CN111257974B - 微型光学镜头、取像装置及电子装置 - Google Patents

微型光学镜头、取像装置及电子装置 Download PDF

Info

Publication number
CN111257974B
CN111257974B CN201911196380.XA CN201911196380A CN111257974B CN 111257974 B CN111257974 B CN 111257974B CN 201911196380 A CN201911196380 A CN 201911196380A CN 111257974 B CN111257974 B CN 111257974B
Authority
CN
China
Prior art keywords
micro
optical lens
reflection layer
low reflection
present
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201911196380.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN111257974A (zh
Inventor
朱国强
张建邦
邓钧鸿
蔡温祐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Largan Precision Co Ltd
Original Assignee
Largan Precision Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Largan Precision Co Ltd filed Critical Largan Precision Co Ltd
Priority to CN202210402895.6A priority Critical patent/CN114647021A/zh
Publication of CN111257974A publication Critical patent/CN111257974A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111257974B publication Critical patent/CN111257974B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/003—Light absorbing elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/001—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

本揭示内容是关于一种微型光学镜头、取像装置及电子装置。一种微型光学镜头，包含一光学元件。光学元件包含一低反射层。低反射层位于光学元件的至少一表面，且低反射层包含多个纳米结晶，其位于低反射层的一表面。其中，光学元件是为一遮光元件、一环形间隔元件及一镜筒元件中至少一者。当满足特定条件时，有助于破坏并削弱入射在所述表面的杂散光线强度，有助维持光学元件表面的超低反射率，并明显提升微型光学镜头的光学成像品质。

Description

微型光学镜头、取像装置及电子装置
技术领域
本发明是关于一种光学镜头，特别是关于一种包含光学元件的微型光学镜头。
背景技术
近年来日趋流行以移动装置的微型光学镜头进行摄影拍照，但移动装置常因在户外使用而受到强烈阳光光线影响，使得光学镜头被强烈非成像杂散光影响而大幅降低成像品质。
已知技术在光学镜头中的不透明光学元件表面进行涂墨、喷砂与镀膜等技术，以达到降低反射率与消除杂散光线效果，虽可提升光学成像品质，但其效果仍不足以消除高强度杂散光线。再者，在非移动装置光学镜头领域仍具有其他降低反射率技术，其通过制造膜层表面以产生具多孔洞的微结构，然其结构支撑性不足，并容易因外力导致膜层变形而大幅降低抗反射效果。
此外，虽有已知技术是以多层镀膜方式以期达到更佳的抗反射效果，但多层制作较为过程复杂，且镀膜成本居高不下，使其无法于光学镜头产业广泛应用。
发明内容
本发明提供的微型光学镜头、取像装置及电子装置，其于光学元件至少一表面设置低反射层，有助维持光学元件表面的超低反射率，以有效提升微型光学镜头的光学成像品质。
依据本发明提供一种微型光学镜头，包含一光学元件。光学元件包含一低反射层。低反射层位于光学元件的至少一表面，其中低反射层以粗糙化与结晶化形成，且低反射层包含多个纳米结晶(nanocrystalline grains)，其位于低反射层的一表面。其中，光学元件是为一遮光元件、一环形间隔元件及一镜筒元件中至少一者。其中，纳米结晶的平均粒径为DC，低反射层于波长380nm-780nm的反射率为R3878，其满足下列条件：
5nm≤DC≤200nm；以及
R3878≤0.50％。
依据本发明另提供一种取像装置，包含如前段所述的微型光学镜头以及一电子感光元件，电子感光元件设置于微型光学镜头的一成像面。
依据本发明更提供一种电子装置，包含如前段所述的取像装置。
当DC与R3878满足上述条件时，有助于破坏并削弱入射在所述表面的杂散光线强度，有助维持光学元件表面的超低反射率，并明显提升微型光学镜头的光学成像品质。
附图说明
为让本发明的上述和其他目的、特征、优点与实施例能更明显易懂，所附附图的说明如下：
图1是绘示本发明第一实施例至第十实施例中低反射层于波长380nm-780nm的反射率数值；
图1-1为本发明第一实施例的结晶表面图；
图1-2为本发明第二实施例的结晶表面图；
图1-3为本发明第三实施例的结晶表面图；
图1-4为本发明第四实施例的结晶表面图；
图1-5为本发明第五实施例的结晶表面图；
图1-6为本发明第六实施例的结晶表面图；
图1-7为本发明第七实施例的结晶表面图；
图1-8为本发明第八实施例的结晶表面图；
图1-9为本发明第九实施例的结晶表面图；
图1-10为本发明第十实施例的结晶表面图；
图2是绘示本发明第十一实施例至第二十实施例中低反射层于波长380nm-780nm的反射率数值；
图2-1为本发明第十一实施例的结晶表面图；
图2-2为本发明第十二实施例的结晶表面图；
图2-3为本发明第十三实施例的结晶表面图；
图2-4为本发明第十四实施例的结晶表面图；
图2-5为本发明第十五实施例的结晶表面图；
图2-6为本发明第十六实施例的结晶表面图；
图2-7为本发明第十七实施例的结晶表面图；
图2-8为本发明第十八实施例的结晶表面图；
图2-9为本发明第十九实施例的结晶表面图；
图2-10为本发明第二十实施例的结晶表面图；
图3是绘示本发明第二十一实施例至第三十实施例中低反射层于波长380nm-780nm的反射率数值；
图3-1为本发明第二十一实施例的结晶表面图；
图3-2为本发明第二十二实施例的结晶表面图；
图3-3为本发明第二十三实施例的结晶表面图；
图3-4为本发明第二十四实施例的结晶表面图；
图3-5为本发明第二十五实施例的结晶表面图；
图3-6为本发明第二十六实施例的结晶表面图；
图3-7为本发明第二十七实施例的结晶表面图；
图3-8为本发明第二十八实施例的结晶表面图；
图3-9为本发明第二十九实施例的结晶表面图；
图3-10为本发明第三十实施例的结晶表面图；
图4是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R3878的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图；
图5是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R3850的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图；
图6是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R4070的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图；
图7是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R4055的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图；
图8是绘示本发明第一实施例至第三十实施例参数R4565的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图；
图9是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R5058的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图；
图10是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R5570的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图；
图11是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R5878的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图；
图12是绘示本发明第三十一实施例的微型光学镜头的剖视图；
图13A是绘示本发明第三十二实施例的电子装置的示意图；
图13B是绘示图13A的电子装置的另一示意图；
图13C是绘示图13A的电子装置的元件示意图；
图13D是绘示图13A的电子装置的方块图；
图14是绘示本发明第三十三实施例的电子装置的示意图；
图15是绘示本发明第三十四实施例的电子装置的示意图；以及
图16是绘示本发明第三十五实施例的电子装置的示意图。
【符号说明】
12、100…微型光学镜头
10、20、30、40…电子装置
11、21、31、41…取像装置
13…电子感光元件
14、24…光学防手震组件
15…辅助光学元件
15a、25a…闪光灯模块
15b、25b…对焦辅助模块
16…感测元件
17a…软性电路板
17b…连接器
18、28…成像信号处理元件
19…使用者界面
19a…触控屏幕
19b…按键
110…遮光元件
120…环形间隔元件
130…镜筒元件
DC…纳米结晶的平均粒径
R3878…低反射层于波长380nm-780nm的反射率
R3850…低反射层于波长380nm-500nm的反射率
R4070…低反射层于波长400nm-700nm的反射率
R4055…低反射层于波长400nm-550nm的反射率
R4565…低反射层于波长450nm-650nm的反射率
R5058…低反射层于波长500nm-580nm的反射率
R5570…低反射层于波长550nm-700nm的反射率
R5878…低反射层于波长580nm-780nm的反射率
具体实施方式
本发明提供一种微型光学镜头，包含一光学元件。光学元件包含一低反射层，其位于光学元件的至少一表面，且低反射层包含多个纳米结晶(nanocrystalline grains)，其位于低反射层的一表面。其中，光学元件是为一遮光元件、一环形间隔元件及一镜筒元件中至少一者。纳米结晶的平均粒径为DC，低反射层于波长380nm-780nm的反射率为R3878，其满足下列条件：5nm≤DC≤200nm；以及R3878≤0.50％。
详细而言，本发明的微型光学镜头透过其光学元件的至少一表面设置低反射层，且低反射层表面是以粗糙化制程，再以适当材料于低反射层表面进行成核反应(如物理气相沉积反应、化学气相沉积反应、真空蒸镀、溅镀与离子镀着等)，借以透过结晶化制程形成具有纳米结晶(Nano-Crystallization)的表面结构。由于低反射层表面具有适当颗粒大小的纳米结晶，可进一步破坏并削弱入射在低反射层表面的杂散光线强度，而适当折射率的纳米结晶材料选择则能使光学元件的表面与空气间的折射率达到渐层分布，使光线顺利入射但却无法反射，有助维持光学元件表面的超低反射率，明显提升本发明的微型光学镜头的光学成像品质。借此，本发明的微型光学镜头适合应用在移动装置光学镜头组成的光学元件的表面，具有明显提升光学成像品质效果与广泛应用的成本优势。
本发明的微型光学镜头中，低反射层的材料可为具有光线吸收效果的深色涂层，涂层具有容易涂覆与粘着在元件表面的特性，使其适合大量加工制造，但本发明并不以此为限。
本发明的微型光学镜头中，纳米结晶材料可为氧化物，如SiO2、Al2O3、TiO2、Ta2O5、TeO2、ZnO、ZrO2、GeO2、MgO等；纳米结晶材料亦可为金属氮化物，如AlN、SiN、Si3N4等；纳米结晶材料亦可为金属氟化物，如MgF2、CaF2等，但本发明并不以此为限。较佳地，纳米结晶于波长587.6nm的折射率为NC，其可满足下列条件：NC≤2.1。或者，其可满足下列条件：NC≤1.9。或者，其可满足下列条件：NC≤1.8。或者，其可满足下列条件：NC≤1.7。或者，其可满足下列条件：NC≤1.6。
本发明的微型光学镜头中，遮光元件可为一呈现圆环状的深色薄片，并可设置于光学透镜的物侧或光学透镜的像侧，有助于吸收杂散光线，但本发明并不以此为限。
本发明的微型光学镜头中，环形间隔元件可设置于光学透镜的物侧或光学透镜的像侧，以提供光学透镜较大间距，有助调整光学透镜适当间距与稳固光学透镜组装。
本发明的微型光学镜头中，镜筒元件可为一可承载光学透镜、遮光元件与环形间隔元件的筒状外壳，具有固定与保护内部元件的功能，但本发明并不以此为限。
依据本发明的微型光学镜头，其中纳米结晶的平均粒径为DC，其可满足下列条件：10nm≤DC≤150nm。在本发明的微型光学镜头中，纳米结晶的平均粒径测量方法是以电子显微镜观察表面，并选择符合粒状或球状的纳米结晶颗粒以测量单一颗粒的最大直径，并于1.2μm2的面积范围内选取至少5个纳米结晶颗粒以进行平均粒径的计算。借此，适当控制纳米结晶的平均粒径大小，大颗粒有助于强化表面的高度落差，小颗粒可造成更佳的杂散光减弱效果。或者，其可满足下列条件：20nm≤DC≤150nm。或者，其可满足下列条件：30nm≤DC≤125nm。或者，其可满足下列条件：40nm≤DC≤100nm。或者，其可满足下列条件：50nm≤DC≤75nm。或者，其可满足下列条件：39nm≤DC≤88nm。
依据本发明的微型光学镜头，其中低反射层于波长380nm-780nm的反射率为R3878，其可满足下列条件：R3878≤0.30％。借此，可吸收大范围波长的杂散光线，维持表面的超低反射率，提升光学镜头的成像品质。或者，其可满足下列条件：R3878≤0.25％。或者，其可满足下列条件：R3878≤0.20％。或者，其可满足下列条件：R3878≤0.16％。或者，其可满足下列条件：R3878≤0.14％。或者，其可满足下列条件：R3878≤0.15％。
依据本发明的微型光学镜头，其中低反射层于波长380nm-500nm的反射率为R3850，其可满足下列条件：R3850≤0.40％。借此，可有效吸收短可见光波长范围的杂散光线，如蓝可见光波长范围的杂散光线，维持表面特定波长范围的低反射率。或者，其可满足下列条件：R3850≤0.20％。或者，其可满足下列条件：R3850≤0.15％。
依据本发明的微型光学镜头，其中低反射层于波长400nm-700nm的反射率为R4070，其可满足下列条件：R4070≤0.50％。借此，可有效吸收可见光波长范围的杂散光线，维持表面的超低反射率。或者，其可满足下列条件：R4070≤0.25％。或者，其可满足下列条件：R4070≤0.20％。
依据本发明的微型光学镜头，其中低反射层于波长400nm-550nm的反射率为R4055，其可满足下列条件：R4055≤0.40％。借此，可有效吸收短可见光波长范围的杂散光线，如蓝可见光波长范围的杂散光线，维持表面特定波长范围的低反射率。或者，其可满足下列条件：R4055≤0.20％。或者，其可满足下列条件：R4055≤0.15％。
依据本发明的微型光学镜头，其中低反射层于波长450nm-650nm的反射率为R4565，其可满足下列条件：R4565≤0.40％。借此，可有效吸收杂散光线，维持表面特定波长范围的低反射率。或者，其可满足下列条件：R4565≤0.20％。或者，其可满足下列条件：R4565≤0.15％。
依据本发明的微型光学镜头，其中低反射层于波长500nm-580nm的反射率为R5058，其可满足下列条件：R5058≤0.50％。借此，可有效吸收特定波长范围的杂散光线，如绿可见光波长范围的杂散光线，维持表面的低反射率。或者，其可满足下列条件：R5058≤0.25％。或者，其可满足下列条件：R5058≤0.20％。
依据本发明的微型光学镜头，其中低反射层于波长550nm-700nm的反射率为R5570，其可满足下列条件：R5570≤0.30％。借此，可有效吸收长可见光波长范围的杂散光线，如红可见光波长范围的杂散光线，维持表面特定波长范围的低反射率。或者，其可满足下列条件：R5570≤0.20％。或者，其可满足下列条件：R5570≤0.15％。
依据本发明的微型光学镜头，其中低反射层于波长580nm-780nm的反射率为R5878，其可满足下列条件：R5878≤0.80％。借此，可有效吸收长可见光波长范围的杂散光线，如红可见光与近红外光波长范围的杂散光线，维持表面特定波长范围的低反射率。或者，其可满足下列条件：R5878≤0.40％。或者，其可满足下列条件：R5878≤0.20％。
依据本发明的微型光学镜头，其中纳米结晶的材料可为金属氧化物。借此，可具有明显降低反射率的效果，特定材料并可进一步提升表面硬度以提升耐磨性。
依据本发明的微型光学镜头，其中纳米结晶的材料可为SiO2。借此，可改变表面折射率，使光学元件的表面与空气间达到渐变折射率，以明显降低表面的反射率。
依据本发明的微型光学镜头，其中纳米结晶的材料可为Al2O3。借此，可改变表面折射率，使光学元件的表面与空气间达到渐变折射率，以明显降低表面的反射率。
依据本发明的微型光学镜头，其中纳米结晶的材料可为TiO2。借此，可降低表面的反射率。
依据本发明的微型光学镜头，其中纳米结晶的材料可为金属氮化物。借此，可具有降低反射率效果，并可进一步提升表面硬度以提升耐磨性。
上述本发明的微型光学镜头中的各技术特征皆可组合配置，而达到对应的功效。
本发明提供一种取像装置，包含前述的微型光学镜头以及一电子感光元件，电子感光元件设置于微型光学镜头的一成像面。较佳地，取像装置可进一步包含镜筒(BarrelMember)、支持装置(Holder Member)或其组合。
本发明提供一种电子装置，其包含前段述的取像装置。借此，可有效提升成像品质。较佳地，电子装置可进一步包含但不限于控制单元(Control Unit)、显示单元(Display)、储存单元(Storage Unit)、随机存取存储器(RAM)、只读储存单元(ROM)或其组合。
根据上述实施方式，以下提出具体实施例并配合附图予以详细说明。
<第一实施例至第十实施例>
请参照图1至图1-10，图1是绘示本发明第一实施例至第十实施例中低反射层于波长380nm-780nm的反射率数值，图1-1为本发明第一实施例的结晶表面图，图1-2为本发明第二实施例的结晶表面图，图1-3为本发明第三实施例的结晶表面图，图1-4为本发明第四实施例的结晶表面图，图1-5为本发明第五实施例的结晶表面图，图1-6为本发明第六实施例的结晶表面图，图1-7为本发明第七实施例的结晶表面图，图1-8为本发明第八实施例的结晶表面图，图1-9为本发明第九实施例的结晶表面图，而图1-10为本发明第十实施例的结晶表面图。
在第一实施例至第十实施例的纳米结晶中，纳米结晶的材料为SiO2，而图1-1至图1-10的尺寸比例皆为宽度约为0.95μm，长度约为1.27μm，而总面积则约为1.2μm2。
请参照下表一。
Figure GDA0003472553640000091
表一为本发明的第一实施例至第十实施例中微型光学镜头的光学元件中的各参数的数值，其中Em1至Em10依序表示第一实施例至第十实施例，DC为纳米结晶的平均粒径，R3878为低反射层于波长380nm-780nm的反射率，R3850为低反射层于波长380nm-500nm的反射率，R4070为低反射层于波长400nm-700nm的反射率，R4055为低反射层于波长400nm-550nm的反射率，R4565为低反射层于波长450nm-650nm的反射率，R5058低反射层于波长500nm-580nm的反射率为，R5570为低反射层于波长550nm-700nm的反射率，而R5878则为低反射层于波长580nm-780nm的反射率。
请参照下表二，其为本发明的第一实施例至第十实施例的低反射层于波长380nm-780nm的反射率数值。
Figure GDA0003472553640000101
Figure GDA0003472553640000111
Figure GDA0003472553640000121
以下各实施例表格中数据的定义皆与表一至表二的定义相同，后续不加赘述。
<第十一实施例至第二十实施例>
请参照图2至图2-10，图2是绘示本发明第十一实施例至第二十实施例中低反射层于波长380nm-780nm的反射率数值，图2-1为本发明第十一实施例的结晶表面图，图2-2为本发明第十二实施例的结晶表面图，图2-3为本发明第十三实施例的结晶表面图，图2-4为本发明第十四实施例的结晶表面图，图2-5为本发明第十五实施例的结晶表面图，图2-6为本发明第十六实施例的结晶表面图，图2-7为本发明第十七实施例的结晶表面图，图2-8为本发明第十八实施例的结晶表面图，图2-9为本发明第十九实施例的结晶表面图，而图2-10为本发明第二十实施例的结晶表面图。
在第十一实施例至第二十实施例的纳米结晶中，纳米结晶的材料为Al2O3，而图2-1至图2-10的尺寸比例皆为宽度约为0.95μm，长度约为1.27μm，而总面积则约为1.2μm2。
请参照下表三。
Figure GDA0003472553640000122
Figure GDA0003472553640000131
表三为本发明的第十一实施例至第二十实施例中微型光学镜头的光学元件中DC、R3878、R3850、R4070、R4055、R4565、R5058、R5570、R5878等参数的数值，其中Em11至Em20依序表示第十一实施例至第二十实施例。
请参照下表四，其为本发明的第十一实施例至第二十实施例的低反射层于波长380nm-780nm的反射率数值。
Figure GDA0003472553640000132
Figure GDA0003472553640000141
Figure GDA0003472553640000151
<第二十一实施例至第三十实施例>
请参照图3至图3-10，图3是绘示本发明第二十一实施例至第三十实施例中低反射层于波长380nm-780nm的反射率数值，图3-1为本发明第二十一实施例的结晶表面图，图3-2为本发明第二十二实施例的结晶表面图，图3-3为本发明第二十三实施例的结晶表面图，图3-4为本发明第二十四实施例的结晶表面图，图3-5为本发明第二十五实施例的结晶表面图，图3-6为本发明第二十六实施例的结晶表面图，图3-7为本发明第二十七实施例的结晶表面图，图3-8为本发明第二十八实施例的结晶表面图，图3-9为本发明第二十九实施例的结晶表面图，而图3-10为本发明第三十实施例的结晶表面图。
在第二十一实施例至第三十实施例的纳米结晶中，纳米结晶的材料为TiO2，而图3-1至图3-10的尺寸比例皆为宽度约为0.95μm，长度约为1.27μm，而总面积则约为1.2μm2。
请参照下表五。
Figure GDA0003472553640000152
Figure GDA0003472553640000161
表五为本发明的第二十一实施例至第三十实施例中微型光学镜头的光学元件中DC、R3878、R3850、R4070、R4055、R4565、R5058、R5570、R5878等参数的数值，其中Em21至Em30依序表示第二十一实施例至第三十实施例。
请参照下表六，其为本发明的第二十一实施例至第三十实施例的低反射层于波长380nm-780nm的反射率数值。
Figure GDA0003472553640000162
Figure GDA0003472553640000171
Figure GDA0003472553640000181
请参照图4至图11，图4是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R3878的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图，图5是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R3850的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图，图6是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R4070的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图，图7是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R4055的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图，图8是绘示本发明第一实施例至第三十实施例参数R4565的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图，图9是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R5058的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图，图10是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R5570的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图，而图11是绘示本发明第一实施例至第三十实施例的参数R5878的数值与纳米结晶的平均粒径的关系图。
图4至图11分别为本发明的第一实施例至第三十实施例的参数R3878、R3850、R4070、R4055、R4565、R5058、R5570、R5878与DC的关系图，而第一实施例至第三十实施例的R3878、R3850、R4070、R4055、R4565、R5058、R5570、R5878与DC的详细数值则已揭示于前述表一、表三与表五中，在此则不再赘述。本发明反射率(Reflectance)以垂直(0度)入/反射表面测量，计算反射波与入射波的功率比值。
<第三十一实施例>
请参照图12，其是绘示本发明第三十一实施例的微型光学镜头100的剖视图。微型光学镜头100包含一光学元件(未另标号)。光学元件包含一低反射层(未另标号)，其位于光学元件的至少一表面，且低反射层包含多个纳米结晶，多个纳米结晶位于低反射层的一表面。
详细而言，在第三十一实施例中，微型光学镜头100包含三遮光元件110、二环形间隔元件120及一镜筒元件130，而低反射层则位于遮光元件110、环形间隔元件120及镜筒元件130的至少一表面，且低反射层的纳米结晶可视需求而采用前述第一实施例至第三十实施例的纳米结晶。借此，适当颗粒大小的纳米结晶可破坏并削弱入射在低反射层位于的表面的杂散光线强度，而选择适当折射率的纳米结晶材料则可使光学元件的表面与空气间的折射率达到渐层分布如此一来将有助维持光学元件表面的超低反射率并提升微型光学镜头100的光学成像品质。
<第三十二实施例>
请参照图13A、图13B、图13C与图13D，图13A是绘示本发明第三十二实施例的电子装置10的示意图，图13B是绘示图13A的电子装置10的另一示意图，图13C是绘示图13A的电子装置10的元件示意图，图13D是绘示图13A的电子装置10的方块图。由图13A、图13B、图13C以及图13D可知，电子装置10是一智能手机，电子装置10包含取像装置11，其中取像装置11包含本发明的微型光学镜头12以及电子感光元件13，电子感光元件13设置于微型光学镜头12的成像面(图未揭示)。借此，有助于满足现今电子装置市场对于搭载于其上的成像镜头模块的量产及外观要求。
进一步来说，使用者透过电子装置10的使用者界面19进入拍摄模式，其中第三十二实施例中使用者界面19可为触控屏幕19a、按键19b等。此时微型光学镜头12汇集成像光线在电子感光元件13上，并输出有关影像的电子信号至成像信号处理元件(Image SignalProcessor，ISP)18。
因应电子装置10的相机规格，电子装置10可还包含光学防手震组件14，其可为OIS(Optical Image Stabilization)防抖回馈装置，进一步地，电子装置10可还包含至少一个辅助光学元件(图未标示)及至少一个感测元件16。辅助光学元件可包含闪光灯模块15a以及对焦辅助模块15b，闪光灯模块15a可用以补偿色温，对焦辅助模块15b可为红外线测距元件、激光对焦模块等。感测元件16可具有感测物理动量与作动能量的功能，如加速计、陀螺仪、霍尔元件(Hall Effect Element)，以感知使用者的手部或外在环境施加的晃动及抖动，进而有利于电子装置10中取像装置11配置的自动对焦功能及光学防手震组件14的发挥，以获得良好的成像品质，有助于依据本发明电子装置10具备多种模式的拍摄功能，如优化自拍、低光源HDR(High Dynamic Range，高动态范围成像)、高解析4K(4K Resolution)录影等。此外，使用者可由触控屏幕19a直接目视到相机的拍摄画面，并在触控屏幕19a上手动操作取景范围，以达成所见即所得的自动对焦功能。
再者，由图13C可知，取像装置11、光学防手震组件14、感测元件16、闪光灯模块15a以及对焦辅助模块15b可设置在软性电路板(Flexible Printed Circuitboard，FPC)17a上，并透过连接器17b电性连接成像信号处理元件18等相关元件以执行拍摄流程。当前的电子装置如智能手机具有轻薄的趋势，将取像装置与相关元件配置于软性电路板上，再利用连接器将电路汇整至电子装置的主板，可满足电子装置内部有限空间的机构设计及电路布局需求并获得更大的裕度，亦使得其取像装置的自动对焦功能通过电子装置的触控屏幕获得更灵活的控制。在其他实施例中(图未揭示)，感测元件及辅助光学元件亦可依机构设计及电路布局需求设置于电子装置的主板或是其他形式的载板上。
此外，电子装置10可进一步包含但不限于显示单元(Display)、控制单元(ControlUnit)、储存单元(Storage Unit)、随机存取存储器(RAM)、只读储存单元(ROM)或其组合。
<第三十三实施例>
请参照图14，其是绘示本发明第三十三实施例的电子装置20的示意图。如图14所示，电子装置20是一智能手机，且电子装置20包含三个取像装置21，其中取像装置21包含本发明的微型光学镜头(图未标示)以及电子感光元件(图未标示)。
进一步来说，使用者透过电子装置20的使用者界面(图未绘示)进入拍摄模式，此时微型光学镜头将汇集成像光线在电子感光元件上，并输出有关影像的电子信号至成像信号处理元件28。而因应电子装置20的相机规格，电子装置20可还包含光学防手震组件24、闪光灯模块25a以及对焦辅助模块25b。借此，以获得良好的成像品质。
<第三十四实施例>
图15是绘示本发明第三十四实施例的电子装置30的示意图。第三十四实施例的电子装置30是一平板电脑，电子装置30包含依据本发明的取像装置31。
<第三十五实施例>
图16是绘示本发明第三十五实施例的电子装置40的示意图。第三十五实施例的电子装置40是一穿戴式装置，电子装置40包含依据本发明的取像装置41。
虽然本发明已以实施方式揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何熟悉此技艺者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (19)

1.一种微型光学镜头，其特征在于，包含：
一光学元件，包含：
一低反射层，位于该光学元件的至少一表面，其中该低反射层以粗糙化与结晶化形成，且该低反射层包含：
多个纳米结晶，位于该低反射层的一表面；
其中，该光学元件是为一遮光元件、一环形间隔元件及一镜筒元件中至少一者；
其中，所述多个纳米结晶的平均粒径为DC，该低反射层于波长380nm-780nm的反射率为R3878，其满足下列条件：
5nm≤DC≤200nm；以及
R3878≤0.50％。
2.根据权利要求1所述的微型光学镜头，其特征在于，所述多个纳米结晶的平均粒径为DC，其满足下列条件：
10nm≤DC≤150nm。
3.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，所述多个纳米结晶的平均粒径为DC，其满足下列条件：
39nm≤DC≤88nm。
4.根据权利要求1所述的微型光学镜头，其特征在于，该低反射层于波长380nm-780nm的反射率为R3878，其满足下列条件：
R3878≤0.30％。
5.根据权利要求4所述的微型光学镜头，其特征在于，该低反射层于波长380nm-780nm的反射率为R3878，其满足下列条件：
R3878≤0.15％。
6.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，该低反射层于波长380nm-500nm的反射率为R3850，其满足下列条件：
R3850≤0.40％。
7.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，该低反射层于波长400nm-700nm的反射率为R4070，其满足下列条件：
R4070≤0.50％。
8.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，该低反射层于波长400nm-550nm的反射率为R4055，其满足下列条件：
R4055≤0.40％。
9.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，该低反射层于波长450nm-650nm的反射率为R4565，其满足下列条件：
R4565≤0.40％。
10.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，该低反射层于波长500nm-580nm的反射率为R5058，其满足下列条件：
R5058≤0.50％。
11.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，该低反射层于波长550nm-700nm的反射率为R5570，其满足下列条件：
R5570≤0.30％。
12.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，该低反射层于波长580nm-780nm的反射率为R5878，其满足下列条件：
R5878≤0.80％。
13.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，所述多个纳米结晶的材料为氧化物。
14.根据权利要求13所述的微型光学镜头，其特征在于，所述多个纳米结晶的材料为SiO2。
15.根据权利要求13所述的微型光学镜头，其特征在于，所述多个纳米结晶的材料为Al2O3。
16.根据权利要求13所述的微型光学镜头，其特征在于，所述多个纳米结晶的材料为TiO2。
17.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，所述多个纳米结晶的材料为金属氮化物。
18.一种取像装置，其特征在于，包含：
如权利要求1所述的微型光学镜头；以及
一电子感光元件，其设置于该微型光学镜头的一成像面。
19.一种电子装置，其特征在于，包含：
如权利要求18所述的取像装置。
CN201911196380.XA 2018-11-30 2019-11-29 微型光学镜头、取像装置及电子装置 Active CN111257974B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210402895.6A CN114647021A (zh) 2018-11-30 2019-11-29 微型光学镜头、取像装置及电子装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201862773250P 2018-11-30 2018-11-30
US62/773,250 2018-11-30

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210402895.6A Division CN114647021A (zh) 2018-11-30 2019-11-29 微型光学镜头、取像装置及电子装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111257974A CN111257974A (zh) 2020-06-09
CN111257974B true CN111257974B (zh) 2022-05-10

Family

ID=70848972

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911196380.XA Active CN111257974B (zh) 2018-11-30 2019-11-29 微型光学镜头、取像装置及电子装置
CN202210402895.6A Pending CN114647021A (zh) 2018-11-30 2019-11-29 微型光学镜头、取像装置及电子装置

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210402895.6A Pending CN114647021A (zh) 2018-11-30 2019-11-29 微型光学镜头、取像装置及电子装置

Country Status (3)

Country Link
US (2) US11112542B2 (zh)
CN (2) CN111257974B (zh)
TW (1) TWI724663B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI812062B (zh) * 2021-11-05 2023-08-11 大立光電股份有限公司 光學鏡頭及電子裝置
CN116804775A (zh) * 2022-03-23 2023-09-26 大立光电股份有限公司 低反射层、光学镜头组、取像装置及电子装置
TWI832360B (zh) * 2022-04-12 2024-02-11 大立光電股份有限公司 金屬遮光元件、成像鏡頭模組及電子裝置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1894601A (zh) * 2003-12-17 2007-01-10 株式会社普利司通 防反射膜、电磁屏蔽性光透射性窗材、气体放电型发光面板、平板显示面板、橱窗材料和太阳能电池组件
CN102171287A (zh) * 2008-10-03 2011-08-31 富士胶片株式会社 分散组合物、聚合性组合物、遮光性滤色片、固体摄像元件、液晶显示装置、晶片级镜片以及摄像单元
CN103185905A (zh) * 2011-12-28 2013-07-03 株式会社腾龙 防反射膜和光学元件
WO2013099948A1 (ja) * 2011-12-28 2013-07-04 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
CN105676320A (zh) * 2014-12-03 2016-06-15 精工爱普生株式会社 光学部件和钟表
CN107632330A (zh) * 2016-07-14 2018-01-26 株式会社Lg化学 防反射膜

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10241708B4 (de) 2002-09-09 2005-09-29 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Reduzierung der Grenzflächenreflexion von Kunststoffsubstraten sowie derart modifiziertes Substrat und dessen Verwendung
US7457052B2 (en) * 2004-08-09 2008-11-25 Hitachi Maxwell, Ltd. Light shield sheet, optical apparatus, and method of manufacturing light shield sheet
DE102006056578A1 (de) 2006-11-30 2008-06-05 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Herstellung einer Nanostruktur an einer Kunststoffoberfläche
DE102008018866A1 (de) 2008-04-15 2009-10-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Reflexionsminderndes Interferenzschichtsystem und Verfahren zu dessen Herstellung
CN101728449A (zh) * 2008-10-31 2010-06-09 宋健民 类钻碳电子装置及其制造方法
CN106185793A (zh) 2008-12-30 2016-12-07 3M创新有限公司 纳米结构化制品和制备纳米结构化制品的方法
US8553333B2 (en) * 2009-01-23 2013-10-08 State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University Nanostructured anti-reflective coatings for substrates
JP5455387B2 (ja) * 2009-01-30 2014-03-26 キヤノン株式会社 レンズの外周面に形成される膜及び光学レンズ
CN102483469B (zh) * 2009-09-18 2014-08-27 东丽株式会社 防反射部件、和防反射部件的制造方法
JP4959007B2 (ja) * 2010-02-12 2012-06-20 キヤノン株式会社 光学素子用の遮光膜、遮光塗料および光学素子
TWI509307B (zh) * 2011-09-06 2015-11-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 鏡頭模組
TWI530726B (zh) * 2012-06-15 2016-04-21 鴻海精密工業股份有限公司 鏡片及鏡頭模組
CN105190390B (zh) * 2013-03-26 2018-07-06 富士胶片株式会社 光学透镜及其制造方法及透镜单元、摄像模块、电子设备
JP6116337B2 (ja) * 2013-04-24 2017-04-19 株式会社大真空 光学デバイス
WO2015080030A1 (en) * 2013-11-27 2015-06-04 Canon Kabushiki Kaisha Optical member and method for manufacturing the same
TW201525554A (zh) * 2013-12-23 2015-07-01 Largan Precision Co Ltd 光學鏡頭以及可攜裝置
JP6035450B2 (ja) * 2014-03-03 2016-11-30 富士フイルム株式会社 光学素子の製造方法
EP3054324B1 (en) * 2015-02-05 2022-06-01 Canon Kabushiki Kaisha Optical element, light-shielding paint set, and method for manufacturing optical element
JP6758901B2 (ja) 2016-05-02 2020-09-23 キヤノン株式会社 反射防止膜、並びにそれを用いた光学用部材および光学機器
TW201742260A (zh) * 2016-05-17 2017-12-01 昱晶能源科技股份有限公司 製造太陽能電池的方法
TWI596417B (zh) * 2016-11-14 2017-08-21 大立光電股份有限公司 遮光片、成像鏡頭與電子裝置
JP6878141B2 (ja) * 2017-05-25 2021-05-26 キヤノン株式会社 光学素子および光学機器

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1894601A (zh) * 2003-12-17 2007-01-10 株式会社普利司通 防反射膜、电磁屏蔽性光透射性窗材、气体放电型发光面板、平板显示面板、橱窗材料和太阳能电池组件
CN102171287A (zh) * 2008-10-03 2011-08-31 富士胶片株式会社 分散组合物、聚合性组合物、遮光性滤色片、固体摄像元件、液晶显示装置、晶片级镜片以及摄像单元
CN103185905A (zh) * 2011-12-28 2013-07-03 株式会社腾龙 防反射膜和光学元件
WO2013099948A1 (ja) * 2011-12-28 2013-07-04 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
CN105676320A (zh) * 2014-12-03 2016-06-15 精工爱普生株式会社 光学部件和钟表
CN107632330A (zh) * 2016-07-14 2018-01-26 株式会社Lg化学 防反射膜

Also Published As

Publication number Publication date
US11112542B2 (en) 2021-09-07
TW202022472A (zh) 2020-06-16
CN114647021A (zh) 2022-06-21
CN111257974A (zh) 2020-06-09
TWI724663B (zh) 2021-04-11
US20210364674A1 (en) 2021-11-25
US20200174167A1 (en) 2020-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111257974B (zh) 微型光学镜头、取像装置及电子装置
JP5568923B2 (ja) 撮像光学系およびカメラ装置および携帯情報端末装置
CN212255765U (zh) 成像镜头、相机模块及电子装置
US11686917B2 (en) Plastic lens assembly, imaging lens module and electronic device
CN101127837A (zh) 影像模组
JP2006220873A (ja) 光学フィルタおよび撮像装置
JP2010097197A (ja) 撮像装置
US12081853B2 (en) Camera module and electronic device
WO2016113921A1 (ja) 複数の撮像光学系及びそれを有する撮像装置
CN114578534A (zh) 影像镜头组、变焦取像装置及电子装置
US20230305200A1 (en) Low reflection layer, optical lens assembly, imaging apparatus and electronic device
TWI784743B (zh) 相機模組及電子裝置
US20240241352A1 (en) Optical imaging module, camera module and electronic device
US20230073044A1 (en) Optical imaging lens assembly, imaging apparatus and electronic device
CN220730514U (zh) 成像镜头模块、相机模块与电子装置
TWI793836B (zh) 成像鏡頭與電子裝置
CN115598794A (zh) 成像镜头与电子装置
TW202415984A (zh) 散景濾光膜、成像光學鏡頭、取像裝置及電子裝置
TWI383658B (zh) 影像模組

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant