CN111501007B - 具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置及其镀膜工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及真空蒸镀技术领域,具体涉及一种具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置及其镀膜工艺;包括真空仓,真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊,放卷辊上设置有蒸镀基材,收卷辊的一端部设置有第一变频电机,第一变频电机与变频器相连接,真空仓的内腔下端设置有蒸镀室,真空仓中设置有正棱柱形主鼓,正棱柱形主鼓的截面为正N边形,且8≤N≤64;本发明通过设置的正棱柱形主鼓能够使得正棱柱形主鼓上每个平面上的点在蒸镀过程中与蒸发源的距离不同,同时在牵引镀膜过程中将传统的匀速牵引改进为非匀速牵引,使得真空蒸镀得到的卷膜表面的镀层厚度不均匀,其整个装置在真空镀膜时的原理与众不同、而且制备的横向彩虹膜的效果优异。
Description
技术领域
本发明涉及真空蒸镀技术领域,具体涉及一种具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置及其镀膜工艺。
背景技术
在真空环境下将靶材加热升华并镀到基材表面的过程称为真空镀膜。真空镀膜顾名思义是在真空环境下将靶材(如硫化锌)加热升华镀到卷膜材料(PTE膜、PP膜、OPP膜和反光植株膜等)表面,然后通过卷膜材料上硫化锌层的呈现出颜色,使得卷膜材料外观艳丽。目前,真空蒸镀制备的反光膜分为高亮单色反光膜和多彩反光膜(即彩虹膜)。其中单色高亮反光膜在制备过程中需要保证卷膜材料表面镀上的靶材厚度均匀,从而在光线下呈现出单一颜色的膜面;而彩虹膜的制备与高亮反光膜恰恰相反,其在制备过程中需要控制卷膜材料表面镀上的靶材厚度不均匀,然后在光线照射下呈现出五颜六色的膜面。
传统的彩虹膜的真空蒸镀原理均是通过一个牵引装置将卷膜材料绕在圆柱形的主鼓上并匀速通过真空室中蒸发槽的上方,其蒸发槽中由于多个蒸发舟的间隔和错位设置,并且靶材蒸发时呈发散状态,附着卷膜材料表面时镀层相互交错重叠,且各处的重叠效果不同,从而使得靶材在蒸发升华时镀在卷膜材料上的纵向厚度不均匀,而不同厚度的靶材镀层其对光线的干涉不同,从而在纵向上呈现出多彩膜面;例如专利号为CN109468591A的发明就公开了一种真空蒸镀工艺制备幻彩反光膜的方法,其蒸镀彩虹膜的与原理传统的彩虹膜制备原理相同,由于卷膜材料绕在圆柱形主鼓上匀速通过蒸发槽上方,使得在卷膜材料在牵引方向(即横向)上镀层厚度均匀,而由于蒸镀靶材的特殊布置使得卷膜材料在纵向上厚度不均匀,从而制备出纵向彩虹膜。
又如专利号为CN2848871Y的发明公开了一种生产彩虹膜或纸的高真空电镀设备,其主要结构包括镀膜的真空工作室和高真空抽取装置,镀膜的真空工作室内用隔板分隔为上、下两室,上室为低真空的卷绕室内有两个收放卷辊,四个从动辊,下室为高真空的蒸镀室,蒸发槽的右上角有一个补充蒸发材料的漏斗容器,在漏斗容器与蒸发槽连接的送料通道上装有开闭调节阀;该发明公开的真空电镀设备均是通过将卷膜材料绕在圆柱形主鼓上并匀速通过蒸发槽上,其制备的彩虹膜均只能保证镀膜材料在纵向上出现彩条,而在卷膜牵引方向(即横向)上颜色相同,其整个膜面呈现纵向的彩虹膜。而在制备的纵向彩虹膜由于受到卷膜材料宽幅的限制,无法将其进一步较长的彩色的织带、细丝,因此其应用领域受到极大限制。针对现有真空镀膜机只能制备横向彩虹膜以及现有镀膜工艺只能纵向蒸镀彩虹膜的上述不足,设计一种具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置以及镀膜工艺是一项有待解决的技术难题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是设计了一种具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置及其镀膜工艺,以解现有真空蒸镀彩虹膜技术只能纵向蒸镀彩虹膜,无法实现横向蒸镀彩虹膜的不足。
本发明是通过以下技术方案实现的:
一种具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置,包括真空仓,所述真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊,所述放卷辊上设置有蒸镀基材,所述收卷辊的一端部设置有第一变频电机,所述第一变频电机与变频器相连接,所述真空仓的内腔下端设置有蒸镀室,所述真空仓的外部设置有抽真空系统,所述抽真空系统与真空仓相连通,所述真空仓中设置有正棱柱形主鼓,所述正棱柱形主鼓的截面为正N边形,且8≤N≤64,所述正棱柱形主鼓的一端部设置有第二变频电机,所述第二变频电机也与变频器相连接,所述正棱柱形主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中,所述正棱柱形主鼓的中空内腔连接有冷却系统,所述蒸镀基材依次经导向辊、正棱柱形主鼓、导向辊收卷到收卷辊上,位于所述正棱柱形主鼓正下方的蒸镀室底壁上设置有蒸发槽,所述蒸发槽中设置有第一电极柱和第二电极柱,所述第一电极柱和第二电极柱之间设置有并排连续设置的若干蒸发舟,所述蒸发舟中放置有蒸镀靶材。
作为上述方案的进一步设置,所述正棱柱形主鼓的每个棱线处均设置有倒角,其在棱线处设置的倒角能够防止因棱线尖锐将蒸镀基材划破。
作为上述方案的进一步设置,所述抽真空系统包括设置在真空仓外部的机械泵和扩散泵,所述机械泵和扩散泵上均连接有真空管,所述真空管上设置有阀门,所述真空管的端部与真空仓相连接通;整个抽真空系统能够保证在真空蒸镀过程中,真空仓内的压强保持接近真空状态。
作为上述方案的进一步设置,所述冷却系统为氟利昂强制制冷系统,所述氟利昂强制制冷系统通过管路与正棱柱形主鼓的中空内腔相连接;其氟利昂强制制冷系统的制冷效果显著,本装置中的冷却系统的较优选择。
一种使用上述具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置进行的镀膜工艺,包括如下步骤:
S1:通过PLC控制系统预先设变频器的频率参数,使得变频器的频率随时间变化;
S2:打开真空仓并将蒸镀基材装在放卷辊上,再将蒸镀基材依次经导向辊、正棱柱形主鼓、导向辊收卷到收卷辊上,同时启动冷却系统对主鼓进行降温冷却;
S3:合上真空仓保证真空仓处于密封状态,再启动抽真空系统将真空仓内部抽至负压值为1.3×100至1.3×10-4Pa的状态;
S4:接通第一电极柱和第二电极柱,实现对蒸发舟中的蒸镀靶材的加热,直至蒸镀靶材加热至沸点,使蒸镀靶材汽化蒸发;
S5:启动第一变频电机和第二变频电机,其第一变频电机和第二变频电机在变频器的控制下实现两者的非匀速同步转动,其蒸镀基材在正棱柱形主鼓和收卷辊的牵引下非匀速通过蒸发槽上方,此时蒸发舟中产生汽化的蒸镀靶材向上运动对牵引过程中的蒸镀基材进行镀膜,直至完成整个蒸镀基材的牵引镀膜过程;
S6:待整个蒸镀基材的牵引镀膜完成后,关闭第一变频电机和第二变频电机,再将第一电极柱和第二电极柱断开,最后关闭抽真空系统,待真空仓内的温度恢复至室温时打开真空仓取料即可。
传统的纵向彩虹膜真空蒸镀时,通过将蒸发槽中的多个蒸发舟纵向间隔、错位设置,然后通过正负电极柱对蒸发舟通电加热,放置在蒸发舟中的蒸镀靶材(如硫化锌、氟化镁等)在高温作用下升华,并从蒸发槽中呈发散状态向上运动,而同时蒸镀基材(如PTE、OPP膜等)绕在圆柱形主鼓,并在圆柱形主鼓和收卷辊的牵引下匀速通过蒸发槽的正上方,此时蒸镀靶材在向上运动过程中能够沿着蒸镀基材的牵引方向(即横向)上实现均匀镀膜,而同时由于蒸发舟在纵向上的间隔、错位设置使得蒸镀基材的纵向上镀层厚度不均匀,其蒸镀后的膜面在纵向上呈现出多种颜色(参考附图4)。但是在纵向彩虹膜实际应用的过程中,由于蒸镀基材(如PTE、OPP膜等)宽幅是有限的,使得制备的彩虹膜无法将其制成彩条织带、细丝进行应用,因此使得制备的纵向彩虹膜的应用领域受到极大的限制。
本申请公开的具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置以及其镀膜工艺与传统的真空蒸镀彩虹膜的原理以及具体镀膜工艺过程中的控制完全不同。在装置中将主鼓由传统的圆柱形改用正棱柱形,并且将传统真空镀膜过程中的匀速通过蒸镀槽上方的设置方式,改成由变频器控制变频电机调节转速从而实现非匀速通过蒸镀槽上方的方式。另外,加上本发明蒸镀槽中蒸发舟的并排连续设计,使得在真空蒸镀过程中纵向上的镀层厚度均匀,而沿蒸镀基材牵引方向(即横向上)上的镀层厚度不均。
从原理上来说,其主要原理是由于正棱柱形主鼓的鼓面是由多个平面连接组成,每个平面上的不同点的位置在转动过程中其运动轨迹的圆形直径不同。可参考附图2,例如以每个平面棱线处点的运动轨迹为A,以每个平面中心处点的轨迹为B,明显运动轨迹A为正多边形的外接圆,运动轨迹B为正多边形的内切圆,这就导致该两点处在运动过程中与蒸发源的距离不同,而蒸镀靶材在蒸发升华过程中呈发散形状,因此就导致同一平面上的镀层厚度出现不均匀,使得同一平面上的蒸镀基材表面沿牵引方向(即横向)上呈不同颜色。而传统的圆柱形主鼓的鼓面上所有点的运动轨迹均重合(考参考附图3),这就导致蒸镀基材表面的镀层厚度均相同,其表面呈现出的是高亮单色反光膜面。另外,本申请通过控制蒸镀基材非匀速通过蒸发槽的上方,其不同的牵引速度使得蒸镀基材表面与蒸发升华的蒸镀靶材接触时间不同,从而能够使得正棱柱形主鼓在转动过程中不同平面上的镀层厚度也不相同,从而使得在整个牵引蒸镀过程中蒸镀基材表面在牵引方向(即横向)上的每处镀层厚度均不相同,而不同厚度的镀层其对光线的干涉作用不同,其制备的彩虹膜在能够在横向上呈现出多种颜色。
有益效果:
1、本发明公开的具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置在对卷膜材料进行真空蒸镀时,其通过将传统的圆柱形主鼓改成正棱柱形主鼓能够使得正棱柱形主鼓上每个平面上的点在蒸镀过程中与蒸发源的距离不同,使得正棱柱形主鼓相同平面上的不同位置的镀层厚度不同,从而使得蒸镀后同一平面上的蒸镀基材在横向上呈现出不同颜色的彩条。
2、本发明公开的镀膜工艺其与传统的真空镀膜过程不同,通过预先对变频器进行设定程序使得在变频器的频率参数处于变化状态,然后通过变频器控制正棱柱形主鼓和收卷辊的同步非匀速转动,从而使得蒸镀基材在通过蒸发槽上方时为非匀速状态,而蒸镀基材在非匀速状态下通过蒸发槽上方时其蒸镀基材表面与蒸发升华的蒸镀靶材接触时间也不同,从而使得在整个牵引蒸镀过程中蒸镀基材表面在牵引方向(即横向)上的每处镀层厚度均不相同,达到制备横向彩虹膜的技术效果;总而言之,本申请的整个装置真空镀膜时的原理以及真空镀膜过程中的控制过程与传统技术完全不同,而且制备的横向彩虹膜的效果优异。
3、本发明制备的横向彩虹膜能够使得膜面在纵向上的颜色相同,沿膜面牵引方向(即横向)上呈现多种颜色,有效解决了现有真空蒸镀机只能制备纵向彩虹膜的不足,其制备的横向彩虹膜有效解决了现有纵向彩虹膜因蒸镀基材宽幅有限导致其应用领域受限的问题,整个设备能够大规模生产横向彩虹膜,使制备的横向彩虹膜具有极高的经济价值。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明中真空仓的内部平面结构图;
图2为本发明中正棱柱形主鼓在真空镀膜时的原理示意图;
图3为现有圆柱形主鼓在真空镀膜时的原理示意图;
图4为现有纵向彩虹膜的真空镀膜的原理示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本申请保护的范围。
需要说明的是,本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本申请的实施例。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
在本申请中,术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“中”、“竖直”、“水平”、“横向”、“纵向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本发明及其实施例,并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位,或以特定方位进行构造和操作。
并且,上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外,还可能用于表示其他含义,例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解这些术语在本发明中的具体含义。
此外,术语“安装”、“设置”、“设有”、“连接”、“相连”、“套接”应做广义理解。例如,可以是固定连接,可拆卸连接,或整体式构造;可以是机械连接,或电连接;可以是直接相连,或者是通过中间媒介间接相连,又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
下面结合附图1-2对本发明进一步说明。
实施例1
本实施例1介绍了一种专门用于生产横向真空蒸镀彩虹膜的装置,参考附图1,其主体结构包括一个真空仓1,在真空仓1中设置有放卷辊2、收卷辊3以及多个导向辊4。在放卷辊2上设置有蒸镀基材5,其蒸镀基材5种类较多,具体地可选用PTE薄膜、PP薄膜、OPP薄膜和反光植株膜等,但是蒸镀基材5不仅限于上述材料。在收卷辊2的一端部设置有第一变频电机6,并将第一变频电机6与变频器(图中未画出),其变频器内部自带PLC编程控制系统,通过预先设定好的控制程序使得变频器输送给第一变频电机6的频率处于不断变化状态中,从而到达收卷辊2的非匀速收卷。
在真空仓1的内腔下端设置有蒸镀室7,并在真空仓1的外部设置有抽真空系统(图中未画出),由于真空蒸镀机中的抽真空系统为现有技术,本处不做图示,简单来说整个抽真空系统包括设置在真空仓1外部的机械泵和扩散泵,在机械泵和扩散泵上均连接有真空管,真空管上设置有阀门,然后将真空管的端部与真空仓相连接通,通过机械泵、扩散泵的作用能够将真空蒸镀过程中的真空仓1的内部压强保持在1.3×100至1.3×10-4Pa范围内。
本装置实现横向蒸镀横向彩虹膜的关键技术点在于,真空仓中设置有一个正棱柱形主鼓8,其正棱柱形主鼓8的截面为正多边形,其正多边形的边数在8到64范围内,并且为了防止因正棱柱形主鼓8的棱线处尖锐将蒸镀基材5划破,还在正棱柱形主鼓8的每个棱线处均设置有倒角(图中未画出)。具体地本实施例中的正棱柱形主鼓8的截面为正十二边形。在正棱柱形主鼓8的一端部设置有第二变频电机9,将第二变频电机9也与变频器相连接,通过变频器的调节作用能够使得收卷辊3与正棱柱形主鼓8同步改变转速。并将正棱柱形主鼓8的下端鼓面伸入蒸镀室7中,在正棱柱形主鼓8的中空内腔连接有冷却系统,本处的冷却系统也为现有技术,本处不做图示,具体来说其冷却系统为常用的氟利昂强制制冷系统,其氟利昂强制制冷系统通过管路与正棱柱形主鼓8的中空内腔相连接,从而达到快速冷却效果。在真空镀膜过程中其蒸镀基材5依次经导向辊4、正棱柱形主鼓8、导向辊4收卷到收卷辊3上。然后在位于正棱柱形主鼓正下方8的蒸镀室7底壁上设置有蒸发槽10,蒸发槽10中设置有第一电极柱11和第二电极柱12,并在第一电极柱11和第二电极柱12之间设置有并排连续设置的多个蒸发舟13,并在蒸发舟13中放置有蒸镀靶材(图中未画出),其蒸镀靶材最常用的有硫化锌、氟化镁、氧化锡、二氧化硅、五氧化二钽等材料。
最后参考附图2,须说明的是本装置中正棱柱形主鼓8在转动的过程中,其正棱柱形主鼓8上的每个平面上的不同点的运动轨迹不同,从而使得在镀膜过程中蒸镀基材5(PTE薄膜、PP薄膜、OPP薄膜和反光植株膜)与蒸发舟13中蒸镀靶材的距离不同,而蒸镀靶材在蒸发升华过程中处于发散状态,导致发散的蒸镀靶材附着在薄膜表面的量不同,从而使得同一平面上的薄膜在沿牵引方向(即横向)上的镀层厚度不同。同时,本装置将薄膜通过蒸发槽10上方时的速度改成非匀速状态,在非匀速状态下真空镀膜的过程,其薄膜表面与蒸发升华的蒸镀靶材接触时间也不相同,从而使得整个薄膜表面沿牵引方向上的厚度均不相同,使得制备的彩虹膜在横向上呈现出多样颜色。
本发明还具体介绍了一种使用实施例1公开的具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置进行的镀膜工艺,其具体包括如下六个步骤:
第一步,工作人员通过变频器内自带的PLC编程控制系统预先设好变频器的频率参数,使得变频器的频率随时间变化。
第二步,当变频器参数设定完毕后,作业人员打开真空仓1并将蒸镀基材5装在放卷辊2上,再将蒸镀基材5依次经导向辊4、正棱柱形主鼓8、导向辊4收卷到收卷辊3上,并启动氟利昂强制制冷系统,并将该制冷系统与正棱柱形主鼓8的中空内腔之间的气路相接通,从而实现对正棱柱形主鼓8的降温、冷却。
第三步,作业人员将真空仓1合上,并保证真空仓1处于密封状态,然后启动抽真空系统,通过多个机械泵、扩散泵的作用将真空仓1的内部抽至负压值为1.3×100至1.3×10- 4Pa的状态,并且一直保持抽真空系统处于工作状态,维持内部负压状态。
第四步,作业人员接通第一电极柱11和第二电极柱12,实现对并排连续设置的多个蒸发舟13中的蒸镀靶材的加热,直至蒸镀靶材加热至沸点,使蒸镀靶材汽化蒸发。
第五步,作业人员同时打开第一变频电机6和第二变频电机9,其第一变频电机6和第二变频电机9在变频器的控制下实现两者的非匀速同步转动,其蒸镀基材5在正棱柱形主鼓8和收卷辊3的牵引下非匀速通过蒸发槽10的上方;此时蒸发舟13中产生汽化的蒸镀靶材呈发散状向上运动,并对牵引过程中的蒸镀基材5表面进行镀膜,由于正棱柱形主鼓8的鼓面是由多个平面连接组成,正棱柱形主鼓8上每个平面上的点在牵引蒸镀过程中与蒸发源的距离不同,使得正棱柱形主鼓8相同平面上的不同位置处的镀层厚度不同,从而呈现出多彩膜面。另外,由于蒸镀基材5是非匀速状态通过蒸发槽10的上方,使得蒸发汽化的蒸镀靶材与蒸镀基材5表面的接触时间不同,其不仅使得相同平面上镀层厚度进一步不均匀,而且正棱柱形主鼓8不同平面上的镀层厚度也不相同,从而使得整个蒸镀基材5在牵引过程中的表面厚度都不均匀。在正棱柱形主鼓8和收卷辊3的牵引下直至完成整个蒸镀基材5的牵引镀膜过程。
第六步,待整个蒸镀基材5的牵引镀膜完成后,关闭第一变频电机6和第二变频电机9,再将第一电极柱11和第二电极柱12断开,最后关闭抽真空系统,待真空仓1内的温度恢复至室温(25±5℃)时打开真空仓1取下卷料即可。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置,包括真空仓,所述真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊,所述放卷辊上设置有蒸镀基材,所述收卷辊的一端部设置有第一变频电机,所述第一变频电机与变频器相连接,所述真空仓的内腔下端设置有蒸镀室,所述真空仓的外部设置有抽真空系统,所述抽真空系统与真空仓相连通,其特征在于,所述真空仓中设置有正棱柱形主鼓,所述正棱柱形主鼓的截面为正N边形,且8≤N≤64,所述正棱柱形主鼓的一端部设置有第二变频电机,所述第二变频电机也与变频器相连接,所述正棱柱形主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中,所述正棱柱形主鼓的中空内腔连接有冷却系统,所述蒸镀基材依次经导向辊、正棱柱形主鼓、导向辊收卷到收卷辊上,位于所述正棱柱形主鼓正下方的蒸镀室底壁上设置有蒸发槽,所述蒸发槽中设置有第一电极柱和第二电极柱,所述第一电极柱和第二电极柱之间设置有并排连续设置的若干蒸发舟,所述蒸发舟中放置有蒸镀靶材;
其中,横向彩虹膜是一种在蒸镀基材牵引方向上颜色不同的彩虹膜。
2.根据权利要求1所述的具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置,其特征在于:所述正棱柱形主鼓的每个棱线处均设置有倒角。
3.根据权利要求1所述的具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置,其特征在于:所述抽真空系统包括设置在真空仓外部的机械泵和扩散泵,所述机械泵和扩散泵上均连接有真空管,所述真空管上设置有阀门,所述真空管的端部与真空仓相连接通。
4.根据权利要求1所述的具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置,其特征在于:所述冷却系统为氟利昂强制制冷系统,所述氟利昂强制制冷系统通过管路与正棱柱形主鼓的中空内腔相连接。
5.一种使用权利要求1~4任一所述的具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置进行的镀膜工艺,其特征在于,包括如下步骤:
S1:通过PLC控制系统预先设变频器的频率参数,使得变频器的频率随时间变化;
S2:打开真空仓并将蒸镀基材装在放卷辊上,再将蒸镀基材依次经导向辊、正棱柱形主鼓、导向辊收卷到收卷辊上,同时启动冷却系统对主鼓进行降温冷却;
S3:合上真空仓保证真空仓处于密封状态,再启动抽真空系统将真空仓内部抽至负压值为1.3×100至1.3×10-4Pa的状态;
S4:接通第一电极柱和第二电极柱,实现对蒸发舟中的蒸镀靶材的加热,直至蒸镀靶材加热至沸点,使蒸镀靶材汽化蒸发;
S5:启动第一变频电机和第二变频电机,其第一变频电机和第二变频电机在变频器的控制下实现两者的非匀速同步转动,其蒸镀基材在正棱柱形主鼓和收卷辊的牵引下非匀速通过蒸发槽上方,此时蒸发舟中产生汽化的蒸镀靶材向上运动对牵引过程中的蒸镀基材进行镀膜,直至完成整个蒸镀基材的牵引镀膜过程;
S6:待整个蒸镀基材的牵引镀膜完成后,关闭第一变频电机和第二变频电机,再将第一电极柱和第二电极柱断开,最后关闭抽真空系统,待真空仓内的温度恢复至室温时打开真空仓取料即可。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010540359.3A CN111501007B (zh) | 2020-06-15 | 2020-06-15 | 具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置及其镀膜工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010540359.3A CN111501007B (zh) | 2020-06-15 | 2020-06-15 | 具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置及其镀膜工艺 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111501007A CN111501007A (zh) | 2020-08-07 |
CN111501007B true CN111501007B (zh) | 2020-12-22 |
Family
ID=71870547
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010540359.3A Active CN111501007B (zh) | 2020-06-15 | 2020-06-15 | 具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置及其镀膜工艺 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111501007B (zh) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2662708B1 (fr) * | 1990-06-05 | 1992-08-07 | Ugine Aciers | Dispositif de traitement superficiel d'une bande d'un materiau metallique en defilement par plasma basse temperature. |
JPH0449362A (ja) * | 1990-06-15 | 1992-02-18 | Sanriyuu Kiko Kk | 着色瓦とその着色法 |
JP2003001997A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Reiko Co Ltd | 虹彩色転写フイルム及びそれを使用して得る虹彩色成形品 |
CN2848871Y (zh) * | 2005-05-03 | 2006-12-20 | 杨林 | 生产彩虹膜或纸的高真空电镀设备 |
CN105624637A (zh) * | 2014-10-29 | 2016-06-01 | 李艳 | 直镀彩虹膜或纸的制造方法 |
CN104441879A (zh) * | 2014-11-21 | 2015-03-25 | 上海梵和聚合材料有限公司 | 彩虹膜 |
JP6600214B2 (ja) * | 2015-09-28 | 2019-10-30 | 株式会社Screenホールディングス | 成膜装置 |
KR102104388B1 (ko) * | 2017-09-26 | 2020-04-24 | 주식회사 에프이엠 | 스마트폰 커버유리 보호용 색상필름 제조방법 및 이로부터 제조된 색상필름 |
CN109468591B (zh) * | 2019-01-10 | 2020-11-13 | 合肥市辉耀真空材料有限责任公司 | 一种真空蒸镀工艺制备幻彩反光膜的方法 |
-
2020
- 2020-06-15 CN CN202010540359.3A patent/CN111501007B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN111501007A (zh) | 2020-08-07 |
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