CN111312889A - 一种磁电弹簧结构及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种磁电弹簧结构及其制备方法,包括铁电层和铁磁层,生长过程中使用铝酸锶作为缓冲层降低晶格失配度。生长完成后,利用铝酸锶的水溶性和铁电、铁磁层之间的应力释放,形成包含铁电层和铁磁层的微型弹簧结构,铁电层设置在铁磁层内侧。随着铁电性和铁磁性厚度的变化,弹簧的弹性系数将发生变化。在一定的弹度限制内,也有类似弹簧的虎克定律。当施加拉力或压力,释放拉力或压力后,微型弹簧可恢复至原来的形状。对弹簧上的铁电层施加电场后,由于压电效应和磁电耦合效应,弹簧的形状和磁性可随电场调节。对弹簧施加磁场后,由于磁致伸缩效应和磁电耦合效应,弹簧的形状和表面电荷会随磁场发生变化,可用于磁场传感。
Description
技术领域
本发明属于电磁结构技术领域,特别涉及一种磁电弹簧结构及其制备方法。
背景技术
磁电异质结是一种由铁磁和铁电材料通过连接层耦合而成,其磁电效应来源于铁电相的压电效应和铁磁相的磁致伸缩效应。相对于颗粒混相磁电复合材料,层状磁电异质结材料具有更高的磁电耦合系数和更低的介电损耗,使得其在磁场传感器、能量收集器、天线以及存储器等领域都有着巨大的应用前景。目前大量报道的弹簧大部分为钢制材料(不锈钢,合金钢等),线径可以达到五十微米左右,外径可以只达二百微米,是因为受到弹簧机器的精密度和复杂的生产工艺的限制。同时由于钢制材料仅有的弹性,强度,耐腐蚀性等特点,使其弹簧功能单一,没有磁电效应,铁电功能等。
发明内容
本发明的目的在于提供一种磁电弹簧结构及其制备方法,以解决上述问题。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种磁电弹簧结构,包括铁电层和铁磁层,铁电层和铁磁层均为弹簧结构,铁电层设置在铁磁层内侧。
进一步的,铁磁层厚度为30-60nm;铁电层厚度为5~100nm。
进一步的,一种磁电弹簧结构的制备方法,包括以下步骤:
步骤1,将基片分别放置在丙酮,酒精,水中超声清洗5-10min;
步骤2,采用激光脉冲沉积的方法,在基片上生长一层铝酸锶缓冲层,其厚度为5~50nm;
步骤3,采用激光脉冲沉积的方法,在步骤2的缓冲层上继续生长铁电层,其厚度为30~100nm;
步骤4,采用激光脉冲沉积的方法,在步骤3的铁电层上继续生长铁磁层,其厚度为30-60nm;
步骤5,在铁磁层表面旋涂上一层光刻胶,其匀胶转数为3000-4000r;
步骤6,在烘箱中对所述结构进行烘烤,其烘烤时间为10-20min,烘烤温度为90℃-120℃;
步骤7,将步骤6的结构放置水中24-48h天,使钛酸锶基片/缓冲层与铁电层/铁磁层/光刻胶脱离;
步骤8,铁电层/铁磁层/光刻胶放置丙酮中1-2h,去除铁电层/铁磁层表面的光刻胶,形成磁电弹簧结构。
进一步的,步骤2中激光脉冲沉积条件为:在温度为680~750℃,氧压为20~30Pa,激光频率为3-5Hz,激光能量为20-25kV,沉积时间10-30min的条件下;
步骤3中光脉冲沉积条件为:在温度为650~750℃,氧压为10~30Pa,激光频率为2-5Hz,激光能量21-25kV,沉积时间10-30min的条件下;
步骤4中光脉冲沉积条件为:在温度为650~760℃,氧压为15~30Pa,激光频率为2-5Hz,激光能量21-25kV,沉积时间10-30min的条件下。
进一步的,基底为不同取向的单晶衬底SrTiO3。
进一步的,步骤3中,铁电层为基于钛酸钡、铁酸铋或锆钛酸铅体系的铁电薄膜材料。
进一步的,步骤4中,铁磁层为基于镍铁氧体、钴铁氧体或镧锶锰氧体系的铁磁薄膜材料。
与现有技术相比,本发明有以下技术效果:
本发明根据柔性转移的方法,制备了一种磁电弹簧结构。优点有:(1)弹簧外径为纳米级别,可达10-100nm,如果用于器件的话,可以有效减少器件的体积或者提高器件的集成度。(2)弹簧材料均为无机氧化物材料。比如铁磁层可以为镧锶锰氧,铁电层可以为钛酸钡。无机氧化物材料相比于钢制材料,具有极佳的铁电或铁磁功能,使其弹簧功能多样化,不单单具有弹簧弹性,进一步扩大其应用范围或领域。(3)弹簧结构是通过应力诱导形成的。基片/铝酸锶/铁电层/铁磁层/光刻胶经过水处理,铝酸锶与铁电层之间的化学键断裂,由于晶格匹配所产生的张(压)应力将会释放,最后铁电层/铁磁层/光刻胶经过丙酮处理,变成弹簧结构。与传统的微型弹簧相比,其制备工艺简单,环保,无污染,成品率高。(4)随着铁电层和铁磁层厚度的变化,弹簧的弹性系数将发生变化,利用这一特性,可以制作不同量程的高灵敏度微型弹簧,满足实际要求和扩大其应用领域。(5)对弹簧施加电场或磁场后,由于压电效应或磁致伸缩效应,弹簧会受到拉力或压力,从而实现对微型磁电弹簧机械形变的电场或磁场调控。
附图说明
图1是磁电弹簧结构形成流程图;
图2是磁电弹簧结构实物图;
图3是拉力测试实验图;
具体实施方式
以下结合附图对本发明进一步说明:
请参阅图1至图3,一种磁电弹簧结构,包括铁电层和铁磁层,铁电层和铁磁层均为弹簧结构,铁电层设置在铁磁层内侧;铁磁层为LSMO层,铁电层为钛酸钡BTO层。
镧锶锰氧LSMO层厚度为30-60nm;钛酸钡BTO层厚度为5~100nm。
一种磁电弹簧结构的制备方法,包括以下步骤:
步骤1,将基片分别放置在丙酮,酒精,水中超声清洗5-10min;
步骤2,采用激光脉冲沉积的方法,在基片上生长一层铝酸锶缓冲层,其厚度为5~50nm;
步骤3,采用激光脉冲沉积的方法,在步骤2的缓冲层上继续生长铁电层,其厚度为30~100nm;
步骤4,采用激光脉冲沉积的方法,在步骤3的铁电层上继续生长铁磁层,其厚度为30-60nm;
步骤5,在铁磁层表面旋涂上一层光刻胶,其匀胶转数为3000-4000r;
步骤6,在烘箱中对所述结构进行烘烤,其烘烤时间为10-20min,烘烤温度为90℃-120℃;
步骤7,将步骤6的结构放置水中24-48h,使钛酸锶基片/缓冲层与铁电层/铁磁层/光刻胶脱离;
步骤8,铁电层/铁磁层/光刻胶放置丙酮中1-2h,去除铁电层/铁磁层表面的光刻胶,形成磁电弹簧结构。
步骤2中激光脉冲沉积条件为:在温度为680~750℃,氧压为20~30Pa,激光频率为3-5Hz,激光能量为20-25kV,沉积时间10-30min的条件下;
步骤3中光脉冲沉积条件为:在温度为650~750℃,氧压为10~30Pa,激光频率为2-5Hz,激光能量21-25kV,沉积时间10-30min的条件下;
步骤4中光脉冲沉积条件为:在温度为650~760℃,氧压为15~30Pa,激光频率为2-5Hz,激光能量21-25kV,沉积时间10-30min的条件下。
基底为单晶衬底SrTiO3。
步骤3中,铁电层为基于钛酸钡、铁酸铋或锆钛酸铅体系的铁电薄膜材料。
步骤4中,铁磁层为基于镍铁氧体、钴铁氧体或镧锶锰氧体系的铁磁薄膜材料。
对弹簧上的铁电层施加电场后,由于压电效应,弹簧会受到拉力或压力,从而实现电场对微型磁电弹簧机械形变的调控。
对弹簧施加磁场后,由于磁致伸缩效应,弹簧会受到拉力或压力,从而实现磁场对微型磁电弹簧机械形变的调控。
对弹簧上的铁电层施加电场后,由于磁电耦合效应,弹簧的磁性可随电场调节。
对弹簧施加磁场后,由于磁电耦合效应,弹簧的表面电荷会发生变化,可用于磁场传感。
实施例:
磁电弹簧结构成成分BTO(20nm)/LSMO(50nm)
步骤1,将基片分别放置在丙酮,酒精,水中超声清洗5-10min。
步骤2,采用激光脉冲沉积的方法,在温度为700~750℃,氧压为20~30Pa,激光频率为3-5Hz,激光能量为20-25kV,沉积时间20-30min的条件下,在基片上生长一层铝酸锶缓冲层,其厚度为30nm
步骤3,采用激光脉冲沉积的方法,在温度为680~720℃,氧压为20~30Pa,激光频率为2-5Hz,激光能量21-25kV,沉积时间20-30min的条件下,在步骤2的缓冲层上继续生长钛酸钡BTO,其厚度为20nm
步骤4,采用激光脉冲沉积的方法,在温度为680~710℃,氧压为20~30Pa,激光频率为2-5Hz,激光能量21-25kV,沉积时间15-20min的条件下,在步骤3的BTO继续生长LSMO,其厚度为50nm
步骤5,在铁磁层表面旋涂上一层光刻胶,其匀胶转数为3000-4000r。
步骤6,在烘箱中对所述结构进行烘烤,其烘烤时间为10-20min,烘烤温度为90℃-120℃
步骤7,将步骤6的结构放置水中大约1-2天,使钛酸锶基片/缓冲层与铁电层/铁磁层/光刻胶脱离。
步骤8,铁电层/铁磁层/光刻胶放置丙酮中大约1-2h,去除铁电层/铁磁层表面的光刻胶,可形成磁电弹簧结构。
Claims (7)
1.一种磁电弹簧结构,其特征在于,包括铁电层和铁磁层,铁电层和铁磁层均为弹簧结构,铁电层设置在铁磁层内侧。
2.根据权利要求1所述的一种磁电弹簧结构,其特征在于,铁磁层厚度为30-60nm;铁电层厚度为5~100nm。
3.一种磁电弹簧结构的制备方法,其特征在于,基于权利要求1至2任意一项所述的一种磁电弹簧结构,包括以下步骤:
步骤1,将基片分别放置在丙酮,酒精,水中超声清洗5-10min;
步骤2,采用激光脉冲沉积的方法,在基片上生长一层铝酸锶缓冲层,其厚度为5~50nm;
步骤3,采用激光脉冲沉积的方法,在步骤2的缓冲层上继续生长铁电层,其厚度为30~100nm;
步骤4,采用激光脉冲沉积的方法,在步骤3的铁电层上继续生长铁磁层,其厚度为30-60nm;
步骤5,在铁磁层表面旋涂上一层光刻胶,其匀胶转数为3000-4000r;
步骤6,在烘箱中对所述结构进行烘烤,其烘烤时间为10-20min,烘烤温度为90℃-120℃;
步骤7,将步骤6的结构放置水中24-48h,使钛酸锶基片/缓冲层与铁电层/铁磁层/光刻胶脱离;
步骤8,铁电层/铁磁层/光刻胶放置丙酮中1-2h,去除铁电层/铁磁层表面的光刻胶,形成磁电弹簧结构。
4.根据权利要求3所述的一种磁电弹簧结构的制备方法,其特征在于,步骤2中激光脉冲沉积条件为:在温度为680~750℃,氧压为20~30Pa,激光频率为3-5Hz,激光能量为20-25kV,沉积时间10-30min的条件下;
步骤3中光脉冲沉积条件为:在温度为650~750℃,氧压为10~30Pa,激光频率为2-5Hz,激光能量21-25kV,沉积时间10-30min的条件下;
步骤4中光脉冲沉积条件为:在温度为650~760℃,氧压为15~30Pa,激光频率为2-5Hz,激光能量21-25kV,沉积时间10-30min的条件下。
5.根据权利要求3所述的一种磁电弹簧结构的制备方法,其特征在于,基底为不同取向的单晶衬底SrTiO3。
6.根据权利要求3所述的一磁电弹簧结构的制备方法,其特征在于,步骤3中,铁电层为基于钛酸钡、铁酸铋或锆钛酸铅体系的铁电薄膜材料。
7.根据权利要求3所述的一种磁电弹簧结构的制备方法,其特征在于,步骤4中,铁磁层为基于镍铁氧体、钴铁氧体或镧锶锰氧体系的铁磁薄膜材料。
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