CN111501009A - 一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置及其镀膜工艺 - Google Patents

一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置及其镀膜工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN111501009A
CN111501009A CN202010540496.7A CN202010540496A CN111501009A CN 111501009 A CN111501009 A CN 111501009A CN 202010540496 A CN202010540496 A CN 202010540496A CN 111501009 A CN111501009 A CN 111501009A
Authority
CN
China
Prior art keywords
evaporation
vacuum
crawler
main drum
type flow
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202010540496.7A
Other languages
English (en)
Inventor
刘思远
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hefei Huiyao Vacuum Material Co ltd
Original Assignee
Hefei Huiyao Vacuum Material Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hefei Huiyao Vacuum Material Co ltd filed Critical Hefei Huiyao Vacuum Material Co ltd
Priority to CN202010540496.7A priority Critical patent/CN111501009A/zh
Publication of CN111501009A publication Critical patent/CN111501009A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0015Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterized by the colour of the layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C23C14/044Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks using masks to redistribute rather than totally prevent coating, e.g. producing thickness gradient
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/26Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明涉及真空蒸镀技术领域,具体涉及一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置及其镀膜工艺;包括真空仓,真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊,真空仓的内腔下端设置有蒸镀室,真空仓中设置有主鼓,主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中,主鼓的中空内腔连接有冷却系统,蒸镀基材依次经导向辊、主鼓、导向辊收卷到收卷辊上,位于主鼓正下方的蒸镀室底壁上设置有蒸发源,位于蒸发源与主鼓之间设置有履带式隔流带;本发明公开的装置和镀膜工艺可以根据实际客户的需求对膜面图案成型孔进行设计,能够制备出具有特殊纹路的彩虹膜,有弥补了目前市场上真空镀膜只有高亮单色反光膜和纵向多彩反光膜的空白,极大提高了多样纹路彩虹膜的经济价值。

Description

一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置及其镀膜工艺
技术领域
本发明涉及真空蒸镀技术领域,具体涉及一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置及其镀膜工艺。
背景技术
在真空环境下将靶材加热升华并镀到基材表面的过程称为真空镀膜。真空镀膜顾名思义是在真空环境下将靶材(如硫化锌)加热升华镀到卷膜材料(PTE膜、PP膜、OPP膜和反光植株膜等)表面,然后通过卷膜材料上硫化锌层的呈现出颜色,使得卷膜材料外观艳丽。目前,市场上最常见的真空蒸镀制备的反光膜分为高亮单色反光膜和纵向上的多彩反光膜(即彩虹膜),其两者外表艳丽,视觉效果较为突出,但是目前市场上并没有各种各样纹路的真空蒸镀制备的反光膜出现,导致传统的高亮单色反光膜和多彩反光膜在形式上过于单调,市场竞争力不强。另外,现有的真空镀膜机只能用于制备高亮单色反光膜和多彩反光膜,无法用于制备各种各样纹路的彩虹膜。
例如专利号为CN1696331A的发明公开了一种直镀彩虹膜或纸的制造方法,其先对现有技术的高真空双室镀膜设备进行改造,把中心冷却滚筒的水冷却管路改成氟利昂强制制冷系统,将高真空蒸镀室的底部安置一个蒸发槽和可调节供料的漏斗容器,蒸发槽内放入蒸发材料加热至沸点、雾化,对被镀基体直接蒸镀。该发明公开的直镀彩虹膜或纸通过精确控制收放卷辊的卷绕速度,使得控制被镀基体在蒸镀室内匀速的移动,并更换蒸发材料进行重复上述真空蒸镀过程中,从而能够得到四层以上鲜艳光泽的膜,但是由于在真空镀膜过程中被镀基体是匀速通过蒸发槽上方,且蒸发槽内蒸镀靶材无特殊布置,因此被镀基体上的四层膜的厚度理论上均匀,而相同厚度的薄膜对光的干涉相同,使得该发明在外观表现上呈现的鲜艳光泽的单色膜,整个膜面外观表现相同,并不具有特殊的纹路,在形式过于单调。另外,目前市场上常见的纵向彩虹膜是通过一个牵引装置将卷膜材料匀速通过真空室中蒸发槽的上方,其蒸发槽中由于多个蒸发舟的间隔和错位设置,并且靶材蒸发时呈发散状态,从而使得靶材在蒸发升华时镀在卷膜材料上纵向的厚度不均匀,而不同厚度的靶材镀层其对光线的干涉不同,从而在纵向上呈现出多彩膜面(可参考专利号为CN109468591A公开的内容);该类蒸镀彩虹膜的方法虽然制备的彩虹膜色彩多样,但是整个膜面上只是在纵向上出现彩虹条,并不能呈现出具有各种各样形状的纹路,其在外观形式上过于单一。因此,针对目前技术只能制备单色反光膜或纵向彩虹膜导致其产品形式过于单一的不足,设计一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置及其镀膜工艺是一项有待解决的技术问题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是解决现有技术只能制备单色反光膜或纵向彩虹膜导致其产品形式过于单一的不足,设计一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置及其镀膜工艺。
本发明是通过以下技术方案实现的:
一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置,包括真空仓,所述真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊,所述放卷辊上设置有蒸镀基材,所述收卷辊的一端部设置有收卷电机,所述真空仓的内腔下端设置有蒸镀室,所述真空仓的外部设置有抽真空系统,所述抽真空系统与真空仓相连通,所述真空仓中设置有主鼓,所述主鼓的一端部设置有控制电机,所述主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中,所述主鼓的中空内腔连接有冷却系统,所述蒸镀基材依次经导向辊、主鼓、导向辊收卷到收卷辊上,位于所述主鼓正下方的蒸镀室底壁上设置有蒸发源,位于所述蒸发源与主鼓之间设置有履带式隔流带,所述履带式隔流带呈闭环设置,且履带式隔流带上开设有膜面图案成型孔,位于所述履带式隔流带的内环设置有一个主动辊和若干从动辊,位于所述蒸发源上方旁侧的蒸镀室内设置有加热装置,所述履带式隔流带穿过加热装置设置。
作为上述方案的进一步设置,所述主动辊和若干从动辊均设置在蒸镀室中,所述履带式隔流带围绕主动辊和若干从动辊设置,且履带式隔流带的上端水平设置在蒸发源与主鼓之间;其主动辊、从动辊以及履带式隔流带的上述设置为履带式隔流带具体传动路线的第一种设计方案。
作为上述方案的进一步设置,所述主动辊和若干从动辊均设置在真空仓中,所述履带式隔流带围绕主动辊和若干从动辊设置,且履带式隔流带的下端穿过蒸镀室两侧壁水平设置在蒸发源与主鼓之间;其主动辊、从动辊以及履带式隔流带的上述设置为履带式隔流带具体传动路线的第二种设计方案。
作为上述方案的进一步设置,所述加热装置为电阻加热箱,所述电阻加热箱的两端面均开设有能够穿过履带式隔流带的通口;在实际真空蒸镀过程中,其履带式隔流带从通口中伸入电阻加热箱中对其进行加热,使其温度不低于400℃,从而能够防止因履带式隔流带表面的温度过低,其大量蒸镀靶材在蒸发过程中凝固在履带式隔流带的表面造成蒸镀原料的浪费。
作为上述方案的进一步设置,所述履带式隔流带由铜、钼、钨、不锈钢、二硼化钛、氮化铝、氧化铝、氧化锆其中的一种或多种材料制成;具体履带式隔流带材料的选择不仅限于此,只要具有耐高温性能的金属或金属化合物材料均可。
作为上述方案的进一步设置,所述膜面图案成型孔的形状为斜线形、波浪形、豹纹形、斑马纹形、五角星形、爱心形、花瓣形其中的一种;具体膜面图案成型孔的具体形状不仅限于此,可根据客户需求或实际情况进行设计、打孔。
作为上述方案的进一步设置,所述蒸发源包括蒸发槽,所述蒸发槽中设置有第一电极柱和第二电极柱,所述第一电极柱和第二电极柱之间设置有蒸发舟,所述蒸发舟中放置有蒸镀靶材;在真空蒸镀过程中第一电极柱和第二电极柱给蒸发舟进行通电,蒸发舟自身温度升高,将蒸镀靶材熔融、蒸发。
作为上述方案的进一步设置,所述抽真空系统包括设置在真空仓外部的机械泵和扩散泵,所述机械泵和扩散泵上均连接有真空管,所述真空管上设置有阀门,所述真空管的端部与真空仓相连接通;整个抽真空系统能够保证在真空蒸镀过程中,真空仓内的压强保持接近真空状态。
作为上述方案的进一步设置,所述冷却系统为氟利昂强制制冷系统,所述氟利昂强制制冷系统通过管路与主鼓的中空内腔相连接;其氟利昂强制制冷系统的制冷效果显著,本装置中的冷却系统的较优选择。
一种使用上述多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置进行的镀膜工艺,包括如下步骤:
S1:打开真空仓将蒸镀基材装在放卷辊上,并将蒸镀基材依次经导向辊、主鼓、导向辊收卷到收卷辊上,同时启动冷却系统对主鼓进行降温冷却;
S2:合上真空仓保证真空仓处于密封状态,再启动抽真空系统将真空仓内部抽至负压值为1.3×100至1.3×10-4Pa的状态;
S3:同时启动蒸发源、加热装置和主动辊,其蒸发源中的蒸镀靶材被加热至沸点,使得蒸发靶材汽化蒸发,同时履带式隔流带在主动辊的驱动下缓慢通过加热装置,其加热装置对履带式隔流带进行加热,使得整个履带式隔流带的表面温度不低于400℃;
S4:启动收卷电机和控制电机,调节主动辊转速保证蒸镀基材与履带式隔流带的传动速度一致,其蒸镀基材在收卷辊的牵引下通过蒸镀室,并且蒸镀基材绕在主鼓的鼓面上,同时蒸发源中产生汽化的蒸镀靶材向上运动,其蒸镀靶材向上运动的过程中受到履带式隔流带的阻流作用,通过膜面图案成型孔的蒸镀靶材能够全部附着凝固在蒸镀基材的表面,处于膜面图案成型孔之外下方的蒸镀靶材在向上运动过程中受到履带式隔流带的阻挡作用只有部分附着凝固在蒸镀基材的表面,从而造成此段蒸镀基材的表面镀层局部较厚的情况,且较厚镀层的形状与膜面图案成型孔相类似,而此段蒸镀基材的其他部分因隔流作用使得镀层厚度较薄,根据不同厚度的靶材镀层对光的干涉作用不同,因此此段蒸镀基材的表面出现了具有特殊色彩纹路的膜面,直至完成整个蒸镀基材的牵引镀膜过程;
S5:待整个蒸镀基材的牵引镀膜完成后,关闭收卷电机、控制电机和主动辊,再关闭蒸发源和加热装置,最后关闭抽真空系统,待真空仓内的温度恢复至室温(25±5℃)时打开真空仓取料即可。
目前,传统的真空镀膜工艺主要分为真空蒸镀高亮单色反光膜和纵向真空蒸镀彩虹膜两种方式。由于受到现有真空蒸镀机的内部结构的限制,无法通过真空蒸镀的方式制备具有各种各样纹路的彩虹膜。
传统的真空蒸镀机在制备高亮单色反光膜时的原理是通过在蒸发舟中均匀布置蒸发靶材,然后通过正负电极柱对蒸发舟通电加热,放置在蒸发舟中的蒸镀靶材(如硫化锌、氟化镁等)在高温作用下升华,从蒸发槽中呈发散状态向上运动,并且由于蒸镀靶材均匀布置和卷膜材料匀速通过蒸发槽上方,使得蒸镀在卷膜材料表面的靶材镀层厚度处处均匀,相同厚度的靶材镀层对光的干涉作用相同,从而在卷膜材料表面呈现出高亮的单色反光层。
而传统的彩虹膜在制备时的原理主要通过将蒸发槽中的多个蒸发舟在纵向上间隔、错位设置,然后通过正负电极柱对蒸发舟通电加热,放置在蒸发舟中的蒸镀靶材(如硫化锌、氟化镁等)在高温作用下升华,并从蒸发槽中呈发散状态向上运动,直至运动至主鼓的下圆周面上的蒸镀基材(如PTE、OPP膜等)处并附着在其表面,此时由于蒸镀靶材向上运动过程中呈发散状态且蒸镀靶材错位、间隔布置,从而使得附着在蒸镀基材上的蒸镀靶材层的厚度在纵向上不均匀,而不同厚度的靶材镀层对光有着不同的干涉作用,从而使得蒸镀后的膜面在纵向上呈现多种颜色(参考附图6)。
本申请公开的多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置在现有的真空蒸镀机的基础上进行改进,通过在蒸发源与主鼓之间设置一个履带式隔流带,其履带式隔流带能够改变蒸镀靶材(如硫化锌)向上运动的状态,从而实现真空蒸镀出具有特殊纹路的彩虹膜。具体来说,在对蒸镀基材进行蒸镀彩虹膜时,在蒸发源与主鼓之间设置了一个履带式隔流带,并且履带式隔流带与蒸镀基材保持相同的传动速度。同时在履带式隔流带的表面开设有设计好的膜面图案成型孔,在蒸镀靶材蒸发升华的过程中其蒸镀靶材呈发散状向上运动,通过图案成型孔的蒸镀靶材(硫化锌)能够全部附着凝固在蒸镀基材的表面,而处于图案成型孔之外下方的蒸镀靶材在向上运动过程中受到履带式隔流带的阻挡作用无法全部向上运动,从而造成了在真空镀膜的过程中,此段蒸镀基材上会出现局部较厚的镀层,并且较厚镀层的形状与膜面图案成型孔相类似,而此段蒸镀基材的其他部分因隔流作用使得镀层厚度较薄,根据不同厚度的靶材镀层对光的干涉作用不同,因此此段蒸镀基材的表面出现了具有特殊色彩纹路的膜面(可参考附图5)。
有益效果:
1、本发明公开的多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置在真空镀膜过程中,通过设置的履带式隔流带在蒸镀材料蒸发向上运动的过程中对局部的蒸镀材料进行隔流,使得透过膜面图案成型孔的蒸镀材料全部附着在蒸镀基材表面,而其他部分由于隔流作用只有少量的蒸镀材料附着在蒸镀基材表面,从而使得制备的膜面具有与膜面图案成型孔相类似的色彩纹路;本发明真空镀膜方式新颖,真空镀膜效果优异。
2、本发明公开的多样纹路真空蒸镀彩虹膜的镀膜工艺,其可以根据实际客户的需求对膜面图案成型孔进行设计,能够制备出具有特殊纹路的彩虹膜,有弥补了目前市场上真空镀膜只有高亮单色反光膜和纵向多彩反光膜,不具有多样纹路彩虹膜的空白,极大提高了多样纹路彩虹膜的经济价值。另外,整个多样纹路彩虹膜的蒸镀工艺与传统真空镀膜工艺相比,其控制过程也不过于复杂,只要主要保持蒸镀靶材的牵引速度和履带式隔流带的速度一致,并合理控制蒸发源的蒸发量即可实现,其整个真空蒸镀多样纹路彩虹膜的过程容易实现,值得大范围推广。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实施例1中真空仓的内部平面结构图;
图2为本实施例2中真空仓的内部平面结构图;
图3为本实施例1中蒸镀室的内部平面结构图;
图4为本发明中开设斜线形膜面图案成型孔的履带式隔流带的平面图;
图5为本发明中制备的斜线形纹路真空蒸镀彩虹膜;
图6为传统的纵向彩虹膜的真空蒸镀原理示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本申请保护的范围。
需要说明的是,本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本申请的实施例。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
在本申请中,术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“中”、“竖直”、“水平”、“横向”、“纵向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本发明及其实施例,并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位,或以特定方位进行构造和操作。
并且,上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外,还可能用于表示其他含义,例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解这些术语在本发明中的具体含义。
此外,术语“安装”、“设置”、“设有”、“连接”、“相连”、“套接”应做广义理解。例如,可以是固定连接,可拆卸连接,或整体式构造;可以是机械连接,或电连接;可以是直接相连,或者是通过中间媒介间接相连,又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
下面结合附图1-5对以下实施例进一步说明。
实施例1
实施例1介绍了一种专门用于生产多样纹路真空蒸镀彩虹膜的装置,参考附图1,其主体结构包括一个真空仓1,在真空仓1中设置有放卷辊2、收卷辊3以及多个导向辊4。在放卷辊2上设置有蒸镀基材5,其蒸镀基材5种类较多,具体地可选用PTE薄膜、PP薄膜、OPP薄膜和反光植株膜等,但是蒸镀基材5不仅限于上述材料。在收卷辊2的一端部设置有收卷电机(图中未画出),通过收卷电机的驱动作用对蒸镀基材5起到牵引作用。
在真空仓1的内腔下端设置有蒸镀室6,并在真空仓1的外部设置有抽真空系统(图中未画出),由于真空蒸镀机中的抽真空系统为现有技术,本实施例1不做图示,简单来说整个抽真空系统包括设置在真空仓1外部的机械泵和扩散泵,在机械泵和扩散泵上均连接有真空管,真空管上设置有阀门,然后将真空管的端部与真空仓相连接通,通过机械泵、扩散泵的作用能够将真空蒸镀过程中的真空仓1内部压强保持在1.3×100至1.3×10-4Pa范围内。
在真空仓1中设置有主鼓7,其主鼓7的一端部设置有控制电机(图中未画出),并将主鼓7的下端鼓面伸入蒸镀室6中,在主鼓7的中空内腔连接有冷却系统,本实施例1的冷却系统也为现有技术,本处不做图示,具体来说其冷却系统为常用的氟利昂强制制冷系统,其氟利昂强制制冷系统通过管路与主鼓7的中空内腔相连接,从而达到快速冷却效果。在真空镀膜过程中其蒸镀基材5依次经导向辊4、主鼓7、导向辊4收卷到收卷辊3上。
参考附图1和附图3,位于主鼓7正下方的蒸镀室6底壁上设置有蒸发源8,其蒸发源8与普通的真空蒸镀单色高亮膜或纵向真空蒸镀彩虹膜相同,主要包括一个蒸发槽801,蒸发槽801中设置有第一电极柱802和第二电极柱803,在第一电极柱802和第二电极柱803之间设置有蒸发舟804,然后在蒸发舟804中放置有蒸镀靶材(图中未画出),其蒸镀靶材最常用的有硫化锌、氟化镁、氧化锡、二氧化硅、五氧化二钽等材料。
参考附图3和附图4,本发明能够实现生产多样纹路真空蒸镀彩虹膜的关键技术点在于,在位于蒸发源8与主鼓7之间的蒸镀室6中设置有履带式隔流带9,整个履带式隔流带9呈闭环设置。本实施例1在具体设置时在蒸镀室6中设置一个主动辊10和四个从动辊11,其主动辊10的一端设置有驱动电机(图中未画出)用于带动主动辊10转动,其四个从动辊11设置在蒸镀室6的四个拐角处,然后将履带式隔流带9绕在主动辊10和四个从动辊11上,并且其履带式隔流带9的上端水平设置在蒸发源8与主鼓7之间,在主动辊11的传动下履带式隔流带9实现传动。同时,在履带式隔流带9上开设有膜面图案成型孔901,具体地其膜面图案成型孔901的形状可根据客户实际需求进行设计,可将其设计为斜线形(如图4所示)、波浪形、豹纹形、斑马纹形、五角星形、爱心形、花瓣形等其中的一种,但并不仅限于上述形状。
在实际真空蒸镀过程中,由于蒸镀靶材蒸发升华时的温度较高,当向上运动的蒸镀靶材如硫化锌等材料遇到温度较低的履带式隔流带9时易在其表面凝结,从而造成蒸镀靶材的大量浪费。因此,本实施例1还在位于蒸发源8上方旁侧的蒸镀室6内设置有加热装置12,具体地其加热装置12可选用电阻加热箱,并在电阻加热箱的两端面均开设有能够穿过履带式隔流带9的通口(图中未画出),其履带式隔流带9进入电阻加热箱时能够将其加热至不低于400℃,其加热后的履带式隔流带9由于温度较高因此不会使得升华的靶材在其表面大量凝结。另外,由于履带式隔流带9通常需要加热至400℃以上的高温,因此对其材质的选择比较重要,通常可选用铜、钼、钨、不锈钢、二硼化钛、氮化铝、氧化铝、氧化锆等具有高熔点的金属或金属化合物作为原材料制备。
实施例2
实施例2是在实施例1的基础上对其履带式隔流带9的另一种具体布置方案进行说明,下面结合附图2对其进行详细说明。
本实施例2与实施例1技术方案相同之处不做再次说明,其不同之处在于,参考附图2,将一个主动辊10和多个从动辊11设置在真空仓中,其主动辊10的一端设置有驱动电机(图中未画出)用于带动主动辊10转动,然后将多个从动辊11依次沿真空仓1的内圆周壁处设置,再将履带式隔流带9绕在主动辊10和多个从动辊11上,并且将履带式隔流带9的下端穿过蒸镀室6两侧壁水平设置在蒸发源8与主鼓7之间。
本发明还具体介绍了一种使用实施例1公开的多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置进行的镀膜工艺,其具体包括如下五个步骤:
首先,作业人员打开真空仓1,并将蒸镀基材5(如反光植株膜)装在放卷辊2上,然后将反光植株膜5依次经导向辊4、主鼓7、导向辊4收卷到收卷辊3上,并启动氟利昂强制制冷系统,并将该制冷系统与主鼓7的中空内腔之间的气路相接通,从而实现对主鼓7的降温、冷却。
接着,作业人员将真空仓1合上,并保证真空仓1处于密封状态,然后启动抽真空系统,通过多个机械泵、扩散泵的作用将真空仓1的内部抽至负压值为1.3×100至1.3×10-4Pa的状态,并且一直保持抽真空系统处于工作状态,维持内部负压状态。
随后,作业人员同时启动蒸发源8、加热装置12和主动辊10。启动蒸发源8时,即接通蒸发槽801中的第一电极柱802和第二电极柱803,其蒸发舟804被加热使得其中的蒸镀靶材(硫化锌)熔融、沸腾并蒸发向上运动;启动主动辊10时,即启动主动辊10一端部设置的驱动电机,其主动辊10在驱动电机的驱动下实现缓慢转动,同时履带式隔流带9在主动辊10的作用下实现缓慢传动;启动加热装置12,即接通电阻加热箱中的电源,其电阻加热箱中的电阻丝产生高温,从而对缓慢通过电阻加热箱中的履带式隔流带9进行加热,使得整个履带式隔流带9的表面保持在400℃以上的高温。
待蒸镀靶材(硫化锌)汽化蒸发,且整个履带式隔流带9的温度在400℃以上时,作业人员打开收卷电机和控制电机,同时调节主动辊10的转速使得蒸镀基材5与履带式隔流带9的传动速度一致。蒸镀基材5在收卷辊3的牵引下匀速通过蒸镀室6,并且蒸镀基材5是绕在主鼓7的鼓面上。在蒸镀靶材产生汽化向上运动的过程中受到履带式隔流带9的阻流作用,其中通过膜面图案成型孔901的蒸镀靶材能够全部附着凝固在蒸镀基材5的表面,而处于膜面图案成型孔901之外下方的蒸镀靶材在向上运动过程中因受到履带式隔流带9的阻挡作用只有少数部分附着凝固在蒸镀基材5的表面,从而造成此段蒸镀基材5表面的镀层出现局部较厚的情况,并且较厚镀层的形状与膜面图案成型孔901相类似,而此段蒸镀基材5的其他部分因受到履带式隔流带9的隔流作用使得镀层厚度较薄,根据不同厚度的靶材镀层对光的干涉作用不同,因此此段蒸镀基材5的表面出现了具有特殊色彩纹路的膜面(可参考附图5),直至完成整个蒸镀基材5的牵引镀膜过程;
最后,待整个蒸镀基材5的牵引镀膜完成后,作业人员先关闭收卷电机、控制电机和主动辊10端部的驱动电机,再关闭蒸发源8和加热装置12,最后关闭抽真空系统,待真空仓1内的温度恢复至室温(25±5℃)时打开真空仓1取下卷料即可。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置,包括真空仓,所述真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊,所述放卷辊上设置有蒸镀基材,所述收卷辊的一端部设置有收卷电机,所述真空仓的内腔下端设置有蒸镀室,所述真空仓的外部设置有抽真空系统,所述抽真空系统与真空仓相连通,所述真空仓中设置有主鼓,所述主鼓的一端部设置有控制电机,所述主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中,所述主鼓的中空内腔连接有冷却系统,所述蒸镀基材依次经导向辊、主鼓、导向辊收卷到收卷辊上,位于所述主鼓正下方的蒸镀室底壁上设置有蒸发源,其特征在于,位于所述蒸发源与主鼓之间设置有履带式隔流带,所述履带式隔流带呈闭环设置,且履带式隔流带上开设有膜面图案成型孔,位于所述履带式隔流带的内环设置有一个主动辊和若干从动辊,位于所述蒸发源上方旁侧的蒸镀室内设置有加热装置,所述履带式隔流带穿过加热装置设置。
2.根据权利要求1所述的多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置,其特征在于,所述主动辊和若干从动辊均设置在蒸镀室中,所述履带式隔流带围绕主动辊和若干从动辊设置,且履带式隔流带的上端水平设置在蒸发源与主鼓之间。
3.根据权利要求1所述的多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置,其特征在于,所述主动辊和若干从动辊均设置在真空仓中,所述履带式隔流带围绕主动辊和若干从动辊设置,且履带式隔流带的下端穿过蒸镀室两侧壁水平设置在蒸发源与主鼓之间。
4.根据权利要求2或3所述的多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置,其特征在于,所述加热装置为电阻加热箱,所述电阻加热箱的两端面均开设有能够穿过履带式隔流带的通口。
5.根据权利要求1所述的多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置,其特征在于:所述履带式隔流带由铜、钼、钨、不锈钢、二硼化钛、氮化铝、氧化铝、氧化锆其中的一种或多种材料制成。
6.根据权利要求1所述的多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置,其特征在于:所述膜面图案成型孔的形状为斜线形、波浪形、豹纹形、斑马纹形、五角星形、爱心形、花瓣形其中的一种。
7.根据权利要求1所述的多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置,其特征在于:所述蒸发源包括蒸发槽,所述蒸发槽中设置有第一电极柱和第二电极柱,所述第一电极柱和第二电极柱之间设置有蒸发舟,所述蒸发舟中放置有蒸镀靶材。
8.根据权利要求1所述的多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置,其特征在于:所述抽真空系统包括设置在真空仓外部的机械泵和扩散泵,所述机械泵和扩散泵上均连接有真空管,所述真空管上设置有阀门,所述真空管的端部与真空仓相连接通。
9.根据权利要求1所述的多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置,其特征在于:所述冷却系统为氟利昂强制制冷系统,所述氟利昂强制制冷系统通过管路与主鼓的中空内腔相连接。
10.一种使用权利要求1~9任一所述的多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置进行的镀膜工艺,其特征在于,包括如下步骤:
S1:打开真空仓将蒸镀基材装在放卷辊上,并将蒸镀基材依次经导向辊、主鼓、导向辊收卷到收卷辊上,同时启动冷却系统对主鼓进行降温冷却;
S2:合上真空仓保证真空仓处于密封状态,再启动抽真空系统将真空仓内部抽至负压值为1.3×100至1.3×10-4Pa的状态;
S3:同时启动蒸发源、加热装置和主动辊,其蒸发源中的蒸镀靶材被加热至沸点,使得蒸发靶材汽化蒸发,同时履带式隔流带在主动辊的驱动下缓慢通过加热装置,其加热装置对履带式隔流带进行加热,使得整个履带式隔流带的表面温度不低于400℃;
S4:启动收卷电机和控制电机,并且保证蒸镀基材与履带式隔流带的传动速度一致,其蒸镀基材在收卷辊的牵引下通过蒸镀室,并且蒸镀基材绕在主鼓的鼓面上,同时蒸发源中产生汽化的蒸镀靶材向上运动进行镀膜,直至完成整个蒸镀基材的牵引镀膜过程;
S5:待整个蒸镀基材的牵引镀膜完成后,关闭收卷电机、控制电机和主动辊,再关闭蒸发源和加热装置,最后关闭抽真空系统,待真空仓内的温度恢复至室温时打开真空仓取料即可。
CN202010540496.7A 2020-06-15 2020-06-15 一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置及其镀膜工艺 Pending CN111501009A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010540496.7A CN111501009A (zh) 2020-06-15 2020-06-15 一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置及其镀膜工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010540496.7A CN111501009A (zh) 2020-06-15 2020-06-15 一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置及其镀膜工艺

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111501009A true CN111501009A (zh) 2020-08-07

Family

ID=71868776

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010540496.7A Pending CN111501009A (zh) 2020-06-15 2020-06-15 一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置及其镀膜工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111501009A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113463049A (zh) * 2021-06-28 2021-10-01 深圳市康盛光电科技有限公司 一种卷绕式ito镀膜设备及其使用方法
CN114959568A (zh) * 2021-07-21 2022-08-30 杭州星华反光材料股份有限公司 一种高亮炫彩反光服用真空蒸镀硫化锌工艺及其应用

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60197869A (ja) * 1984-03-17 1985-10-07 Rohm Co Ltd スパツタ装置
DE4309717A1 (de) * 1993-03-25 1994-09-29 Leybold Ag Verfahren zum Aufdampfen einer Schicht
CN2848871Y (zh) * 2005-05-03 2006-12-20 杨林 生产彩虹膜或纸的高真空电镀设备
CN102465252A (zh) * 2010-11-02 2012-05-23 三星Sdi株式会社 真空沉积装置和使用该真空沉积装置的真空沉积方法
CN205152316U (zh) * 2015-11-16 2016-04-13 深圳市金升彩包装材料有限公司 彩虹膜真空电镀生产线

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60197869A (ja) * 1984-03-17 1985-10-07 Rohm Co Ltd スパツタ装置
DE4309717A1 (de) * 1993-03-25 1994-09-29 Leybold Ag Verfahren zum Aufdampfen einer Schicht
CN2848871Y (zh) * 2005-05-03 2006-12-20 杨林 生产彩虹膜或纸的高真空电镀设备
CN102465252A (zh) * 2010-11-02 2012-05-23 三星Sdi株式会社 真空沉积装置和使用该真空沉积装置的真空沉积方法
CN205152316U (zh) * 2015-11-16 2016-04-13 深圳市金升彩包装材料有限公司 彩虹膜真空电镀生产线

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113463049A (zh) * 2021-06-28 2021-10-01 深圳市康盛光电科技有限公司 一种卷绕式ito镀膜设备及其使用方法
CN114959568A (zh) * 2021-07-21 2022-08-30 杭州星华反光材料股份有限公司 一种高亮炫彩反光服用真空蒸镀硫化锌工艺及其应用

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111501009A (zh) 一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置及其镀膜工艺
US8062425B2 (en) Vapor deposition system and vapor deposition method
RU2456372C2 (ru) Способ нанесения покрытия на подложку и устройство вакуумного осаждения металлического сплава
TWI277127B (en) A magnetron sputtering device, a cylindrical cathode and a method of coating thin multicomponent films on a substrate
JP4475967B2 (ja) 真空蒸着機
US8202756B2 (en) Organic EL device
JP4870502B2 (ja) 有機elシート製造装置
KR20110059965A (ko) 증착원, 이를 구비하는 증착 장치 및 박막 형성 방법
CN110205601B (zh) 一种薄膜电容器加工用金属薄膜蒸镀设备
CN112877670A (zh) 一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺
CN212335271U (zh) 一种多样纹路真空蒸镀彩虹膜生产装置
CN111501008B (zh) 一种横向真空蒸镀彩虹膜生产装置及其镀膜工艺
CN111501007B (zh) 具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置及其镀膜工艺
TWI649443B (zh) 用於沉積材料於軟質基材上的蒸發設備及其方法
WO2019171545A1 (ja) 成膜装置、蒸着膜の成膜方法および有機el表示装置の製造方法
CN212335279U (zh) 具有正棱柱形主鼓的横向彩虹膜生产装置
CN208472180U (zh) 一种低功率损耗电容器用金属化膜的蒸镀装置
CN114086147B (zh) 一种制备光子晶体薄膜卷绕式真空镀膜设备
CN209443080U (zh) 磁控溅射镀膜系统
US20060159860A1 (en) Plasma treated metallized film
CN207362323U (zh) 一种用于电容膜蒸镀的蒸镀机
CN207468716U (zh) 一种双面真空镀膜卷绕机
CN114318236A (zh) 彩虹膜工艺及彩虹膜生产装置
CN108149214A (zh) 高产能薄膜沉积装置及薄膜批量化生产方法
CN103088291B (zh) 贴合式卷绕真空镀铝机及反光警示带的制作方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20200807