CN108232012B - 柔性显示面板的制作方法及柔性显示装置的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种柔性显示面板的制作方法及柔性显示装置的制作方法,包括:在刚性基板上涂布粘合层溶液,并固化以形成固体粘合层;在固体粘合层上涂布柔性基板溶液,加热以固化所述柔性基板溶液并获得液晶态粘合层和柔性基板,在所述柔性基板上方制备显示器件;在加热条件下,采用紫外线光照射液晶态粘合层,液晶态粘合层发生反应失去粘合力,柔性基板与刚性基板分离。本发明通过在刚性基板和柔性基板之间设置可根据光照和加热因素而改变粘合力的粘合层,从而提升刚性基板和柔性基板的分离效率,进而简化了柔性显示面板以及柔性显示装置的工艺流程。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种柔性显示面板的制作方法及柔性显示装置的制作方法。
背景技术
近年来,使用柔性材料作为基板的柔性显示器逐渐成为下一代显示器的主流,相比于传统显示器,柔性显示器具有轻薄,易弯折,便携等优点,成为越来越多消费者的选择。
柔性基板的柔软性能使得所述柔性基板很难通过一般方法转移所述柔性基板。因此,为了方便柔性基板的运输,所述柔性基板在转移时被粘接至一刚性基板上,并对所述粘接到刚性基板玻璃上的柔性基板施加各种工艺,在完成柔性基板的各种制作工艺后,将所述刚性基板与所述柔性基板分离,进而完成了柔性显示面板的制作。
传统的分离方法有两种,其中一种是机械剥离,通过机械力直接把制程完成的柔性显示面板从所述刚性基板上剥离下来,但是这种方法容易使柔性显示面板发生损坏,且易发生褶皱,影响显示效率;第二种方法是通过激光剥离的方式,所述方法利用激光镭射所述柔性基板和所述刚性基板之间的牺牲层,使柔性基板与牺牲层分离,但是所述第二种方法由于激光的高温,容易灼伤柔性基板表面,或者破环显示器件,因此目前亟需一种柔性显示面板的制备及剥离方法。
发明内容
本发明提供了一种柔性显示面板的制作方法及柔性显示装置的制作方法,以解决在柔性显示面板刚性基板和柔性基板剥离过程中采用激光分离或者机械分离,致使剥离工艺繁琐,且可能使柔性显示面板受到损坏的问题。
为实现上述目的,本发明提供的技术方案如下:
根据本发明的一个方面,本发明提供了一种柔性显示面板的制作方法,所述柔性显示面板的制作方法包括如下步骤:
步骤S110、提供一刚性基板,在所述刚性基板上涂布粘合层溶液,并固化以形成固体粘合层;
步骤S120、在所述固体粘合层上涂布柔性基板溶液,对所述固体粘合层和所述柔性基板溶液加热,以固化所述柔性基板溶液并获得液晶态粘合层和柔性基板,所述液晶态粘合层将所述柔性基板和所述刚性基板粘合在一起;所述液晶态粘合层的主要成分为基于环辛四烯并二蒽的碳骨架结构的液晶分子;
步骤S130、在所述柔性基板上方依次形成薄膜晶体管、有机发光器件以及封装薄膜层;
步骤S140、在加热条件下,采用紫外线光照射所述液晶态粘合层,所述液晶态粘合层发生反应失去粘合力转变为融态粘合层12d,所述柔性基板与所述刚性基板分离。
根据本发明一优选实施例,所述步骤S110的具体步骤包括:
步骤S1101、将粘合胶溶于有机溶剂中以配成10%的粘合层溶液;
步骤S1102、提供一刚性基板,在所述刚性基板上涂布所述粘合层溶液;
步骤S1103、采用120摄氏度的温度加热所述刚性基板,以除去所述有机溶剂,形成固体粘合层。
根据本发明一优选实施例,所述液晶分子带有相同的烷基链或带有不同烷基链。
根据本发明一优选实施例,在所述步骤S120中,对所述固体粘合层和所述柔性基板溶液加热方式为:按照20摄氏度每分钟的升温速率将加热温度升至380摄氏度。
根据本发明一优选实施例,在70摄氏度至100摄氏度的加热条件下,所述固体粘合层会转变为液晶态粘合层,所述固体粘合层和所述液晶态粘合层均具有强粘合力。
根据本发明一优选实施例,所述步骤S140的具体步骤包括:在100摄氏度的加热条件下,采用所述紫外线光照射所述刚性基板和所述柔性基板的界面,使得所述液晶态粘合层发生光致二聚反应,从而实现所述刚性基板和所述柔性基板的分离;
其中,所述紫外线光的波长为365纳米,所述紫外线光的照度为85兆瓦每平方厘米至100兆瓦每平方厘米,所述照射时间为30秒。
根据本发明一优选实施例,还包括步骤S150:采用二氯甲烷清洗所述刚性基板和所述柔性基板上残留的所述融态粘合层。
根据本发明一优选实施例,所述刚性基板为玻璃基板。
根据本发明一优选实施例,所述柔性基板溶液为聚酰亚胺溶液,所述柔性基板为聚酰亚胺层。
根据本发明的另一个方面,提出了一种柔性显示装置的制作方法,所述柔性显示装置的制作方法包括上述的柔性显示面板的制作步骤和制作支撑部件的步骤。
本发明的优点是,提供了一种柔性显示面板的制作方法及柔性显示装置的制作方法,通过在刚性基板和柔性基板之间设置可根据光照和加热因素而改变粘合力的粘合层,从而提升刚性基板和柔性基板的分离效率,进而简化了柔性显示面板以及柔性显示装置的工艺流程。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例中柔性显示面板的制作方法的流程示意图;
图2a-2d为本发明实施例中柔性显示面板的制作方法流程的结构示意图;
图3为本发明实施例中粘合胶分子的结构示意图;
图4为本发明实施例中粘合胶分子光致二聚反应的结构示意图;
图5为本发明实施例中粘合胶分子发生光致二聚反应后失去粘合力的机理示意图;
图6为本发明实施例中粘合胶作用力示意图.
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。在图中,结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明针对现有柔性显示面板的制作方法及柔性显示装置的制作方法中,因柔性显示面板中刚性基板和柔性基板分离的过程中采用激光分离或者机械分离,分离工艺繁琐,且可能使柔性显示面板受到弯折的问题,而提出了一种柔性显示面板的制作方法及柔性显示装置的制作方法,本实施例能够改善该缺陷。
下面结合附图和具体实施例对本发明做进一步的说明:
图1为本发明实施例中柔性显示面板的制作方法的流程示意图;图2a-2d为本发明实施例中柔性显示面板的制作方法流程的结构示意图;
本发明提供了一种柔性显示面板的制作方法,所述的制作方法包括如下步骤:
如图2a所示,步骤S110、提供一刚性基板11,在所述刚性基板11上涂布粘合层溶液12a,并固化以形成固体粘合层12b。
通常的所述刚性基板11为玻璃基板,即为生产柔性显示面板提供一干净平整的支撑面,在OLED制备完成后,通常会与后续制程中的柔性基板13分离。
设置一刚性基板11的另一个好处是,为所述柔性基板13的运输提供方便,避免所述柔性基板13在运输过程中出现以为损坏。
具体的,所述步骤S110的具体步骤包括:
步骤S1101、将粘合胶溶于有机溶剂中以配成10%的粘合层溶液12a;
步骤S1102、提供一刚性基板11,在所述刚性基板11上涂布所述粘合层溶液12a;
步骤S1103、采用120摄氏度的温度加热所述刚性基板11,以除去所述有机溶剂,形成固体粘合层12b。
如图3所示,所述粘合胶的主要成分为基于环辛四烯并二蒽的碳骨架结构的液晶分子,所述液晶分子带有相同的烷基链或带有不同烷基链,其中所述烷基链的长短可调。
如图2b所示,步骤S120、在所述固体粘合层12b上涂布柔性基板溶液,对所述固体粘合层12b和所述柔性基板溶液加热,以固化所述柔性基板溶液并获得液晶态粘合层12c和柔性基板13,所述液晶态粘合层12c将所述柔性基板13和所述刚性基板11粘合在一起;所述液晶态粘合层12c的主要成分为基于环辛四烯并二蒽的碳骨架结构的液晶分子。
具体的,在所述步骤S120中,对所述固体粘合层12b和所述柔性基板溶液加热方式为:按照20摄氏度每分钟的升温速率将加热温度升至380摄氏度,所述照射时间为30秒。
在70摄氏度至100摄氏度的加热条件下,所述固体粘合层12b会转变为的液晶态粘合层12c,所述固体粘合层12b和所述液晶态粘合层12c均具有强粘合力。
通常的,所述柔性基板溶液为聚酰亚胺溶液。
如图2c所示,步骤S130、在所述柔性基板上方依次形成薄膜晶体管、有机发光器件以及封装薄膜层;
所述步骤S130即在所述柔性基板13上制作显示器件,本步骤为行业内的常用步骤,因此不做具体说明。
如图2d所示,步骤S140、在加热条件下,采用紫外线光照射所述液晶态粘合层12c,所述液晶态粘合层12c发生反应失去粘合力,所述柔性基板13与所述刚性基板11分离。
所述步骤S140的具体步骤包括:在100摄氏度的加热条件下,采用所述紫外线光照射所述刚性基板11和所述柔性基板13的界面,使得所述液晶态粘合层12c发生光致二聚反应失去粘合力转变为融态粘合层12d,从而实现所述刚性基板11和所述柔性基板13的分离;
其中,所述紫外线光的波长为365纳米,所述紫外线光的照度为85兆瓦每平方厘米至100兆瓦每平方厘米。
由于所述粘合胶的主要成分为基于环辛四烯并二蒽的碳骨架结构的液晶分子,基于环辛四烯并二蒽的碳骨架结构的液晶分子在固态和液态状态下在固态和液晶状态下按照π-π堆积方式排列,具有强烈分子间π-π相互作用,而该物质本身又和玻璃基板具有很强的接着力,因此,可以作为一种强力的粘合剂。
如图4、图5和图6所示,蒽环这一结构具有独特的化学性质,当两个蒽环的距离达到一定程度时,在光照的条件下,两个蒽环可以发生分子间光致二聚反应,利用这一反应,当所述液晶分子受到光照时,由于分子骨架中存在蒽环结构,因此,粘液晶分子会发生分子之间蒽环的二聚反应,形成液晶二聚体,从而导致液晶分子的π-π堆积排列扰乱,π-π相互作用力的丢失又直接导致了黏着力的丢失,这就实现了光致粘合剂的融化,进一步的研究又发现,该二聚反应的发生是基于激发态下分子构型的转变,而在固体状态下,分子是无法运动的,但是在液晶状态下,分子是可以运动的,所以,该反应只能在液晶状态下发生,要使粘合层分子从固态转变成液晶状态,需要加热致70摄氏度至100摄氏度(所述粘合层在常温环境下为固态)。
因此,只有在光照和加热的条件下,所述固体粘合层12b才能发生光致二聚反应。
具体的,所述柔性显示面板的制作步骤还包括步骤S150:采用二氯甲烷清洗所述刚性基板11和所述柔性基板13上残留的所述融态粘合层12d。
根据本发明的另一个方面,还提供了一种柔性显示装置的制作方法,所述柔性显示装置的制作方法包括上述的柔性显示面板的制作步骤和制作支撑部件的步骤。
本实施例中柔性显示装置的制作方法原理跟所述柔性显示面板的制作方法的原理一致,具体可参考所述优选实施例的柔性显示面板制作方法的工作原理,此处不再做赘述。
本发明提供了一种柔性显示面板的制作方法及柔性显示装置的制作方法,通过在刚性基板和柔性基板之间设置可根据光照和加热因素而改变粘合力的粘合层,从而提升刚性基板和柔性基板的分离效率,进而简化了柔性显示面板以及柔性显示装置的工艺流程。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种柔性显示面板的制作方法,其特征在于,所述柔性显示面板的制作方法包括如下步骤:
步骤S110、提供一刚性基板,在所述刚性基板上涂布粘合层溶液,并固化以形成固体粘合层;
步骤S120、在所述固体粘合层上涂布柔性基板溶液,对所述固体粘合层和所述柔性基板溶液加热,以固化所述柔性基板溶液并获得液晶态粘合层和柔性基板,所述液晶态粘合层将所述柔性基板和所述刚性基板粘合在一起;所述液晶态粘合层的主要成分为基于环辛四烯并二蒽的碳骨架结构的液晶分子;
步骤S130、在所述柔性基板上方依次形成薄膜晶体管、有机发光器件以及封装薄膜层;
步骤S140、在加热条件下,采用紫外线光照射所述液晶态粘合层,所述液晶态粘合层发生反应失去粘合力转变为融态粘合层,所述柔性基板与所述刚性基板分离。
2.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法,其特征在于,所述步骤S110的具体步骤包括:
步骤S1101、将粘合胶溶于有机溶剂中以配成10%的所述粘合层溶液;
步骤S1102、提供一刚性基板,在所述刚性基板上涂布所述粘合层溶液;
步骤S1103、采用120摄氏度的温度加热所述刚性基板,以除去所述有机溶剂,形成固体粘合层。
3.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法,其特征在于,所述液晶分子带有相同的烷基链或带有不同烷基链。
4.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法,其特征在于,在所述步骤S120中,对所述固体粘合层和所述柔性基板溶液加热方式为:按照20摄氏度每分钟的升温速率将加热温度升至380摄氏度。
5.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法,其特征在于,在70摄氏度至100摄氏度的加热条件下,所述固体粘合层会转变为液晶态粘合层,所述固体粘合层和所述液晶态粘合层均具有强粘合力。
6.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法,其特征在于,所述步骤S140的具体步骤包括:在100摄氏度的加热条件下,采用所述紫外线光照射所述刚性基板和所述柔性基板的界面,使得所述液晶态粘合层发生光致二聚反应,从而实现所述刚性基板和所述柔性基板的分离;
其中,所述紫外线光的波长为365纳米,所述紫外线光的照度为85兆瓦每平方厘米至100兆瓦每平方厘米,所述照射时间为30秒。
7.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法,其特征在于,还包括步骤S150:采用二氯甲烷清洗所述刚性基板和所述柔性基板上残留的所述融态粘合层。
8.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法,其特征在于,所述刚性基板为玻璃基板。
9.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法,其特征在于,所述柔性基板溶液为聚酰亚胺溶液,所述柔性基板为聚酰亚胺层。
10.一种柔性显示装置的制作方法,其特征在于,所述柔性显示装置的制作方法包括权利要求1~9所述的柔性显示面板的制作步骤和制作支撑部件的步骤。
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Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant after: TCL Huaxing Photoelectric Technology Co.,Ltd. Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. |
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CB02 | Change of applicant information | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |