CN111469049A - 具有自适应性的抛光头 - Google Patents

Abstract

一种具有自适应性的抛光头，包括枢轴组件、基体及夹片组件，所述枢轴组件由轴体及盘体组成，所述基体上设置有适于与所述轴体配合的轴孔，所述夹片组件上设置有适于与所述盘体配合的凹槽；所述枢轴组件上的轴体与基体上的轴孔配合设置，枢轴组件上的盘体设置在夹片组件上的凹槽内；其特征在于，所述盘体的外周壁设有环形凸缘，所述环形凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁之间设置有缓冲件以避免所述凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁之间产生磨损。

Description

具有自适应性的抛光头

技术领域

本发明涉及化学机械抛光技术领域，尤其涉及一种具有自适应性的抛光头。

背景技术

抛光头是化学机械抛光单元的重要组成部分，相关技术的抛光头相当于一个万向节， 枢轴组件只能吸收夹片组件与基座之间的上下方向振动，在旋转驱动机构的带动下，枢轴 组件相对于基座做高速旋转运动，使得枢轴组件在会出现一定偏转，会产生周向的摆动， 存在定心功能不足、自适应性差的问题。

为了增强枢轴组件及抛光头的自适应性可以设置诸如橡胶垫圈的缓冲件等以增加枢轴 组件的柔性/自适应性，但可能造成枢轴组件与抛光头的其他零部件之间产生摩擦，进而可 能产生金属颗粒和/或离子的污染，这些金属颗粒和/或离子的污染可能降低抛光头的维保周 期甚至于损伤晶圆。在某些制程中，金属颗粒和/或离子污染往往是难以发现但困扰生产的 致命因素。如图9所示，环形凸缘15可能与夹片组件20时间产生磨损从而产生金属颗粒 碎屑。换言之，对于枢轴组件及具有该枢轴组件的抛光头而言，增强自适应性的同时意味 着可能产生金属摩擦进而加剧金属颗粒和/或离子污染从而影响半导体芯片的良品率。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明提出一 种具有自适应性的抛光头。

根据本发明实施例的具有自适应性的抛光头，包括枢轴组件、基体及夹片组件，所述 枢轴组件由轴体及盘体组成，所述基体上设置有适于与所述轴体配合的轴孔，所述夹片组 件上设置有适于与所述盘体配合的凹槽；所述枢轴组件上的轴体与基体上的轴孔配合设置， 枢轴组件上的盘体设置在夹片组件上的凹槽内；其特征在于，所述盘体的外周壁设有环形 凸缘，所述环形凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁之间设置有缓冲件以避免所述凸缘的外 周面与所述凹槽的内周壁之间产生磨损。

可选的，所述缓冲件由软质材料制成。

可选的，所述缓冲件形成为包覆全部所述凸缘的内凹状的环形圈或者形成为竖直的环 形圈。

可选的，所述缓冲件由橡胶材料制成并且厚度不超过所述凸缘的厚度。

可选的，所述缓冲件的厚度为所述凸缘厚度的30％至70％。

可选的，形成为包覆全部所述凸缘的缓冲件的侧壁的厚度小于所述缓冲件的上壁的厚 度且小于所述缓冲件的下壁的厚度。

可选的，所述形成为竖直的环形圈的缓冲件的高度大于等于所述凸缘的高度。

可选的，所述缓冲件与所述凸缘之间为点接触且所述缓冲件的厚度大于等于0.1mm。

可选的，所述缓冲件的厚度设置为小于等于所述环形凸缘的外周面与所述凹槽的内周 壁之间水平距离。

可选的，所述缓冲件的内表面涂覆有防止所述缓冲件与所述凸缘之间黏连的物质，或 者，所述缓冲件的内表面涂覆有增强所述缓冲件与所述凸缘之间润滑的物质。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明 显，或通过本发明的实践了解到。本发明的有益效果至少包括：在增加抛光头的自适应性 的避免了产生金属污染的风险从而降低了维保及清理费用。

附图说明

图1是根据本发明实施例的具有适应性抛光头的枢轴组件的结构示意图；

图2是根据本发明一个实施例的具有适应性抛光头的枢轴组件的剖视意图；

图3是图2中A的放大图；

图4是根据本发明另一个实施例的具有适应性抛光头的枢轴组件的环形凸缘部分的结 构示意图；

图5是根据本发明实施例的具有自适应抛光头的盘体的通孔处的放大图；

图6是根据本发明实施例的具有适应性抛光头的结构示意图；

图7是图6中B部的放大图；

图8是根据本发明实施例的化学机械抛光装置的结构示意图；

图9示出了根据本发明的抛光头的凸缘与夹片之间产生磨损的问题；

图10示出了根据本发明的具有缓冲件的抛光头；

图11示出了根据本发明的具有缓冲件的抛光头的缓冲件的一种实施例；

图12示出了抛光压力增加情况下根据本发明的抛光头较于现有技术的抛光头的优势。

附图标记：

1000：化学机械抛光装置；

100：具有自适应性的抛光头；

10：枢轴组件；11：轴体；12：盘体；13：内腔；14：肋板；15：环形凸缘；16：通 孔；

20：夹片组件，21：凹槽；

30：基体，31：轴孔，32：通气孔；

40：弹性件，41：密封腔，42：压板，43：压盖；

50：缓冲件，51：螺纹紧固件；

60：盖体，61：盖体密封圈，62：安装腔；

70：保持环，71：上吸振环，72：下吸振环；

80：压环；

200：抛光盘；210：抛光垫；

300：基片；

400：缓冲圈。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图 描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、 “外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于 附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所 指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发 明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示 或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两 个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是 机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相 连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于 本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

下面参考附图描述根据本发明实施例的具有自适应性的抛光头100。

如图1-图7所示，根据本发明实施例的具有自适应性的抛光头100可以包括枢轴组件 10和夹片组件20。

具体地，枢轴组件10包括轴体11和盘体12，盘体12与轴体11相连且与轴体11同轴设置，盘体12的外周壁设有环形凸缘15，夹片组件20上设有适于与盘体12配合的凹槽 21，盘体12配合在凹槽21内且环形凸缘15的外周面与凹槽21的内周壁接触。

如图6和图8所示，枢轴组件10固定在夹片组件20上，待抛光的基片300可固定在夹片组件20上，枢轴组件10包括轴体11和盘体12，盘体12设在轴体11的下部且与轴体 11同轴设置，盘体12与轴体11可一体成型。

盘体12的外周壁上设有环形凸缘15，环形凸缘15可由盘体12的外周壁沿径向方向向 外延伸形成，且环形凸缘15沿盘体12的周向延伸，夹片组件20上凹槽21，盘体12配合 在凹槽21内且环形凸缘15适于与凹槽21接触配合，如图6所示，凹槽21的上部形成为 阶梯状，凹槽21的内周壁上形成有阶梯部，环形凸缘15适于与阶梯部配合。

其中，环形凸缘15的外周面与凹槽21内周壁线接触，换言之，盘体12配合在凹槽21内时，环形凸缘15的外周壁与夹片组件20线接触接触配合以防止枢轴组件10发生晃动， 即通过环形凸缘15适于配合在凹槽21内且通过凹槽21的内周壁可对环形凸缘15进行限 位，进而可对盘体12进行限位，防止枢轴组件10发生晃动。

这样，在抛光头100的工作过程中，环形凸缘15位于凹槽21内，通过凹槽21可以对盘体12进行定位以限定盘体15水平方向(例如如图6所示的左右方向)发生平移，同时 由于环形凸缘15与凹槽21的内周壁线接触，使得盘体12在上下方向可发生摆动时，环形 凸缘15可在凹槽21内发生摆动，例如，盘体12与凹槽21同轴设置，在抛光头100工作 时需要盘体12进行适应性摆动时，由于环形凸缘15与凹槽21线接触配合，盘体12可以 相对凹槽21的中心轴线发生倾斜，即盘体12可以进行相对上下方向摆动以进行适应性变 化，从而不仅可保证抛光头100定心的作用，也能够提高抛光头100的自适应性和灵活性。

由此，根据本发明实施例的具有自适应性的抛光头100，环形凸缘15的外周面与凹槽 21的内周壁线接触，这样，在抛光头100旋转时，防止枢轴组件10发生径向方向的移动，以保证抛光头100的定心功能，也可降低盘体12与夹片组件20之间的摩擦，而且环形凸 缘15的外周面与凹槽21的内周壁的线接触，提高抛光头100稳定性和自适应性，提高基 片300的平行度，进而提高基片300的平坦化质量，改善基片300的抛光特性。

其中对于凹槽21的内壁面和环形凸缘15外周面的形状而言，只要能够实现凹槽21的 内壁面和环形凸缘15的外周面线接触即可。

在如图1和图2所示的示例中，在盘体12的过中心轴线的横截面上，环形凸缘15的外周面显示为外轮廓线a，在抛光头100的过轴体11中心轴线的横截面上，凹槽21与环形 凸缘15配合的内周壁为沿竖直方向延伸的直线，可通过对环形凸缘15的外周面结构进行 改善以使得环形凸缘15的外周面与凹槽21的内壁面线接触配合，从而不仅能够实现盘体 12的定心功能，也能够保证盘体12的自适应性和灵活性。也有利于抛光头100的部件的 生产制造，方便盘体12和夹片组件20的装配。对于环形凸缘15的外周面的形状而言，只 要能够实现与凹槽21的内壁面线接触即可。

在本发明的一些示例中，如图1和图2所示，环形凸缘15的外周面在盘体12过中心轴线的横截面上的正投影为外轮廓线a，外轮廓线a可以为弧形。即环形凸缘15的外周面 形成为弧形面，由此，不仅能够实现环形凸缘15的外周面与凹槽21的内壁面的线接触， 而且可使得环形凸缘15的外周更加光滑美观，也有利于环形凸缘15的生产制造，简化制 造工艺。

在本发明的另一些示例中，环形凸缘15的外周面在盘体12过中心轴线的横截面上的 正投影为外轮廓线a，外轮廓线a可以包括至少一条弧形段和至少一条直线段，也就是说， 环形凸缘15的外周面包括曲面和斜面的结合。在如图4所示的示例中，外轮廓线a可以包 括两条轴线段和一条弧线段，其中环形凸缘15外周面的弧形段部分可适于与凹槽21的外 周壁线接触。

在本发明又一些示例中，环形凸缘15的外周面在盘体12过中心轴线的横截面上的正 投影为外轮廓线a，外轮廓线a可以包括多条直线。在发明的一些具体示例中，环形凸缘15的外周面可以形成为大体锥形，其中锥形的尖端可朝向凹槽21的外周面，以实现与凹 槽21的外周面的线接触配合，而且环形凸缘15的外周面与凹槽21的配合处的上下两侧的 空间比较大，也可有利于环形凸缘15的摆动以进一步地提高自适应性。

在本发明的一些实施例中，环形凸缘15的上方和环形凸缘15的下方分别设有吸振环。 通过吸振环从而可吸收枢轴组件10和夹片组件20沿上下方向的振动，以进一步地提高抛 光头100的整体稳定性。在如图6和图7所示的示例中，环形凸缘15的上方设有上吸振环71，环形凸缘15的下方设有下吸振环72，下吸振环72设在环形凸缘15和夹片组件20之 间。进一步地，如图7所示，吸振环与凹槽21的内周壁之间可间隔开一定距离，由此，从 而有利于环形凸缘15在凹槽21内的上下摆动。

可选地，如图5所示，环形凸缘15与吸振环配合的一侧上设有通孔16。通孔16可以作为一个工艺孔设计，从而可以方便拆卸吸振环，保障枢轴组件10的后期维护的便捷性。如图6所示，具有自适应性的抛光头100还可以包括压环80，压环80固定在盘体12的环 形凸缘15上，从而实现盘体12与夹片组件20的连接固定。在如图7所示的示例中，压环 80形成为圆环状且压环80设在上吸振环71的上方，并至少一部分覆盖上吸振环71且另 一部分与夹片组件20连接固定。可选地，压环80可通过螺纹紧固件51固定在夹片组件20上以实现盘体12与夹片组件20的连接固定。

在本发明的一些实施例中，盘体12与轴体11之间可限定出内腔13，内腔13内设有若 干肋板14，肋板14分别与轴体11的外周壁和内腔13的内周壁相连。如图1、图2和图6 所示，盘体12设在轴体11的下部，轴体11与盘体12同轴设置，盘体12的内壁面与轴体 11的外壁面之间限定出内腔13，多个肋板14连接在轴体11和盘体12之间且位于内腔13 内，从而可增强枢轴组件10的结构强度。

可选地，每个肋板14可沿内腔13的径向延伸，且若干肋板14沿内腔13的周向间隔开设置。从而可进一步地提高枢轴组件10的强度。如图1所示，内腔13内设有多个肋板 14，每个肋板14的两端分别与轴体11和盘体12相连，且沿内腔13的径向方向延伸，多 个肋板14沿内腔13的周向均匀间隔开设置。

在本发明的一些实施例中，抛光头100还可以包括：基体30，基体30具有轴孔31，枢轴组件10设在基体30和夹片组件20之间且轴体11配合在轴孔31内。由此，轴体11 限制在轴孔31内，盘体12限制在夹片组件20的凹槽21内，通过轴体11与基体30的配 合以及盘体12与夹片组件20的配合，从而实现了枢轴组件10的有效定心，提高枢轴组件 10的自适应性。枢轴组件10在吸收夹片组件20上下方向振动的同时，能够有效降低枢轴 组件10的周向的摆动，有效提高基片300与抛光垫210的平行度，保证基片300的全局化 平坦效果。

可选地，基体30与夹片组件20之间可设有弹性件40，弹性件40、基体30和夹片组件20之间限定出密封腔41。如图6所示，基体30的下部通过弹性件40与夹片组件20相 连，弹性件40的一端固定在夹片组件20上，弹性件40、基体30、夹片组件20和枢轴组 件10之间限定出密封腔41，通过控制密封腔41内的压力，从而可控制夹片组件20的上 下移动。在如图6所示的示例中，弹性件40的上端可通过压板42固定在基体30上，弹性 件40的下端通过压盖43固定在夹片组件20上。

进一步地，基体30可设有通气孔32，通气孔32连通气源和密封腔41，通过控制通气孔32的开合，以实现对密封腔41室的内部压力的控制，从而实现夹片组件20上基片300 的拿取。如图6所示，机体的上部有通气孔32，通气孔32沿在上下方向上贯穿基体30， 通气孔32可通过管路与通气源相连，通气源通过通气孔32以向密封腔41内通入气体，进 而控制密封腔41内的压力。

在本发明的一些示例中，具有自适应性的抛光头100还可以包括缓冲件50，缓冲件50 设在夹片组件20上且位于基体30和夹片组件20之间。由此，基体30的下端与缓冲件50接触，从而可有效避免基体30与夹片组件20的硬接触，保证基体30和夹片组件20的缓 冲效果，减少夹片组件20和基体30的损坏。

进一步地，缓冲件50可以为缓冲柱，缓冲柱可以为多个。由此，基体30的下端可与多个缓冲柱接触配合，从而可增强了基体30和夹片组件20之间的缓冲效果，进一步地提 高抛光头100的自适应性。而且通过设置多个缓冲柱也可进一步地提高缓冲效果，可选地， 多个缓冲柱可沿夹片组件20的周向间隔开设置。由此，使得基体30与夹片组件20之间的 缓冲效果更加均匀，使得抛光头100结构更加稳定。进一步地，缓冲柱可以由工程塑料制 作而成，工程塑料具有很好的弹性，能够有效避免基体30和夹片组件20的硬接触。

在如图6和图7所示的示例中，盘体12的上方设有上吸振环71和压环80，通过压环80可将上吸振环71固定在夹片组件20上，缓冲柱设在压环80上方，并可通过螺钉进行 固定，其中，螺钉可穿过压环80、上吸振环71与夹片组件20相连，由此，通过一个螺钉 从而能够实现对压环80、上吸振环71和缓冲柱的固定，结构简单且装配方便。

在本发明的一些实施例中，具有自适应性的抛光头100还可以包括盖体60，盖体60固定在夹片组件20上且与夹片组件20设有盖体密封圈61。如图6所示，盖体60固定在 夹片组件20的上方，且与夹片组件20共同限定出安装腔62，盖体60的上端部分敞开， 基体30和枢轴组件10至少部分位于安装腔62内，盖体密封圈61设在盖体60和夹片组件 20之间，通过盖体密封圈61从而可防止抛光液进入抛光头100内。

在本发明的一些实施例中，具有自适应性的抛光头100还可以包括保持环70，保持环 70安装在夹片组件20的下端，基片300位于夹片组件20的下方且位于保持环70内。通 过保持环70从而可对基片300进行限位，以防止基片300偏离或飞出。在如图6和图8所 示的示例中，夹片组件20的下部具有安装槽，保持环70安装在安装槽内且保持环70的下 端面超出夹片组件20的下端面，基片300吸附在夹片组件20上且位于保持环70。

如图8所示，图8为具有上述实施例的自适应性抛光头100的化学抛光装置1000，根据本发明实施例的化学机械抛光装置1000可以包括抛光盘200和抛光头100。

具体地，抛光盘200上设有抛光垫210，抛光头100为上述实施例的具有自适应性的抛 光头100，抛光头100设在抛光盘200的上方，基片300安装在抛光头100和抛光垫210 之间。

其中，基片300可以压合在抛光垫210与夹片组件20之间，抛光盘200旋转，同时抛光头100自传及抛光头100的前后移动，基片300与抛光垫210之间供应适量的抛光液， 以完成基片300的化学机械抛光。

在化学机械抛光过程中，抛光头100在驱动机构的带动下高速旋转，带动夹片组件20 上的基片300旋转，相关技术的化学机械抛光装置1000，抛光头100在外界因素及内部因素的影响下，抛光头100会出现不同程度的振动，即而影响夹片组件20上的基片300与抛 光垫210的平行度，而本发明实施例的化学机械抛光装置1000，通过设置上述实施例的抛 光头100，夹片组件20上的基片300与抛光垫210能够保持一定的平行度，从而可保证化 学机械抛光装置1000良好的抛光特性。

进一步的，为了在保证抛光头100具有较好的自适应性的同时避免凸缘15的径向外侧 面与夹片组件20的凹槽21之间产生磨损金属离子和/或金属颗粒，可以在凸缘15的径向 圆周外侧设置竖直的环状的缓冲圈400，以起到隔离缓冲的作用，防止凸缘15的径向外侧 面与夹片组件20的凹槽21之间产生磨损金属离子和/或金属颗粒；并且，为了便于安装缓 冲圈400和吸振环71、吸振环72，可以将缓冲圈400和吸振环71、吸振环72三者形成为 一个整体的连体式的缓冲圈400，这种连体式的缓冲圈400可以全部或者部分的包覆凸缘 15的外表面。

缓冲圈400可由NBR(丁腈胶)、SBR(丁苯胶)、HNBR(氢化丁腈胶)、EPDM(三元乙丙胶)、SILICONE(硅胶)、VITON(氟胶)、CR(氯丁胶),FFKM(全氟橡胶)、PPS、PEEK等橡胶 和/或塑料材料中的至少一种制成，并且优选使用聚四氟乙烯(PTFE)制成，经过试验对照不 难发现，聚四氟乙烯制成的缓冲圈400具有较好的耐磨性使用周期较长。作为本实施例的 一种变体，所述缓冲圈400也可以形成为这样的一种连体式结构：其上壁和下壁均由橡胶 材料制成以增加抛光头100的自适应性，并且所述缓冲圈400的上壁和下壁均由塑料材质 制成以增强其耐磨性。

作为根据本发明的自适应性抛光头的一种变体，可以在所述缓冲圈400的圆周内侧壁 上设置孔结构以进一步增强其自适应性，或者可在所述内表面涂覆改性硅油或滑石粉等防止黏连的 物质或润滑剂等以防止所述凸缘15在与缓冲圈400摩擦过程中黏连不利于抛光头的维保作业增加成本。

图12示出了根据本发明的具有自适应性的抛光头的与传统自适应性抛光头至今的有益 效果，具体而言，随着主抛光压力(main polishing pressure)的不断增加，传统的自适应性抛 光头的凸缘15会与凹槽21的表面之间产生一定深度的磨痕，并且随着抛光压力的增加， 所述磨痕的深度也随之增加，此种情况下，传统的自适应性抛光头会产生一定的金属颗粒、 微粒和/或离子污染，而根据本发明的具有自适应性的抛光头则完全不会产生任何磨痕从而 避免了金属颗粒、微粒和/或离子污染的问题。

为了更进一步在延长缓冲圈400的寿命以增加维保期的同时不劣化所述抛光头100的 自适应性，对于弹性模量0.0078GPa且泊松比0.47的橡胶材料制成的缓冲圈400的厚度优 选设置为所述凸缘15厚度的30％至70％，并且当其厚度设置为所述凸缘15的厚度的40％-60％时可以取得维保期和自适应性之间较好的平衡，所述缓冲圈400的具体厚度还要视其材料的弹性模量等性能而定。

进一步的，形成为包覆全部所述凸缘的缓冲圈400的侧壁的厚度小于所述缓冲圈400 的上壁的厚度且小于缓冲圈400的下壁的厚度，以减小所述缓冲圈400对抛光头100的自 适应性的影响；或者，形成为竖直的环形圈的缓冲圈400的高度大于等于所述凸缘15的高 度，以减小所述缓冲圈400对抛光头100的自适应性的影响。进一步的，为了防止摩擦接触对抛光头100的自适应性的影响，缓冲圈400与凸缘15之间为点接触且所述缓冲圈400 的厚度大于等于0.1mm，这样既可以实现在不影响自适应性的同时避免所述缓冲圈400产 生磨损增加维保成本。

进一步的，为了防止缓冲圈400与凸缘15之间产生预紧压缩影响抛光头100的自适应 性，缓冲圈400的厚度优选设置为小于等于环形的凸缘15的外周面与凹槽21的内周壁之间水平距离。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅 仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面” 可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、 或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点 包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必 须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结 合和组合。

尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的， 不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例 进行变化、修改、替换和变型。

Claims (10)

1.一种具有自适应性的抛光头，包括枢轴组件、基体及夹片组件，所述枢轴组件由轴体及盘体组成，所述基体上设置有适于与所述轴体配合的轴孔，所述夹片组件上设置有适于与所述盘体配合的凹槽；所述枢轴组件上的轴体与基体上的轴孔配合设置，枢轴组件上的盘体设置在夹片组件上的凹槽内；其特征在于，所述盘体的外周壁设有环形凸缘，所述环形凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁之间设置有由包含塑料或橡胶材料制成的缓冲件，以避免所述凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁之间产生磨损。

2.根据权利要求1所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缓冲件由软质材料制成。

3.根据权利要求1所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缓冲件形成为包覆全部所述凸缘的内凹状的环形圈或者形成为竖直的环形圈。

4.根据权利要求1所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缓冲件由橡胶材料制成并且厚度不超过所述凸缘的厚度。

5.根据权利要求4所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缓冲件的厚度为所述凸缘厚度的30％至70％。

6.根据权利要求3所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，形成为包覆全部所述凸缘的缓冲件的侧壁的厚度小于所述缓冲件的上壁的厚度且小于所述缓冲件的下壁的厚度。

7.根据权利要求3所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述形成为竖直的环形圈的缓冲件的高度大于等于所述凸缘的高度。

8.根据权利要求1所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缓冲件与所述凸缘之间为点接触且所述缓冲件的厚度大于等于0.1mm。

9.根据权利要求1或8所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缓冲件的厚度设置为小于等于所述环形凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁之间水平距离。

10.根据权利要求9所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缓冲件的内表面涂覆有防止所述缓冲件与所述凸缘之间黏连的物质，或者，所述缓冲件的内表面涂覆有增强所述缓冲件与所述凸缘之间润滑的物质。

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