CN111499407A - 平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺和镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺和镀膜装置，采用超声雾化喷涂的镀膜方法将镀膜液雾化分离成细微液滴并喷涂至平板式陶瓷分离膜基板其中一侧表面；再经过烘干设备将膜层加热烘干，随后利用翻转装置将平板式陶瓷分离膜基板翻转180°，使已镀膜一面朝下，未镀层一面朝上；移动至另一台镀膜机和烘干设备依次对所述平板式陶瓷分离膜基板的另一面进行超声雾化喷涂和加热干燥，最终经过高温烧结得到正反两面都镀好膜层的平板式陶瓷分离膜。整个镀膜工艺能连续、自动、快速地进行，极大提高镀膜效率，且得到的膜层厚度薄、膜层均匀性好、过滤性能优异、原料用量少、原料利用率高，经济环保。

Description

平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺和镀膜装置

技术领域

本发明涉及分离膜材料与产品技术领域，尤其涉及一种平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺和镀膜装置。

背景技术

平板式陶瓷分离膜是一种新型无机分离膜材料，拥有很多独特的性能优势，具体表现为机械强度高、化学稳定性好、耐酸碱、耐有机溶剂、耐高温、过滤通量高、使用寿命长、易于清洗恢复、操作维护简单等，由于这些优异的性能，使其广泛应用于食品工业、化工与石油化工、生物医药、环保及能源等领域。

一般制备平板式陶瓷分离膜的工艺流程主要包括以下4个步骤：1)陶瓷膜泥料的配制；2)泥料通过一定的加工成型方式形成陶瓷基板(陶瓷膜支撑体)坯体；3)坯体烧结形成陶瓷基板(陶瓷膜支撑体)；4)陶瓷基板经过镀膜及烧结得到所需平板陶瓷分离膜。其中镀膜这一步工艺流程最为关键，镀膜主要是在陶瓷基板表面涂上一层陶瓷浆料(即镀膜液)，烧结后的浆料粉体与陶瓷基板紧密结合，形成陶瓷膜分离层。该分离层的结构及性质直接决定陶瓷分离膜过滤性能的好坏。陶瓷基板的镀膜方法主要有浸渍提拉法和压缩空气喷涂法。浸渍提拉法是把陶瓷基板两端口封闭后完全浸没在镀膜液中，借助于陶瓷基板本身多孔结构的毛细管作用力把镀膜液吸附在表面，然后提拉得到膜层，该方法所需设备简单，但是膜层通常较厚，一般大于20μm，整个工序耗时长，不易实现自动化，且得到的涂层质量不高，容易产生流挂现象。采用压缩空气喷涂法能有效改善流挂现象，提高生产效率，但镀膜液的利用效率低，很大一部分镀膜液受到高压空气作用而发生液体反弹和飞溅，造成一定程度的浪费和环境污染，同时涂层均匀性较差。为了改善镀膜过程中出现的以上问题，开发出一种新型的镀膜方式显得非常必要。

发明内容

为解决上述问题，本发明提供一种平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺，包括以下步骤：

超声雾化喷涂步骤：通过恒流注射泵系统将镀膜液以预定的流量输送到超声雾化组件中，超声雾化组件通过超声波震动将镀膜液浆料雾化分散成细微颗粒，同时通过供气装置将压缩空气通入超声雾化组件中，利用压缩空气气流带动超声雾化后的细微颗粒沿预定方向喷至所述平板式陶瓷分离膜基板，从而形成膜层；

烘干步骤：将所述平板式陶瓷分离膜基板移动至烘干设备，以将喷涂的膜层加热干燥；

高温处理步骤：将所述平板式陶瓷分离膜基板进行高温处理，使得喷涂的膜层形成多孔陶瓷结构，得到平板式陶瓷分离膜。

根据本发明一实施例，在超声雾化喷涂步骤中，镀膜液的粘度小于90cps，喷涂量为40-300ml/m2，喷涂速度为2-30mL/min，超声波频率为50-120kHz，载气压力小于0.06MPa，雾化后的细微颗粒直径为5-50μm，膜层的厚度为0.2-20μm。

根据本发明一实施例，在超声雾化喷涂步骤中，通过超声雾化组件的多个雾化喷头向所述平板式陶瓷分离膜基板喷涂镀膜液。

根据本发明一实施例，在步骤烘干步骤中，所述烘干设备采用热风吹扫方式进行烘干，烘干温度为40-100

烘干时间为2-10min。

根据本发明一实施例，所述平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺包括翻转步骤：当所述平板式陶瓷分离膜基板的其中一面被喷涂形成所述膜层并通过所述烘干设备烘干之后，将所述平板式陶瓷分离膜基板翻转180°，然后对所述平板式陶瓷分离膜基板的另外一面进行喷涂和烘干。

根据本发明的另一方面，本发明进一步提供一种平板式陶瓷分离膜的镀膜装置，包括镀膜机、烘干设备以及高温处理设备。镀膜机包括恒流注射泵系统、超声雾化组件以及供气装置，所述恒流注射泵系统和供气装置均与所述超声雾化组件连通，所述恒流注射泵系统将镀膜液以预定的流量输送到所述超声雾化组件中，所述超声雾化组件通过超声波震动将镀膜液浆料雾化分散成细微颗粒，同时所述供气装置将压缩空气通入超声雾化组件中，利用压缩空气气流带动超声雾化后的细微颗粒沿预定方向喷至平板式陶瓷分离膜基板，从而形成膜层。烘干设备对喷涂后形成有膜层的所述平板式陶瓷分离膜基板进行烘干。高温处理设备将后烘干后的所述平板式陶瓷分离膜基板进行高温处理，使得喷涂的膜层形成多孔陶瓷结构，得到平板式陶瓷分离膜。

根据本发明一实施例，所述平板式陶瓷分离膜的镀膜装置包括翻转装置，所述翻转装置包括设置于所述平板式陶瓷分离膜基板两侧的夹具和抓手，所述抓手通过吸附的方式或固定连接的方式抓取所述夹具并将所述平板式陶瓷分离膜基板翻转180°。

根据本发明一实施例，所述平板式陶瓷分离膜的镀膜装置包括翻转装置，所述翻转装置包括相互连接的夹具和电动旋转机构，所述夹具的外表面喷涂有聚四氟乙烯涂料或粘贴有美纹纸，所述夹具可操作地夹持所述平板式陶瓷分离膜基板后，所述电动旋转机构将所述平板式陶瓷分离膜基板翻转180°。

根据本发明一实施例，所述平板式陶瓷分离膜的镀膜装置包括输送机构，所述镀膜机和所述烘干设备之间通过所述输送机构连接以传输所述平板式陶瓷分离膜基板，所述输送机构为传送带，所述传送带上设有凹槽，或者所述传送带设有支撑凸部以使得放置的所述平板式陶瓷分离膜基板位置高出所述传送带。

根据本发明一实施例，所述平板式陶瓷分离膜的镀膜装置包括输送机构，所述镀膜机和所述烘干设备之间通过所述输送机构连接以传输所述平板式陶瓷分离膜基板，所述输送机构为传送链，所述镀膜机的喷涂箱内设有挡板，以防止镀膜液喷到传送链上。

与现有技术相比，本技术方案具有以下优点：

第一，本发明采用雾化喷涂工艺，经过超声雾化的镀膜液颗粒分散程度高，从而得到的涂层均匀性好，同时通过控制喷涂流量，实现涂层厚度的高精度调控；

第二，采用雾化喷涂工艺得到的涂层厚度薄，一般厚度为10μm，相比浸涂和普通空气喷涂的50μm的涂层厚度，可节省原料用量，降低成本，同时膜层质量也高；

第三，相比普通空气喷涂的需要0.3-0.6Mpa压力，超声雾化喷涂工艺仅施加极低的载流气压(小于0.06MPa)就能输送液雾至所述平板式陶瓷分离膜基板上，从而极大地减少压缩空气用量，同时杜绝镀膜液的反弹及四处飞溅，从而提高了镀膜液的利用率，避免镀膜液的浪费和环境的污染；

第四，采用本发明提供的工艺和装置喷涂获得的涂层厚度薄、含水量低，因此能快速干燥，并结合翻转装置能够实现双面喷涂，使得整个镀膜过程能连续化、自动化进行，镀膜效率高，运行能耗低。

附图说明

图1是本发明实施例提供的平板式陶瓷分离膜的镀膜装置的结构示意图；

图2是图1所示的平板式陶瓷分离膜的镀膜装置的正视图；

图3是图1所示的平板式陶瓷分离膜的镀膜装置的局部放大图，以展示镀膜机的结构；

图4是图1所示的平板式陶瓷分离膜的镀膜装置的局部放大图，以展示翻转装置的结构；

图5是本发明实施例提供的平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺的流程图。

具体实施方式

以下描述只用于揭露本发明以使得本领域技术人员能够实施本发明。以下描述中的实施例只作为举例，本领域技术人员可以想到其他显而易见的变形。在以下描述中界定的本发明的基本原理可应用于其他实施方案、变形方案、改进方案、等同方案以及其他未背离本发明精神和范围的其他方案。

如图5所示，本发明提供一种平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺，包括超声雾化喷涂步骤、烘干步骤以及高温处理步骤。

超声雾化喷涂步骤：通过恒流注射泵系统将镀膜液以预定的流量输送到超声雾化组件中，超声雾化组件通过超声波震动将镀膜液浆料雾化分散成细微颗粒，同时通过供气装置将压缩空气通入超声雾化组件中，利用压缩空气气流带动超声雾化后的细微颗粒沿预定方向喷至所述平板式陶瓷分离膜基板300，从而形成膜层；

烘干步骤：将所述平板式陶瓷分离膜基板300移动至烘干设备，以将喷涂的膜层加热干燥；

高温处理步骤：将所述平板式陶瓷分离膜基板300进行高温处理，使得喷涂的膜层形成多孔陶瓷结构，得到平板式陶瓷分离膜。

其中，超声雾化喷涂步骤通过镀膜机10来完成，镀膜机10包括恒流注射泵系统、超声雾化组件以及供气装置，恒流注射泵系统和供气装置均与超声雾化组件连通，恒流注射泵系统将储液罐中的镀膜液以预定的流量输送到超声雾化组件中，超声雾化组件通过高频超声波震动将镀膜液浆料雾化分散成细微颗粒，同时供气装置将压缩空气通入超声雾化组件中，利用压缩空气气流带动超声雾化后的细微颗粒沿预定方向离开超声雾化组件并喷至所述平板式陶瓷分离膜基板300，从而形成膜层。

可选地，在实际生产过程中，根据需要镀膜的所述平板式陶瓷分离膜基板300面积的大小，可以在超声雾化组件中组成不同数量的喷头11。一般所述平板式陶瓷分离膜基板300的外形为平板状，长度为100-1200mm，宽度为20-300mm。对于面积较大的所述平板式陶瓷分离膜基板300，通过超声雾化组件的多个喷头11向所述平板式陶瓷分离膜基板300喷涂镀膜液。

镀膜机10还包括伺服电机，伺服电机带动超声雾化组件沿xyz轴三个维度运动，以调整喷头11和所述平板式陶瓷分离膜基板300表面的最佳距离，达到最佳喷涂效果。

在超声雾化喷涂步骤中，首先将制备好的镀膜液浆料放入储液罐中，抽真空排去储液罐中多余气体，设置好超声雾化组件的喷头11的移动轨迹，调整喷头11与所述平板式陶瓷分离膜基板300表面间距。启动程序后，通过恒流注射泵系统将储液罐中的镀膜液浆料输送到超声雾化组件中，镀膜液浆料经超声雾化组件的高频超声波作用雾化成均匀、分散的细微颗粒，并在一定载气压力下带动细微的颗粒均匀涂覆在平板式陶瓷膜基板的表面。其中镀膜液的粘度小于90cps，喷涂量为40-300ml/m2，喷涂速度为2-30mL/min，超声波频率为50-120kHz，载气压力小于0.06MPa，雾化后的细微颗粒直径为5-50μm，形成的膜层厚度为0.2-20μm。

在烘干步骤中，采用烘干设备20对喷涂形成了膜层的所述平板式陶瓷分离膜基板300进行加热干燥。烘干设备20采用热风吹扫所述平板式陶瓷分离膜基板300的方式进行烘干，烘干温度为40-100

烘干时间为2-10min。

由于所述平板式陶瓷分离膜基板300相对的两个表面均需要进行喷涂和烘干，因此所述平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺包括翻转步骤：当所述平板式陶瓷分离膜基板300的其中一面被喷涂形成所述膜层并通过烘干设备20烘干之后，通过翻转装置30将所述平板式陶瓷分离膜基板300翻转180°，然后再对所述平板式陶瓷分离膜基板300的另外一面进行喷涂和烘干。

镀膜机10和烘干设备20的数量均为两台，其中一台镀膜机10、其中一台烘干设备20、翻转装置30、另外一台镀膜机10以及另外一台烘干设备20依次通过输送机构40连接成整体，这样所述平板式陶瓷分离膜基板300先通过输送机构40输送至其中一台镀膜机10，所述平板式陶瓷分离膜基板300的其中一面通过镀膜机10被均匀喷涂镀膜液；接着所述平板式陶瓷分离膜基板300通过输送机构40被输送至其中一台烘干设备20，从而对平板式陶瓷分离膜基板300已经喷涂形成膜层的平板式陶瓷分离膜基板300一面进行烘干；其次所述平板式陶瓷分离膜基板300通过输送机构40输送至翻转装置30，翻转装置30将所述平板式陶瓷分离膜基板300翻转180°，使得之前已经喷涂形成膜层的一面朝下，而还未喷涂形成膜层的另外一面朝上；然后所述平板式陶瓷分离膜基板300通过输送机构40输送至另外一台镀膜机10，以对所述平板式陶瓷分离膜基板300的另外一面进行喷涂并形成膜层；再然后所述平板式陶瓷分离膜基板300通过输送机构40输送至另外一台烘干设备20，以对所述平板式陶瓷分离膜基板300第二次喷涂的一面进行烘干；最终，所述平板式陶瓷分离膜基板300通过高温处理设备进行烧结，获得最终产品。

如图1-4所示，根据本发明的另一方面，本发明进一步提供一种用于实施上述镀膜工艺的平板式陶瓷分离膜的镀膜装置，所述平板式陶瓷分离膜的镀膜装置包括镀膜机10、烘干设备20以及高温处理设备(图中未示出)。

镀膜机10用于通过超声波雾化喷涂的方法对平板式陶瓷分离膜基板300喷涂镀膜液，使得镀膜液在所述平板式陶瓷分离膜基板300表面形成膜层。具体地，镀膜机10内部具有喷涂腔101并包括恒流注射泵系统、超声雾化组件以及供气装置，恒流注射泵系统和供气装置均与超声雾化组件连通，恒流注射泵系统将镀膜液以预定的流量输送到超声雾化组件中，超声雾化组件通过超声波震动将镀膜液浆料雾化分散成细微颗粒，同时供气装置将压缩空气通入超声雾化组件中，利用压缩空气气流带动超声雾化后的细微颗粒沿预定方向喷至平板式陶瓷分离膜基板300，从而形成膜层。

烘干设备20对喷涂后形成膜层的所述平板式陶瓷分离膜基板300进行烘干。

高温处理设备将后烘干后的所述平板式陶瓷分离膜基板300进行高温烧结处理，使得喷涂的膜层形成多孔陶瓷结构，得到平板式陶瓷分离膜产品。

所述平板式陶瓷分离膜的镀膜装置包括翻转装置30，翻转装置30包括设置于所述平板式陶瓷分离膜基板300两侧的夹具31和抓手，抓手通过吸附的方式或固定连接的方式抓取夹具31并将所述平板式陶瓷分离膜基板300翻转180°。

例如，夹具31为设置在所述平板式陶瓷分离膜基板300两侧的铁质夹具，抓手为磁性抓手，抓手可操作地吸附住夹具31后带动所述平板式陶瓷分离膜基板300翻转180°。

又例如，夹具31为塑料夹具，所述平板式陶瓷分离膜基板300的两侧均设有塑料的夹具31，夹具31上设有凹槽，抓手采用机械连接的方式和夹具31固定并带动所述平板式陶瓷分离膜基板300翻转180°。

在另外一个实施例中，翻转装置30包括相互连接的夹具和电动旋转机构，夹具为气动夹具并可操作地夹持所述平板式陶瓷分离膜基板300后，电动旋转机构将所述平板式陶瓷分离膜基板300翻转180°。

为了便于清洁翻转装置30，夹具的外表面喷涂有聚四氟乙烯涂料。或者夹具的外表面粘贴有美纹纸，美纹纸定期更换。

所述平板式陶瓷分离膜的镀膜装置包括输送机构40，镀膜机10和烘干设备20之间通过输送机构40连接为整体以传输所述平板式陶瓷分离膜基板300。输送机构40为传送带或传送链。

当输送机构40采用传送带时，传送带上设有凹槽，这样当所述平板式陶瓷分离膜基板300放置于传送带上时，所述平板式陶瓷分离膜基板300相当于是架空在传送带上的，而不是完全贴合在传送带上，这样可以避免喷涂在所述平板式陶瓷分离膜基板300表面的镀膜液沾在传送带上而影响对后续的平板式陶瓷分离膜基板300的传输。又或者，传送带设有支撑凸部以使得放置的所述平板式陶瓷分离膜基板300位置高出传送带，这同样可使得所述平板式陶瓷分离膜基板300架空在传送带上。

当输送机构40采用传送链时，每一台镀膜机10的喷涂箱内需要设置挡板，以防止喷涂的镀膜液溅射到传送链上。

此外，为了保证传输过程中所述平板式陶瓷分离膜基板300底部的清洁，镀膜机10、烘干设备20、翻转装置30之间各个不同区段的输送机构40分别独立设置，便于单独进行清洁、维护和管理。

所述平板式陶瓷分离膜的镀膜装置在运行时，首先将制备好的镀膜液浆料放入储液罐中，抽真空排去储液罐中多余气体，设置好超声雾化组件的喷头11的移动轨迹以及喷头11与平板式陶瓷分离膜基板300表面之间的距离，再把520mm×250mm的平板式陶瓷分离膜基板300横向放置在输送机构40起始端，启动输送机构40连续输送，将所述平板式陶瓷分离膜基板300移动至其中一台镀膜机10的喷涂腔101内合适位置，通过恒流注射泵系统将储液罐中的镀膜液浆料输送到超声雾化组件中，在50-120kHz超声功率条件下，镀膜液浆料被高频超声波作用雾化成均匀、分散的细微颗粒，在0.01-0.06MPa的载气压力下带动细微的镀膜液颗粒均匀涂覆在所述平板式陶瓷分离膜基板300的其中一侧表面，喷涂过程中的喷涂量为40-300ml/m2，喷涂速度为2-30mL/min。

接着利用输送机构40使所述平板式陶瓷分离膜基板300继续向前移动至其中一台烘干设备20，从而将已经喷涂好的一面膜层加热干燥；再接着，膜层被烘干后的所述平板式陶瓷分离膜基板300继续向前输送至翻转装置30，翻转装置30将所述平板式陶瓷分离膜基板300翻转180°，使所述平板式陶瓷分离膜基板300已喷涂膜层的一面朝下，未喷涂膜层的另一面朝上，以便于进行后续的喷涂；然后输送机构40将所述平板式陶瓷分离膜基板300输送至另外一台镀膜机10，以对所述平板式陶瓷分离膜基板300的另一面进行超声雾化喷涂；超声雾化喷涂结束后，输送机构40继续移动所述平板式陶瓷分离膜基板300经过第另外一台烘干设备20，从而对第二次喷涂的膜层进行干燥；最后将干燥好的带有喷涂膜层的所述平板式陶瓷分离膜基板300输送至输送机构40的末端出料，得到平板式陶瓷分离膜预制件。平板式陶瓷分离膜预制件经高温烧结处理，使喷涂膜层形成多孔陶瓷结构，得到平板式陶瓷分离膜。

本领域技术人员应当理解，上述描述以及附图中所示的本发明的实施例只作为举例，并不限制本发明。本发明的目的已经完整并有效地实现。本发明的功能和结构原理已在实施例中展示和说明，在没有背离所述原理情况下，本发明的实施方式可以有任何变形和修改。

Claims (10)

1.一种平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：

超声雾化喷涂步骤：通过恒流注射泵系统将镀膜液以预定的流量输送到超声雾化组件中，超声雾化组件通过超声波震动将镀膜液浆料雾化分散成细微颗粒，同时通过供气装置将压缩空气通入超声雾化组件中，利用压缩空气气流带动超声雾化后的细微颗粒沿预定方向喷至所述平板式陶瓷分离膜基板，从而形成膜层；

烘干步骤：将所述平板式陶瓷分离膜基板移动至烘干设备，以将喷涂的膜层加热干燥；

高温处理步骤：将所述平板式陶瓷分离膜基板进行高温处理，使得喷涂的膜层形成多孔陶瓷结构，得到平板式陶瓷分离膜。

2.根据权利要求1所述的平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺，其特征在于，在超声雾化喷涂步骤中，镀膜液的粘度小于90cps，喷涂量为40-300ml/m2，喷涂速度为2-30mL/min，超声波频率为50-120kHz，载气压力小于0.06MPa，雾化后的细微颗粒直径为5-50μm，膜层的厚度为0.2-20μm。

3.根据权利要求1所述的平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺，其特征在于，在超声雾化喷涂步骤中，通过超声雾化组件的多个雾化喷头向所述平板式陶瓷分离膜基板喷涂镀膜液。

4.根据权利要求1所述的平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺，其特征在于，在烘干步骤中，所述烘干设备采用热风吹扫方式进行烘干，烘干温度为40-100℃，烘干时间为2-10min。

5.根据权利要求1-4任一所述的平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺，其特征在于，所述平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺包括：

翻转步骤：当所述平板式陶瓷分离膜基板的其中一面被喷涂形成所述膜层并通过所述烘干设备烘干之后，将所述平板式陶瓷分离膜基板翻转180°，然后对所述平板式陶瓷分离膜基板的另外一面进行喷涂和烘干。

6.一种平板式陶瓷分离膜的镀膜装置，其特征在于，包括：

镀膜机，包括恒流注射泵系统、超声雾化组件以及供气装置，所述恒流注射泵系统和供气装置均与所述超声雾化组件连通，所述恒流注射泵系统将镀膜液以预定的流量输送到所述超声雾化组件中，所述超声雾化组件通过超声波震动将镀膜液浆料雾化分散成细微颗粒，同时所述供气装置将压缩空气通入超声雾化组件中，利用压缩空气气流带动超声雾化后的细微颗粒沿预定方向喷至平板式陶瓷分离膜基板，从而形成膜层；

烘干设备，对喷涂后形成有膜层的所述平板式陶瓷分离膜基板进行烘干；

高温处理设备，将后烘干后的所述平板式陶瓷分离膜基板进行高温处理，使得喷涂的膜层形成多孔陶瓷结构，得到平板式陶瓷分离膜。

7.根据权利要求6所述的平板式陶瓷分离膜的镀膜装置，其特征在于，所述平板式陶瓷分离膜的镀膜装置包括翻转装置，所述翻转装置包括设置于所述平板式陶瓷分离膜基板两侧的夹具和抓手，所述抓手通过吸附的方式或固定连接的方式抓取所述夹具并将所述平板式陶瓷分离膜基板翻转180°。

8.根据权利要求6所述的平板式陶瓷分离膜的镀膜装置，其特征在于，所述平板式陶瓷分离膜的镀膜装置包括翻转装置，所述翻转装置包括相互连接的夹具和电动旋转机构，所述夹具的外表面喷涂有聚四氟乙烯涂料或粘贴有美纹纸，所述夹具可操作地夹持所述平板式陶瓷分离膜基板后，所述电动旋转机构将所述平板式陶瓷分离膜基板翻转180°。

9.根据权利要求6-8任一所述的平板式陶瓷分离膜的镀膜装置，其特征在于，所述平板式陶瓷分离膜的镀膜装置包括输送机构，所述镀膜机和所述烘干设备之间通过所述输送机构连接以传输所述平板式陶瓷分离膜基板，所述输送机构为传送带，所述传送带上设有凹槽，或者所述传送带设有支撑凸部以使得放置的所述平板式陶瓷分离膜基板位置高出所述传送带。

10.根据权利要求6-8任一所述的平板式陶瓷分离膜的镀膜装置，其特征在于，所述平板式陶瓷分离膜的镀膜装置包括输送机构，所述镀膜机和所述烘干设备之间通过所述输送机构连接以传输所述平板式陶瓷分离膜基板，所述输送机构为传送链，所述镀膜机的喷涂箱内设有挡板，以防止镀膜液喷到传送链上。

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