CN111549316A - 蒸镀用掩膜版 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了蒸镀用掩膜版。蒸镀用掩膜版包括多个预定区域，预定区域包括开口和遮挡区，遮挡区包括第一区、第二区和第三区，第一区具有第一表面和第二表面，第二区具有第三表面和第四表面，第三区具有第五表面和第六表面，第一表面、第三表面和第五表面位于掩膜版的同一侧，第二表面、第四表面和第六表面位于掩膜版的同一侧，第二区的厚度大于第一区的厚度和第三区的厚度，第一表面与第三表面齐平，第六表面所在的平面位于第三表面所在的平面和第四表面所在的平面之间。由此，减轻了掩膜版的整体重量，从而可以减轻掩膜版在蒸镀过程中的下垂量，进而提高掩膜版的位置精度，减小阴影，提高蒸镀品质，更有利于实现显示屏的窄边框的设计。

Description

蒸镀用掩膜版
技术领域
本发明涉及掩膜版技术领域，具体的，涉及蒸镀用掩膜版。
背景技术
蒸镀HTL(空穴传输层)、ETL(电子传输层)、Cathode(阴极)等公共功能层的金属掩膜版称为通用金属掩膜版(Common Metal Mask)，各功能层通过通用金属掩膜版依次蒸镀沉积到基板上。通用金属掩膜版因自重影响有一定下垂量，常用手机类等大显示屏用的金属掩膜版下垂量较小，穿戴类(比如手表、手环等小显示屏)小显示屏用的掩膜版的下垂量较大，图3所示为现有通用金属掩膜版的下垂量趋势。一般而言，7英寸的手机类用的通用金属掩膜版的cell开口域面积约占整张掩膜版面积78％，而1.3英寸的穿戴类显示屏用的掩膜版开口面积只占整张掩膜版面积的50％，所以，同样厚度的掩膜版原材情况下，穿戴类显示屏用的通用金属掩膜版的下垂量会更大。下垂量过大会影响掩膜版的位置精度，增加Shadow(阴影，是指蒸镀材料通过蒸镀掩膜版蒸镀时，在cell开口边缘产生的膜厚不均匀区域(膜层厚度为膜层正常厚度的5％～95％))，降低蒸镀的质量。
因此，关于蒸镀用掩膜版的研究有待深入。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种蒸镀用掩膜版，该掩膜版在蒸镀时的下垂量较小，提升掩膜版的位置精度，或可以有效减小阴影。
在本发明的一个方面，本发明提供了一种蒸镀用掩膜版。根据本发明的实施例，该蒸镀用掩膜版包括多个预定区域，每个所述预定区域包括开口和围绕所述开口的遮挡区，在远离所述开口的方向上，所述遮挡区包括第一区、第二区和第三区，所述第二区在水平方向上分别连接所述第一区和所述第三区，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第一区具有相对设置的第一表面和第二表面，所述第二区具有相对设置的第三表面和第四表面，所述第三区具有相对设置的第五表面和第六表面，所述第一表面、所述第三表面和所述第五表面位于所述掩膜版的同一侧，且在蒸镀时远离基板设置，所述第二表面、所述第四表面和所述第六表面位于所述掩膜版的同一侧，且在蒸镀时靠近基板设置，其中，所述第二区的厚度大于所述第一区的厚度，且大于所述第三区的厚度，所述第一表面与所述第三表面齐平，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第六表面所在的平面位于所述第三表面所在的平面和所述第四表面所在的平面之间。由此，相对于第二区的厚度，减薄了第三区的厚度，进而减轻了掩膜版的整体重量，从而可以减轻掩膜版在蒸镀过程中的下垂量，进而提高掩膜版的位置精度，减小阴影，提高蒸镀品质，更有利于实现显示屏的窄边框的设计。
根据本发明的实施例，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第五表面所在的平面位于所述第三表面所在的平面和所述第四表面所在的平面之间。
根据本发明的实施例，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第一表面所在的平面位于所述第三表面所在的平面和所述第四表面所在的平面之间。
根据本发明的实施例，所述第四表面和所述第六表面之间的垂直间距为所述第二区厚度的1/5～1/3。
根据本发明的实施例，所述第三表面和所述第五表面之间的垂直间距为所述第二区厚度的1/10～1/4。
根据本发明的实施例，所述第三表面和所述第一表面之间的垂直间距为所述第二区厚度的1/10～1/4。
根据本发明的实施例，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第六表面在所述第五表面上的正投影与所述第五表面完全重叠。
根据本发明的实施例，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第一表面在所述第二表面上的正投影与所述第二表面完全重叠。
根据本发明的实施例，所述第二区的厚度为100～150微米。
根据本发明的实施例，所述第二区的宽度大于等于1mm。
根据本发明的实施例，所述第五表面为粗糙表面。
根据本发明的实施例，所述掩膜版使用时，所述第二表面在基板上的正投影覆盖所述基板上的第一挡墙、第二挡墙和防裂挡墙，其中，所述基板包括显示区和边框区，在远离所述显示区的方向上，所述边框区中依次设有所述第一挡墙、所述第二挡墙和所述防裂挡墙。
附图说明
图1是本发明一个实施例中掩膜版的结构示意图；
图2是图1中沿AA’的截面图；
图3是本发明另一个实施例中掩膜版的结构示意图；
图4是本发明又一个实施例中掩膜版的结构示意图；
图5是本发明又一个实施例中掩膜版与基板对应设置的结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。
在本发明的一个方面，本发明提供了一种蒸镀用掩膜版。根据本发明的实施例，参照图1和图2，该蒸镀用掩膜版100包括多个预定区域110，每个预定区域包括开口111和围绕开口的遮挡区112，在远离开口111的方向X上，遮挡区112包括第一区120、第二区130和第三区140，第二区130在水平方向上分别连接所述第一区120和第三区140，在掩膜版100的厚度方向Y上，第一区120具有相对设置的第一表面121和第二表面122，第二区130具有相对设置的第三表面131和第四表面132，第三区140具有相对设置的第五表面141和第六表面142，第一表面121、第三表面131、第五表面141位于掩膜版100的同一侧，且在蒸镀时远离基板设置(即蒸镀时靠近蒸发源设置)，第二表面122、第四表面132和第六表面142位于掩膜版100的同一侧，且在蒸镀时远离靠近设置(即蒸镀时远离蒸发源设置)，其中，第二区130的厚度大于第一区120的厚度，且大于第三区140的厚度，第一表面121与第三表面131齐平，在掩膜版100的厚度方向Y上，第六表面142所在的平面位于第三表面131所在的平面和第四表面132所在的平面之间。由此，相对于第二区的厚度，减薄了第三区的厚度，进而减轻了掩膜版的整体重量，从而可以减轻掩膜版在蒸镀过程中的下垂量，进而提高掩膜版的位置精度，减小阴影，提高蒸镀品质，更有利于实现显示屏的窄边框的设计；而且，在掩膜版蒸镀的过程中第二区用于支撑与基板(即在基板上蒸镀OLED器件的公共功能层)的接触，保证蒸镀过程中的稳定性。
目前的蒸镀用掩膜版中，第二区的厚度与第三区的厚度一致，由于其自身的重量较重，导致其在蒸镀过程中下垂量较大，导致阴影较大，影响掩膜版的位置精度和蒸镀质量。在本发明中将第三区的厚度减薄，减轻掩膜版的自身重量，进而减小掩膜版的下垂量，提升掩膜版的位置精度，且可以进一步提升蒸镀质量。
其中，本发明的蒸镀用掩膜版可以用于蒸镀OLED器件中的空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层和阴极等公共功能层。
根据本发明的实施例，第二区的厚度a为100～150微米，比如100微米、105微米、110微米、115微米、120微米、125微米、130微米、135微米、140微米、145微米或150微米。由此，上述厚度范围内的第二区，可以有效保证掩膜版的使用性能和蒸镀质量。
根据本发明的实施例，第四表面132和第六表面142之间的垂直间距为第二区130厚度a的1/5～1/3(比如1/5、1/4.5、1/4、1/3.5、1/3)。由此，既可以有效减轻掩膜版的重量，而且同时保证掩膜版良好的使用性能；若第四表面132和第六表面142之间的垂直间距大于1/3，则在对掩膜版进行刻蚀减薄时容易导致掩膜版刻穿，影响掩膜版的使用。
根据本发明的实施例，参照图3，在掩膜版的厚度方向Y上，第五表面141所在的平面位于第三表面131所在的平面和第四表面132所在的平面之间。如此，进一步将第三区的厚度减薄，减轻掩膜版的自身重量，进而降低掩膜版在张网时的下垂量，进而减小阴影，提升掩膜版的位置精度和蒸镀品质。
根据本发明的实施例，第三表面131和第五表面141之间的垂直间距为第二区130厚度a的1/10～1/4(1/10、1/9、1/8、1/7、1/6、1/5、1/4)。由此，不仅可以进一步减小掩膜版的自身重量，而且同时保证掩膜版良好的使用性能；若第三表面131和第五表面141之间的垂直间距大于1/4，则容易导致掩膜版的下垂部分会呈波形抖动，影响掩膜版的正常使用。
根据本发明的实施例，参照图3，在掩膜版的厚度方向上，第六表面142在第五表面141上的正投影与第五表面141完全重叠。由此，可以有效保证掩膜版结构的稳定性，进而保证蒸镀的质量。
根据本发明的实施例，第五表面为粗糙表面。由此，第五表面的比表面积较大，在蒸镀时，第五表面可以吸附更多的蒸镀材料(蒸镀时会有蒸镀材料吸附在掩膜版远离基板的表面上)，进而可以减少对掩膜版的清洗次数，增加掩膜版的使用频率和使用寿命。其中，粗糙表面的粗糙度没有特别的限制要求，本领域技术人员可以根据掩膜版等实际情况灵活设计。
根据本发明的实施例，参照图4，在掩膜版的厚度方向Y上，第一表面121所在的平面位于第三表面131所在的平面和第四表面132所在的平面之间。如此，进一步将第一区的厚度减薄，减轻掩膜版的自身重量，进而降低掩膜版在张网时的下垂量，进而减小阴影，提升掩膜版的位置精度和蒸镀品质。
根据本发明的实施例，第三表面131和第一表面121之间的垂直间距为第二区厚度a的1/10～1/4(比如1/10、1/9、1/8、1/7、1/6、1/5、1/4)。由此，不仅可以进一步减小掩膜版的自身重量，而且同时保证掩膜版良好的使用性能；若第三表面131和第一表面121之间的垂直间距大于1/4，则容易导致掩膜版的下垂部分会呈波形抖动，影响掩膜版的正常使用。
根据本发明的实施例，参照图4，在掩膜版的厚度方向Y上，第一表面121在第二表面122上的正投影与第二表面122完全重叠。由此，可以有效保证掩膜版结构的稳定性，进而保证蒸镀的质量。
其中，第二表面122和第四表面132之间的垂直间距为第二区厚度a的1/5～1/3(比如1/5、1/4.5、1/4、1/3.5、1/3)。由此，既可以有效减轻掩膜版的重量，而且同时保证掩膜版良好的使用性能。
根据本发明的实施例，第二区的宽度c大于等于1mm，比如1mm、1.5mm、2mm、2.5mm、3mm、3.5mm、4mm等。由此，在掩膜版蒸镀的过程中可有效保证第二区支撑基板的稳定性；若小于1mm，则会导致对基板的支撑效果相对较差，影响蒸镀过程中的稳定性。
其中，第一区的宽度、第二区的宽度c、第三区的宽度以及开口的具体大小本领域技术人员可以根据显示面板边框区的具体尺寸、显示面板的形状(比如圆形或方形)、蒸镀时多个显示面板的排布等实际情况灵活设计，只要满足前面对第一区、第二区和第三区的限定要求、达到良好的蒸镀效果即可。
根据本发明的实施例，参照图5，掩膜版使用时，第二表面122在基板200上的正投影覆盖基板200上的第一挡墙210、第二挡墙220和防裂挡墙230，其中，基板200包括显示区201和边框区202，在远离显示区201的方向上，边框区202中依次设有第一挡墙210、第二挡墙220和防裂挡墙230。由此，在蒸镀的过程中，可以避免掩膜版对挡墙(包括第一挡墙210、第二挡墙220和防裂挡墙230)对应的基板结构的刮擦，进而避免蒸镀过程中对挡墙位置处的电路造成不良影响，从而保证显示区的良好性能。
需要说明的是，若第二表面122在基板200上的正投影仅覆盖基板200上的第一挡墙210、第二挡墙220，不覆盖防裂挡墙230(即第二表面122在基板200上的正投影位于防裂挡墙靠近显示区的一侧，第二区130在基板上的正投影覆盖防裂挡墙230)，发明人发现，在蒸镀时，掩膜版的第二区很容易刮擦到第二挡墙和防裂挡墙之间的封装结构，进而影响此处对应设置的电路结构，进而影响显示区的显示质量。然而本发明要求第二表面122在基板200上的正投影覆盖基板200上的第一挡墙210、第二挡墙220和防裂挡墙230，可以有效地改善上述问题，避免蒸镀过程中对挡墙位置处的电路造成不良影响，从而保证显示区的良好性能。
根据本发明的实施例，该掩膜版可以用于蒸镀穿戴类(比如手表和手环等)等小显示屏中OLED器件的公共功能层，可以很明显地减小掩膜版的下垂量。
根据本发明的实施例，对掩膜版中第一区和第三区的减薄可以通过刻蚀工艺进行，其中第五表面的粗糙表面即是通过刻蚀不同的深度而实现的。
文中术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (12)

1.一种蒸镀用掩膜版，其特征在于，包括多个预定区域，每个所述预定区域包括开口和围绕所述开口的遮挡区，在远离所述开口的方向上，所述遮挡区包括第一区、第二区和第三区，所述第二区在水平方向上分别连接所述第一区和所述第三区，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第一区具有相对设置的第一表面和第二表面，所述第二区具有相对设置的第三表面和第四表面，所述第三区具有相对设置的第五表面和第六表面，所述第一表面、所述第三表面和所述第五表面位于所述掩膜版的同一侧，且在蒸镀时远离基板设置，所述第二表面、所述第四表面和所述第六表面位于所述掩膜版的同一侧，且在蒸镀时靠近所述基板设置，
其中，所述第二区的厚度大于所述第一区的厚度，且大于所述第三区的厚度，所述第一表面与所述第三表面齐平，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第六表面所在的平面位于所述第三表面所在的平面和所述第四表面所在的平面之间。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第五表面所在的平面位于所述第三表面所在的平面和所述第四表面所在的平面之间。
3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第一表面所在的平面位于所述第三表面所在的平面和所述第四表面所在的平面之间。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述第四表面和所述第六表面之间的垂直间距为所述第二区厚度的1/5～1/3。
5.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述第三表面和所述第五表面之间的垂直间距为所述第二区厚度的1/10～1/4。
6.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述第三表面和所述第一表面之间的垂直间距为所述第二区厚度的1/10～1/4。
7.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第六表面在所述第五表面上的正投影与所述第五表面完全重叠。
8.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第一表面在所述第二表面上的正投影与所述第二表面完全重叠。
9.根据权利要求1～3中任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述第二区的厚度为100～150微米。
10.根据权利要求1～3中任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述第二区的宽度大于等于1mm。
11.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述第五表面为粗糙表面。
12.根据权利要求1～3中任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版使用时，所述第二表面在基板上的正投影覆盖所述基板上的第一挡墙、第二挡墙和防裂挡墙，其中，所述基板包括显示区和边框区，在远离所述显示区的方向上，所述边框区中依次设有所述第一挡墙、所述第二挡墙和所述防裂挡墙。
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