CN111331717B - 一种陶瓷上釉工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种陶瓷上釉工艺，包括以下步骤：坯料的运输抓取、坯料上釉、坯料沥干及坯料放料输出，本发明通过导向轮向外移动将坯料支撑，并且其配合橡胶板将坯料抓取，之后在导向杆与限位圈的作用下坯料被浸入釉池，在釉池内，齿轮先后与齿条a及齿条b配合驱动坯料在釉池内进行正反转，解决了现有技术中采用涂抹的方式陶瓷坯料进行上釉，而釉料厚度难以保持一致进而影响陶瓷烧制效果的技术问题。

Description

一种陶瓷上釉工艺
技术领域
本发明涉及陶瓷生产设备，具体为一种陶瓷上釉工艺。
背景技术
釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层，是用矿物原料和原料按一定比例配合经过研磨制成釉浆，施于坯体表面，经一定温度煅烧而成，釉能增加制品的机械强度、热稳定性和电介强度，还有美化器物、便于拭洗、不被尘土腥秽侵蚀等特点，上釉的均匀性影响着陶瓷制坯的品质。
中国专利申请号为号CN201810393280.5的发明专利公开了一种陶瓷上釉工艺，该工艺包括以下步骤：S1，将陶瓷色料和水放入搅拌罐中进行搅拌混合；S2，将S2中搅拌后的陶瓷色料涂抹在陶瓷的表面；S3，将S2中的陶瓷放入烧制炉中进行烧制。该工艺中采用的搅拌罐包括罐体、进料机构、注水机构、传送机构、收集机构、复位机构、控料机构、控水机构及承接板，所述罐体上设有所述进料机构，利用进料机构和控料机构，能够有效控制收集盒中的进料。利用注水机构和控水机构能够有效控制收集盒中的注水，从而精确调节陶瓷色料和水的比例，从而精确调节陶瓷色料的含水量。利用传送机构能够在固定时间间隔内将收集盒传送到复位机构上，方便收集色料和水。
但是，该发明使用时，将陶瓷色料涂抹在陶瓷表面，涂抹时，陶瓷色料的厚度难以保持一致，导致陶瓷色料薄厚不均影响最终烧制效果。
发明内容
针对上述问题，本发明提供了一种陶瓷上釉工艺，其通过导向轮向外移动将坯料支撑，并且其配合橡胶板将坯料抓取，之后在导向杆与限位圈的作用下坯料被浸入釉池，在釉池内，齿轮先后与齿条a及齿条b配合驱动坯料在釉池内进行正反转，解决了现有技术中采用涂抹的方式陶瓷坯料进行上釉，而釉料厚度难以保持一致进而影响陶瓷烧制效果的技术问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种陶瓷上釉工艺，包括以下步骤：
步骤一：坯料的运输抓取，运输组件a将待上釉的坯料输送至运输组件b 的下方，之后所述运输组件a与所述运输组件b同步运动，导向杆在限位圈的作用下向下移动，导向轮进入坯料的内部，之后的移动过程中，限位条及接触杆下移带动所述导向轮向外移动将坯料支撑抓取；
步骤二：坯料上釉，经步骤一之后，所述运输组件b携带坯料移动至釉池的上方，在之后的移动中，所述导向杆再次下移，坯料浸入所述釉池内，之后，之后旋转组件带动坯料旋转上釉；
步骤三：坯料沥干，经步骤二之后，在所述限位圈的作用下所述导向杆上移带动坯料移出所述釉池，所述运输组件b带动坯料继续在所述釉池上方移动并进行沥干；
步骤四：坯料放料输出，经步骤三之后，所述运输组件b携带坯料移动至运输组件c的上方，所述运输组件b与所述运输组件c同步运动，所述限位条及所述接触杆上移带动所述导向轮松开对瓶胚的束缚，之后所述导向杆在所述限位圈的作用下向上移动，所述导向轮移出坯料，坯料被所述运输组件c输送。
作为改进，在步骤一中，所述导向杆移动自所述限位圈的接触部移动至与凹陷部a配合，进而使所述导向轮下移伸入坯料内部，并且在抓取完成之后，所述导向杆再次移动至与所述接触部配合。
作为改进，在步骤一中，所述限位条移动沿限位轨a的下表面接触，所述接触杆下移，驱使滑动杆带动套筒外侧的所述导向轮沿坯料的内壁向外移动，坯料被向上提起。
作为改进，在步骤一中，瓶体上移至其上口与橡胶板的下表面抵触，所述橡胶板将瓶口封堵的同时配合所述导向轮将坯料固定。
作为改进，在步骤二中，所述导向杆移动至与所述限位圈中的凹陷部b配合，并且贯穿整个上釉过程。
作为改进，在步骤二中，所述旋转组件中的齿轮先后与位于所述釉池两侧齿条a及齿条b配合，进而实现坯料在所述釉池内正反转。
作为改进，在步骤二中，坯料转动上釉时，限位杆a234在限位轮233的边缘的配合槽内切换，其余过程中，所述限位杆a234锁定所述限位轮233。
作为改进，在步骤四中，所述导向杆移动至与所述限位圈的凹陷部c配合，并贯穿整个放料的过程。
作为改进，在步骤四中，所述限位条移动沿限位轨b的上表面接触，所述接触杆上移，驱使所述导向轮向内收回，坯料解除束缚。
作为改进，在步骤1及步骤四中，限位杆b在上下设置的限位孔内的切换实现所述接触杆上下移动时的自锁。
本发明的有益效果在于：
(1)在步骤二中，齿条a及齿条b先后与齿轮配合并控制坯料在釉池内进行正反转，保证了坯料外表面可以均匀的附着釉料，提高了陶瓷后续烧制成品的品质；
(2)在步骤一中，抓取陶瓷坯料时，导向轮移动至坯料的瓶颈下方，之后滑动杆在接触杆的作用下向外移动，导向轮沿坯料内壁向下滚动，坯料随之上移直到开口与橡胶板抵触封闭，保证了釉料在上釉时不会进入坯料的内部，减少了釉料的浪费，同时坯料转移上釉的过程中不会出现松动；
(3)本发明的自动化程度高，只需人工将未上釉的坯料放置在进料装置上的相应位置即可，操作简单，上釉效率高减少了人工成本。
综上所述，本发明具有结构简单、设计巧妙、上釉均匀及上釉效率高等优点，尤其适用于陶瓷坯料的上釉过程。
附图说明
图1为本发明的工艺流程图；
图2为本发明的整体结构示意图图一；
图3为本发明的整体结构示意图图二；
图4为图2 中A处放大图；
图5为图2 中B处放大图；
图6为图3 中C处放大图；
图7为图3 中D处放大图；
图8为瓶坯抓取状态示意图；
图9为图8 中E处放大图；
图10为限位轮配合状态图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
实施例一：
如图1所示，一种陶瓷上釉工艺，包括以下步骤：
步骤一：坯料的运输抓取，运输组件a11将待上釉的坯料输送至运输组件 b21的下方，之后所述运输组件a11与所述运输组件b21同步运动，导向杆231 在限位圈243的作用下向下移动，导向轮236进入坯料的内部，之后的移动过程中，限位条2374及接触杆2371下移带动所述导向轮236向外移动将坯料支撑抓取；
步骤二：坯料上釉，经步骤一之后，所述运输组件b21携带坯料移动至釉池 31的上方，在之后的移动中，所述导向杆231再次下移，坯料浸入所述釉池31 内，之后，之后旋转组件32带动坯料旋转上釉；
步骤三：坯料沥干，经步骤二之后，在所述限位圈342的作用下所述导向杆 231上移带动坯料移出所述釉池31，所述运输组件b21带动坯料继续在所述釉池 31上方移动并进行沥干；
步骤四：坯料放料输出，经步骤三之后，所述运输组件b21携带坯料移动至运输组件c41的上方，所述运输组件b21与所述运输组件c41同步运动，所述限位条2374及所述接触杆2371上移带动所述导向轮236松开对瓶胚的束缚，之后所述导向杆231在所述限位圈243的作用下向上移动，所述导向轮236移出坯料，坯料被所述运输组件c41输送。
进一步的，在步骤一中，所述导向杆231移动自所述限位圈243的接触部 2431移动至与凹陷部a2432配合，进而使所述导向轮236下移伸入坯料内部，并且在抓取完成之后，所述导向杆231再次移动至与所述接触部2431配合。
进一步的，在步骤一中，所述限位条2374移动沿限位轨a2375的下表面接触，所述接触杆2371下移，驱使滑动杆235带动套筒232外侧的所述导向轮236 沿坯料的内壁向外移动，坯料被向上提起。
进一步的，在步骤一中，瓶体上移至其上口与橡胶板238的下表面抵触，所述橡胶板238将瓶口封堵的同时配合所述导向轮236将坯料固定。
进一步的，在步骤二中，所述导向杆231移动至与所述限位圈342中的凹陷部b2433配合，并且贯穿整个上釉过程。
进一步的，在步骤二中，所述旋转组件32中的齿轮321先后与位于所述釉池31两侧齿条a322及齿条b323配合，进而实现坯料在所述釉池31内正反转。
进一步的，在步骤二中，坯料转动上釉时，限位杆a234在限位轮233的边缘的配合槽内切换，其余过程中，所述限位杆a234锁定所述限位轮233。
进一步的，在步骤四中，所述导向杆231移动至与所述限位圈342的凹陷部 c2433配合，并贯穿整个放料的过程。
进一步的，在步骤四中，所述限位条2374移动沿限位轨b2376的上表面接触，所述接触杆2371上移，驱使所述导向轮236向内收回，坯料解除束缚。
进一步的，在步骤1及步骤四中，限位杆b2373在上下设置的限位孔2372 内的切换实现所述接触杆2371上下移动时的自锁。
实施例二：
本发明还提供了一种陶瓷上釉设备：
如图2和图3所示，一种陶瓷上釉设备，包括：
进料装置1，所述进料装置1包括运输组件a11；
转运组件2，所述转运组件2包括运输组件b21、安装组件22、抓取组件23 及控制组件24，所述运输组件b21设置在所述运输组件a11一侧；所述安装组件22上下滑动设置在所述运输组件a11的侧面，若干所述安装组件22沿所述运输组件b21的输送路径阵列，且所述安装组件22经过所述运输组件a11的上方；所述抓取组件23与所述安装组件22一一对应设置，且其伸缩设置在所述安装组件22的底部；所述控制组件24设置在所述安装组件22的上方，且其与所述安装组件22抵触设置；
上釉装置3，所述上釉装置3包括釉池31和旋转组件32，所述釉池31沿所述运输组件b21的输送路径设置在所述进料装置1的后侧；所述旋转组件32沿所述运输组件b21输送路径设置在所述釉池31两侧，且所述旋转组件32驱动所述抓取组件23转动；
出料装置4，所述出料装置4包括运输组件c41，所述运输组件b21的输送路径设置在所述釉池31的后侧；
在工作过程中，未上釉的瓶胚通过所述运输组件a11输送并经过与其同步移动的所述安装组件22的下方，所述控制组件24驱动所述安装组件22下移，所述抓取组件23伸入瓶胚内部，随着移动，所述抓取组件23伸出将瓶胚与所述安装组件22固定，瓶胚被运送至所述釉池31上方时，所述控制组件24驱动所述安装组件22下移，瓶胚进入所述釉池31，所述旋转组件32带动所述抓取组件 23及瓶胚在所述釉池31内转动，上釉之后瓶胚继续运输至所述运输组件c41上方，所述抓取组件23松开对瓶胚的束缚，同时所述控制组件24带动所述抓取组件23移出瓶胚，瓶胚被所述运输组件c41输送。
需要说明的是，所述运输组件a11为水平方向上转动的传送带系统，且其上阵列若干放置坯料5的底座；所述运输组件c41为竖直方向上转动的传送带系统。
如图2所示，所述运输组件b21包括安装架211、链轮212、链条213及电机214，所述链轮212转动安装在所述安装架211上，且三个所述链轮212沿所述安装加211长度方向阵列；所述链条213套设在所述链轮212的外侧；所述电机214固定在所述安装架211上，且其动力轴与位于中间的所述链轮212同轴固定连接。
需要说明的是，所述链条213的转动方向与所述运输组件a11的转动方向相反，且所述链条213与所述运输组件a11转动线速度保持一致。
进一步的，所述安装组件22包括固定杆221、滚轮222及安装台223，所述固定杆221垂直固定在所述链条213上，且若干所述固定杆221沿所述链条213 转动路径阵列；所述滚轮222与所述固定杆221一一对应设置，且其通过连接杆转动安装在所述固定杆221的下方，该滚轮222沿所述安装架211的边缘滚动；所述安装台223固定在所述固定杆221的自由端。
如图4至图8所示，作为一种优选的实施方式，所述抓取组件23包括导向杆231、套筒232、限位轮233、限位杆a234、滑动杆235、导向轮236、限位组件237、橡胶板238及弹簧a239，所述导向杆231上下滑动设置在所述安装台 223上；所述套筒232转动安装在所述滑动杆235的底部；所述限位轮233固定安装在所述套筒232顶端，且其与所述导向杆231转动连接；所述限位杆a234 弹性固定在所述套筒232顶端，且其与所述限位轮233抵触配合；所述滑动杆 235沿所述套筒232径向滑动设置在所述套筒232底部，且四根所述滑动杆235 以所述套筒232的轴心为中心圆周阵列分布；一对所述导向轮236转动安装在所述滑动杆235长度方向两端；所述限位组件237上下滑动设置在所述套筒232 内部，且其与位于所述套筒232内部的所述导向轮236抵触配合；所述橡胶板 238环绕在所述套筒232的外壁上，且其位于所述滑动杆235的上方；所述弹簧 a239套设在所述滑动杆235上，且其两端分别固定在所述套筒232的内壁和所述滑动杆235的一端。
需要说明的是，为了保证所述导向杆231在所述安装台223上只保持上下滑动，所述导向杆231上设置有导向条，所述安装台223上开设有与导向条配合的导向槽。
更需要说明的是，如图10所示，所述限位轮233的边缘处开设若干配合槽，所述限位杆a234设置插在配合槽内，当所述套筒232转动时，所述限位杆a234 切换不同的配合槽，所述套筒232停止转动，所述限位杆a234将所述限位轮233 锁定。
如图8和图9所示，作为一种优选的实施方式，所述限位组件237包括接触杆2371、限位孔2372、限位杆b2373、限位条2374、限位轨a2375及限位轨b2376，所述接触杆2371竖直滑动设置在所述套筒232内，且所述接触杆2371顶端通过弹簧与所述套筒232连接，该接触杆2371包括上下设置的凸起部23711和配合部23712，且位于所述套筒232内部的所述导向轮236沿所述凸起部23711和配合部23712滚动；两个所述限位孔2372上下设置在所述凸起部23711上；所述限位杆b2373弹性固定在所述套筒232的内壁上，且其可插设在所述限位孔2372 内；所述限位条2374垂直所述链条213转动方向设置在所述接触杆2371的顶部，且所述限位条2374伸出所述套筒232；所述限位轨a2375沿所述链条213的转动方向设置在所述釉池31的前侧，且其位于所述运输组件a11的上方，该限位轨a2375沿所述链条213的转动方向其轨道高度降低，且其下表面与所述限位条 2374抵触配合；所述限位轨b2376沿所述链条213的转动方向设置在所述釉池 31的后侧，且其位于所述运输组件c41的上方，该限位轨b2376沿所述链条213 的转动方向其轨道高度增加，且其上表面与所述限位条2374抵触配合。
进一步的，所述控制组件24包括挡板241、弹簧b242及限位圈243，所述挡板241固定在所述导向杆231的上；所述弹簧b242设置在所述挡板241及所述安装台223之间，且其套设在所述导向杆231上；所述限位圈243与所述安装架211固定连接，且其沿所述安装组件22的移动路径设置，并且与所述导向杆 231的顶端抵触配合。
更进一步的，所述限位圈243包括接触部2431、凹陷部a2432、凹陷部b2433 及凹陷部c2434，所述凹陷部a2432及所述凹陷部c2434分别与所述限位轨a2375 及限位轨b2376设置，所述凹陷部b2433位于所述釉池3上方；所述接触部2431 将所述凹陷部a2432、凹陷部b2433及凹陷部c2434串联成一整体。
需要说明的是，如图4、图5、图8和图9所示，抓取所述坯料5的过程如下，所述套筒232位于所述坯料5上方，且二者同步移动，所述导向杆231移动与所述凹陷部a2432配合，所述套筒232下移伸入所述坯料5的瓶口，所述弹簧 b242收缩，且所述滑动杆235所在平面移动至瓶颈下方，之后所述限位条2374 移动至与所述限位杆a2375的下表面接触，所述所述接触杆2371下移，所述限位杆b2373切换至位于上方的所述限位孔2372内，此时位于所述套筒232内的所述导向轮236自所述配合部23712移动至与所述凸起部23711配合，所述滑动杆235向外伸出，所述弹簧a239收缩，位于所述套筒232外侧的所述导向轮236 沿所述坯料5的内壁向外移动，所述坯料5被抬升知道其开口与所述橡胶板238 抵触配合，之后所述导向杆231自所述凹陷部a2432移动至与所述接触部2431 配合，所述坯料5脱离所述运输组件a11。
更需要说明的是，所述坯料5的开口被所述橡胶板238封堵，保证了釉料不会进入所述坯料5的内部，减少了釉料的浪费的同时保证后续所述坯料烧制的品质。
如图7所示，作为一种优选的实施方式，所述旋转组件32包括齿轮321、齿条a322及齿条b323，所述齿轮321同轴固定在所述套筒232上；所述齿条a322 设置在所述釉池31一侧；所述齿条b323相对于所述齿条a322设置在所述釉池 31的另一侧，且其沿所述链条213的转动方向设置在所述齿条a322的后侧。
需要说明的是，如图7所示，当所述抓取组件23移动至所述釉池31上方时，所述导向杆231从所述接触部2431移动至与所述凹陷部b2433配合，所述坯料 5被送至所述釉池31内，且所述坯料5在所述釉池31内移动，所述齿轮321先后和所述齿条a322及所述齿条b323配合，所述坯料5在所述釉池31内正反转，保证釉料附着在所述坯料5外壁上的均匀性。
更需要说明的是，如图6、图7和图9所示，在所述齿轮321与所述齿条b323 配合结束之后，所述导向杆231自所述凹陷部b2433移动至与所述接触部2431 配合，所述坯料5离开所述釉池31，接下来，所述导向杆231自所述接触部2431 移动至与所述凹陷部c2434配合，所述坯料5下移至所述运输组件c41上方，且所述运输组件c41与所述坯料5同步运动，所述限位条2374移动至与所述限位轨b2376的上表面接触，进而带动所述接触杆2371上移，所述限位杆b2373 自位于下方的所述限位孔2372切换至与位于上方的所述限位孔2372配合，位于所述套筒232内部的所述导向轮236自所述凸起部23711移动至与所述配合部 23712配合，所述弹簧a239伸长带动所述滑动杆235向内移动并松开对所述坯料5的固定，所述坯料5落至所述运输组件c41上输出至下一道工序。
着重需要说明的是，所述坯料5自进入所述釉池31的状态移出之后，其在所述釉池31上方移动一段距离进行沥干，减少釉料的浪费。
设备的工作过程：
本发明中，工人将待上釉的所述坯料5放置在所述运输组件a11上，由所述运输组件a11输送至所述抓取组件23下方，并且与所述抓取组件23同步移动，所述导向杆231自所述接触部2431移动与所述凹陷部a2432配合，所述套筒232 下移伸入所述坯料5的瓶口，所述弹簧b242收缩，且所述滑动杆235所在平面移动至瓶颈下方，之后所述限位条2374移动至与所述限位杆a2375的下表面接触，所述接触杆2371下移，所述限位杆b2373切换至位于上方的所述限位孔2372 内，此时位于所述套筒232内的所述导向轮236自所述配合部23712移动至与所述凸起部23711配合，所述滑动杆235向外伸出，所述弹簧a239收缩，位于所述套筒232外侧的所述导向轮236沿所述坯料5的内壁向外移动，所述坯料5 被抬升知道其开口与所述橡胶板238抵触配合，之后所述导向杆231自所述凹陷部a2432移动至与所述接触部2431配合，所述坯料5脱离所述运输组件a11，之后所述抓取组件23携带所述坯料5移动至所述釉池31的上方，此时所述导向杆231从所述接触部2431移动至与所述凹陷部b2433配合，所述坯料5被送至所述釉池31内，且所述坯料5在所述釉池31内移动，所述齿轮321先后和所述齿条a322及所述齿条b323配合，所述坯料5在所述釉池31内正反转，釉料均匀的附着在所述坯料5的外壁，之后所述导向杆231自所述凹陷部b2433移动至与所述接触部2431配合，所述坯料5离开所述釉池31，接下来，所述导向杆231 自所述接触部2431移动至与所述凹陷部c2434配合，所述坯料5下移至所述运输组件c41上方，且所述运输组件c41与所述坯料5同步运动，所述限位条2374 移动至与所述限位轨b2376的上表面接触，进而带动所述接触杆2371上移，所述限位杆b2373自位于下方的所述限位孔2372切换至与位于上方的所述限位孔 2372配合，位于所述套筒232内部的所述导向轮236自所述凸起部23711移动至与所述配合部23712配合，所述弹簧a239伸长带动所述滑动杆235向内移动并松开对所述坯料5的固定，所述坯料5落至所述运输组件c41上输出至下一道工序。

Claims (8)

1.一种陶瓷上釉工艺，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一：坯料的运输抓取，运输组件a(11)将待上釉的坯料输送至运输组件b(21)的下方，之后所述运输组件a(11)与所述运输组件b(21)同步运动，导向杆(231)在限位圈(243)的作用下向下移动，导向轮(236)进入坯料的内部，之后的移动过程中，限位条(2374)及接触杆(2371)下移带动所述导向轮(236)向外移动将坯料支撑抓取；
所述导向杆(231)移动自所述限位圈(243)的接触部(2431)移动至与凹陷部a(2432)配合，进而使所述导向轮(236)下移伸入坯料内部，并且在抓取完成之后，所述导向杆(231)再次移动至与所述接触部(2431)配合；
所述限位条(2374)移动沿限位轨a(2375)的下表面接触，所述接触杆(2371)下移，驱使滑动杆(235)带动套筒(232)外侧的所述导向轮(236)沿坯料的内壁向外移动，坯料被向上提起；
步骤二：坯料上釉，经步骤一之后，所述运输组件b(21)携带坯料移动至釉池(31)的上方，在之后的移动中，所述导向杆(231)再次下移，坯料浸入所述釉池(31)内，之后，之后旋转组件(32)带动坯料旋转上釉；
步骤三：坯料沥干，经步骤二之后，在所述限位圈(342)的作用下所述导向杆(231)上移带动坯料移出所述釉池(31)，所述运输组件b(21)带动坯料继续在所述釉池(31)上方移动并进行沥干；
步骤四：坯料放料输出，经步骤三之后，所述运输组件b(21)携带坯料移动至运输组件c(41)的上方，所述运输组件b(21)与所述运输组件c(41)同步运动，所述限位条(2374)及所述接触杆(2371)上移带动所述导向轮(236)松开对瓶胚的束缚，之后所述导向杆(231)在所述限位圈(243)的作用下向上移动，所述导向轮(236)移出坯料，坯料被所述运输组件c(41)输送。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉工艺，其特征在于，在步骤一中，瓶体上移至其上口与橡胶板(238)的下表面抵触，所述橡胶板(238)将瓶口封堵的同时配合所述导向轮(236)将坯料固定。
3.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉工艺，其特征在于，在步骤二中，所述导向杆(231)移动至与所述限位圈(342)中的凹陷部b(2433)配合，并且贯穿整个上釉过程。
4.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉工艺，其特征在于，在步骤二中，所述旋转组件(32)中的齿轮(321)先后与位于所述釉池(31)两侧齿条a(322)及齿条b(323)配合，进而实现坯料在所述釉池(31)内正反转。
5.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉工艺，其特征在于，在步骤二中，坯料转动上釉时，限位杆a234在限位轮233的边缘的配合槽内切换，其余过程中，所述限位杆a234锁定所述限位轮233。
6.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉工艺，其特征在于，在步骤四中，所述导向杆(231)移动至与所述限位圈(342)的凹陷部c(2433)配合，并贯穿整个放料的过程。
7.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉工艺，其特征在于，在步骤四中，所述限位条(2374)移动沿限位轨b(2376)的上表面接触，所述接触杆(2371)上移，驱使所述导向轮(236)向内收回，坯料解除束缚。
8.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉工艺，其特征在于，在步骤1及步骤四中，限位杆b(2373)在上下设置的限位孔(2372)内的切换实现所述接触杆(2371)上下移动时的自锁。
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