CN111596783B - 显示设备 - Google Patents

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Abstract

提供了显示设备。显示设备包括：衬底，包括有效区域，多个像素布置在所述有效区域中；第一电极层，设置在衬底上并包括第一电极和辅助电极，第一电极设置在每个像素中，辅助电极与第一电极间隔开并沿每个像素的边界设置；中间层，设置在第一电极上并包括发光层；以及第二电极，设置在中间层上、设置在每个像素中且电连接到辅助电极，其中，在衬底上限定多个单位像素组，每个单位像素组包括所述多个像素中的一个或更多个像素，属于每个单位像素组的像素的各个第二电极通过辅助电极彼此电连接，以及属于不同的单位像素组的辅助电极彼此电分离。

Description

显示设备
相关申请的交叉引用
本申请要求于2019年2月20日提交至韩国知识产权局的第10-2019-0019707号韩国专利申请的优先权，上述韩国专利申请的公开内容通过引用以其整体并入本文。
技术领域
本发明涉及显示设备，并且更具体地，涉及包括触摸功能的显示设备。
背景技术
向用户提供图像的电子设备(诸如，智能电话、平板PC、数码相机、笔记本电脑、导航设备和智能电视)包括用于显示图像的显示设备。显示设备包括用于生成和显示图像的显示面板以及各种输入设备。
近来，识别触摸输入的触摸构件已经被广泛地应用于主要在智能电话或平板PC中的显示设备。触摸构件确定是否已进行触摸输入，并将触摸位置计算为触摸输入的坐标。
触摸构件可以以面板或膜的形式设置，或者可以直接形成在显示面板中。
随着包括在显示设备中的部件的数量增加，制造成本可能增加。另外，在显示面板中形成触摸电极层的方法的情况下，显示面板的结构可能变得复杂，并且由于增加了用于形成触摸电极层的制造工艺，工艺效率可能降低。
发明内容
本发明不限于在本文中阐述的发明。通过参考下面给出的本公开的详细描述，本发明对于本发明所属领域的普通技术人员将变得更加显而易见。
显示设备的实施方式包括：衬底，衬底包括有效区域，多个像素布置在有效区域中；第一电极层，第一电极层设置在衬底上并包括第一电极和辅助电极，第一电极设置在每个像素中，辅助电极与第一电极间隔开并沿每个像素的边界设置；中间层，中间层设置在第一电极上并包括发光层；以及第二电极，第二电极设置在中间层上、设置在每个像素中且电连接到辅助电极；以及其中，在衬底上限定多个单位像素组，每个单位像素组包括所述多个像素中的一个或更多个像素，属于每个单位像素组的像素的各个第二电极通过辅助电极彼此电连接，以及属于不同的单位像素组的辅助电极彼此电分离。
显示设备的实施方式包括：衬底，衬底包括有效区域，多个像素布置在有效区域中；发光元件，发光元件设置在衬底上、设置在每个像素中并包括第一电极、中间层和第二电极；以及多个触摸电极，设置在像素上方，其中，针对每个像素，第一电极、中间层和第二电极被图案化成分离，以及触摸电极中的每一个包括多个第二电极。
附图说明
通过以下结合附图对实施方式的描述，这些和/或其他方面将变得明显并且更容易理解，在附图中：
图1是根据实施方式的显示设备的平面布局图；
图2是根据实施方式的显示设备的示意性部分剖视图；
图3是根据实施方式的显示面板的布局图；
图4是图3的区域A的放大图；
图5是沿图3的线V-V’截取的剖视图；
图6至图12是示出根据实施方式的制造显示面板的方法的操作的剖视图；
图13是示出根据实施方式的显示面板的单位像素组之间的驱动连接关系的图；
图14是示出根据实施方式的显示面板的驱动波形的曲线图；
图15是示出根据实施方式的单位像素组的布置的示意图；
图16是根据实施方式的显示面板的示意性平面图；
图17是比较第一触摸区域和第二触摸区域的单位像素组的布局图；
图18是显示面板的孔区域的示意性放大图；
图19是孔区域的剖视图；
图20是根据实施方式的显示设备的展开图；
图21是图20的显示设备的立体图；
图22是根据实施方式的显示设备的立体图；
图23是根据实施方式的显示设备的立体图；
图24是根据实施方式的显示设备的展开图；以及
图25是图24的显示设备的立体图。
具体实施方式
现在将在下文中参考附图更全面地描述本发明，在附图中示出了本发明的优选实施方式。然而，本发明可以以不同的形式实施，并且不应被解释为受限于本文中阐述的实施方式。更确切地，这些实施方式被提供以使得本公开将是全面且完整的，并且将向本领域技术人员充分地传达本发明的范围。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的组件。在附图中，为了清楚起见，夸大了层和区域的厚度。
还将理解，当层被称为在另一层或衬底″上″时，其可直接在该另一层或衬底上，或者还可存在介于中间的层。相反，当元件被称为″直接″在另一元件″上″时，不存在介于中间的元件。
将理解，虽然在本文中可使用术语第一、第二等来描述各种元件、组件、区域、层和/或区段，但是这些元件、组件、区域、层和/或区段不应被这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、组件、区域、层或区段与另一个元件、组件、区域、层或区段区分开。因此，在不背离本发明构思的教导的情况下，以下所讨论的第一元件、第一组件、第一区域、第一层或第一区段可以被称作第二元件、第二组件、第二区域、第二层或第二区段。
在下文中，将参考附图描述具体实施方式。
图1是根据实施方式的显示设备1的平面布局图。图2是根据实施方式的显示设备1的示意性部分剖视图。
在实施方式中，第一方向DR1和第二方向DR2是彼此相交的不同方向，例如，在平面图中彼此垂直相交的方向。第三方向DR3是与第一方向DR1和第二方向DR2所在的平面相交的方向，例如，与第一方向DR1和第二方向DR2两者垂直相交的方向。在图中，第一方向DR1表示显示设备1的竖直方向，第二方向DR2表示显示设备1的水平方向，以及第三方向DR3表示显示设备1的厚度方向。在以下实施方式中，第一方向DR1上的第一侧是指在平面图中的向上方向，第一方向DR1上的第二侧是指在平面图中的向下方向，第二方向DR2上的第一侧是指在平面图中的右方向，第二方向DR2上的第二侧是指在平面图中的左方向，第三方向DR3上的第一侧是指在剖视图中的向上方向，以及第三方向DR3上的第二侧是指在剖视图中的向下方向。然而，实施方式中提及的方向应理解为相对方向，并且实施方式不限于所提及的方向。
参考图1和图2，显示设备1可显示运动图像或静止图像。主屏幕的显示方向可以是第三方向DR3上的第一侧(例如，顶部发射显示设备)。本发明不限于此。主屏幕的显示方向可以是第三方向DR3上的第二侧(例如，底部发射显示设备)。在示例实施方式中，主屏幕的显示方向可以是第三方向DR3上的第一侧和第二侧两者(例如，双侧发射显示设备或透明显示设备)。
显示设备1可以是指提供显示屏幕的任何电子设备。显示设备1的示例可包括诸如移动电话、智能手机、平板个人计算机(PC)、电子手表、智能手表、手表电话、移动通信终端、电子笔记本、电子书、便携式多媒体播放器(PMP)、导航设备、游戏机和数码相机的提供显示屏幕的便携式电子设备以及电视、笔记本电脑、监控器、广告牌和物联网。
显示设备1包括有效区域AAR和非有效区域NAR。在显示设备1中，其中显示屏幕的部分可以被定义为显示区域，其中不显示屏幕的部分可以被定义为非显示区域，以及其中感测触摸输入的区域可以被定义为触摸区域。在这种情况下，显示区域和触摸区域可以被包括在有效区域AAR中。显示区域和触摸区域可以彼此重叠。即，有效区域AAR可以是显示屏幕并且感测触摸输入的区域。有效区域AAR可形如矩形或具有圆角的矩形。图中所示的有效区域AAR形如具有圆角的矩形，以及有效区域AAR在第一方向DR1上比在第二方向DR2上长。然而，实施方式不限于这种情况，以及有效区域AAR可具有各种形状，诸如在第二方向DR2上比在第一方向DR1上长的矩形、或正方形、或其他多边形、或圆形、或椭圆形。
非有效区域NAR设置在有效区域AAR周围。非有效区域NAR可以指边框区域。非有效区域NAR可以与稍后将描述的窗口构件20的印刷层22重叠。
非有效区域NAR围绕有效区域AAR的所有侧(图中的四个侧)。然而，实施方式不限于这种情况。例如，非有效区域NAR可以不设置在有效区域AAR的上侧周围。
在非有效区域NAR中，可以设置用于将信号传输到有效区域AAR(显示区域或触摸区域)的信号布线或驱动电路。非有效区域NAR可不包括显示区域。此外，非有效区域NAR可不包括触摸区域。本发明不限于此。在实施方式中，非有效区域NAR可包括诸如压力传感器的传感器构件或触摸区域的一部分。在一些实施方式中，有效区域AAR可以与显示屏幕的显示区域完全相同，以及非有效区域NAR可以与不显示屏幕的非显示区域完全相同。
在实施方式中，显示设备1还包括一个或多个孔区域HL。孔区域HL设置在显示设备1在第一方向DR1上的第一侧上。如图1中所示，孔区域HL被有效区域AAR围绕。在另一示例中，孔区域HL可以被非有效区域NAR围绕，或者可以被设置在有效区域AAR与非有效区域NAR之间的边界周围，使得孔区域HL中的每一个的一部分被有效区域AAR围绕，并且另一部分被非有效区域NAR围绕。显示设备1还可包括与孔区域HL中的每一个重叠的光学元件，诸如相机或透镜。孔区域HL中的每一个在平面图中(即，从上方观察时)是圆形的。然而，孔区域HL中的每一个的形状不限于圆形形状，并且可以改变成各种形状，诸如矩形、正方形和其他多边形。
显示设备1包括提供显示屏幕的显示面板10。显示面板10的示例可包括有机发光显示面板、微发光二极管(LED)显示面板、纳米LED显示面板、量子点发光显示面板、液晶显示面板、等离子体显示面板、场发射显示面板、电泳显示面板或电润湿显示面板。下面将描述应用有机发光显示面板作为显示面板10的示例的情况，但是实施方式不限于这种情况，且只要相同的技术精神可应用，本发明可应用于其他显示面板。
显示面板10包括多个像素PX。像素PX可以呈矩阵形式布置。像素PX中的每一个在平面图中可以是矩形或正方形。然而，像素PX中的每一个的平面形状不限于以上示例。在示例实施方式中，像素PX中的每一个的平面形状可以是菱形形状，该菱形形状的每个边相对于第一方向DR1倾斜。像素PX中的每一个可包括发光区域。发光区域可具有与像素PX中的对应像素相同的形状。本发明不限于此。在示例实施方式中，发光区域可具有与PX像素中的对应像素不同的形状。例如，当像素具有矩形形状时，像素的发光区域可具有各种形状，诸如菱形、六边形、八边形和圆形。稍后将详细描述像素PX和像素PX中的对应像素的发光区域。
显示设备1还可包括感测触摸输入的触摸构件。触摸构件可以被集成到显示面板10中。在将触摸构件集成到显示面板10中的实施方式中，显示面板10的电极或布线也可以用作触摸电极或触摸感测布线。稍后将对此进行详细描述。
在一些实施方式中，还可以将除了集成触摸构件之外的触摸面板、触摸膜等添加到显示面板10。
显示面板10可包括衬底100，衬底100包括诸如聚酰亚胺的柔性聚合物材料。衬底100可以是柔性的。因此，显示面板10可以弯曲、屈曲、折叠或卷曲。
显示面板10包括显示面板10弯曲的弯曲区域BR。相对于弯曲区域BR，显示面板10被划分成位于弯曲区域BR的一侧上的主区域MR和位于弯曲区域BR的另一侧上的子区域SR。
显示面板10的显示区域设置在主区域MR中。在实施方式中，主区域MR中的显示区域周围的边缘部分、整个弯曲区域BR以及整个子区域SR可以是非显示区域。然而，弯曲区域BR和/或子区域SR可包括除了主区域MR的显示区域之外的显示区域。
主区域MR的形状可以与显示设备1的平面形状基本上相似。主区域MR可以是位于一个平面中的平坦区域。然而，实施方式不限于这种情况。在示例实施方式中，除了连接到弯曲区域BR的边缘(侧)之外，主区域MR的边缘中的至少一个可以是屈曲的或可以垂直地弯曲。
当除连接到弯曲区域BR的边缘(侧)之外的主区域MR的边缘中的至少一个屈曲或弯曲时，显示区域也可设置在屈曲或弯曲的边缘处。然而，实施方式不限于这种情况。在示例实施方式中，屈曲或弯曲的边缘可以是不显示屏幕的非显示区域，或者可包括显示区域和非显示区域的组合。
显示面板10包括设置在主区域MR中的有效元件层ATL和薄膜封装层190。有效元件层ATL可包括发光元件和触摸电极。稍后将对此进行详细描述。薄膜封装层190覆盖有效元件层ATL，以防止有效元件层ATL暴露至湿气或空气。
显示面板10还包括偏振构件POL。偏振构件POL可以设置为偏振膜或偏振层的形式。偏振构件POL可以附接到薄膜封装层190上。偏振构件POL设置在主区域MR中。本发明不限于此。在示例实施方式中，偏振构件POL可经由诸如光学透明粘合剂的粘合构件30联接至窗口构件20。在示例实施方式中，偏振构件POL还可设置在弯曲区域BR或子区域SR中。可以省略偏振构件POL。
弯曲区域BR连接到主区域MR在第一方向DR1上的第二侧。例如，弯曲区域BR连接到主区域MR的下部短边。弯曲区域BR的宽度小于主区域MR的(短边的)宽度。主区域MR与弯曲区域BR之间的连接部分可具有L切割形状。
在弯曲区域BR中，显示面板10可以从第二侧以一定曲率弯曲。显示面板10的弯曲表面的表面法线可以从第三方向DR3向第三方向DR3的相反方向或向在第三方向DR3与第一方向DR1之间的方向逐渐变化。弯曲区域BR可具有恒定的曲率半径。然而，实施方式不限于这种情况。在示例实施方式中，弯曲区域BR可在每个部分中具有不同的曲率半径。当显示面板10在弯曲区域BR中弯曲时，显示面板10的表面法线可以例如从向上表面方向改变成向下表面方向。表面法线定义为表面的法线方向。例如，显示面板10的表面可以面向上，通过弯曲区域BR面向外，并随后面向下。
设置在衬底100的表面上的弯曲保护层BPL设置在弯曲区域BR中。弯曲保护层BPL可以由例如树脂制成以保护弯曲区域BR。弯曲保护层BPL还设置在与弯曲区域BR相邻的主区域MR的一部分和子区域SR的一部分中。在示例实施方式中，弯曲保护层BPL可以与弯曲区域BR完全重叠，且与子区域SR和主区域MR部分重叠。
子区域SR从弯曲区域BR延伸。在弯曲完成之后，子区域SR可以平行于主区域MR延伸。例如，子区域SR在第三方向DR3上(即，在显示面板10的厚度方向上)与主区域MR重叠。子区域SR(在第二方向DR2上)的宽度可以但不必须与弯曲区域BR的宽度相同。在示例实施方式中，弯曲区域BR的宽度可以逐渐减小，且在弯曲区域BR和子区域SR彼此相接处，弯曲区域BR的宽度可以与子区域SR的宽度相同。在示例实施方式中，在弯曲区域BR和子区域SR彼此相接处，弯曲区域BR的宽度可以大于或小于子区域SR的宽度。驱动器芯片IC设置在子区域SR中。驱动器芯片IC可包括用于驱动显示面板10的集成电路。集成电路可包括用于显示器的集成电路和/或用于触摸单元的集成电路。用于显示器的集成电路和用于触摸单元的集成电路可以设置为单独芯片或者可以被集成到一个芯片中。
焊盘单元可设置在显示面板10的子区域SR的端部处。焊盘单元可包括多个显示信号布线焊盘和多个触摸信号布线焊盘。驱动衬底FPC可以连接到显示面板10的子区域SR的端部处的焊盘单元。驱动衬底FPC可以是柔性印刷电路板或膜。
在弯曲完成之后，显示面板10还包括设置于在主区域MR与子区域SR之间的重叠区域中的保护膜。例如，第一保护膜PF1附接到衬底100在主区域MR中的表面，且第二保护膜PF2附接到衬底100在子区域SR中的表面。第一保护膜PF1和第二保护膜PF2彼此面对，并且通过粘合层或接合层PSA接合在一起。因此，可以增加弯曲结构的机械稳定性。
显示设备1还包括窗口构件20。窗口构件20覆盖并保护显示面板10。窗口构件20包括窗口基部21和设置在窗口基部21上的印刷层22。
窗口基部21可以由透明材料制成。窗口基部21可包括例如玻璃或塑料。当窗口基部21包括塑料时，窗口基部21可以是柔性的。
可适用于窗口基部21的塑料的示例可包括但不限于聚酰亚胺、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚偏二氯乙烯、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚苯乙烯、乙烯乙烯醇共聚物、聚醚砜(PES)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙基酯、三乙酰纤维素(TAC)或醋酸丙酸纤维素(CAP)。窗口基部21可包括以上所列出塑料材料中的一种或多种。当窗口基部21包括塑料时，窗口构件20还可包括设置在窗口基部21的上表面和下表面上的涂覆层(未示出)。在实施方式中，涂覆层可以是硬涂覆层，硬涂覆层包括含有丙烯酸酯化合物的有机层和/或有机-无机混合层。
窗口基部21的平面形状可以与应用了窗口基部21的显示设备1的形状对应。例如，当显示设备1在平面图中基本为矩形时，窗口基部21也可以基本为矩形。又例如，当显示设备1为圆形时，窗口基部21也可以为圆形。
窗口基部21在平面图中可以大于显示面板10，且窗口基部21的侧表面可以从显示面板10的侧表面突出或向外延伸超过显示面板10的侧表面。窗口基部21可以从显示面板10的所有侧(图中的四个侧)向外突出。
印刷层22设置在窗口基部21上。印刷层22可设置在窗口基部21的一个表面和/或另一个表面上。印刷层22设置在窗口基部21的边缘部分上并且设置在非有效区域NAR中。印刷层22可以是出于美学目的的装饰层和/或最外面的黑色矩阵层。
现在将更详细地描述显示面板10的像素结构。
图3是根据实施方式的显示面板10的布局图。图4是图3的区域A的放大图。
参考图1、图3和图4，显示面板10包括多个像素PX。像素PX呈矩阵形式布置。在示例实施方式中，像素PX中的每一个可包括第一电极161和第二电极181。像素PX可包括第一彩色像素、第二彩色像素或第三彩色像素。第一彩色像素可以是红色像素，第二彩色像素可以是绿色像素，且第三彩色像素可以是蓝色像素。在实施方式中，像素PX可布置成条纹图案，其中，相同颜色的像素的列布置在第一方向DR1上(即，在列方向上)，且具有红色像素的像素的列、具有绿色像素的像素的列和具有蓝色像素的像素的列可以在第二方向DR2(即，行方向)上以此顺序交替地布置。然而，像素PX的布置不限于该示例。在示例实施方式中，像素PX中的每一个可以形成为菱形形状，且像素PX可以布置成放弃蜂窝状(pentile)图案，其中，红色像素和蓝色像素径向地布置在绿色像素周围。另外，除了红色像素、绿色像素和蓝色像素外，像素PX可包括白色像素。
像素PX中的每一个包括发光区域EMR。发光区域EMR可以是中间层的发光层发光的区域，且可定义为与像素PX中的每一个的像素电极对应的第一电极161在平面图中被堤层115暴露的区域。堤层115可以称为像素限定层。围绕发光区域EMR的区域可以被称为不存在发光层或不发射光的非发光区域NEM。第一彩色像素的发光区域EMR可以发射第一颜色的光，第二彩色像素的发光区域EMR可以发射第二颜色的光，以及第三彩色像素的发光区域EMR可以发射第三颜色的光。然而，实施方式不限于这种情况。在示例实施方式中，像素PX中的每一个的发光区域EMR可以发射相同颜色的光，且可以在光的路径上设置滤色器和/或波长转换层以输出像素PX中的对应像素的颜色。
辅助电极162和/或电极布线163设置在非发光区域NEM中，非发光区域NEM被定义为两个邻近的发光区域EMR之间的区域。在平面图中，第一电极161被堤层115围绕。堤层115形成闭环。辅助电极162在平面图中围绕第一电极161和堤层115。堤层115设置在第一电极161与辅助电极162之间。辅助电极162与第一电极161间隔开并延伸跨过第二电极181的周边。辅助电极162可具有格子图案。在示例实施方式中，辅助电极162在平面图中围绕九个堤层115。本发明不限于此。在示例实施方式中，辅助电极162可以围绕多于或少于九个堤层115。
电极布线163从辅助电极162分支并电连接到辅助电极162。例如，电极布线163在第二方向DR2上远离辅助电极162延伸，并随后转向第一方向DR1。在示例实施方式中，电极布线163和辅助电极162可以由相同的导电材料形成。
像素PX中的每一个包括与第一电极161重叠的第二电极181。在像素PX中的每一个中，第二电极181被隔离，使得像素PX中的相邻像素的两个相邻的第二电极181彼此物理地分离。第二电极181与第一电极161重叠并且具有比第一电极161的面积大的面积。在示例实施方式中，第一电极161和第二电极181可以是同心的，且在平面图中，第二电极181向外延伸超过第一电极161的周边。第二电极181在其从第一电极161突出的部分中与辅助电极162重叠以接触辅助电极162或电连接到辅助电极162。更具体地，第二电极181的突出部分延伸超过围绕第一电极161的堤层115的周边，以接触或电连接到辅助电极162。因此，被辅助电极162围绕的相邻像素PX可以经由第二电极181电连接到辅助电极162。
如图3中所示，第二电极181通过辅助电极162彼此电连接的九个像素PX构成单位像素组UPG。单位像素组UPG包括九个像素PX。本发明不限于此。在示例实施方式中，像素PX中的多于或少于九个像素PX可彼此电连接，从而形成一个单位像素组UPG。在这种情况下，单位像素组UPG可包括多于或少于九个像素PX。包括在单位像素组UPG中的像素PX的第二电极181通过辅助电极162电连接，并且与相邻的单位像素组UPG的第二电极181电隔离。
属于单位像素组UPG的像素PX彼此相邻。单位像素组UPG可包括呈多个连续行和多个连续列布置的像素PX。属于单位像素组UPG的第二电极181可以全部施加有相同的电压值。在某些情况下，不同单位像素组UPG的第二电极181可具有不同的电压值或可具有相同的电压值。单位像素组UPG连接到一个电极布线163。电极布线163可以连接到用于提供公共电压的电源和触摸传感器驱动器电路。
单位像素组UPG可以以矩阵重复地布置，但是实施方式不限于这种情况。
不论单位像素组UPG的布置如何，显示面板10的像素PX中的每一个的第一电极161和第二电极181可以规则地且重复地布置。单位像素组UPG可以被定义为像素组，该像素组的第二电极181被共同地连接到辅助电极162。即，如果两个相邻的堤层115之间的空间在非发光区域NEM中被辅助电极162完全填充，则预定数量(例如，图3中的九个)的第二电极181电连接到辅助电极162，从而形成单位像素组UPG。在非发光区域NEM中，辅助电极162和与该辅助电极162相邻的用于不同单位像素组UPG的辅助电极162断开连接并且隔离。因此，单位像素组UPG的辅助电极162和与该辅助电极162相邻的辅助电极162电隔离。
假设像素PX中的相邻像素的两个相邻的第一电极之间的距离是均匀的，则单位像素组UPG中的两个第一电极之间的辅助电极162可具有第一宽度，以及位于单位像素组UPG的最外侧上的辅助电极162可具有小于第一宽度的第二宽度。
第二电极181可形成触摸电极的一部分，同时每个第二电极181向对应像素PX提供公共电压。即，第二电极181可以共同地用于公共电极和触摸电极。多个第二电极181在其中电连接的每个单位像素组UPG可以形成一个触摸电极。
触摸电极是通过检测当诸如身体的一部分(例如，手指)或手写笔的输入物体触摸显示设备1的表面(例如，窗口构件20的表面)时发生的电场变化来感测是否已进行触摸的电极。感测触摸的方法可包括基于一个或多个触摸电极与输入物体之间的电容耦合的变化的自电容方法，以及基于两个或更多个触摸电极之间的电容耦合的变化的互电容方法。
触摸电极的面积可大于像素PX，并且可具有例如4mm×4mm的尺寸。可以将多个像素PX分组到单位像素组UPG中，以形成具有以上面积的触摸电极。
形成触摸电极的单位像素组UPG可以变化。稍后将对此进行详细描述。
图5是沿图3的线V-V’截取的剖视图。现在将参考图3至图5描述以上描述的显示面板10的像素PX中的每一个的剖面结构。
显示面板10包括衬底100。衬底100支承设置在衬底100上的每个层。衬底100可以由诸如聚合物树脂的绝缘材料制成。聚合物树脂可以是例如聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PA)、聚芳酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙基酯、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、三醋酸纤维素(TAC)、醋酸丙酸纤维素(CAP)或这些材料的组合。在示例实施方式中，衬底100可以由诸如玻璃或石英的无机材料制成。
在实施方式中，衬底100可包括多个子衬底。例如，衬底100包括在厚度方向上堆叠的第一子衬底101和第二子衬底102。第一子衬底101和第二子衬底102中的每一个可以是由例如聚酰亚胺制成的柔性衬底。衬底100还包括设置在第一子衬底101与第二子衬底102之间的阻挡层103。阻挡层103可包括氮化硅、氧化硅或氮氧化硅。尽管未示出，但是第二子衬底102上也可设置阻挡层。
缓冲层110设置在衬底100上。缓冲层110可包括氮化硅、氧化硅或氮氧化硅。
遮光金属层120设置在缓冲层110上。遮光金属层120具有图案化形状，并且与设置在遮光金属层120上方(第三方向DR3的第一侧)的半导体层130重叠，以防止来自下方的光进入半导体层130。遮光金属层120可以电连接到每个薄膜晶体管TR的漏电极152。可以省略遮光金属层120。在这种情况下，也可以省略第一绝缘层111，且可以将半导体层130直接设置在缓冲层110上。
第一绝缘层111设置在遮光金属层120上。第一绝缘层111可以形成在衬底100的整个表面上。第一绝缘层111可以使半导体层130和遮光金属层120彼此绝缘。第一绝缘层111可包括氮化硅、氧化硅或氮氧化硅。
半导体层130设置在第一绝缘层111上。如上所述，半导体层130在作为厚度方向的第三方向DR3上与遮光金属层120重叠。半导体层130可包括像素PX中的每一个的薄膜晶体管TR的沟道。半导体层130可包括多晶硅。在实施方式中，半导体层130可包括单晶硅、低温多晶硅、非晶硅或氧化物半导体。氧化物半导体的示例可包括包含铟、锌、镓、锡、钛、铝、铪(Hf)、锆(Zr)、镁(Mg)等的二元化合物(ABx)、三元化合物(ABxCyDz)和四元化合物(ABxCyDz)。在实施方式中，半导体层130可包括ITZO(包括铟、锡和锌的氧化物)或IGZO(包括铟、镓和锌的氧化物)。
第二绝缘层112设置在半导体层130上。第二绝缘层112可以是具有栅极绝缘功能的栅极绝缘膜。第二绝缘层112可包括硅化合物、金属氧化物等。例如，第二绝缘层112可包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铝、氧化钽、氧化铪、氧化锆、氧化钛等。这些材料可以单独或彼此组合使用。第二绝缘层112可以是单层或由不同材料的堆叠层组成的多层。
栅极导电层140设置在第二绝缘层112上。栅极导电层140可包括每个薄膜晶体管TR的栅电极、连接到栅电极的扫描线、以及电容器(未示出)的第一电极。栅电极至少部分地与半导体层130重叠。
栅极导电层140可包括选自钼(Mo)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、钙(Ca)、钛(Ti)、钽(Ta)、钨(W)和铜(Cu)中的一种或多种金属。
第三绝缘层113设置在栅极导电层140上。第三绝缘层113可以是层间绝缘膜。第三绝缘层113可包括无机绝缘材料，诸如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铪、氧化铝、氧化钛、氧化钽或氧化锌。
数据导电层150设置在第三绝缘层113上。数据导电层150可包括数据线151、每个薄膜晶体管TR的源电极(未示出)、每个薄膜晶体管TR的漏电极152以及电源布线(未示出)。每个薄膜晶体管TR的源电极可以通过穿透第三绝缘层113和第二绝缘层112的接触孔电连接到半导体层130的源极区域。每个薄膜晶体管TR的漏电极152通过穿透第三绝缘层113和第二绝缘层112的接触孔电连接到半导体层130的漏极区域。每个薄膜晶体管TR的漏电极152还通过穿透第三绝缘层113、第二绝缘层112和第一绝缘层111的接触孔电连接到遮光金属层120。
数据导电层150可包括选择自铝(Al)、钼(Mo)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、钙(Ca)、钛(Ti)、钽(Ta)、钨(W)和铜(Cu)中的一种或多种金属。数据导电层150可以是单层或多层。例如，数据导电层150可具有Ti/Al/Ti、Mo/Al/Mo、Mo/AlGe/Mo或Ti/Cu的堆叠结构。
第四绝缘层114设置在数据导电层150上。第四绝缘层114覆盖数据导电层150。第四绝缘层114可以是具有用于将数据导电层150连接到形成在第四绝缘层114上的导电层的至少一个通孔的通孔层。第四绝缘层114可包括有机绝缘材料，诸如聚丙烯酸酯树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚苯醚树脂、聚苯硫醚树脂或苯并环丁烯(BCB)。
尽管未示出，栅极导电层140和数据导电层150中的每一个可以形成为两层或更多层，其中，在两层或更多层之间插置有绝缘层。即，栅极导电层140可包括依序堆叠的第一栅极导电层、层间绝缘膜和第二栅极导电层。在这种情况下，第二栅极导电层可以用作电容器的第二电极。另外，数据导电层150可包括依序堆叠的第一数据导电层、层间绝缘膜和第二数据导电层。在这种情况下，第二数据导电层可以用作电源布线、连接电极等。
第一电极层160设置在第四绝缘层114上。第一电极层160可包括发光元件的第一电极161、辅助电极162和电极布线163。发光元件可包括中间层170，中间层170设置在彼此面对的第一电极161与第二电极181之间并且可以发光。发光元件的第一电极161和第二电极181中的任何一个可以是阳极，且另一个可以是阴极。在所示实施方式中，描述了第一电极161是阳极且第二电极181是阴极的情况。但是，相反的情况可适用。中间层170可包括诸如有机发光层、量子点发光层或纳米点发光层的发光层。
第一电极161可用作设置在像素PX中的每一个中的像素电极。第一电极161通过穿透第四绝缘层114的接触孔电连接到对应的薄膜晶体管TR。辅助电极162和电极布线163与第一电极161间隔开。参考图4，第一电极161、以及辅助电极162和电极布线163分别位于发光区域EMR和非发光区域NEM中。
第一电极161、辅助电极162和电极布线163可以以相同的工艺步骤形成以具有相同的堆叠关系。在示例实施方式中，第一电极161、辅助电极162和电极布线163可以由相同的材料形成，可以具有基本相同的厚度或者可位于距衬底100基本相同的高度处。第一电极层160可具有但不限于其中堆叠具有高功函数的材料层(诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)或氧化铟(In2O3))和反射材料层(诸如银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、铅(Pb)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、锂(Li)、钙(Ca)或它们的混合物)的堆叠结构。具有高功函数的材料层可设置在反射材料层上。材料层可以比反射材料层更靠近中间层170。第一电极层160可具有但不限于ITO/Mg、ITO/MgF2、ITO/Ag或ITO/Ag/ITO的多层结构。
堤层115设置在第一电极层160上。堤层115可设置在第一电极161周围以形成闭环。堤层115的一部分与第一电极161重叠，且堤层115的另一部分可以不与第一电极161重叠。另外，堤层115与辅助电极162部分地重叠。堤层115可包括暴露第一电极161的开口。被堤层115暴露的第一电极161的区域是发光区域EMR。第一电极161周围的堤层115与另一个相邻的第一电极161周围的另一个堤层115间隔开。
堤层115可包括有机绝缘材料，诸如聚丙烯酸酯树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚苯醚树脂、聚苯硫醚树脂或苯并环丁烯(BCB)。在示例实施方式中，堤层115可包括无机材料。在示例实施方式中，堤层115可包括无机层和有机层的堆叠层。
中间层170设置在堤层115的开口中。中间层170可包括有机发光层，并且还可包括空穴注入层/传输层和/或电子注入层/传输层。中间层170可接触通过堤层115的开口暴露的第一电极161的上表面，并且延伸到堤层115的表面上。在平面图中，中间层170在尺寸上可以大于第一电极161。中间层170可以不设置在辅助电极162或电极布线163上。
第二电极层180可设置在中间层170上。第二电极层180可包括发光元件的第二电极181。在平面图中，第二电极181可具有与中间层170相同或相似的平面形状，但是可以大于中间层170。第二电极181覆盖中间层170和堤层115，并且延伸到堤层115外部的辅助电极162上。由于中间层170和堤层115插置于第二电极181与第一电极161之间，所以第二电极181不物理接触第一电极161，但第二电极181直接接触辅助电极162的上表面。属于单位像素组UPG的像素PX中的每一个的第二电极181与该第二电极181的在单位像素组UPG中的邻近像素PX的相邻第二电极181物理地分离，但是通过辅助电极162电连接到所述邻近像素PX的相邻第二电极181。例如，单位像素组UPG的第二电极181可以彼此分离，但是可以通过与单位像素组UPG对应的辅助电极162彼此电连接。尽管在图中未示出，但是除了第二电极181之外，第二电极层180还可包括其他电极或信号布线。第二电极层180可以不设置在辅助电极162或电极布线163上。
第二电极层180可包括具有小功函数的材料层，诸如Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Mg、Ag、Pt、Pd、Ni、Au、Nd、Ir、Cr、BaF、Ba或其化合物或混合物(例如，Ag和Mg的混合物)。在示例实施方式中，第二电极层180可包括设置在具有小功函数的材料层上的透明金属氧化物层。
钝化层116设置在第二电极层180上。钝化层116可具有与第二电极181相同或相似的平面形状，但是可大于第二电极181。钝化层116覆盖第二电极181并且在第二电极181外部延伸到辅助电极162上。例如，覆盖第二电极181的钝化层116延伸到辅助电极162的、未被第二电极181覆盖的部分上。钝化层116接触辅助电极162的上表面。钝化层116与设置在钝化层116下方的第一电极161、中间层170和第二电极181重叠并完全覆盖设置在钝化层116下方的第一电极161、中间层170和第二电极181。钝化层116部分地暴露辅助电极162，而不完全覆盖辅助电极162。钝化层116可以不设置在电极布线163上。像素PX中的每一个的钝化层116与邻近像素PX的钝化层116物理地分离。
钝化层116可以是氮化硅、氧化硅或氮氧化硅。在某些情况下，可以省略钝化层116。
可以使用相同的图案掩模形成中间层170、第二电极层180和钝化层116。稍后将对此进行详细描述。
薄膜封装层190设置在钝化层116上。薄膜封装层190可设置在衬底100的整个表面上。薄膜封装层190可以接触被钝化层116暴露的辅助电极162的上表面，但是实施方式不限于这种情况。薄膜封装层190包括第一无机层191、第一有机层192和第二无机层193。第一无机层191和第二无机层193中的每一个可包括氮化硅、氧化硅或氮氧化硅。第一有机层192可包括有机绝缘材料，诸如聚丙烯酸酯树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚苯醚树脂、聚苯硫醚树脂或苯并环丁烯(BCB)。
现在将参考图6至图12描述制造以上描述的显示面板10的示例性方法。图6至图12是示出根据实施方式的制造显示面板10的方法的操作的剖视图。
参考图6，制备具有薄膜晶体管TR和覆盖该薄膜晶体管TR并具有暴露该薄膜晶体管TR的第二电极的接触孔的第四绝缘层114的衬底100。制造具有以上结构的衬底100的各种方法在本领域中是已知的，并因此省略这些方法的详细描述。
接下来，在第四绝缘层114上形成包括第一电极161、辅助电极162和电极布线163的第一电极层160。例如，可以通过使用诸如沉积的方法将第一电极材料堆叠在第四绝缘层114上并且使用诸如光刻的方法来图案化第一电极材料以形成第一电极层160。
参考图7，将堤层115形成为与第一电极161和辅助电极162部分地重叠并且包括暴露第一电极161的开口。堤层115的图案可以通过光刻工艺形成。例如，当堤层115由包括感光材料的有机材料制成时，可以通过涂覆有机材料并随后执行曝光和显影工艺来形成图案。
参考图8和图9，在第一电极层160和堤层115上形成剥离层LOL。可将剥离层LOL堆叠在目标结构的整个表面上。
剥离层LOL可包括非光敏有机材料。另外，剥离层LOL可包括含氟聚合物。含氟聚合物可包括具有20wt％至60wt％的氟含量的聚合物。剥离层LOL中包含的含氟聚合物的示例可包括但不限于聚四氟乙烯、聚三氟氯乙烯、聚二氯二氟乙烯、氯三氟乙烯与二氯二氟乙烯的共聚物、四氟乙烯与全氟烷基乙烯基醚的共聚物、氯三氟乙烯与全氟烷基乙烯基醚的共聚物、四氟乙烯与全氟烷基乙烯基醚的共聚物或氯三氟乙烯与全氟烷基乙烯基醚的共聚物。可使用诸如涂覆方法、印刷方法或沉积方法的方法来形成剥离层LOL。
接下来，在剥离层LOL上形成掩模层PRL。掩模层PRL可包括光刻胶。尽管在图中示出了施加正性光刻胶的情况，但是负性光刻胶也可适用。
接下来，如图9中所示，使用光掩模LMK对掩模层PRL进行曝光，并随后对掩模层PRL进行显影以形成掩模图案PRT，掩模图案PRT暴露剥离层LOL的一部分。掩模图案PRT的开口OP与特定彩色像素的第一电极161重叠，并且还与第一电极161周围的堤层115的一部分重叠。掩模图案PRT的开口OP可以不和与第一电极161相邻的辅助电极162重叠。在当前操作中，剥离层LOL在其他彩色像素中的区域可以全部被掩模图案PRT覆盖。
参考图10，使用掩模图案PRT作为蚀刻掩模来蚀刻剥离层LOL，以形成剥离图案LOP。剥离层LOL可以通过诸如湿蚀刻或干蚀刻的各向同性蚀刻来蚀刻。当剥离层LOL包括含氟聚合物时，可以使用包含氢氟醚的溶剂(作为包含氟的溶剂)作为蚀刻剂对剥离层LOL进行蚀刻。
作为各向同性蚀刻的结果，可以在掩模图案PRT的开口OP下方形成底切轮廓UCP。因此，掩模图案PRT的开口OP下方的结构可以通过比掩模图案PRT的开口OP大的宽度(即，剥离图案LOP的开口OP’的宽度)暴露。即，第一电极161和在第一电极161周围的堤层115的一部分通过剥离图案LOP的开口OP’暴露。
参考图11，可以依序地在所得的图10的结构上沉积中间层170、第二电极层180和钝化层116。中间层170、第二电极层180和钝化层116可以通过真空沉积(诸如，作为非共形沉积的蒸发或溅射)来沉积。中间层170、第二电极层180和钝化层116中的每一个可以在不使用精细金属掩模(FMM)的情况下完全沉积。
即使完全沉积材料层，也可以在不使用光刻工艺的情况下使用掩模图案PRT使沉积的材料层在目标衬底上图案化。在示例实施方式中，沉积材料可以经由掩模图案PRT的开口OP沉积在第一电极161和堤层115上，并且也可以沉积在掩模图案PRT的上表面和侧表面上。因为沉积是非共形沉积，所以沉积材料不沉积在通过掩模图案PRT与真空沉积的材料源阻挡开的掩模图案PRT的底表面和剥离图案LOP的侧壁上。经由掩模图案PRT的开口OP沉积在第一电极161和堤层115上的沉积材料的形状可以与掩模图案PRT的开口OP基本相同或相似。然而，可以根据工艺条件将沉积材料的尺寸调整为与掩模图案PRT的开口OP的尺寸不同。
具体地，当沉积材料朝向第三方向DR3的第二侧(即，在与沉积目标基本垂直的方向上)前行并且具有高方向性时，沉积材料可以仅在与掩模图案PRT的开口OP重叠的区域中沉积在目标衬底上。因此，沉积图案可具有与掩模图案PRT的开口OP相似的尺寸。然而，当降低沉积材料的方向性或通过改变工艺条件改变沉积材料的前行角(或入射角)时，沉积材料不仅可以沉积在与开口OP重叠的区域中，而且如果在以上区域内部且与掩模图案PRT重叠的区域暴露，还可沉积在该区域中。因此，沉积图案可具有比掩模图案PRT的开口OP的尺寸大的尺寸。在该实施方式中，在与掩模图案PRT重叠的区域中的沉积图案的厚度可以小于在与掩模图案PRT的开口OP重叠的区域中的沉积图案的厚度。因此，使用以上方法沉积的中间层170、第二电极层180和钝化层116可以在中间层170、第二电极层180和钝化层116的与第一电极161重叠的中心部分中相对厚，并且可以朝向中间层170、第二电极层180和钝化层116的外端部变得更薄。
在所示的实施方式中，沉积图案的尺寸可以以中间层170、第二电极层180和钝化层116的列出顺序增加。这里，如上所述，可以通过使用相同的掩模图案PRT但通过改变工艺条件来形成所示的图案形状。即，可将中间层170沉积为覆盖第一电极161和堤层115的一部分，且可将第二电极层180沉积为在平面图中大于中间层170、覆盖整个中间层170且从中间层170向外延伸以覆盖堤层115并接触辅助电极162的一部分。另外，可将钝化层116沉积为在平面图中大于第二电极层180，以覆盖整个第二电极层180并且从第二电极层180向外延伸以接触辅助电极162的一部分。
参考图12，执行剥离工艺。例如，可在使包括中间层170、第二电极层180和钝化层116的沉积材料设置在第一电极161上的情况下去除剥离图案LOP。可以使用与用于蚀刻剥离层LOL的溶液相同的溶液来执行剥离工艺。例如，可以使用包含含有氢氟醚的溶剂作为含有氟的溶剂的溶液来去除剥离层LOL。溶液可以穿过掩模图案PRT的开口OP以接触剥离图案LOP的蚀刻表面，并随后从蚀刻表面依序蚀刻到剥离图案LOP中，从而去除剥离图案LOP。
由于形成在衬底100上的中间层170和/或第二电极181被钝化层116覆盖，因此可以在剥离工艺中保护中间层170和/或第二电极181不被暴露至溶液。
接下来，可以在其他彩色像素上重复执行图8至图12的操作，并随后在从图8至图12的重复操作所获得的所得结构上形成薄膜封装层190，从而完成如图5中所示的显示面板10。
在当前实施方式中，可以对不同彩色像素中的每一个单独执行由掩模图案PRT的形成、材料的沉积以及剥离工艺组成的单元工艺。因此，总共可以执行三个单元工艺。然而，当彩色像素中的每一个的中间层170包括相同的发光材料时，可以仅执行一个单元工艺以形成具有以上结构的图案。即，在以上情况下，掩模图案PRT可形成为包括与所有像素PX的第一电极161重叠的开口OP，并随后在剥离层LOL被蚀刻之后，可以在所有像素PX中同时形成中间层170、第二电极层180和钝化层116。
在图6至图12中所示的方法中，包括发光层的中间层170使用剥离工艺而不使用利用FMM的沉积工艺形成。因此，可以在降低制造成本的情况下防止FMM的未对准问题。另外，由于以与第一电极161相同的工艺形成辅助电极162，因此可以在不使用额外的光掩模工艺的情况下形成辅助电极162，并且可以防止如果单独地图案化辅助电极162可能发生的第一电极161损坏。
在显示面板10的发光元件中，设置在像素PX中的每一个中的第一电极161可以通过薄膜晶体管TR接收与对应数据对应的电压，且第二电极181可以通过电极布线163和辅助电极162接收公共电压。当与以上电压对应的电流通过中间层170从第一电极161流动到第二电极181时，发光元件可以发射光。另外，发光元件的第二电极181可以通过感测根据触摸输入而变化的电场来识别是否已进行触摸。为了使第二电极181用作公共电极和触摸电极，第二电极181可以交替地连接到产生公共电压的电源和触摸传感器驱动器电路之一。例如，第二电极181可以交替地接收公共电压ELVSS(见图13和图14)和触摸信号TS(见图14)之一。现在将参考图13和14对此进行详细描述。
图13是示出根据实施方式的显示面板10的单位像素组UPG之间的驱动连接关系的图。图14是示出根据实施方式的显示面板10的驱动波形的曲线图。
参考图13和图14，单位像素组UPG包括连接到第二电源布线SPSW的电极布线163。单位像素组UPG的电极布线163中的每一个可以共同地连接到第二电源布线SPSW。第二电源布线SPSW可以经由第一开关SW1连接到提供公共电压ELVSS的电源PS。当第一开关SW1接通时，公共电压ELVSS可以经由第一开关SW1被提供给连接到第二电源布线SPSW的单位像素组UPG的第二电极181和辅助电极162。
电极布线163还经由第二开关SW2连接到触摸驱动焊盘TPD。连接到单位像素组UPG的触摸驱动焊盘TPD可以与其他触摸驱动焊盘TPD分开，并且可以单独地连接到触摸传感器驱动器电路TDR。在示例实施方式中，触摸传感器驱动器电路TDR可包括时域反射仪。当连接到电极布线163的第二开关SW2接通时，触摸传感器驱动器电路TDR可以将触摸驱动信号传输到对应的单位像素组UPG，或者由对应的单位像素组UPG的第二电极181感测的信号可传输到触摸传感器驱动器电路TDR。连接到电极布线163的第二开关SW2可以全部同时接通或同时断开。
为了便于描述，假设单位像素组UPG包括共同地连接到辅助电极162的九个第二电极181。在这种情况下，单位像素组UPG的第二电极181和辅助电极162可以接收公共电压ELVSS以用作发光元件的公共电极，或者可以接收触摸驱动电压或向触摸传感器驱动器电路TDR提供感测的电压或电容以用作触摸电极。如果在识别触摸输入的模式下施加公共电压ELVSS，则几乎不可能感测到触摸输入。因此，第一开关SW1需要在识别触摸输入的模式下断开。就这方面，第一开关SW1和第二开关SW2可以不同时接通。在示例实施方式中，可以交替地控制第一开关SW1和第二开关SW2。
如图14中所示，显示屏幕的驱动时段T可包括显示时段DPE和空闲时段BLK。显示时段DPE和空闲时段BLK可以交替地重复。显示时段DPE可以是发射时段，在发射时段期间发射光以显示屏幕。空闲时段BLK可以是非发射时段，非发射时段位于显示时段DPE之间，并且在非发射时段期间不发射光。空闲时段BLK可以是空白时段或边沿时段。在示例实施方式中，驱动时段T可以与水平周期或帧周期对应。在这种情况下，可以在水平周期或帧周期中提供空闲时段BLK，但是实施方式不限于这种情况。
在显示时段DPE中，第一开关SW1可以接通，使得公共电压ELVSS通过电极布线163被提供给单位像素组UPG的第二电极181和辅助电极162。此时，第二开关SW2可断开。
在空闲时段BLK中，第一开关SW1断开。第二开关SW2的接通时段包括在空闲时段BLK中。可以通过在第二开关SW2被接通的时间段期间将触摸信号TS传输到单位像素组UPG并分析由单位像素组UPG感测到的信号来检测是否已进行了触摸输入。
图15是示出根据实施方式的单位像素组UPG的布置的示意图。
单位像素组UPG可用作触摸电极，并且可以根据单位像素组UPG重复布置的形状来不同地实施可应用于1层触摸面板的触摸电极布置。图15中示出了一个示例。在图15中，为了便于描述，未示出单位像素组UPG中的像素PX的布置以及单位像素组UPG中的第二电极181和辅助电极162的布置。
参考图15，多个单位像素组UPG呈矩阵形式布置。单位像素组UPG可以被划分成第一单位像素组UPG1和第二单位像素组UPG2。在竖直方向上，第一单位像素组UPG1比第二单位像素组UPG2宽。第一单位像素组UPG1沿着行方向的一行可以与第二单位像素组UPG2在行方向上的多行(例如，两行)对应。
单位像素组UPG的布置中的矩阵形式可包括布置有第一单位像素组UPG1的列和布置有第二单位像素组UPG2的列。在所示的示例中，第一列、第四列、第五列和第八列是布置有第一单位像素组UPG1的列，且第二列、第三列、第六列和第七列是布置有第二单位像素组UPG2的列。
第一单位像素组UPG1中的每一个可以连接到第一电极布线163-1。第二单位像素组UPG2(例如，两个或更多个第二单位像素组UPG2)可以共享第二电极布线163-2。在示例实施方式中，奇数行(第一行、第三行、第五行和第七行)中的第二单位像素组UPG2可以共享左第二电极布线163-2L，且偶数行(第二行、第四行、第六行和第八行)中的第二单位像素组UPG2可以共享右第二电极布线163-2R。
在图15的布置中，可以使用互电容方法来感测是否已进行触摸。在这种情况下，第一单位像素组UPG1中的每一个可用作触摸驱动电极(或TX电极)，且第二单位像素组UPG2中的每一个可用作触摸感测电极(或RX电极)。然而，实施方式不限于这种情况。
触摸电极的以上布置可以根据触摸区域的使用而改变。图16是根据实施方式的显示面板10的示意性平面图。图17是比较第一触摸区域TAR1和第二触摸区域TAR2的单位像素组的布局图。
参考图16和图17，显示面板10包括用于感测例如手指或手写笔的触摸输入的第一触摸区域TAR1和用于感测诸如指纹的精细图案的第二触摸区域TAR2。用于识别指纹的第二触摸区域TAR2也可设置在有效区域AAR中。如图16中所示，第二触摸区域TAR2通常可以与显示面板10的一个短边相邻设置，并且可以被第一触摸区域TAR1围绕，但是实施方式不限于这种情况。
例如，即使使用具有约4mm×4mm的尺寸的触摸电极，也可以在没有大误差的情况下识别通过手指或手写笔的触摸输入。然而，在指纹的情况下，由于指纹的谷部之间的距离可以是约100μm至150μm，因此使用以上尺寸的触摸电极难以识别谷部的图案。即，可能需要具有更高分辨率的较小触摸电极来识别指纹。
为此，如图17中所示，包括第一类型单位像素组UPG-T1和第二类型单位像素组UPG-T2的两种类型的单位像素组可以分别形成在显示面板10的第一触摸区域TAR1和第二触摸区域TAR2中。第二触摸区域TAR2的第二类型单位像素组UPG-T2可包括比第一触摸区域TAR1的第一类型单位像素组UPG-T1更少数量的像素PX。在所示的实施方式中，第一触摸区域TAR1的第一类型单位像素组UPG-T1包括九个像素PX，且第二触摸区域TAR2的第二类型单位像素组UPG-T2包括两个像素PX。然而，这仅是为了便于描述而使用的示例，且第一触摸区域TAR1的第一类型单位像素组UPG-T1可包括成百个至成千上万个像素PX，而第二触摸区域TAR2的第二类型单位像素组UPG-T2可包括一个像素PX或三个像素PX至四个像素PX。
第一触摸区域TAR1可以感测手指或手写笔的输入。但是第一触摸区域TAR1可能难以感测诸如指纹的精细图案。另一方面，第二触摸区域TAR2可以感测诸如指纹的精细图案，并且同时可以感测手指或手写笔的输入。即，第二触摸区域TAR2的第二类型单位像素组UPG-T2可以在指纹模式下单独地感测电容的变化。然而，在除指纹模式之外的普通触摸模式下，可以将由包括在预定面积(例如，与第一触摸区域TAR1的一个第一类型单位像素组UPG-T1相同的面积)中的多个第二类型单位像素组UPG-T2感测到的所有信号相加，以感测是否已进行触摸。
图18是显示面板10的孔区域HL的示意性放大图。图19是孔区域HL的剖视图。
参考图18，多个像素PX还可以在孔区域HL周围的部分中形成单位像素组UPG。然而，由于不能在孔区域HL中设置像素PX和电极层，因此该部分中的单位像素组UPG可具有与其他部分中的单位像素组UPG的形状不同的形状。例如，电极布线163可以设计成绕过孔区域HL。
在图中，与孔区域HL相比，像素PX相对大。然而，如果在实际应用示例中像素PX远小于孔区域HL，则孔区域HL周围的部分可以用单位像素组UPG更密集地填充。因此，可以有效地增加显示区域和触摸区域两者的面积。在一些实施方式中，孔区域HL可设置在一个单位像素组UPG中。
可以用辅助电极162或电极布线163填充没有像素PX的中间层170的、位于孔区域HL周围的空间。因此，辅助电极162或电极布线163在该部分中可具有较大的线宽，并且可以沿着孔区域HL的轮廓具有曲形图案形状或直的旁路线。如果孔区域HL周围的部分填充有辅助电极162或电极布线163，则孔区域HL周围的部分可以被遮挡。
参考图19，孔区域HL不仅穿透设置在衬底100上的绝缘层和金属层，而且还穿透衬底100。坝结构DAM设置在孔区域HL周围。坝结构DAM可包括堆叠的绝缘层，该堆叠的绝缘层包括第一绝缘层111、第二绝缘层112、第三绝缘层113和第四绝缘层114。可以去除坝结构DAM与像素PX中的每一个之间的除了衬底100之外的绝缘层和金属层，从而形成凹槽。如图5中所示的薄膜封装层190的至少一部分(例如，第一有机层192)设置在凹槽中。坝结构DAM可以防止第一有机层192溢出到孔区域HL中。还可以在孔区域HL周围的第一有机层192上设置一个或多个有机层。例如，第二有机层195设置在第一有机层192上，且第三有机层196设置在第二有机层195上。第二有机层195和第三有机层196可以填充并平坦化孔区域HL周围的倾斜台阶。
诸如相机或镜头的光学元件SEN可设置成与孔区域HL重叠。
图20是根据实施方式的显示设备2的展开图。图21是图20的显示设备2的立体图。
图20和图21的实施方式示出了显示设备2可以应用为立体显示设备。参考图20和图21，当前实施方式与图1的实施方式的不同之处在于，显示设备2包括位于不同平面中的多个显示表面DPS1至DPS5。在属于长方体形状的显示设备2中，第一显示表面DPS1可设置在显示设备2的表面上，第二显示表面DPS2和第三显示表面DPS3可设置在与显示设备2的长边相邻的侧表面上，且第四显示表面DPS4和第五显示表面DPS5可设置在与显示设备2的短边相邻的侧表面上。
在实施方式中，侧表面相接的拐角部分被切割成L形状，且在切割部分中设置有诸如相机CAM的元件。相机CAM可以放置成面向与第五显示表面DPS5相同的方向，但是实施方式不限于这种情况。在示例性实施方式中，诸如相机CAM的元件可设置在位于显示设备2的侧表面上的第二显示表面DPS2至第五显示表面DPS5中的任何一个上。
在当前实施方式中，以上参考图3至图5讨论的单位像素组UPG可例如设置在第一显示表面DPS1至第五显示表面DPS5中的至少一个上。例如，当单位像素组UPG设置在位于侧表面上的第二显示表面DPS2至第五显示表面DPS5中的至少一个上并且在这些部分中用作触摸电极时，可以使用单位像素组UPG代替诸如电源按钮和音量按钮的物理按钮。
图22是根据实施方式的显示设备2_1的立体图。例如，与图21的显示设备2相比，图22示出了相机也可设置在显示设备2_1的第一显示表面DPS1上。
参考图22，当前实施方式与图21的实施方式基本相同之处在于，显示设备2_1包括多个显示表面(例如，第一显示表面DPS1至第五显示表面DPS5)，侧表面相接的拐角部分被切割成L形状，且第一相机CAM1设置在切割部分中。然而，当前实施方式与图21的实施方式的不同之处在于，第二相机CAM2进一步被安装在第一显示表面DPS1上。第二相机CAM2可设置在第一显示表面DPS1的非显示区域中，但是也可设置在显示区域中并被像素PX围绕。在实施方式中，相机孔可以形成在第一显示表面DPS1中，且第二相机CAM2可安装在该相机孔下方。相机孔可以与以上参考图18和图19描述的孔区域HL对应。在当前实施方式的修改示例中，可以省略第一相机CAM1和/或拐角部分的L切割形状。
图23是根据实施方式的显示设备2_2的立体图。
参考图23，当前实施方式与图21的实施方式的相同之处在于，显示设备2_2包括多个显示表面(例如，第一显示表面DPS1至第五显示表面DPS5)，且侧表面相接的拐角部分被切割成L形状。然而，当前实施方式与图21的实施方式的不同之处在于，非有效区域NAR设置在L切割区域中，且相机CAM设置在该区域中。相机CAM可设置成面向与第一显示表面DPS1相同的方向。
图24是根据实施方式的显示设备3的展开图。图25是图24的显示设备3的立体图。
图24和图25的实施方式示出显示设备3除了包括第一显示表面DPS1至第五显示表面DPS5之外，还包括在除第一显示表面DPS1至第五显示表面DPS5外的表面上的第六显示表面DPS6。孔区域HL可以形成为多个，并且可以形成在第一显示表面DPS1至第六显示表面DPS6中的至少一个上。孔区域HL可用作例如显示设备3的扬声器。在示例实施方式中，孔区域HL设置在位于侧表面上的第二显示表面DPS2上，但是实施方式不限于这种情况。即使当孔区域HL形成在第二显示表面DPS2中时，如以上参考图18和19所描述的，可以将单位像素组UPG放置到孔区域HL的附近，且孔区域HL的附近的部分可以通过扩展辅助电极162或电极布线163来有效地遮挡。
图24中以虚线示出的每个部分是在组装时可以与另一个显示表面重叠的部分。在显示设备3中，还可以在该部分中设置显示表面，使得两个或更多个显示表面重叠，或者可以在该部分中设置虚拟区域并将该虚拟区域附接到对应的显示表面。
在根据实施方式的显示设备中，发光元件的第二电极可以交替地用作公共电极和触摸电极之一。例如，第二电极可具有用于像素的公共电极和用于触摸传感器的触摸电极的双重功能，但是可以同时用作两个功能之一。因此，可以简化制造工艺。另外，可以靠近显示设备中的孔区域的外围形成触摸区域，其中，显示设备在有效区域中包括孔区域。
然而，实施方式的效果不限于在本文中阐述的效果。通过参考权利要求，实施方式的以上及其他效果对于实施方式所属领域中的日常技术人员将变得更加显而易见。
在总结详细描述时，本领域技术人员将理解，可以在不实质上背离本发明的原理的情况下对优选实施方式进行许多变型和修改。因此，本发明公开的优选实施方式仅在一般性和描述性意义上使用，而不是出于限制的目的。

Claims (20)

1.一种显示设备，包括：
衬底，所述衬底包括有效区域，多个像素布置在所述有效区域中；
第一电极层，所述第一电极层设置在所述衬底上并包括第一电极和辅助电极，所述第一电极设置在每个像素中，所述辅助电极与所述第一电极间隔开并沿每个像素的边界设置；
中间层，所述中间层设置在所述第一电极上并包括发光层；以及
第二电极，所述第二电极设置在所述中间层上、设置在每个像素中且电连接到所述辅助电极；以及
其中，在所述衬底上限定多个单位像素组，所述单位像素组各自包括所述多个像素中的一个或更多个像素，属于每个单位像素组的所述像素的各个所述第二电极通过所述辅助电极彼此电连接，以及属于不同单位像素组的所述辅助电极彼此电分离。
2.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述第一电极层还包括电极布线，所述电极布线电连接到每个单位像素组的所述辅助电极。
3.根据权利要求2所述的显示设备，其中，所述单位像素组的各个所述电极布线共同地连接到公共电压提供单元，并且单独地连接到触摸驱动单元。
4.根据权利要求3所述的显示设备，还包括电源布线，所述电源布线连接到所述电极布线并且经由第一开关连接到所述公共电压提供单元，其中，每个单位像素组的所述电极布线包括第二开关，并且每个单位像素组的所述电极布线经由所述第二开关连接到所述触摸驱动单元。
5.根据权利要求4所述的显示设备，其中，所述第一开关和所述第二开关不同时接通。
6.根据权利要求1所述的显示设备，其中，在平面图中，所述中间层大于所述第一电极，以及所述第二电极大于所述中间层。
7.根据权利要求6所述的显示设备，其中，所述中间层和所述第二电极具有相同的平面形状。
8.根据权利要求6所述的显示设备，还包括钝化层，所述钝化层设置在每个像素中并覆盖所述第二电极。
9.根据权利要求1所述的显示设备，还包括堤层，所述堤层设置在所述衬底上并且围绕并暴露每个像素中的所述第一电极。
10.根据权利要求9所述的显示设备，其中，所述堤层设置在所述第一电极与所述辅助电极之间。
11.根据权利要求10所述的显示设备，其中，所述辅助电极具有格子图案。
12.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述衬底包括第一触摸区域和第二触摸区域，其中，包括在所述第二触摸区域的每个单位像素组中的像素的数量小于包括在所述第一触摸区域的每个单位像素组中的像素的数量。
13.根据权利要求12所述的显示设备，其中，所述第一触摸区域是用于识别手指或手写笔的触摸的区域，以及所述第二触摸区域是指纹识别区域。
14.根据权利要求1所述的显示设备，还包括设置在所述有效区域中的孔区域，其中，所述孔区域周围设置有所述单位像素组。
15.根据权利要求1所述的显示设备，包括位于不同平面中的多个显示表面，其中，所述单位像素组设置在所述显示表面中的至少一个上。
16.一种显示设备，包括：
衬底，所述衬底包括有效区域，多个像素布置在所述有效区域中；
发光元件，所述发光元件设置在所述衬底上、设置在每个像素中并包括第一电极、中间层和第二电极；以及
多个触摸电极，设置在所述像素上方，
其中，针对每个像素，所述第一电极、所述中间层和所述第二电极被图案化成分离，以及所述多个触摸电极中的每一个包括多个第二电极。
17.根据权利要求16所述的显示设备，其中，所述多个触摸电极中的每一个还包括辅助电极，所述辅助电极电连接彼此分离的所述第二电极。
18.根据权利要求17所述的显示设备，其中，所述多个触摸电极中的每一个还包括电极布线，所述电极布线连接到所述辅助电极。
19.根据权利要求18所述的显示设备，其中，所述辅助电极和所述电极布线设置在与所述第一电极相同的层上。
20.根据权利要求19所述的显示设备，其中，所述第二电极接收公共电压和触摸信号中的任一个。
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