CN111370457B - 显示面板 - Google Patents

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CN111370457B CN202010202602.0A CN202010202602A CN111370457B CN 111370457 B CN111370457 B CN 111370457B CN 202010202602 A CN202010202602 A CN 202010202602A CN 111370457 B CN111370457 B CN 111370457B
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
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    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/60OLEDs integrated with inorganic light-sensitive elements, e.g. with inorganic solar cells or inorganic photodiodes
    • H10K59/65OLEDs integrated with inorganic image sensors

Abstract

本发明公开了一种显示面板,显示面板包括显示区和透光区,透光区为非显示区域,显示区围绕透光区的至少部分外周设置,显示面板包括层叠设置的多个膜层,多个膜层中的部分膜层被配置为透光层,另一部分膜层被配置为非透光层,其中非透光层延伸于显示区且避位透光区设置,至少部分层透光层覆盖透光区,显示面板包括:至少一层光调制层,每层光调制层夹设于覆盖透光区的任意相邻透光层之间,光调制层被配置为至少一部分能够提高预设波长光线在夹设光调制层的相邻透光层之间的透过率。根据本发明实施例的显示面板,能提高透光区的整体透光率,提高透过光线的色彩保真性。

Description

显示面板
技术领域
本发明涉及显示领域,具体涉及一种显示面板。
背景技术
随着电子设备的快速发展,用户对电子设备的屏占比的要求越来越高,使得电子设备的显示面板受到业界越来越多的关注。
传统的电子设备如手机、平板电脑等,由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等。现有技术中,可通过在显示面板上设置盲孔区域,外界光线可通过屏幕上的盲孔区域进入位于屏幕下方的感光元件。然而,由于显示面板的盲孔区域仍然具有若干膜层的堆叠,会对盲孔区域的光线透过率有影响,存在对不同波长的光线,光线透过率差异较大的问题。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板,提高透光区对预设波长光线的透过率,从而降低对不同波长光线透过率的差异。
本发明实施例提供一种显示面板,包括显示区和透光区,透光区为非显示区域,显示区围绕透光区的至少部分外周设置,显示面板包括层叠设置的多个膜层,多个膜层中的部分膜层被配置为透光层,另一部分膜层被配置为非透光层,其中非透光层延伸于显示区且避位透光区设置,至少部分层透光层覆盖透光区,显示面板包括:至少一层光调制层,每层光调制层夹设于覆盖透光区的任意相邻透光层之间,光调制层被配置为至少一部分能够提高预设波长光线在夹设光调制层的相邻透光层之间的透过率。
根据本发明实施例的前述实施方式,显示面板还包括:衬底,被配置为透光层;缓冲层,位于衬底上,缓冲层被配置为透光层;器件层组,位于缓冲层背离衬底的一侧;发光元件层组,位于器件层组背离衬底的一侧;以及封装层,位于发光元件层组背离衬底的一侧,封装层被配置为透光层,其中,衬底、缓冲层以及封装层覆盖透光区。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,至少一层光调制层包括夹设于衬底与缓冲层之间的第一光调制层。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,缓冲层包括叠设的第一子缓冲层和第二子缓冲层,至少一层光调制层包括夹设于第一子缓冲层与第二子缓冲层之间的第二光调制层。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,第一子缓冲层为氮化硅层,第二子缓冲层为氧化硅层,第一光调制层为包括氧化硅、氮化硅、硅中至少两种的混合膜层;第二光调制层为包括氧化硅、氮化硅、硅中至少两种的混合膜层。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,发光元件层组与封装层之间间隔设置,至少一层光调制层包括填充于封装层与发光元件层组之间的第三光调制层。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,显示面板还包括:真空层,位于发光元件层组与封装层之间,至少一层光调制层包括以下中的至少任一:第四光调制层,位于发光元件层组与真空层之间;第五光调制层,位于封装层与真空层之间。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,第四光调制层为氟化锂层;第五光调制层为氟化镁层。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,发光元件层组包括:第一电极层;第二电极层,位于第一电极层的背离衬底的一侧;发光层,位于第一电极层与第二电极层之间,其中,第一电极层、第二电极层以及发光层延伸于显示区且避位透光区设置。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,发光元件层组还包括:载流子层,位于第一电极层与发光层之间,和/或位于发光层与第二电极层之间,载流子层覆盖透光区,或者载流子层延伸于显示区且避位透光区设置。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,发光元件层组还包括:光取出层,位于第二电极层的背离衬底的一侧,光取出层被配置为透光层,光取出层覆盖透光区。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,器件层组包括薄膜晶体管,薄膜晶体管包括有源层,至少一层光调制层包括第六光调制层,第六光调制层包括位于透光区的第一部分以及位于显示区的第二部分,第六光调制层的第二部分位于有源层的背离衬底的一侧,其中,在透光区,第一部分被配置为能够提高预设波长光线在夹设第一部分的相邻透光层之间的透过率,在显示区,第二部分被配置为能够降低光线在夹设第二部分的相邻膜层之间的透过率。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,光调制层的折射率介于夹设光调制层的相邻透光层的折射率之间。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,光调制层的折射率满足以下式子:
Figure BDA0002419892920000031
其中,nA为夹设光调制层的相邻透光层中的一者的折射率;nB为夹设光调制层的相邻透光层中的另一者的折射率;nC为光调制层的折射率;α为有效率,有效率大于等于60%。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,光调制层的折射率满足以下式子:
Figure BDA0002419892920000032
其中,nA为夹设光调制层的相邻透光层中的一者的折射率;nB为夹设光调制层的相邻透光层中的另一者的折射率;nC为光调制层的折射率。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,每层光调制层包括位于透光区的第一部分,第一部分的厚度满足以下式子:
TC×nC=(2M+1)×λ/4;
其中,TC为光调制层的第一部分的厚度;nC为光调制层的折射率;λ为预设波长光线的波长;M为任意自然数。
根据本发明实施例的前述任一实施方式,至少一层光调制层包括位于显示区的第二部分,光调制层的第二部分的厚度与第一部分的厚度不同
根据本发明实施例的显示面板,包括显示区和透光区,显示面板在透光区的背面可以集成感光组件,实现例如摄像头的感光组件的屏下集成,其中显示区围绕透光区的至少部分外周设置,能够降低显示区外周的非显示区的宽度,从而提高显示面板的显示面积占比。显示面板的多个膜层中,非透光层延伸于显示区且避位透光区设置,从而避免非透光层对透光区光线的遮挡,提高透光区的整体透光率。显示面板的透光区的透光膜层堆叠结构,通常对一些波长光线的透光率较高,对一些波长光线的透光率较低,本发明实施例的显示面板包括至少一层光调制层,光调制层被配置为至少一部分能够提高预设波长光线在夹设光调制层的相邻透光层之间的透过率,从而能将原本透光率较低的一些波长光线的透过率提升至与透光率较高的波长光线的透光率接近甚至相等,提高光谱透过的均一性,提高透过光线的色彩保真性。
附图说明
通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显,其中,相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征,附图并未按照实际的比例绘制。
图1是根据本发明第一实施例提供的显示面板的俯视示意图;
图2是根据本发明第一实施例提供的显示面板的截面示意图;
图3是根据本发明第一实施例提供的显示面板对各波长的光线的透过率的曲线图;
图4是根据本发明第二实施例提供的显示面板的截面示意图;
图5是根据本发明第三实施例提供的显示面板的截面示意图;
图6是根据本发明第四实施例提供的显示面板的截面示意图。
具体实施方式
下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例,为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及具体实施例,对本发明进行进一步详细描述。应理解,此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本发明,并不被配置为限定本发明。对于本领域技术人员来说,本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明更好的理解。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
应当理解,在描述部件的结构时,当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时,可以指直接位于另一层、另一个区域上面,或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且,如果将部件翻转,该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。
本发明实施例提供一种显示面板,该显示面板可以是有机发光二极管(OrganicLight Emitting Diode,OLED)显示面板。
图1、图2分别是根据本发明第一实施例提供的显示面板的俯视示意图、截面示意图,其中图2绘示了显示面板部分区域的截面,图1中C-C线示出截面示意图的截取位置。显示面板100包括显示区AA和透光区TA,透光区TA为非显示区域,即透光区TA不形成发光元件,从而不显示。其中,显示区AA围绕透光区TA的至少部分外周设置,例如本实施例中,透光区TA为圆形结构,显示区AA围绕透光区TA的全部部分外周设置。
在一些实施例中,显示面板100在透光区TA的整体透光率为80%以上。
显示面板100包括层叠设置的多个膜层,多个膜层中的部分膜层被配置为透光层,另一部分膜层被配置为非透光层。其中非透光层延伸于显示区AA且避位透光区TA设置,至少部分层透光层覆盖透光区TA。即,在显示区AA,多个非透光层和多个透光层以预设排列方式层叠设置,在透光区TA,多个透光层层叠设置。在显示区AA,多个膜层能够形成发光元件,从而实现显示面板100在显示区AA的显示功能。
在本发明实施例的显示面板100中,显示面板100在透光区TA的背面可以集成感光组件,实现例如摄像头的感光组件的屏下集成。传统显示面板在集成感光组件时,需要在显示区AA的外周预留较宽的非显示区,以对应放置感光组件。本发明实施例的显示面板100中,显示区AA围绕透光区TA的至少部分外周设置,感光组件可以集成于透光区TA,能够降低显示区AA外周的非显示区的宽度,从而提高显示面板100的显示面积占比。显示面板100的多个膜层中,非透光层延伸于显示区AA且避位透光区TA设置,从而避免非透光层对透光区TA光线的遮挡,提高透光区TA的整体透光率。
显示面板100的透光区TA的透光膜层堆叠结构,通常对一些波长光线的透光率较高,对一些波长光线的透光率较低。本发明实施例的显示面板100包括至少一层光调制层110,每层光调制层110夹设于覆盖透光区TA的任意相邻透光层之间,光调制层110被配置为至少一部分能够提高预设波长光线在夹设光调制层110的相邻透光层之间的透过率。通过设置光调制层110,能将原本透光率较低的一些波长光线的透过率提升至与透光率较高的波长光线的透光率接近甚至相等,提高光谱透过的均一性,提高透过光线的色彩保真性。
请参考图2,显示面板100还可以包括衬底120、缓冲层130、器件层组140、发光元件层组150以及封装层160。
衬底120被配置为透光层。本实施例中,显示面板100为柔性显示面板,衬底120例如是聚酰亚胺(Polyimide,PI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene terephthalate,PET)等材料制成的柔性透明衬底。在其它一些实施例中,当显示面板100为硬性显示面板时,衬底120也可以是玻璃等材料制成的硬性透明衬底。
缓冲层130位于衬底120上,缓冲层130被配置为透光层。器件层组140位于缓冲层130背离衬底120的一侧。发光元件层组150位于器件层组140背离衬底120的一侧。封装层160位于发光元件层组150背离衬底120的一侧,封装层160被配置为透光层。
在本发明第一实施例中,衬底120、缓冲层130以及封装层160覆盖透光区TA,使得显示面板100在透光区TA为多个透光层的叠层结构,保证透光区TA具有较高的光线透过率,当在显示面板100的透光区TA一侧设置图像采集装置(例如是摄像头)时,能够满足图像采集装置的成像清晰度要求。
在一些实施例中,发光元件层组150包括第一电极层151、第二电极层152以及发光层(Emitting Layer,EML)153。第二电极层152位于第一电极层151的背离衬底120的一侧。发光层153位于第一电极层151与第二电极层152之间。第一电极层151、第二电极层152中的一者为阳极,另一者为阴极。本实施例中,以第一电极层151是阳极、第二电极层152是阴极为例进行说明。
第一电极层151可以被配置为透光层,也可以被配置为非透光层,本实施例中,第一电极层151被配置为非透光层。第一电极层151进一步可以包括第一透光导电层、位于第一透光导电层上的反射层以及位于反射层上的第二透光导电层。其中第一透光导电层、第二透光导电层可以是氧化铟锡(Indium Tin Oxide,ITO)层或氧化铟锌(Indium ZincOxide,IZO)层等,反射层可以是金属层,例如是银材质制成。
第二电极层152可以被配置为透光层。在一些实施例中,第二电极113可以是镁银合金层。
在本实施例中,发光元件层组150还包括载流子层154,载流子层154位于第一电极层151与发光层153之间,和/或位于发光层153与第二电极层152之间。例如本实施例中,第一电极层151与发光层153之间、发光层153与第二电极层152之间均设有载流子层154。载流子层154被配置为透光层。在其它一些实施例中,发光元件层组150可以不设有载流子层154。
本文中,载流子层指用于实现载流子(空穴或电子)的注入、传输、阻挡等功能的载流子相关膜层。在一些实施例中,第一电极层151与发光层153之间的载流子层154可以包括空穴注入层(Hole Inject Layer,HIL)、空穴传输层(Hole Transport Layer,HTL)、电子阻挡层(Electron Blocking Layer,EBL)中的至少之一。在一些实施例中,发光层153与第二电极层152之间的载流子层154可以包括电子注入层(Electron Inject Layer,EIL)、电子传输层(Electron Transport Layer,ETL)、空穴阻挡层(Hole Blocking Layer,HBL)中的至少之一。
在一些实施例中,第一电极层151、第二电极层152以及发光层153延伸于显示区AA且避位透光区TA设置,载流子层154覆盖透光区TA。即,发光元件层组150中既有一部分膜层覆盖透光区TA,也有一部分膜层延伸于显示区AA且避位透光区TA设置,其中,尽管第二电极层152可以被配置为透光层,但一些实施例中第二电极层152对光线的吸收、反射程度也较高,因此第二电极层152避位透光区TA设置,可以进一步提高透光区TA的整体透光率。
在一些实施例中,发光元件层组150可以不设有载流子层154;在一些实施例中,发光元件层组150包括载流子层154,然而载流子层154延伸于显示区AA且避位透光区TA设置。即在这些实施例中,显示面板100的透光区TA不设有载流子层154,此时显示面板100的透光区TA对蓝光波段的光线透过率显著提升。
在一些实施例中,发光元件层组150还包括像素定义层155,像素定义层155设有多个像素开口。第一电极层151可以包括图案化的多个第一电极,发光层153可以包括图案化的多个发光块,其中像素开口与第一电极、发光块一一对应设置,像素开口包括第一电极的至少一部分,发光块位于像素开口内。每个第一电极与在第一电极的背离衬底120的一侧依次设置的载流子层154、发光块、载流子层154以及第二电极层152形成发光元件。
在一些实施例中,发光元件层组150还包括光取出层(Capping Layer)156。光取出层156位于第二电极层152的背离衬底120的一侧,光取出层156被配置为透光层,光取出层156覆盖透光区TA。在一些实施例中,发光元件层组150也可以不包括光取出层156。
如图2,在本发明第一实施例中,至少一层光调制层110包括夹设于衬底120与缓冲层130之间的第一光调制层111,第一光调制层111能够提高预设波长光线在衬底120与缓冲层130之间的透过率,从而提高透光区TA的整体透光率,并将原本透光率较低的预设波长的光线的透过率提升至与透光率较高的波长光线的透光率接近甚至相等,提高光谱透过的均一性,提高透过光线的色彩保真性。
可选地,在本发明第一实施例中,缓冲层130包括叠设的第一子缓冲层131和第二子缓冲层132。至少一层光调制层110包括夹设于第一子缓冲层131与第二子缓冲层132之间的第二光调制层112,第二光调制层112能够提高预设波长光线在第一子缓冲层131与第二子缓冲层132之间的透过率,从而一方面提高透光区TA的整体透光率,另一方面能够提高各波段光线透过的均一性,提高透过光线的色彩保真性。
第一子缓冲层131可以为氮化硅层,第二子缓冲层132可以为氧化硅层。第一光调制层111为包括氧化硅、氮化硅、硅中至少两种的混合膜层。第二光调制层112为包括氧化硅、氮化硅、硅中至少两种的混合膜层。通过分别调节第一光调制层111、第二光调制层112的组成配比和厚度,能使第一光调制层111、第二光调制层112分别具有显著的增透作用。
在一个示例中,第一光调制层111、第二光调制层112均为氮氧化硅层,即第一光调制层111、第二光调制层112均为氧化硅与氮化硅共同成膜的混合膜层。在其它一些实施例中,第一光调制层111、第二光调制层112分别可以是其它混合膜层,例如是氧化硅和硅的混合膜层、可掺杂型石英膜层等。第一光调制层111、第二光调制层112分别可以通过化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)、磁控溅射、涂布等方式镀膜形成,也可以通过在来料的衬底120上集成得到。
在一些实施例中,光调制层110的折射率介于夹设光调制层110的相邻透光层的折射率之间,以保证光调制层110能提高夹设光调制层110的相邻透光层之间的透光率。例如,在上述第一实施例中,第一光调制层111的折射率介于衬底120的折射率与第一子缓冲层131(缓冲层130)的折射率之间,第二光调制层112的折射率介于第一子缓冲层131与第二子缓冲层132之间。
在一些实施例中,光调制层110的折射率满足以下式子:
Figure BDA0002419892920000101
其中,nA为夹设光调制层110的相邻透光层中的一者的折射率;nB为夹设光调制层110的相邻透光层中的另一者的折射率;nC为光调制层110的折射率;α为有效率,有效率α大于等于60%。其中,有效率α的值越高,光调制层110的折射率nC越接近相邻透光层的折射率(nA、nB)的几何平均数
Figure BDA0002419892920000102
有效率α大于等于60%,可以保证光调制层110能够将预设波长光线在相邻透光层之间的透过率增强。
在一些实施例中,光调制层110的折射率满足以下式子:
Figure BDA0002419892920000103
其中,nA为夹设光调制层110的相邻透光层中的一者的折射率;nB为夹设光调制层110的相邻透光层中的另一者的折射率;nC为光调制层110的折射率。式(2)相当于将式(1)中的有效率α配置为100%得到,当光调制层110的折射率nC满足式(2)时,得到光调制层110的折射率nC的较优值,此时光调制层110能够大幅提升预设波长光线在相邻透光层之间的透过率。上述式(1)中的有效率α可以理解为光调制层110的调制性能能够达到较优调制性能(折射率nC的较优值对应的调制性能)的有效程度。
以第二光调制层112的折射率的配置方式为例说明,其中将第一子缓冲层131的折射率代入式(1)中的nA、将第二子缓冲层132的折射率代入式(1)中的nB,有效率例如是100%,此时得到第二光调制层112的折射率nC的较优值;有效率例如是96%,此时得到有效率是96%时第二光调制层112的折射率nC
在一些实施例中,每层光调制层110包括位于透光区TA的第一部分,该第一部分的厚度满足以下式子:
TC×nC=(2M+1)×λ/4 (3)
其中,TC为光调制层110的第一部分的厚度;nC为光调制层110的折射率;λ为预设波长光线的波长;M为任意自然数。其中,预设波长光线的波长λ即所需调节波长光线的波长,其量纲与光调制层110的第一部分的厚度TC的量纲一致,量纲例如是纳米。
在一些实施例中,每层光调制层110包括位于透光区TA的第一部分,并且至少一层光调制层110包括位于显示区AA的第二部分。如图2,例如在本实施例中,第二光调制层112包括第一部分112a和第二部分112b,其中第二光调制层112的第一部分112a位于透光区TA,第二部分112b位于显示区AA。
以第二光调制层112的第一部分112a的厚度的配置方式为例说明,其中将第二光调制层112的折射率代入式(3)中nC、将预设波长光线的波长代入式(3)中的λ、将任意自然数代入式(3)中的M,得到光调制层110的第一部分112a的厚度TC。在一个示例中,预设波长光线的波长λ例如是500纳米,此时得到的光调制层110的第一部分112a的厚度TC,能使第二光调制层112的第一部分112a提高波长为500纳米的光线在第一子缓冲层131与第二子缓冲层132之间的透过率。根据光谱自身属性,波长邻近500纳米的一些范围内的光线(例如波长490纳米的光线)在第一子缓冲层131与第二子缓冲层132之间的透过率也会有一定程度的提升。并且,根据光谱自身属性,波长为500纳米整数倍的光线(例如波长1000纳米的光线)在第一子缓冲层131与第二子缓冲层132之间的透过率也会提升。
根据本发明实施例的显示面板100,通过设置光调制层110,一方面由于其具有增透效果,能够提高透光区TA的整体透光率;另一方面,光调制层110能将原本透光率较低的一些波长光线的透过率提升至与透光率较高的波长光线的透光率接近甚至相等,提高光谱透过的均一性,提高透过光线的色彩保真性。
图3是根据本发明第一实施例提供的显示面板对各波长的光线的透过率的曲线图,其中作为对比,还在图3中示出了一个对比例的显示面板对各波长的光线的透过率的曲线。其中,对比例除了不设有光调制层110外,剩余结构与本发明第一实施例的结构相同。通过椭偏仪,能够测得第一实施例的显示面板和对比例的显示面板对各波长的光线的透过率,并根据波长和透过率的对应关系得到图3所示的曲线图。图3中,曲线L1为第一实施例的显示面板对各波长的光线的透过率曲线,曲线L2为对比例的显示面板对各波长的光线的透过率曲线。
根据第一实施例的显示面板与对比例的显示面板之间的对比,对比例的显示面板的透光区对光线的整体透过率为76.12%,本发明第一实施例的显示面板的透光区对光线的整体透过率为87.28%,可见通过设置光调制层110,能够显著提高显示面板的透光区的整体透光率。测试第一实施例的显示面板、对比例的显示面板的透过光谱的均一性,其中,对比例的显示面板对410纳米(nm)至780nm波长光线的透过率的标准差为0.08,第一实施例的显示面板对410nm至780nm波长光线的透过率的标准差为0.01,可见通过设置光调制层110,能够显著提高显示面板的透过光谱的均一性。
如前所述,至少一层光调制层110既包括位于透光区TA的第一部分,也包括位于显示区AA的第二部分。在透光区TA与光调制层110第一部分的两个表面紧邻的膜层,与在显示区AA与光调制层110第二部分的两个表面紧邻的膜层可能是相同的,也可能至少一层不同。光调制层110的第二部分的厚度与第一部分的厚度可以相同,也可以不同,根据光调制层110在透光区TA和显示区AA的调制效果需求进行配置。当第一部分的两个表面紧邻的膜层和第二部分的两个表面紧邻的膜层相同,且第二部分的厚度与第一部分的厚度相同时,第二部分与第一部分的调制效果相同。当第一部分的两个表面紧邻的膜层与第二部分的两个表面紧邻的膜层至少一层不同,和/或第二部分的厚度与第一部分的厚度不同时,第二部分与第一部分的调制效果不同。
在上述实施例中,以光调制层110设置于衬底120及缓冲层130处为例进行了说明,从而能够降低衬底120及缓冲层130处对透过光线色度保真性的干扰。光调制层110还可以设置于显示面板的其它膜层处,用于改善其它膜层处对透过光线色度保真性的干扰。
图4是根据本发明第二实施例提供的显示面板的截面示意图,其中图4绘示了显示面板部分区域的截面。第二实施例提供的显示面板的大部分结构与第一实施例提供的显示面板相同,以下将对第二实施例与第一实施例的不同之处进行说明,相同之处不再详述。
与第一实施例不同的是,在第二实施例中,发光元件层组150与封装层160之间间隔设置,至少一层光调制层110包括填充于封装层160与发光元件层组150之间的第三光调制层113。
在本实施例中,发光元件层组150包括第一电极层151、第二电极层152、发光层153、载流子层154、像素定义层155以及光取出层156。第一电极层151、第二电极层152以及发光层153延伸于显示区AA且避位透光区TA设置,载流子层154、光取出层156覆盖透光区TA。在一些实施例中,发光元件层组150也可以不包括光取出层156。
第三光调制层113例如是氟化锂层。在本实施例中,第三光调制层113能够提高预设波长光线在封装层160与发光元件层组150(光取出层156)之间的透过率,从而一方面提高透光区TA的整体透光率,另一方面能够提高各波段光线透过的均一性,提高透过光线的色彩保真性。
本实施例中,显示面板100可以是柔性显示面板,相应地,封装层160为薄膜封装结构,在一些实施例中,封装层160包括叠层设置的至少一层无机封装层和至少一层有机封装层。
在上述实施例中,以显示面板100是柔性显示面板为例进行说明,然而本发明构思可以不限于应用于柔性显示面板,也可应用于硬性显示面板。例如在上述第二实施例中,显示面板100可以是硬性显示面板,其中封装层160可以是玻璃等材质的封装盖板,发光元件层组150与封装层160之间间隔设置,至少一层光调制层110包括填充于封装层160与发光元件层组150之间的第三光调制层113。第三光调制层113可以通过喷墨打印、涂布等方式形成。
图5是根据本发明第三实施例提供的显示面板的截面示意图,其中图5绘示了显示面板部分区域的截面。第三实施例提供的显示面板的大部分结构与第一实施例提供的显示面板相同,以下将对第三实施例与第一实施例的不同之处进行说明,相同之处不再详述。
与第一实施例不同的是,在第三实施例中,显示面板100为硬性显示面板,封装层160是玻璃等材质的封装盖板。
此外,显示面板100还包括真空层170,真空层170位于发光元件层组150与封装层160之间。
至少一层光调制层110包括以下中的至少任一:第四光调制层114、第五光调制层115,其中第四光调制层114位于发光元件层组150与真空层170之间;第五光调制层115位于封装层160与真空层170之间。例如本实施例中,至少一层光调制层110同时包括第四光调制层114和第五光调制层115。
在一些实施例中,第四光调制层114为氟化锂层,可以通过蒸镀、电子束蒸发等方式成膜。在一些实施例中,第五光调制层115为氟化镁层,可以通过磁控溅射、电子束蒸发等方式成膜。在一些实施例中,第四光调制层114和/或第五光调制层115可以通过在来料的封装层160上集成得到。
在其它一些实施例中,第四光调制层114可以是其它折射率低于发光元件层组150中最靠近真空层170的一层膜层(光取出层156)的折射率的材料层;第五光调制层115可以是其它折射率低于封装层160的折射率的材料层。
第四光调制层114能够提高预设波长光线在发光元件层组150与真空层170之间的透过率,第五光调制层115能够提高预设波长光线在封装层160与真空层170之间的透过率。通过设置第四光调制层114和/或第五光调制层115,提高透光区TA的整体透光率,并且降低封装层160处对透过光线色度保真性的干扰。
在上述实施例中,分别说明了在衬底120及缓冲层130处、封装层160处分别可以设置调制层110,并且,上述实施例在技术方案不冲突的情况下可以相互组合。例如在一个实施例中,显示面板100的至少一层光调制层110包括第一光调制层111、第四光调制层114以及第五光调制层115,第一光调制层111夹设于衬底120与缓冲层130之间,第四光调制层114位于发光元件层组150与真空层170之间,第五光调制层115位于封装层160与真空层170之间。
此外,器件层组140的多个膜层中,可以包括用于布线的多个布线层,其中布线层可以是金属制成,被配置为非透光层,器件层组140的多个膜层还可以包括电容介质层、栅绝缘层、层间介质层等透光层。电容介质层、栅绝缘层、层间介质层等透光层中的至少一层可以覆盖透光区TA设置。
图6是根据本发明第四实施例提供的显示面板的截面示意图,其中图6绘示了显示面板部分区域的截面。第四实施例提供的显示面板的大部分结构与第一实施例提供的显示面板相同,以下将对第四实施例与第一实施例的不同之处进行说明,相同之处不再详述。
图6中示例性绘示了器件层组140包括的栅绝缘层141以及层间介质层142,层间介质层142位于栅绝缘层141的背离衬底120的一侧,其中栅绝缘层141、层间介质层142被配置为透光层,并且即延伸与显示区AA,也覆盖透光区TA设置。可以理解的是,尽管图中未示出,器件层组140还可以包括布线层、平坦层等其他膜层。
在一些实施例中,器件层组140包括薄膜晶体管,薄膜晶体管包括有源层143。本实施例中,栅绝缘层141覆盖有源层143设置,即栅绝缘层141位于有源层143的背离衬底120的一侧。至少一层光调制层110包括第六光调制层116,第六光调制层116包括位于透光区TA的第一部分116a以及位于显示区AA的第二部分116b,第六光调制层116的第二部分116b位于有源层143的背离衬底120的一侧。本实施例中,在透光区TA,第六光调制层116的第一部分116a夹设于栅绝缘层141与层间介质层142之间。
在本实施例中,在透光区TA,第六光调制层116的第一部分116a被配置为能够提高预设波长光线在夹设第一部分116a的相邻透光层之间的透过率,在显示区AA,第六光调制层116的第二部分116b被配置为能够降低光线在夹设第二部分116b的相邻膜层之间的透过率。因此,在透光区TA,第六光调制层116的第一部分116a能提高透光区TA的整体透光率,且能够提高各波段光线透过的均一性,提高透过光线的色彩保真性。在显示区AA,薄膜晶体管的有源层143通常为半导体材料,存在对光的光电效应,通过第六光调制层116的第二部分116b对透光率降低,能够降低发光元件层组150以及外界的光线向有源层143传播,从而降低光线对有源层143沟道的影响,提高薄膜晶体管的稳定性。
对第六光调制层116的第一部分116a、第二部分116b分别进行不同的配置,可以使得两者具有不同的透光性能。在一些实施例中,可以对第六光调制层116的第一部分116a、第二部分116b分别配置不同的折射率。在一些实施例中,第六光调制层116的第二部分116b的厚度与第六光调制层116的第一部分116a的厚度不同,使得第一部分116a被配置为能够提高预设波长光线在夹设第一部分116a的相邻透光层之间的透过率,第二部分116b被配置为能够降低光线在夹设第二部分116b的相邻膜层之间的透过率。
在一些实施例中,当至少一层光调制层110包括位于有源层143的朝向衬底120一侧的第七调制层时,第七调制层也以可以包括位于透光区TA的第一部分以及位于显示区AA的第二部分。其中第七调制层的第一部分和第二部分均被配置为能够提高预设波长光线在夹设第七调制层的相邻膜层之间的透过率,使得发光元件层组150以及外界的光线穿过有源层143后,再次反射回有源层143的光线减少,提高薄膜晶体管的稳定性。
依照本发明如上文所述的实施例,这些实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该发明仅为所述的具体实施例。显然,根据以上描述,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本发明的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本发明以及在本发明基础上的修改使用。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (16)

1.一种显示面板,其特征在于,包括显示区和透光区,所述透光区为非显示区域,所述显示区围绕所述透光区的至少部分外周设置,所述显示面板包括层叠设置的多个膜层,所述多个膜层中的部分所述膜层被配置为透光层,另一部分所述膜层被配置为非透光层,其中所述非透光层延伸于所述显示区且避位所述透光区设置,至少部分层所述透光层覆盖所述透光区,所述显示面板包括:
至少一层光调制层,每层所述光调制层夹设于覆盖所述透光区的任意相邻所述透光层之间,所述光调制层被配置为至少一部分能够提高预设波长光线在夹设所述光调制层的相邻所述透光层之间的透过率;所述光调制层的折射率介于夹设所述光调制层的相邻所述透光层的折射率之间。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
衬底,被配置为所述透光层;
缓冲层,位于所述衬底上,所述缓冲层被配置为所述透光层;
器件层组,位于所述缓冲层背离所述衬底的一侧;
发光元件层组,位于所述器件层组背离所述衬底的一侧;以及
封装层,位于所述发光元件层组背离所述衬底的一侧,所述封装层被配置为所述透光层,
其中,所述衬底、所述缓冲层以及所述封装层覆盖所述透光区。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述至少一层光调制层包括夹设于所述衬底与所述缓冲层之间的第一光调制层。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述缓冲层包括叠设的第一子缓冲层和第二子缓冲层,所述至少一层光调制层包括夹设于所述第一子缓冲层与所述第二子缓冲层之间的第二光调制层。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述第一子缓冲层为氮化硅层,所述第二子缓冲层为氧化硅层,所述第一光调制层为包括氧化硅、氮化硅、硅中至少两种的混合膜层;所述第二光调制层为包括氧化硅、氮化硅、硅中至少两种的混合膜层。
6.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述发光元件层组与所述封装层之间间隔设置,所述至少一层光调制层包括填充于所述封装层与所述发光元件层组之间的第三光调制层。
7.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
真空层,位于所述发光元件层组与所述封装层之间,
所述至少一层光调制层包括以下中的至少任一:
第四光调制层,位于所述发光元件层组与所述真空层之间;
第五光调制层,位于所述封装层与所述真空层之间。
8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述第四光调制层为氟化锂层;所述第五光调制层为氟化镁层。
9.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述发光元件层组包括:
第一电极层;
第二电极层,位于所述第一电极层的背离所述衬底的一侧;
发光层,位于所述第一电极层与所述第二电极层之间,
其中,所述第一电极层、所述第二电极层以及所述发光层延伸于所述显示区且避位所述透光区设置。
10.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述发光元件层组还包括:
载流子层,位于所述第一电极层与所述发光层之间,和/或位于所述发光层与所述第二电极层之间,所述载流子层覆盖所述透光区,或者所述载流子层延伸于所述显示区且避位所述透光区设置。
11.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述发光元件层组还包括:
光取出层,位于所述第二电极层的背离所述衬底的一侧,所述光取出层被配置为所述透光层,所述光取出层覆盖所述透光区。
12.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述器件层组包括薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括有源层,所述至少一层光调制层包括第六光调制层,所述第六光调制层包括位于所述透光区的第一部分以及位于所述显示区的第二部分,所述第六光调制层的所述第二部分位于所述有源层的背离所述衬底的一侧,
其中,在所述透光区,所述第一部分被配置为能够提高所述预设波长光线在夹设所述第一部分的相邻所述透光层之间的透过率,在所述显示区,所述第二部分被配置为能够降低光线在夹设所述第二部分的相邻所述膜层之间的透过率。
13.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述光调制层的折射率满足以下式子:
Figure FDA0003766345230000031
其中,nA为夹设所述光调制层的相邻所述透光层中的一者的折射率;
nB为夹设所述光调制层的相邻所述透光层中的另一者的折射率;
nC为所述光调制层的折射率;
α为有效率,所述有效率大于等于60%。
14.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述光调制层的折射率满足以下式子:
Figure FDA0003766345230000032
其中,nA为夹设所述光调制层的相邻所述透光层中的一者的折射率;
nB为夹设所述光调制层的相邻所述透光层中的另一者的折射率;
nC为所述光调制层的折射率。
15.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,每层所述光调制层包括位于所述透光区的第一部分,所述第一部分的厚度满足以下式子:
TC×nC=(2M+1)×λ/4;
其中,TC为所述光调制层的所述第一部分的厚度;
nC为所述光调制层的折射率;
λ为所述预设波长光线的波长;
M为任意自然数。
16.根据权利要求15所述的显示面板,其特征在于,至少一层所述光调制层包括位于所述显示区的第二部分,所述光调制层的所述第二部分的厚度与所述第一部分的厚度不同。
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