CN111463359B - 柔性基板及其制作方法、显示面板 - Google Patents

柔性基板及其制作方法、显示面板 Download PDF

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Abstract

本申请公开了一种柔性基板及其制作方法、显示面板。该柔性基板包括第一衬底、位于该第一衬底上的第二衬底、及位于该第二衬底上的第三衬底；该第一衬底为刚性衬底，该第二衬底为柔性衬底，该第三衬底为刚性衬底。本申请通过将基板设置为刚柔刚的三层结构，形成了互穿网络结构的柔性基板，使得膜层之间具有很高的黏结力，有效缓解了显示面板在弯折或折叠过程中基板受到的应力，避免了基板损坏，延长了显示面板的使用寿命。

Description

柔性基板及其制作方法、显示面板
技术领域
本申请涉及显示领域，尤其涉及显示技术领域，具体涉及一种柔性基板及其制作方法、显示面板。
背景技术
随着生活水平的提高，柔性显示屏幕上应用越来广泛。
现有技术中，显示屏幕在弯曲甚至折叠过程中，基板受到的应力极大，会导致基板表面损伤，降低了显示屏幕的使用寿命。
因此，亟需一种柔性基板及其制作方法、显示面板以解决上述技术问题。
发明内容
本申请提供了一种柔性基板及其制作方法、显示面板，以解决现有技术中，显示屏幕在弯曲甚至折叠过程中，基板受到的应力极大，会导致基板表面损伤，降低了显示屏幕的使用寿命的技术问题。
为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：
一种柔性基板，所述柔性基板包括第一衬底、位于所述第一衬底上的第二衬底、及位于所述第二衬底上的第三衬底；
所述第一衬底的材料包括第一物质；
所述第二衬底的材料包括第二物质；
所述第三衬底的材料包括第三物质；
所述第一物质、所述第二物质、及所述第三物质的结构通式为
Figure BDA0002440811930000011
其中，所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第一物质中的N与(M+N)的比值，所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第三物质中的N与(M+N)的比值，R1和/或R2和/或R3中包括四元环、五元环、苯环、联苯环及奈环中的一种或多种，R4为烷基链。
在本申请的柔性基板中，R1和/或R2和/或R3中还包括氟取代基、甲苯及苯环中的一种或多种。
在本申请的柔性基板中，
所述第一物质中的M与(M+N)的比值为75～95％；
所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于80％；
所述第三物质中的M与(M+N)的比值为75～95％。
在本申请的柔性基板中，所述第一衬底、所述第二衬底、及所述第三衬底在300nm～320nm的光学透过率小于0.1％。
在本申请的柔性基板中，所述第一衬底的厚度大于所述第二衬底的厚度，所述第二衬底的膜厚大于所述第三衬底的厚度。
一种柔性基板的制作方法，包括：
在玻璃基板上形成第一膜层，将所述第一膜层经第一工艺形成第一预衬底；
在所述第一预衬底上形成第二膜层，将所述第二膜层经第二工艺形成第二预衬底；
在所述第二预衬底上形成第三膜层，将所述第三膜层经第三工艺形成第三预衬底；
将所述第一预衬底、第二预衬底、及第三预衬底经第四工艺形成第一衬底、第二衬底、及第三衬底；
利用激光将所述玻璃基板与所述第一衬底分离，以形成所述柔性基板；
其中，所述第一衬底的材料包括第一物质，所述第二衬底的材料包括第二物质，所述第三衬底的材料包括第三物质，所述第一物质、所述第二物质、及所述第三物质的结构通式为
Figure BDA0002440811930000021
所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第一物质中的N与(M+N)的比值，所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第三物质中的N与(M+N)的比值，R1和/或R2和/或R3中包括四元环、五元环、苯环、联苯环及奈环中的一种或多种，R4为烷基链。
在本申请的柔性基板的制作方法中，所述第一膜层的材料包括第四物质，所述第二膜层的材料包括第五物质，所述第三膜层的材料包括第六物质，所述第四物质、所述第五物质、及所述第六物质的结构通式为
Figure BDA0002440811930000031
在本申请的柔性基板的制作方法中，所述第一预衬底的材料包括第七物质，所述第二预衬底的材料包括第八物质，所述第三预衬底的材料包括第九物质；
经过所述第一工艺后，所述第七物质的亚胺化度小于30％；
经过所述第二工艺后，所述第八物质的亚胺化度小于30％；
经过所述第三工艺后，所述第九物质的亚胺化度小于30％。
在本申请的柔性基板的制作方法中，
经过第四工艺后，所述第一物质中的亚胺化度大于或等于99％；
经过第四工艺后，所述第二物质的亚胺化度大于或等于99％；
经过第四工艺后，所述第三物质的亚胺化度大于或等于99％。
一种显示面板，所述显示面板包括如任意一上述的柔性基板。
有益效果：本申请通过将基板设置为刚柔刚的三层结构，形成了互穿网络结构的柔性基板，使得膜层之间具有很高的黏结力，有效缓解了显示面板在弯折或折叠过程中基板受到的应力，避免了基板损坏，延长了显示面板的使用寿命。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本申请的柔性基板的结构示意图；
图2为本申请的柔性基板的制作方法的步骤流程示意图；
图3为本申请的柔性基板的制作方法的步骤流程中的结构示意图；
图4为本申请的显示面板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
显示屏幕在弯曲甚至折叠过程中，基板受到的应力极大，会导致基板表面损伤，降低了显示屏幕的使用寿命。基于此，本申请提出了一种柔性基板及其制作方法、显示面板。
请参阅图1、图3，本申请提供了一种柔性基板10，所述柔性基板10包括第一衬底11、位于所述第一衬底11上的第二衬底12、及位于所述第二衬底12上的第三衬底13；
所述第一衬底11的材料包括第一物质；
所述第二衬底12的材料包括第二物质；
所述第三衬底13的材料包括第三物质；
所述第一物质、所述第二物质、及所述第三物质的结构通式为
Figure BDA0002440811930000051
其中，所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第一物质中的N与(M+N)的比值，所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第三物质中的N与(M+N)的比值，R1，R2和R3中包括四元环、五元环、苯环、联苯环及奈环中的一种或多种，R4为烷基链。
本申请通过将基板设置为刚柔刚的三层结构，形成了互穿网络结构的柔性基板，使得膜层之间具有很高的黏结力，有效缓解了显示面板在弯折或折叠过程中基板受到的应力，避免了基板损坏，延长了显示面板的使用寿命。
现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。
请参阅图1、图3，所述柔性基板10包括第一衬底11、位于所述第一衬底11上的第二衬底12、及位于所述第二衬底12上的第三衬底13。所述第一衬底11的材料包括第一物质。所述第二衬底12的材料包括第二物质。所述第三衬底13的材料包括第三物质。所述第一物质、所述第二物质、及所述第三物质的结构通式为
Figure BDA0002440811930000061
其中，所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第一物质中的N与(M+N)的比值，所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第三物质中的N与(M+N)的比值，R1，R2和R3中包括四元环、五元环、苯环、联苯环及奈环中的一种或多种，R4为烷基链。
本实施例中，N的链段代表着柔性链段，M的链段代表着刚性链段。
本实施例中，R1和/或R2和/或R3中还包括氟取代基、甲苯及苯环中的一种或多种。通过对R1和/或R2和/或R3中取代基的改变，从而使得所述是第一衬底和/或所述第二衬底和/或所述第三衬底变为透明衬底，增加柔性基板的透过率，增大色彩亮度。
本实施例中，所述第一物质中的M与(M+N)的比值为75～95％。所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于80％。所述第三物质中的M与(M+N)的比值为75～95％。由此进一步优化三层衬底的刚性或柔性，使得第一衬底、及第三衬底为刚性衬底，给所述柔性基板承受较强的抗压冲击或提高柔性基板的物理性能。使得所述第二衬底为柔性衬底，给所述柔性基板提供更强的弯折、折叠性能，不易折断损坏。可以提高柔性基板的衬底之间的黏结力，也可以降低甚至消除柔性基板在弯曲甚至折叠时的应力，从而提高柔性基板在弯曲甚至折叠时的信赖性。
本实施例中，所述第一衬底、所述第二衬底、及所述第三衬底在300nm～320nm的光学透过率小于0.1％。在制作过程中，需要将所述第一衬底在玻璃基板上形成，在制作完成后，需要使用300nm～320nm的激光进行剥离，衬底在此范围激光透过率小于0.1％，可以更好地进行玻璃基板的脱离，同时也更好地保护了衬底以及柔性基板，防止柔性基板受到高能的激光破坏。
本实施例中，所述第一衬底、所述第二衬底、及所述第三衬底在308nm的光学透过率小于0.1％。在制作过程中，需要将所述第一衬底在玻璃基板上形成，在制作完成后，需要使用308nm的激光进行剥离，衬底在此范围激光透过率小于0.1％，可以更好地进行玻璃基板的脱离，同时也更好地保护了衬底以及柔性基板，防止柔性基板受到高能的激光破坏。
本实施例中，所述第一衬底11的厚度大于所述第二衬底12的厚度，所述第二衬底12的膜厚大于所述第三衬底13的厚度，具体请参阅图1。在制作过程中，需要将所述第一衬底11在玻璃基板14上形成，具体请参阅图3，在制作完成后，需要使用308nm的激光进行剥离，较厚的第一衬底可以对柔性基板有较好的保护作用，防止柔性基板受到高能的激光破坏。
本实施例中，所述第一物质中的亚胺化度大于或等于99％。所述第二物质的亚胺化度大于或等于99％。所述第三物质的亚胺化度大于或等于99％。所述亚胺化度可以通过红外谱图计算，在此不做赘述。所述衬底中的材料的亚胺化度大于或等于99％，从而提供给柔性基板更好的柔性支持以及衬底的平坦性，三层柔性基板之间具有很高的黏结力，三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第一衬底中的溶剂的质量占所述第一衬底质量的质量分数小于0.5％。所述第二衬底中的溶剂的质量占所述第二衬底质量的质量分数小于0.5％。所述第三衬底中的溶剂质量占所述第三衬底质量的质量分数小于0.5％。衬底中的溶剂含量较低，可以更好地塑形，形成更平坦可靠的衬底以及柔性基板，三层柔性基板之间具有很高的黏结力，三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第一衬底、所述第二衬底、及所述第三衬底的溶剂可以为极性非质子溶剂。极性非质子溶剂包括N-甲基吡咯烷酮或二甲基乙酰胺，在此不做限定。
本申请通过将基板设置为刚柔刚的三层结构，形成了互穿网络结构的柔性基板，使得膜层之间具有很高的黏结力，有效缓解了显示面板在弯折或折叠过程中基板受到的应力，避免了基板损坏，延长了显示面板的使用寿命。
请参阅图1～图3，本申请还提供了一种柔性基板10的制作方法，包括：
S100、在玻璃基板14上形成第一膜层，将所述第一膜层经第一工艺形成第一预衬底；
S200、在所述第一预衬底上形成第二膜层，将所述第二膜层经第二工艺形成第二预衬底；
S300、在所述第二预衬底上形成第三膜层，将所述第三膜层经第三工艺形成第三预衬底；
S400、将所述第一预衬底、第二预衬底、及第三预衬底经第四工艺形成第一衬底11、第二衬底12、及第三衬底13；
S500、利用激光将所述玻璃基板14与所述第一衬底11分离，以形成所述柔性基板10；
其中，所述第一衬底的材料包括第一物质，所述第二衬底的材料包括第二物质，所述第三衬底的材料包括第三物质，所述第一物质、所述第二物质、及所述第三物质的结构通式为
Figure BDA0002440811930000081
所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第一物质中的N与(M+N)的比值，所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第三物质中的N与(M+N)的比值，R1和/或R2和/或R3中包括四元环、五元环、苯环、联苯环及奈环中的一种或多种，R4为烷基链。
现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。
请参阅图1～图3，所述柔性基板的制作方法包括：
S100、在玻璃基板上形成第一膜层，将所述第一膜层经第一工艺形成第一预衬底。
本实施例中，所述第一膜层的材料包括第四物质，所述第四物质的结构通式为
Figure BDA0002440811930000091
本实施例中，N的链段代表着柔性链段，M的链段代表着刚性链段。
本实施例中，所述第四物质中的M与(M+N)的比值为75～95％。由此进一步优化三层衬底的刚性或柔性，使得第一衬底为刚性衬底，给所述柔性基板承受较强的抗压冲击或提高柔性基板的物理性能。
本实施例中，所述第一预衬底的材料包括第七物质，经过第一工艺后，所述第一预衬底中的溶剂质量占所述第一预衬底质量的质量分数大于20％。使得得到未完全固化的第一预衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第一工艺条件为温度小于200℃，可以蒸发较少的溶剂，使得得到未完全固化的第一预衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第一工艺条件为温度为100℃～200℃，可以蒸发较少的溶剂，使得得到未完全固化的第一预衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第一预衬底的材料包括第七物质。所述第七物质的结构通式为
Figure BDA0002440811930000092
其中，A、B链段为已经亚胺化链段，X、Y链段为未亚胺化链段，在只做说明，不作为亚胺化度的计算，亚胺化度可以通过红外谱图计算，在此不做赘述。经过所述第一工艺后，所述第七物质的亚胺化度小于30％。使得得到亚胺化度较低的第一预衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
S200、在所述第一预衬底上形成第二膜层，将所述第二膜层经第二工艺形成第二预衬底。
本实施例中，所述第二膜层的材料包括第五物质，所述第五物质的结构通式为
Figure BDA0002440811930000101
本实施例中，N的链段代表着柔性链段，M的链段代表着刚性链段。
本实施例中，所述第五物质中的N与(M+N)的比值大于80％。由此进一步优化三层衬底的刚性或柔性，使得第二衬底为柔性衬底，给所述柔性基板提供更强的弯折、折叠性能，不易折断损坏。
本实施例中，所述第二预衬底的材料包括第八物质，经过第二工艺后，所述第二预衬底中的溶剂质量占所述第二预衬底质量的质量分数大于20％。使得得到未完全固化的第二预衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第二工艺条件为温度小于200℃，可以蒸发较少的溶剂，使得得到未完全固化的第二预衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第二工艺条件为温度为100℃～200℃，可以蒸发较少的溶剂，使得得到未完全固化的第二预衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第二预衬底的材料包括第八物质。所述第八物质的结构通式为
Figure BDA0002440811930000111
其中，A、B链段为已经亚胺化链段，X、Y链段为未亚胺化链段，在只做说明，不作为亚胺化度的计算，亚胺化度可以通过红外谱图计算，在此不做赘述。经过所述第二工艺后，所述第八物质的亚胺化度小于30％。使得得到亚胺化度较低的第二预衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
S300、在所述第二预衬底上形成第三膜层，将所述第三膜层经第三工艺形成第三预衬底。
本实施例中，所述第三膜层的材料包括第六物质，所述第六物质的结构通式为
Figure BDA0002440811930000112
本实施例中，N的链段代表着柔性链段，M的链段代表着刚性链段。
本实施例中，所述第六物质中的M与(M+N)的比值为75～95％。由此进一步优化三层衬底的刚性或柔性，使得第三衬底为刚性衬底，给所述柔性基板承受较强的抗压冲击或提高柔性基板的物理性能。
本实施例中，所述第三预衬底的材料包括第九物质，经过第三工艺后，所述第三预衬底中的溶剂质量占所述第三预衬底质量的质量分数大于20％。使得得到未完全固化的第三预衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第三工艺条件为温度小于200℃，可以蒸发较少的溶剂，使得得到未完全固化的第三预衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第三工艺条件为温度为100℃～200℃，可以蒸发较少的溶剂，使得得到未完全固化的第三预衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第三预衬底的材料包括第九物质。所述第七物质的结构通式为
Figure BDA0002440811930000121
其中，A、B链段为已经亚胺化链段，X、Y链段为未亚胺化链段，在只做说明，不作为亚胺化度的计算，亚胺化度可以通过红外谱图计算，在此不做赘述。
经过所述第三工艺后，所述第九物质的亚胺化度小于30％。使得得到亚胺化度较低的第三预衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
S400、将所述第一预衬底、第二预衬底、及第三预衬底经第四工艺形成第一衬底、第二衬底、及第三衬底。
本实施例中，所述第四工艺的工艺条件包括为温度为大于等于350℃，可以蒸发大部分的溶剂，使得得到完全固化的第一衬底、第二衬底、及第三衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第四工艺的工艺条件包括为温度为350℃～450℃，可以蒸发大部分的溶剂，使得得到完全固化的第一衬底、第二衬底、及第三衬底，可以提高衬底之间的黏结力，在后续步骤中三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第一衬底的材料包括第一物质，所述第二衬底的材料包括第二物质，所述第三衬底的材料包括第三物质，所述第一物质、所述第二物质、及所述第三物质的结构通式为
Figure BDA0002440811930000122
所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第一物质中的N与(M+N)的比值，所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第三物质中的N与(M+N)的比值，R1和/或R2和/或R3中包括四元环、五元环、苯环、联苯环及奈环中的一种或多种，R4为烷基链。
本实施例中，所述第一物质～第九物质中的R1、R2、R3、及R4代号相同，在此做总说明。
本实施例中，R1和/或R2和/或R3中还包括氟取代基、甲苯及苯环中的一种或多种。通过对R1和/或R2和/或R3中取代基的改变，从而使得所述是第一衬底和/或所述第二衬底和/或所述第三衬底变为透明衬底，增加柔性基板的透过率，增大色彩亮度。
本实施例中，所述第一物质中的M与(M+N)的比值为75～95％。所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于80％。所述第三物质中的M与(M+N)的比值为75～95％。由此进一步优化三层衬底的刚性或柔性，使得第一衬底、及第三衬底为刚性衬底，给所述柔性基板承受较强的抗压冲击或提高柔性基板的物理性能。使得所述第二衬底为柔性衬底，给所述柔性基板提供更强的弯折、折叠性能，不易折断损坏。可以提高柔性基板的衬底之间的黏结力，也可以降低甚至消除柔性基板在弯曲甚至折叠时的应力，从而提高柔性基板在弯曲甚至折叠时的信赖性。
本实施例中，经过第四工艺后，所述第一物质中的亚胺化度大于或等于99％。经过第四工艺后，所述第二物质的亚胺化度大于或等于99％。经过第四工艺后，所述第三物质的亚胺化度大于或等于99％。所述亚胺化度可以通过红外谱图计算，在此不做赘述。使得得到亚胺化度极高第一衬底、第二衬底、及第三衬底，从而提供给柔性基板更好的柔性支持以及衬底的平坦性，三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
本实施例中，所述第一衬底、所述第二衬底、所述第三衬底、所述第一预衬底、所述第二预衬底、及所述第三预衬底的溶剂可以为极性非质子溶剂。极性非质子溶剂包括N-甲基吡咯烷酮或二甲基乙酰胺，在此不做限定。
本实施例中，所述第一衬底中的溶剂的质量占所述第一衬底质量的质量分数小于0.5％。所述第二衬底中的溶剂的质量占所述第二衬底质量的质量分数小于0.5％。所述第三衬底中的溶剂质量占所述第三衬底质量的质量分数小于0.5％。衬底中的溶剂含量较低，可以更好地塑形，形成更平坦可靠的衬底以及柔性基板，三层衬底之间具有很高的黏结力，三层柔性基板之间具有很高的黏结力，得到互穿网络结构的柔性基板。
S500、利用激光将所述玻璃基板与所述第一衬底分离，以形成所述柔性基板。
本实施例中，所述激光的波长在300nm～320nm之间。
本实施例中，所述激光的波长为308nm。
本实施例中，所述第一衬底、所述第二衬底、及所述第三衬底在300nm～320nm的光学透过率小于0.1％。在制作过程中，需要将所述第一衬底在玻璃基板上形成，在制作完成后，需要使用300nm～320nm的激光进行剥离，衬底在此范围激光透过率小于0.1％，可以更好地进行玻璃基板的脱离，同时也更好地保护了衬底以及柔性基板，防止柔性基板受到高能的激光破坏。
本实施例中，所述第一衬底、所述第二衬底、及所述第三衬底在308nm的光学透过率小于0.1％。在制作过程中，需要将所述第一衬底在玻璃基板上形成，在制作完成后，需要使用308nm的激光进行剥离，衬底在此范围激光透过率小于0.1％，可以更好地进行玻璃基板的脱离，同时也更好地保护了衬底以及柔性基板，防止柔性基板受到高能的激光破坏。
本实施例中，所述第一衬底11的厚度大于所述第二衬底12的厚度，所述第二衬底12的膜厚大于所述第三衬底13的厚度，具体请参阅图1。在制作过程中，需要将所述第一衬底11在玻璃基板14上形成，具体请参阅图3，在制作完成后，需要使用308nm的激光进行剥离，较厚的第一衬底可以对柔性基板有较好的保护作用，防止柔性基板受到高能的激光破坏。
本申请通过将基板设置为刚柔刚的三层结构，形成了互穿网络结构的柔性基板，使得膜层之间具有很高的黏结力，有效缓解了显示面板在弯折或折叠过程中基板受到的应力，避免了基板损坏，延长了显示面板的使用寿命。
请参阅图4，本申请还提供了一种显示面板100，所述显示面板包括如任意一上述的柔性基板10。
本申请通过将基板设置为刚柔刚的三层结构，形成了互穿网络结构的柔性基板，使得膜层之间具有很高的黏结力，有效缓解了显示面板在弯折或折叠过程中基板受到的应力，避免了基板损坏，延长了显示面板的使用寿命。
现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。
请参阅图4，所述显示面板100包括如任意一上述的柔性基板10。
本实施例中，所述显示面板100还包括位于所述柔性基板10上的阵列基板20。
本实施例中，所述显示面板还包括位于所述阵列基板上的液晶层、彩膜层。所述显示面板可以应用于液晶显示面板领域，为液晶显示面板提供柔性化，有效缓解了显示面板在弯折或折叠过程中基板受到的应力，避免了基板损坏，延长了显示面板的使用寿命。
本实施例中，所述显示面板还包括位于所述阵列基板上发光器件层。所述发光器件层为自主发光材料。所述显示面板可以应用于有机发光半导体显示面板领域，为液晶显示面板提供柔性化，有效缓解了显示面板在弯折或折叠过程中基板受到的应力，避免了基板损坏，延长了显示面板的使用寿命。
本实施例中，所述显示面板还可以应用于mini-LED显示面板中。应用范围不做限制。
本申请公开了一种柔性基板及其制作方法、显示面板。该柔性基板包括第一衬底、位于该第一衬底上的第二衬底、及位于该第二衬底上的第三衬底；该第一衬底为刚性衬底，该第二衬底为柔性衬底，该第三衬底为刚性衬底。本申请通过将基板设置为刚柔刚的三层结构，形成了互穿网络结构的柔性基板，使得膜层之间具有很高的黏结力，有效缓解了显示面板在弯折或折叠过程中基板受到的应力，避免了基板损坏，延长了显示面板的使用寿命。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (8)

1.一种柔性基板，其特征在于，所述柔性基板包括第一衬底、位于所述第一衬底上的第二衬底、及位于所述第二衬底上的第三衬底；
所述第一衬底的材料包括第一物质；
所述第二衬底的材料包括第二物质；
所述第三衬底的材料包括第三物质；
所述第一物质、所述第二物质、及所述第三物质的结构通式为
Figure FDA0003729213080000011
其中，所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第一物质中的N与(M+N)的比值，所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第三物质中的N与(M+N)的比值，R1和/或R2和/或R3中包括四元环、五元环、苯环、联苯环及奈环中的一种或多种，R4为烷基链，所述第一物质中的M与(M+N)的比值为75～95％，所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于80％，所述第三物质中的M与(M+N)的比值为75～95％。
2.根据权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，R1和/或R2和/或R3中还包括氟取代基、甲苯及苯环中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述第一衬底、所述第二衬底、及所述第三衬底在300nm～320nm的光学透过率小于0.1％。
4.根据权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述第一衬底的厚度大于所述第二衬底的厚度，所述第二衬底的膜厚大于所述第三衬底的厚度。
5.一种柔性基板的制作方法，其特征在于，包括：
在玻璃基板上形成第一膜层，将所述第一膜层经第一工艺形成第一预衬底；
在所述第一预衬底上形成第二膜层，将所述第二膜层经第二工艺形成第二预衬底；
在所述第二预衬底上形成第三膜层，将所述第三膜层经第三工艺形成第三预衬底；
将所述第一预衬底、第二预衬底、及第三预衬底经第四工艺形成第一衬底、第二衬底、及第三衬底；
利用激光将所述玻璃基板与所述第一衬底分离，以形成所述柔性基板；
其中，所述第一衬底的材料包括第一物质，所述第二衬底的材料包括第二物质，所述第三衬底的材料包括第三物质，所述第一物质、所述第二物质、及所述第三物质的结构通式为
Figure FDA0003729213080000021
所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第一物质中的N与(M+N)的比值，所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第三物质中的N与(M+N)的比值，R1和/或R2和/或R3中包括四元环、五元环、苯环、联苯环及奈环中的一种或多种，R4为烷基链，经过第四工艺后，所述第一物质中的亚胺化度大于或等于99％，所述第二物质的亚胺化度大于或等于99％，所述第三物质的亚胺化度大于或等于99％。
6.根据权利要求5所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述第一膜层的材料包括第四物质，所述第二膜层的材料包括第五物质，所述第三膜层的材料包括第六物质，所述第四物质、所述第五物质、及所述第六物质的结构通式为
Figure FDA0003729213080000022
7.根据权利要求5所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，
所述第一预衬底的材料包括第七物质，所述第二预衬底的材料包括第八物质，所述第三预衬底的材料包括第九物质；
经过所述第一工艺后，所述第七物质的亚胺化度小于30％；
经过所述第二工艺后，所述第八物质的亚胺化度小于30％；
经过所述第三工艺后，所述第九物质的亚胺化度小于30％。
8.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括如权利要求1～4中任意一项所述的柔性基板。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102732266B (zh) * 2012-07-20 2015-02-25 深圳市华星光电技术有限公司 用于液晶显示器的配向层材料
KR102009727B1 (ko) * 2012-11-26 2019-10-22 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치, 표시 장치의 제조 방법 및 표시 장치를 제조하기 위한 캐리어 기판
CN103707565B (zh) * 2013-12-31 2017-11-24 北京维信诺科技有限公司 基板结构及其柔性衬底的贴附和剥离方法
CN106543437A (zh) * 2016-10-27 2017-03-29 武汉依麦德新材料科技有限责任公司 一种交联型低热膨胀系数聚酰亚胺薄膜及其制备方法
CN107994129B (zh) * 2017-11-20 2019-11-22 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 柔性oled显示面板的制备方法
CN108257982B (zh) * 2018-01-23 2021-01-29 京东方科技集团股份有限公司 柔性衬底基板及其制造方法、柔性面板、和电子设备
CN108232012B (zh) * 2018-02-02 2021-07-06 Tcl华星光电技术有限公司 柔性显示面板的制作方法及柔性显示装置的制作方法
CN110607068B (zh) * 2019-08-19 2021-03-16 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 聚合物薄膜及其制备方法、柔性折叠面板
CN110570765B (zh) * 2019-08-29 2021-06-01 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 柔性盖板及其制作方法

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