如可以为PMMA(Polymethyl methacrylate,聚甲基丙烯酸甲酯)。对于无机绝缘层101a的材料不进行限定,示例的,无机绝缘层101a的材料可以为SiNx(氮化硅)、SiOx(氧化硅)或SiOxNy(氮氧化硅)中的一种或多种。
在一些实施例中,如图12所示,去除部H为通孔。在另一些实施例中,如图13所示,去除部H为凹槽。
此处,对于通孔的定义为无机绝缘层101a中的一部分区域被挖空,即在通孔的位置处没有无机绝缘层101a;对于凹槽510的定义为无机绝缘层101a中的一部分区域在沿柔性衬底100的厚度方向上具有一定的深度,且在其靠近柔性衬底100的表面上具有一定的厚度。
需要说明的是,本发明实施例中,第一绝缘层101可以是柔性显示用基板10中的任意一层绝缘层,并且由于第一绝缘层101包括无机绝缘层101a,因此,第一绝缘层101可以是柔性显示用基板10中的钝化层(passivation layer,简称PVX)或者栅绝缘层(GateInsulator,简称GI)。
在一些实施例中,第一导电图案102可以是金属图案,例如可以是为栅极、栅线、数据线、源极、漏极、电源线、发光控制线、时钟信号线、起始信号线等中的至少一种。此外,第一导电图案102还可以是非金属的导电图案,例如金属氧化物图案,例如像素电极或者阳极等。
需要说明的是,在第一绝缘层101为柔性显示用基板10中的钝化层的情况下,第一导电图案102例如可以为像素电极;在第一绝缘层101为柔性显示用基板10中的栅绝缘层的情况下,第一导电图案102例如可以为栅极、栅线;在第一绝缘层为层间绝缘层的情况下,第一导电图案102例如可以为数据线、源极、漏极、电源线以及发光控制线等。
在一些实施例中,第一导电图案102在柔性衬底100上的正投影在有机绝缘图案101b在柔性衬底100上的正投影以内,且第一导电图案102在柔性衬底100上的正投影的面积小于有机绝缘图案101b在柔性衬底100上的正投影的面积。在另一些实施例中,第一导电图案102在柔性衬底100上的正投影在有机绝缘图案101b在柔性衬底100上的正投影以外,且第一导电图案102在柔性衬底100上的正投影的面积大于有机绝缘图案101b在柔性衬底100上的正投影的面积。在又一些实施例中,第一导电图案102在柔性衬底100上的正投影与有机绝缘图案101b在柔性衬底100上的正投影完全重合,即第一导电图案102在柔性衬底100上的正投影的面积等于有机绝缘图案101b在柔性衬底100上的正投影的面积。
由于本发明实施例中的第一绝缘层101包括:无机绝缘层101a和有机绝缘图案101b,而有机绝缘图案101b的弯折性较好,因此可以使得第一绝缘层101的弯折性较好,在将柔性显示装置01弯折时,不会导致第一绝缘层101在有机绝缘图案101b的位置处发生断裂;而第一导电图案102在柔性衬底100上的正投影与有机绝缘图案101b在柔性衬底100上的正投影具有重叠区域,因此第一绝缘层101的弯折应力不会集中在第一导电图案102上,从而避免第一导电图案102发生断裂,进而解决柔性显示装置01显示不良的问题。
在一些实施例中,如图14所示,柔性显示用基板10还包括设置在柔性衬底100上的有源层103,有机绝缘图案101b在柔性衬底100上的正投影与有源层103在柔性衬底100上的正投影不重叠。
在第一绝缘层101为栅绝缘层的情况下,有机绝缘图案101b在柔性衬底100上的正投影与有源层103在柔性衬底100上的正投影不重叠,即第一绝缘层101在对应有源层103的区域为无机绝缘层101a,这样一来,无机绝缘层101a可以避免有源层103受到有机绝缘材料中成分或水氧的影响,从而能够提升薄膜晶体管(Thin Film Transistor,简称TFT)的稳定性,改善薄膜晶体管的工作性能。
如图15a、图15b、图16a以及图16b所示,第一导电图案102中的一部分覆盖在无机绝缘层101a上,另一部分覆盖在有机绝缘图案101b上,且有机绝缘图案101b中的一部分被第一导电图案102露出。
应当理解到,像素电路中包括多个晶体管,每个晶体管的栅极在衬底100上的正投影均位于有源层在衬底100上的正投影以内,因此,第一导电图案102中的一部分(即所有晶体管的栅极)覆盖在无机绝缘层101a上。
结合上述实施例以及图15a和图15b所示,在第一绝缘层101为栅绝缘层GI的情况下,参考图15b,覆盖在无机绝缘层101a上的第一导电图案102中的一部分为第一晶体管T的栅极40a(也即第一晶体管T栅极40a下方的有源层);覆盖在有机绝缘图案101b上的第一导电图案102中的另一部分为第一晶体管T的第一极40c与驱动晶体管Td的栅极50a电连接的部分。
结合上述实施例以及图16a和图16b所示,在第一绝缘层101为层间介质层ILD的情况下,参考图16b所示,覆盖在无机绝缘层101a上的第一导电图案102中的一部分为第一晶体管T的栅极40a;覆盖在有机绝缘图案101b上的第一导电图案102中的另一部分为驱动晶体管Td的栅极50a的延伸处与第一晶体管T的第一极40c电连接的部分。
有机绝缘图案101b中的一部分被第一导电图案102露出,即覆盖在有机绝缘图案101b上的第一导电图案102在柔性衬底100上的正投影位于有机绝缘图案101b在柔性衬底100上的正投影以内,且第一导电图案102在柔性衬底100上的正投影的面积小于有机绝缘图案101b在柔性衬底100上的正投影的面积。
这里需要说明的是,本发明实施例中,第一导电图案102设置在第一绝缘层101上,且远离柔性衬底100的一侧,即第一导电图案102设置在第一绝缘层101包括的有机绝缘图案101b的上方,而由于本发明实施例在制备第一导电图案102和有机绝缘图案101b时,是先形成第一导电图案102,然后再形成有机绝缘图案101b,因而当第一导电图案102中的另一部分覆盖在有机绝缘图案101b上,且有机绝缘图案101b中的一部分被第一导电图案102露出时,有机绝缘图案101b可以通过旋涂的方式形成在无机绝缘层101a的去除部H内,从而防止当无机绝缘层101a形成去除部H后,导致第一导电图案102凹陷下去。
再次参考图15a所示,当第一绝缘层101为栅绝缘层GI时,在栅线G的下方,第一绝缘层101中的有机绝缘图案101b为间隔设置,从而在利用上述方法(先形成第一导电图案102,然后再形成有机绝缘图案101b)形成有机绝缘图案101b时,可以防止栅线G凹陷下去。
参考图16a所示,当第一绝缘层101为层间介质层ILD时,在数据线Data的下方,第一绝缘层101中的有机绝缘图案101b为间隔设置,从而在利用上述方法(先形成第一导电图案102,然后再形成有机绝缘图案101b)形成有机绝缘图案101b时,可以防止数据线Data凹陷下去。
如图17所示,柔性显示用基板10还包括设置在第一导电图案102远离柔性衬底100一侧的第二绝缘层104以及设置在第二绝缘层104远离柔性衬底100一侧的第二导电图案105;其中,第二绝缘层104主要由有机绝缘材料构成。
此处,有机绝缘材料可以参考上述实施例有机绝缘图案101b的材料,此处不再一一赘述。此外,第二绝缘层104的材料和有机绝缘图案101b的材料可以相同,也可以不相同。
如图17所示,第二绝缘层104例如可以为层间介质层(Interlayer Dielectric,简称ILD)。第二导电图案105例如可以为第一晶体管T的第一极40b和第二极40c,此时,第一导电图案102为驱动晶体管的栅极50a和第一晶体管T的栅极40a。
在一些实施例中,第二导电图案105贯穿第二绝缘层104,与第一导电图案102电连接。
例如,第一晶体管T的第二极40c与驱动晶体管的栅极50a位于不同的金属层,因此第一晶体管T的第二极40c与驱动晶体管的栅极50a之间还具有第二绝缘层104。第一晶体管T的第二极40c与驱动晶体管Td的栅极50a通过第二绝缘层104上的过孔60电连接。
再次结合图10、图15a和图16a所示,第一导电图案102例如可以为栅线G,第二导电图案105例如可以为电源线VDD;或者,第一导电图案102例如可以为栅线G,第二导电图案105例如可以为数据线Data。此处,栅线G和电源线VDD之间、栅线G和数据线Data之间具有第二绝缘层104。由上述可知,栅线G位于栅图案层,数据线Data位于源漏图案层,电源线VDD位于电源图案层,因此,栅线G和数据线Data通过第二绝缘层104上的过孔相连接;栅线G和电源线VDD通过第二绝缘层104上的过孔相连接。
在一些实施中,第二绝缘层104和有机绝缘图案101b的材料相同。
由于第二绝缘层104和有机绝缘图案101b的材料相同,因此可以同时制备第二绝缘层104和有机绝缘图案101b,从而可以简化柔性显示用基板10的制备工艺。
如图18所示,以像素电路的结构为7T1C为例进行示意。图19a、图19b、图19c为图18中的M部分的剖面示意图。
此处,参考图19a、图19b、图19c所示,第一导电图案102例如可以为驱动晶体管Td的栅极20c、存储电容C1的第一极板200a以及栅线G。第二导电图案105例如可以为存储电容C1的第二极板200b、数据线Data或者电源线VDD。
如图19a、图19b和图19c所示,显示面板3包括第一栅绝缘层201和第二栅绝缘层202。在此基础上,结合上述实施例,此处的第一栅绝缘层201;和/或,第二栅绝缘层202可以为上述的第一绝缘层101。即第一栅绝缘层201;和/或,第二栅绝缘层202包括无机图案层101a和有机图案层101b。
可选的,第一栅绝缘层201为第一绝缘层101;或者,第二栅绝缘层202为第一绝缘层101;又或者,第一栅绝缘层201和第二栅绝缘层202为第一绝缘层101。
可选的,在第一栅绝缘层201为第一绝缘层101的情况下,第二栅绝缘层202的材料为无机材料。如图19a所示,驱动晶体管Td的有源层103、存储电容C1的第一极板200a以及栅线G被第一栅绝缘层201中的有机图案层101b所覆盖;第一栅绝缘层201中的其余部分为无机图案层101a。
可选的,在第二栅绝缘层202为第一绝缘层101的情况下,第一栅绝缘层201的材料为无机材料。如图19b所示,驱动晶体管Td的栅极20c和栅线G被第二栅绝缘层202中的有机图案层101b所覆盖;存储电容C1的第一极板200a被第二栅绝缘层202中的无机图案层101a所覆盖。
可选的,在第一栅绝缘层201和第二栅绝缘层202为第一绝缘层101的情况下,如图19c所示,第一导电图案102的一部分(例如驱动晶体管Td的有源层103)被第一栅绝缘层201中的无机图案层101a所覆盖;第一导电图案102的另一部分(例如存储电容C1的第一极板200a和栅线G)被第一栅绝缘层201中的有机图案层101b所覆盖。再次参考图19c,第一导电图案102的一部分(例如驱动晶体管的Td的栅极20c、栅线G)被第二栅绝缘层202中的有机图案层101b所覆盖;第一导电图案102的另一部分(例如存储电容C1的第一极板200a)被第二栅绝缘层202中的无机图案层101a所覆盖。
需要说明的是,基于上述可知,由于不同的柔性显示装置1000可以有不同的弯折区S。示例的,将柔性显示装置1000对折,此时可以将柔性显示装置1000在其显示图像的中间位置处对应的绝缘层采用第一绝缘层101的结构(即在绝缘层内形成去除部H,填充有机绝缘材料);或者,在柔性显示装置1000的边缘区域进行弯折,此时,可以将柔性显示装置1000的边缘区域对应的绝缘层采用第一绝缘层101的结构;又或者,在柔性显示装置1000的绑定区处进行弯折,此时,可以将柔性显示装置1000的绑定区对应的绝缘层采用第一绝缘层101的结构;又或者,当柔性显示装置1000为可卷曲的显示装置时,可以将柔性显示装置1000包括的绝缘层中的一整层都采用第一绝缘层101的结构。
本发明实施例还提供一种柔性显示用基板10的制备方法,用于制备上述的柔性显示用基板10。如图20所示,该制备方法包括:
S100、在柔性衬底100上形成无机绝缘薄膜20。
例如,可以采用涂覆的方式在柔性衬底100上形成无机绝缘薄膜20,无机绝缘薄膜20的材料可以为SiNx(氮化硅)、SiOx(氧化硅)或SiOxNy(氮氧化硅)中的一种或多种。
S101、在无机绝缘薄膜20上形成第一导电图案102。
第一导电图案102的材料例如可以为铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)、钼(Mo)等。
例如,可以通过构图工艺形成第一导电图案102。此处,构图或构图工艺只包括光刻工艺,或包括光刻工艺以及刻蚀步骤,或者可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图形的工艺。光刻工艺是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程,利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形。
例如,在无机绝缘薄膜20上形成第一导电薄膜,在第一导电薄膜上涂覆光刻胶薄膜,对光刻胶薄膜进行掩膜曝光、显影以及刻蚀从而形成第一导电图案102。
对第一导电图案102的举例说明可以参考上述实施例,此处不再一一赘述。
S102、在形成有无机绝缘薄膜20和第一导电图案102的柔性衬底100上,形成光刻胶图案21,光刻胶图案21至少覆盖第一导电图案102,并将无机绝缘薄膜20的第一部分30中的至少一部分露出,无机绝缘薄膜20的第一部分为无机绝缘薄膜20中位于第一导电图案102周边的部分。
需要说明的是,先在形成有无机绝缘薄膜20和第一导电图案102的柔性衬底100上,形成光刻胶薄膜,对光刻胶薄膜进行掩膜曝光、显影的工艺后,形成光刻胶图案21。
参考图20中的S102,光刻胶图案21中的一部分覆盖第一导电图案102,另一部分覆盖无机绝缘薄膜20。
由于光刻胶图案21将无机绝缘薄膜20的第一部分30中的至少一部分露出,无机绝缘薄膜20的第一部分30为无机绝缘薄膜20中位于第一导电图案102周边的部分,因此在将露出的无机绝缘薄膜20以及位于第一导电图案102正下方的无机绝缘薄膜20刻蚀后,可以更加容易的将有机绝缘图案101b填充至无机绝缘薄膜20中,从而可以简化柔性显示用基板10的制备方法。
S103、对无机绝缘薄膜20中被光刻图案21露出的部分,以及无机绝缘薄膜20第二部分31中的一部分进行刻蚀,以形成具有去除部H的无机绝缘层101a,其中无机绝缘薄膜20的第二部分31为无机绝缘薄膜20中被第一导电图案102覆盖的部分。
例如,可以采用湿法刻蚀对无机绝缘薄膜20中被光刻图案21露出的部分,以及无机绝缘薄膜20第二部分31中的一部分进行刻蚀,即用氢氟酸(HF)进行刻蚀,控制刻蚀时间在50s~10min之间,从而可以形成具有去除部H的无机绝缘层101a。
无机绝缘薄膜20的第二部分31为无机绝缘薄膜20中被第一导电图案102覆盖的部分,这里可以参考图15a,例如,当第一绝缘层101为栅绝缘层GI时,在栅线G的下方,第一绝缘层101中的有机绝缘图案101b为间隔设置,因此当无机绝缘薄膜20中的一部分被刻蚀后,由于栅线G还搭接在另一部分的无机绝缘薄膜20上,因此可以防止栅线G凹陷下去。同理,参考图16a,当第一绝缘层101为层间介质层ILD时,在数据线Data的下方,第一绝缘层101中的有机绝缘图案101b为间隔设置,因此当无机绝缘薄膜20中的一部分被刻蚀后,由于数据线Data还搭接在另一部分的无机绝缘薄膜20上,因此可以防止数据线Data凹陷下去。
S104、向去除部H中填充有机材料,以形成有机绝缘图案101b。
例如,可以采用旋涂的方式在去除部H中填充有机材料。参考图20中的步骤S103可以看出,第一导电图案102在柔性衬底100上的正投影位于去除部H在柔性衬底100上的正投影以内,且第一导电图案102在柔性衬底100上的正投影的面积小于去除部H在柔性衬底100上的正投影的面积,因此有机材料可以由去除部H与第一导电图案102之间的间隙处流入,从而可以向去除部H中填充有机材料,以形成有机绝缘图案101b。图20中的S104步骤,示出了有机绝缘图案101b和第二绝缘层104的材料相同,且同时制作而成。
需要说明的是,本发明实施例中,柔性显示用基板10的制备方法具有与前述实施例提供的柔性显示用基板10相同的技术特征和有益效果,可以参考前述实施例的举例说明,此处不再赘述。
需要说明的是,本发明实施例中的附图为柔性显示用基板10的不同方向上的剖视图,具体的结构应以说明书内容及实际结构为准,说明书附图仅作为示意,不作为本发明实施例具体的限定。
以上所述,仅为本申请的具体实施方式,但本申请的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此,本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种柔性显示用基板的制备方法,其特征在于,包括:
在柔性衬底上形成无机绝缘薄膜;
在所述无机绝缘薄膜上形成第一导电图案;
在形成有所述无机绝缘薄膜和所述第一导电图案的柔性衬底上,形成光刻胶图案,所述光刻胶图案至少覆盖所述第一导电图案和部分无机绝缘薄膜,并将所述无机绝缘薄膜的第一部分中的至少一部分露出,所述无机绝缘薄膜的第一部分为无机绝缘薄膜中位于第一导电图案周边的部分;
对所述无机绝缘薄膜中被所述光刻胶图案露出的部分,以及所述无机绝缘薄膜的第二部分中的一部分进行刻蚀,以形成具有去除部的无机绝缘层,其中所述无机绝缘薄膜的第二部分为所述无机绝缘薄膜中被所述第一导电图案覆盖的部分;
向所述去除部中填充有机材料,以形成有机绝缘图案。
2.一种柔性显示用基板,其特征在于,由权利要求1所述的柔性显示用基板的制备方法得到,包括:
柔性衬底;
设置在所述柔性衬底上的第一绝缘层,所述第一绝缘层包括:无机绝缘层和有机绝缘图案,所述无机绝缘层在远离所述柔性衬底的表面上设置有去除部,所述有机绝缘图案填充在所述去除部中;以及
设置在所述第一绝缘层远离所述柔性衬底一侧且与所述第一绝缘层接触的第一导电图案,所述第一导电图案在所述柔性衬底上的正投影与所述有机绝缘图案在所述柔性衬底上的正投影具有重叠区域。
3.根据权利要求2所述的柔性显示用基板,其特征在于,还包括:
设置在所述柔性衬底上的有源层;
所述有机绝缘图案在所述柔性衬底上的正投影与所述有源层在所述柔性衬底上的正投影不重叠。
4.根据权利要求2所述的柔性显示用基板,其特征在于,
所述第一导电图案中的一部分覆盖在所述无机绝缘层上,另一部分覆盖在所述有机绝缘图案上,且所述有机绝缘图案中的一部分被所述第一导电图案露出。
5.根据权利要求2所述的柔性显示用基板,其特征在于,还包括:
设置在所述第一导电图案远离所述柔性衬底一侧的第二绝缘层;以及,设置在所述第二绝缘层远离所述柔性衬底一侧的第二导电图案;
其中,所述第二绝缘层主要由有机绝缘材料构成。
6.根据权利要求5所述的柔性显示用基板,其特征在于,
所述第二绝缘层和所述有机绝缘图案的材料相同。
7.根据权利要求5所述的柔性显示用基板,其特征在于,
所述第二导电图案贯穿所述第二绝缘层,与所述第一导电图案电连接。
8.根据权利要求2所述的柔性显示用基板,其特征在于,
所述去除部为通孔或凹槽。
9.根据权利要求2-8任一项所述的柔性显示用基板,其特征在于,
所述第一导电图案为金属图案。
10.一种柔性显示装置,其特征在于,包括如权利要求2-9任一项所述的柔性显示用基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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---|---|---|---|
CN202010501052.2A Active CN111627968B (zh) | 2020-06-04 | 2020-06-04 | 柔性显示用基板及其制备方法、柔性显示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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---|---|---|---|---|
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