CN111584754B - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示面板及其制备方法、显示装置。显示面板具有多个子像素，包括基板、设于基板的像素界定层、发光器件和彩膜层，像素界定层包括M层，M为大于或等于2的正整数，第m层像素界定层覆盖于第m‑1层像素界定层的表面，第m‑1层像素界定层的折射率n_m‑1大于第m层像素界定层的折射率n_m；其中，2≤m≤M；当发光层射入像素界定层的光线在相邻像素界定层界面的入射角大于临界角时发生全反射，从而被限制在像素界定层内，减少了进入相邻子像素的光线，降低了光线串扰、视角差、色分离等问题的发生，提高了显示效果。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

OLED显示面板已经应广泛应用于移动手机等具有显示功能的电子产品。

目前提出的技术中，将彩膜层用于OLED显示面板以实现全彩化，与传统的RGB三原色独立像素发光相比，色彩表现力和对比度都非常出色。例如，WOLED显示技术采用白色发光与彩膜层结合的技术实现全彩色显示，三个白色发光OLED器件加上RGB三原色的彩膜层，进而形成视觉上的三原色发光，由此使得白色光更均匀，且亮度更高、寿命更长。再例如，QD-OLED显示技术中，将OLED发光材料用作背光，以量子点(QD)作为彩膜层，背光发出的光线经过量子点彩膜层转化后实现全彩化，该结构发出的光亮度更高色域更广。

但是由于OLED发光器件的发光层和彩膜层之间具有一定的距离，该距离较大时，如图1所示，发光层发出的侧向光可能会经过像素界定层进入相邻的子像素，从而被相邻子像素的彩膜层吸收或转换，导致发生光学串扰、视角差、色分离等问题，影响显示效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，解决现有技术存在的一种或多种问题。

根据本发明的一个方面，提供一种显示面板，具有多个子像素，所述显示面板包括：

基板；

像素界定层，设于所述基板，包括对应于各所述子像素的开口区；所述像素界定层包括M层，所述M层像素界定层中，第m层像素界定层覆盖于第m-1层像素界定层的表面；第m-1层像素界定层的折射率n_m-1大于第m层像素界定层的折射率n_m，其中，M为大于或等于2的正整数，2≤m≤M；

发光层，设于所述开口区，所述发光层与所述第M层像素界定层的侧壁接触，所述发光层发出的光线包括射入所述像素界定层的第一光线，在所述第m-1层像素界定层内传播的所述第一光线在第m-1层像素界定层界和第m层像素界定层界面的入射角大于临界角时，所述第一光线能够在所述第m-1层像素界定层内发生全反射；

彩膜层，设于所述发光层背离所述基板的一侧。

在本发明的一种示例性实施例中，所述M＝3，所述第一像素界定层具有第一折射率n₁，所述第二像素界定层具有第二折射率n₂，所述第三像素界定层具有第三折射率n₃；其中，n₁＞n₂＞n₃。

在本发明的一种示例性实施例中，所述发光层的折射率为n，且n₃≥n。

在本发明的一种示例性实施例中，所述第一像素界定层的材料为二氧化钛，所述第二像素界定层的材料为氮氧化硅，所述第三像素界定层的材料为二氧化硅。

在本发明的一种示例性实施例中，所述多个子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，各所述发光器件均为蓝色有机电致发光器件，所述彩膜层包括设置于所述红色子像素的红色量子点层和设置于所述绿色子像素的绿色量子点层。

在本发明的一种示例性实施例中，所述多个子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，各所述发光器件均为白色有机电致发光器件，所述彩膜层包括设置于所述红色子像素的红色滤光层、设置于所述绿色子像素的绿色滤光层和设置于所述蓝色子像素的蓝色滤光层。

在本发明的一种示例性实施例中，所述彩膜层设于所述开口区内。

根据本发明的另一个方面，提供一种显示面板的制备方法，包括：

提供一基板；

在所述基板上形成像素界定层，所述像素界定层包括多个对应于各子像素的开口区；所述像素界定层包括M层，所述M层像素界定层中，第m层像素界定层覆盖于第m-1层像素界定层的表面；第m-1层像素界定层的折射率n_m-1大于第m层像素界定层的折射率n_m，其中，M为大于或等于2的正整数，2≤m≤M；

在所述多个开口区内形成发光层，且使所述发光层与所述第M层像素界定层的侧壁接触，所述发光层发出的光线包括射入所述像素界定层的第一光线，在所述第m-1层像素界定层内传播的所述第一光线在第m-1层像素界定层界和第m层像素界定层界面的入射角大于临界角时，所述第一光线能够在所述第m-1层像素界定层内发生全反射；

在所述发光层背离所述基板的一侧形成彩膜层。

在本发明的一种示例性实施例中，所述M＝3，所述第一像素界定层具有第一折射率n₁，所述第二像素界定层具有第二折射率n₂，所述第三像素界定层具有第三折射率n₃；其中，n₁＞n₂＞n₃；

形成所述像素界定层时，先计算所述像素界定层侧壁与所述基板之间的坡度角

然后根据所述坡度角

形成所述像素界定层；其中，计算所述坡度角

的方法包括：

定义相邻子像素之间的距离为L，所述发光层与彩膜层的间距为H，定义造成所述光学串扰的所述第一光线与所述面板厚度方向的最小夹角为λout，得到公式

定义所述发光层的折射率为n，且n₃＝n，所述第一光线射入第三像素界定层侧壁形成的入射角为θ₁，所述像素界定层侧壁与所述基板之间具有坡度角

得到公式

所述

λout、θ₁满足公式

根据公式(1)-(3)计算得到所述坡度角

根据本发明的再一个方面，提供一种显示装置，包括以上所述的显示面板。

本发明采用特定的像素界定层材料，使其折射率N大于发光层的折射率n，由发光层侧向发射的第一光线可以射入像素界定层，在接触到像素界定层和发光层的界面时，当第一光线在该界面的入射角大于临界角时，第一光线便会在像素界定层内发生全反射。因此，该显示面板的结构可以将发光层的部分侧向光线限制在像素界定层内，减少了进入相邻子像素的光线，降低了光线串扰、视角差、色分离等问题的发生，提高了显示效果。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为相关技术中显示面板发生光线串扰的示意图；

图2为本发明实施方式中显示面板的一种结构示意图；

图3为光线在图2所示的像素界定层结构中的光路示意图；

图4为本发明实施方式中一种WOLED显示面板结构示意图；

图5为本发明实施方式中一种QD-OLED显示面板结构示意图；

图6为本发明实施方式中显示面板的制备方法流程图。

图中：100、基板；110、像素界定层；111、第一像素界定层；112、第二像素界定层；113、第三像素界定层；120、发光器件；121、发光层；122、阳极层；123、阴极层；130、彩膜层；131、红色滤光层；132、绿色滤光层；133、蓝色滤光层；134、红色量子点层；135、绿色量子点层。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。

本发明实施方式中提供了一种显示面板，具有多个子像素，参考图2-5，该显示面板包括基板100和设于基板100上的像素界定层110和发光层121，还包括设于发光层121背离基板100的一侧的彩膜层。像素界定层110具有对应于各子像素的多个开口区，像素界定层110包括M层；M层像素界定层中，第m层像素界定层覆盖于第m-1层像素界定层的表面；第m-1层像素界定层的折射率n_m-1大于第m层像素界定层的折射率n_m；其中，M为大于或等于2的正整数，2≤m≤M。发光层121设于开口区，发光层121与第M层像素界定层的侧壁接触，发光层121发出的光线包括射入像素界定层的第一光线，在第m-1层像素界定层内传播的第一光线在第m-1层像素界定层界和第m层像素界定层界面的入射角大于临界角时，第一光线能够在第m-1层像素界定层内发生全反射。

光在传播过程中，光从光密介质射入光疏介质，当入射角增大到某一角度，使折射角达到90°时，折射光完全消失，只剩下反射光，这种现象叫做全反射。发生全反射的条件是：(1)光从光密介质射入光疏介质；(2)入射角大于或等于临界角。

基于全反射原理，本发明采用特定的像素界定层材料并将其制备多多层结构，使内层折射率N大于外层折射率n，由发光层侧向发射的第一光线射入像素界定层最内层后，第一光线在最内层的像素界定层内传播，在接触到相邻像素界定层的界面时，相当于由光密介质进入光疏介质。当第一光线在该界面的入射角大于临界角时，第一光线便会在像素界定层内发生全反射。因此，该显示面板的结构可以将发光层的部分侧向光线被限制在像素界定层内，减少了进入相邻子像素的光线，降低了光线串扰等影响。

下面对本发明实施方式的显示面板进行详细说明：

图2示出了像素界定层110为三层结构时的面板结构示意图，图中仅示例性地示出了一个子像素，箭头表示光线传播路径。发光层121发出的光包括垂直向上射出的光线和向左右两侧射入像素界定层110的第一光线。在本示例性实施方式中，像素界定层110包括第一像素界定层111、第二像素界定层112和第三像素界定层113，三个像素界定层110在基板100上由下至上层叠设置，即第一像素界定层111设置于基板100上，第二像素界定层112覆盖于第一像素界定层111表面，第三像素界定层113覆盖于第二像素界定层112表面，第三像素界定层113的侧壁与发光层121接触。其中，第一像素界定层111具有第一折射率n₁，第二像素界定层112具有第二折射率n₂，第三像素界定层113具有第三折射率n₃，其中，n₁＞n₂＞n₃。

发光层121侧向发出的第一光线首先进入第三像素界定层113，由于n₂＞n₃，第一光线发生折射而进入第二像素界定层112，由于n₁＞n₂，第一光线再次发生折射而进入第一像素界定层111。第一光线在第一像素界定层111内传播，当遇到第一像素界定层111和第二像素界定层112的界面时，由于n₁＞n₂，当入射角大于临界角时，第一光线被限制在第一像素界定层111；如果入射角小于临界角，那么第一光线还可能再经过折射进入第二像素界定层112，但由于n₂＞n₃，当第一光线在第二像素界定层112和第三像素界定层113的界面上入射角大于临界角时，会在第二像素界定层112发生全反射现象，那么第一光线也会再次射入第一像素界定层111内。同理，当第一光线在第二像素界定层112内传播时，如果入射角小于临界角，那么第一光线还可能再经过折射进入第三像素界定层113，因此，只有少数第一光线会穿过三层像素界定层110而进入相邻子像素，此时对相邻子像素的影响已经大大减小。

在一种示例性实施方式中，发光层的折射率为n，且n₃≥n。由此使得发光层侧向发出的光线可以顺利的进入第三像素界定层113。同时，如果n₃＞n，当第一光线在第三像素界定层113和发光层121的界面上入射角大于临界角时，也会在第三像素界定层113发生全反射现象，那么第一光线也会再次射入第二像素界定层112、第一像素界定层111内，进一步减少了进入相邻子像素的第一光线。

当然，在其他示例性实施方式中，n₃也可以小于n，那么发光层发出的侧向光要想射入像素界定层，属于光密介质进入光疏介质，这种情况下满足一定的入射角的第一光线仍然可以射入像素界定层，也能够在多层像素界定层内发生全反射而被限制在像素界定层内的第一光线。

像素界定层110各层的材料决定了各层的折射率，进而影响全反射的发生。在本示例性实施方式中，第一像素界定层111的材料为二氧化钛，其折射率n₁＝2.2，第二像素界定层112的材料为氮氧化硅，其折射率n₂＝1.74，第三像素界定层113的材料为二氧化硅，其折射率n₃＝1.5。这三种材料形成的三层像素界定层110结构的折射率由外层向内层逐渐增大，满足对折射率的要求。同时这三种材料具有良好的性能，均可用于制作像素界定层110。

在其他实施方式中，像素界定层110的层数可以根据需要进行调整。可以想到的是，层数越多，在相邻其折射率界面间发生全反射的次数越多，对于第一光线的限制效果会越好，能够越理想的防止第一光线穿过整个像素界定层110进入相邻子像素。但是层数越多，对于材料的选择和工艺复杂度都增加了难度。因此在实际加工工艺中，可根据需求对像素界定层110的层数进行选择。

除了折射率之外，像素界定层110各层的坡度角决定了发光层侧向发出的第一光线进入像素界定层的入射角，进而决定第一光线在像素界定层110内是否能发生全反射。因此设置合适的坡度角可以使更多的第一光线在像素界定层110内发生全反射。坡度角的计算方式如下。

图3示出了第一光线在三层像素界定层110内传播的光路，在本示例性实施方式中，第三像素界定层113的折射率n₃＝n，也就是说，发光层121向两侧发出的光束进入第三像素界定层113时不发生折射。假定三层像素界定层110均为等腰梯形且各角度均一致，参考图1定义以下参数：假设相邻子像素之间的距离为L，发光层121和彩膜层130之间的距离为H，通常L和H为某一固定值。发光层发出的大部分光线是竖直向上的，而两侧的光线则与竖直方向具有一夹角，随着发射光与竖直方向角度越来越大，逐渐有部分光线会进入相邻的子像素造成相邻之间像素光学串扰。在发光层发出的光线对称的情况下，定义发光层侧向发出的进入相邻子像素的光线造成光学串扰的第一光线中与竖直方向的最小夹角为λout，也就是说，从中间向两侧开始算，以第一束发光造成光学串扰的光线与竖直方向的夹角作为λout，则有公式

定义像素界定层110侧壁与基板100之间的坡度角为

像素界定层110上方顶角角度为β，可知

(公式1-1)。发光层121向两侧发出的第一光线射入第三像素界定层113侧壁形成的入射角度为θ₁，即第一光线射入第二像素界定层112侧壁形成的入射角度也为θ₁，第一光线在第三像素界定层113和第二像素界定层112的折射角为θ₂，第一光线射入第一像素界定层111的入射角为θ₂，第一光线在第二像素界定层112和第一像素界定层111的折射角为θ₃，第一光线在第一像素界定层111内传播时在第二像素界定层112界面的入射光角度为α。

假设第一光线在第一像素界定层111内传播时要发生全反射的临界角度为α_critial，那么需要α≥α_critial，根据折射率关系可确定

(公式1-2)。另外，由图中几何关系可以得知，α＝β-θ₃，要使α≥α_critial，则β-θ₃≥α_critial，得到β≥α_critial+θ₃(公式1-3)。再由折射率的公式有

可得到

(公式1-4)。根据公式(1-1)-公式(1-4)，可以得到公式

同时，根据几何关系，坡度角

λout、入射角θ₁满足公式

因此，由公式(1)-(3)即可计算得到坡度角

需满足的条件。

根据上述公式，坡度角

受到第一束引起光线串扰的第一光线的角度的影响，因此在设置像素界定层形状时，可以根据需要限制的第一光线的角度来计算像素界定层110的坡度。

对于发光层121而言，其侧面发出的第一光线射入相邻子像素的比例受到相邻子像素间距、发光层121和彩膜层130间距的影响。当发光层121和彩膜层130间距越小时，即发光层121和彩膜层130间距越近时，能够射入像素界定层110的第一光线就越少，也能够减少相邻子像素的光学串扰。因此，除了利用多层像素界定层110全反射光学效应之外还可以通过降低发光层121和彩膜层130之间的间距来实现。具体地，可以将原本设置在玻璃盖板上的彩膜层130改为通过刻蚀等方式直接设置在像素界定层110的开口区内，由此取消了对盒工艺，降低了彩膜层130和发光层121的间距，能够更有效的减少光学串扰。

上述像素界定层110结构可以用于多种具有彩膜层130结构的OLED显示面板中，例如WOLED显示面板或QD-OLED显示面板。

以WOLED显示面板为例，图4所示为一种WOLED显示面板的一个像素单元的截面结构示意图，该像素单元划分有红、绿、蓝三个子像素区域，其包括一基板100，基板100上设置有TFT(薄膜晶体管)阵列。TFT可以是顶栅或底栅结构，图中简要示出了顶栅型驱动晶体管的有源层、栅极层、源漏层(包括源极和漏极)和介电层，实际上驱动晶体管还可以包括钝化层、平坦层等其他膜层，此处不再赘述。TFT阵列上方设置有像素界定层110，像素界定层110定义各子像素的开口区，该示例性实施方式中，像素界定层110包含三层。开口区用于设置白光OLED发光器件，图中简要示出了各OLED发光器件120的阳极层122、发光层121、阴极层123。阳极层122与TFT的漏极连接，以便在TFT的驱动下发光。发光层121位于开口区内，本示例性实施方式中，发光层121材料为白光OLED发光材料。阴极层123覆盖于发光层121上，通常显示面板各子像素的阴极层123为整面制作的膜层，以便简化工艺。图中省略了电子传输层、空穴传输层等膜层，本领域技术人员可以理解白光OLED具体膜层结构。

需要说明的是，图中虽然各子像素以独立的发光层结构为例进行说明，但本领域技术人员可以理解的是，由于发光层均为白光发光材料，因此整个面板的发光层可以为整面结构，由此简化工艺。

在一种示例性实施方式中，彩膜层130包括设置于红色子像素的红色滤光层131、设置于绿色子像素的绿色滤光层132和设置于蓝色子像素的蓝色滤光层133，分别用于对各子像素的白光进行过滤，使其分别透过红、蓝、绿三种颜色。各滤光层可以直接通过刻蚀或喷墨打印等方式形成在开口区内，即白光OLED发光器件背离基板100的一侧，也可以实现对白光的滤过。当然该方式还需要进一步在彩膜层130上设置薄膜封装层，以保护下方各膜层。

以QD-OLED显示面板为例，图5所示为一种QD-OLED显示面板的一个像素单元的截面结构示意图，其基板100、TFT阵列、OLED发光器件120的结构均与WOLED显示面板相似。区别在于，OLED发光器件120为蓝光OLED发光器件，彩膜层130是量子点彩膜层，且量子点彩膜层仅设置在红色和绿色子像素中，即彩膜层130包括设置于红色子像素的红色量子点层134和设置于绿色子像素的绿色量子点层135，蓝光OLED发光器件发出的蓝光经量子点彩膜层转化为红色或绿色。在该结构中，蓝色子像素不需要设置彩膜，蓝光可直接透过上方的透明膜层射出，显示蓝色。各量子点层可以直接通过喷墨打印等方式形成在开口区内，即蓝光OLED发光器件120背离基板100的一侧。当然该方式还需要进一步在量子点层上设置薄膜封装层，以保护下方各膜层。

在其他实施方式中，WOLED显示面板或QD-OLED显示面板还可以包括一上基板(图中未示出)，彩膜层130设置在上基板上，通过刻蚀或喷墨打印等方式形成，然后将上与基板100对盒，形成整体面板结构。

与基板100对盒封装的结构相比，将彩膜层130设置在开口区内，使得发光层121与彩膜层130的距离更近，可以减少发光层121侧面射入相邻子像素的光线(即第一光线)，能够有效改善光学串扰的问题。

本发明实施方式还提供上述显示面板的制备方法，参考图6，该制备方法包括：

步骤S100，提供一基板100；

步骤S200，在基板100上形成像素界定层110，像素界定层110包括多个对应于各子像素的开口区，像素界定层包括M层，M层像素界定层中，第m层像素界定层覆盖于第m-1层像素界定层的表面；第m-1层像素界定层的折射率n_m-1大于第m层像素界定层的折射率n_m；其中，M为大于或等于2的正整数，2≤m≤M。

步骤S300，在多个开口区内形成发光层121，且使121发光层与第M层像素界定层的侧壁接触，发光层121发出的光线包括射入像素界定层110的第一光线，在第m-1层像素界定层内传播的第一光线在第m-1层像素界定层界和第m层像素界定层界面的入射角大于临界角时，第一光线能够在第m-1层像素界定层内发生全反射；

步骤S400，在发光层121背离基板100的一侧形成彩膜层130。

在上述步骤S200中，像素界定层110通常采用图案化工艺形成。当像素界定层110包含多层结构时，需进行多步上述工艺。当采用前述的二氧化钛、氮氧化硅、二氧化硅等材料时，可通过光刻工艺进行图案化，当采用光敏材料时可采用曝光显影的方式进行图案化。

由于像素界定层110的坡度角对第一光线的限制有影响，需要先采用前述方式计算坡度角φ。然后在图案化过程中，可以通过控制开口区面积、显影液性质、烘烤温度等常规工艺调节其坡度角，具体过程此处不再赘述。

上述步骤S300中省略了发光器件完整的制备过程，本领域技术人员知晓，应当如何实现。除了上述步骤，还可以进一步包括在发光器件120表面形成封装层等工艺，此处不再赘述。

本实施方式还提供一种显示装置，该显示装置包括上述实施方式的显示面板。由于该显示装置具有上述显示面板，因此具有相同的有益效果，本发明在此不再赘述。

需要说明的是，本发明对于显示装置的适用不做具体限制，其可以是电视机、笔记本电脑、平板电脑、可穿戴显示设备、手机、车载显示、导航、电子书、数码相框、广告灯箱等任何具有显示功能的产品或部件。

虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。

用语“一个”、“一”、“该”、“所述”和“至少一个”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由所附的权利要求指出。

Claims (10)

1.一种显示面板，具有多个子像素，其特征在于，所述显示面板包括：

基板；

像素界定层，设于所述基板，包括对应于各所述子像素的开口区；所述像素界定层包括M层，所述M层像素界定层中，第m层像素界定层包覆第m-1层像素界定层的表面；第m-1层像素界定层的折射率n_m-1大于第m层像素界定层的折射率n_m，其中，M为大于或等于2的正整数，2≤m≤M；

发光层，设于所述开口区，所述发光层与所述第M层像素界定层的侧壁接触，所述发光层发出的光线包括射入所述像素界定层的第一光线，在所述第m-1层像素界定层内传播的所述第一光线在第m-1层像素界定层界和第m层像素界定层界面的入射角大于临界角时，所述第一光线能够在所述第m-1层像素界定层内发生全反射；

彩膜层，设于所述发光层背离所述基板的一侧。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述M＝3，所述第一像素界定层具有第一折射率n₁，所述第二像素界定层具有第二折射率n₂，所述第三像素界定层具有第三折射率n₃；其中，n₁＞n₂＞n₃。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述发光层的折射率为n，且n₃≥n。

4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素界定层的材料为二氧化钛，所述第二像素界定层的材料为氮氧化硅，所述第三像素界定层的材料为二氧化硅。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述多个子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素；所述发光层包括设于各所述子像素的蓝色有机发光层，所述彩膜层包括设置于所述红色子像素的红色量子点层和设置于所述绿色子像素的绿色量子点层。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述多个子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，所述发光层包括设于各所述子像素的白色有机发光层，所述彩膜层包括设置于所述红色子像素的红色滤光层、设置于所述绿色子像素的绿色滤光层和设置于所述蓝色子像素的蓝色滤光层。

7.根据权利要求5或6所述的显示面板，其特征在于，所述彩膜层设于所述开口区内。

8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供一基板；

在所述基板上形成像素界定层，所述像素界定层包括多个对应于各子像素的开口区；所述像素界定层包括M层，所述M层像素界定层中，第m层像素界定层包覆第m-1层像素界定层的表面；第m-1层像素界定层的折射率n_m-1大于第m层像素界定层的折射率n_m，其中，M为大于或等于2的正整数，2≤m≤M；

在所述多个开口区内形成发光层，且使所述发光层与所述第M层像素界定层的侧壁接触，所述发光层发出的光线包括射入所述像素界定层的第一光线，在所述第m-1层像素界定层内传播的所述第一光线在第m-1层像素界定层界和第m层像素界定层界面的入射角大于临界角时，所述第一光线能够在所述第m-1层像素界定层内发生全反射；

在所述发光层背离所述基板的一侧形成彩膜层。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述M＝3，所述第一像素界定层具有第一折射率n₁，所述第二像素界定层具有第二折射率n₂，所述第三像素界定层具有第三折射率n₃；其中，n₁＞n₂＞n₃；

形成所述像素界定层时，先计算所述像素界定层侧壁与所述基板之间的坡度角

然后根据所述坡度角

形成所述像素界定层；其中，计算所述坡度角

的方法包括：

定义相邻子像素之间的距离为L，所述发光层与彩膜层的间距为H，定义造成光学串扰的所述第一光线与所述面板厚度方向的最小夹角为λout，得到公式

定义所述发光层的折射率为n，且n₃＝n，所述第一光线射入第三像素界定层侧壁形成的入射角为θ₁，所述像素界定层侧壁与所述基板之间具有坡度角

得到公式

所述

λout、θ₁满足公式

根据公式(1)-(3)计算得到所述坡度角

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7中任一项所述的显示面板。

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