CN111204742A - 一种高碳/氧原子比无杂质还原氧化石墨烯的制备方法 - Google Patents

一种高碳/氧原子比无杂质还原氧化石墨烯的制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法,将氧化石墨烯水溶液与三(2‑羧乙基)膦盐酸盐水溶液混合,混合溶液在一定温度下进行还原反应,得到还原氧化石墨烯。本发明制备方法所用的还原剂三(2‑羧乙基)膦盐酸盐无味、无毒,氧化产物可经过水洗去除,还原效率高,整个还原反应在水相环境中进行,不使用任何有机溶剂,是一种高效、经济、环保的制备方法,且所制备的还原氧化石墨烯不会被引入杂原子,具有高的碳/氧原子比,导电率最高可达2800S/m。

Description

一种高碳/氧原子比无杂质还原氧化石墨烯的制备方法
技术领域
本发明属于氧化石墨烯的还原技术领域,具体涉及一种高碳/氧原子比无杂质还原氧化石墨烯的制备方法。
背景技术
石墨烯具有优异的力学性能,超高的导热和导电性能,高的载流子迁移率以及超大的比表面积等优点,被广泛应用于材料学、微纳加工、能源和生物医学等领域。目前,氧化-还原法被认为是适宜大规模、低成本制备石墨烯的有效方法。常见的氧化-还原法有以下三种:高温热还原法、溶剂热还原法以及化学试剂还原法(Zhu,Y.etal.Adv.Mater.2010,22,3906)。高温热还原法通常需要在1000℃以上高温和惰性或还原气氛中进行,成本及工艺要求都很高,不利于规模化生产;溶剂热还原法是通过加热回流,使分散于有机溶剂中的氧化石墨烯还原的方法,由于使用了大量的有机溶剂,对反应装置要求高,且易对环境造成污染;化学试剂还原法可在100℃以下进行反应,相对于其他两种方法在操作以及安全性方面具有明显的优势,但是常用的还原剂依然存在有毒不环保及还原效率较低的问题。例如硼氢化钠与氧化石墨烯反应剧烈,会产生大量气泡,且还原效果欠佳(Shin,H.J.et al.Adv.Funct.Mater.2009,19,1987);水合肼以及肼的其他衍生物有剧毒,且会在还原氧化石墨烯中引入氮原子(Stankovich,S.et al.Carbon,2007,45,1558);亚硫酸氢钠的还原效率较低,且会在还原氧化石墨烯中引入硫原子(Chen,W.etal.J.Phys.Chem.C 2010,114,19885);L-抗坏血酸水溶液还原效率较低,室温下反应24小时得到的还原氧化石墨烯导电率仅为≈800S/m(Zhou,X.et al.J.Phys.Chem.C 2011,115,11957)。因此,开发一种低成本、无毒、无污染、还原效率高且不引入杂原子的还原氧化石墨烯制备方法,对石墨烯相关邻域的应用研究及产业化具有十分重要的意义。
发明内容
本发明针对现有的还原氧化石墨烯制备方法中存在的高温、有毒、还原效率低、易引入杂原子等问题,提供了一种温和、无毒、高效的制备高碳/氧原子比无杂质还原氧化石墨烯的方法。
解决上述技术问题所采用的技术方案是:将氧化石墨烯水溶液与三(2-羧乙基)膦盐酸盐水溶液混合均匀,所得混合液在密闭条件下25~100℃进行还原反应,反应后的混合物经微孔滤膜过滤、水洗,收集滤饼,烘干,得到高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯。
上述制备方法中,所得混合液中氧化石墨烯与三(2-羧乙基)膦盐酸盐的质量比为1:1~1:50,优选所得混合液中氧化石墨烯与三(2-羧乙基)膦盐酸盐的质量比为1:3~1:20。
上述制备方法中,所述氧化石墨烯水溶液中氧化石墨烯的浓度为0.1~10mg/mL,优选氧化石墨烯的浓度为0.5~5mg/mL,其中氧化石墨烯是采用Hummers法制备而成(Hummers,W.S.et al.J.Am.Chem.Soc.1958,80,1339),氧化石墨烯水溶液是将氧化石墨烯与水混合后超声分散5~10分钟制得,所述超声的功率为300~700W。
上述制备方法中,所述三(2-羧乙基)膦盐酸盐水溶液中三(2-羧乙基)膦盐酸盐的浓度为5~100mmol/L,优选三(2-羧乙基)膦盐酸盐的浓度为10~60mmol/L。
上述制备方法中,进一步优选将所得混合液在密闭条件下80~95℃进行还原反应,反应时间为6~24小时。
上述制备方法中,所述微孔滤膜是孔径为0.22~0.8μm的醋酸纤维滤膜。
本发明具有如下有益效果:
1、本发明方法所用的还原剂三(2-羧乙基)膦盐酸盐无味、无毒,氧化产物可经过水洗去除。
2、本发明制备的还原氧化石墨烯不会被引入杂原子,且具有高的碳/氧原子比,导电率可达2800S/m。
3、本发明整个反应在温和的水相环境中进行,不使用任何有机溶剂,不涉及苛刻的化学反应条件,是一种高效、经济、环保的制备方法。
附图说明
图1是实施例1中制备的还原氧化石墨烯照片。
图2是实施例1中氧化石墨烯和制备的还原氧化石墨烯的拉曼光谱。
图3是实施例1中氧化石墨烯和制备的还原氧化石墨烯的X射线衍射图谱。
图4是实施例1中不同反应时间点氧化石墨烯还原产物的碳/氧原子比。
图5是实施例1中还原氧化石墨烯的P2p X射线光电子能谱。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进一步详细说明,但本发明的保护范围不仅限于这些实施例。
实施例1
将2mL 3mg/mL氧化石墨烯水溶液与2mL 50mmol/L三(2-羧乙基)膦盐酸盐水溶液于10mL的玻璃管制瓶中混合,室温下摇荡1分钟,然后将封口的玻璃管制瓶放入90℃烘箱中,反应9小时后取出管制瓶,冷却至室温,用孔径为0.44μm的醋酸纤维滤膜过滤,并用超纯水清洗3遍,滤饼在40℃真空烘箱中烘干后得到还原氧化石墨烯粉末(见图1)。
由图2中氧化石墨烯和还原氧化石墨烯的拉曼光谱对比可知,还原前后D峰与G峰强度之比(ID/IG)由0.69升高至1.46,证明氧化石墨烯被成功还原。
采用X射线衍射法(XRD)表征了氧化石墨烯与还原氧化石墨烯各自的层间距,结果如图3所示。由图可见,氧化石墨烯的衍射峰出现在2θ=10.9°处,还原氧化石墨烯的衍射峰出现在2θ=23.9°处。根据布拉格方程可知,还原氧化石墨烯的层间距小于氧化石墨的层间距,证明氧化石墨烯上的含氧基团被还原移除。
采用X射线光电子能谱(XPS)表征了不同反应时间点氧化石墨烯还原产物的碳/氧原子比,结果如图4所示。由图可见,所得氧化石墨烯还原产物的碳/氧原子比随着反应的进行逐渐增加。当反应进行6小时后碳/氧原子比达到12.8,明显高于氧化石墨烯的1.39,且优于文献报道的常见化学还原剂效果(表1)。随着反应继续进行还原产物的碳/氧原子比保持12.8不变,说明6小时后还原反应不再进行。证明三(2-羧乙基)膦盐酸盐是氧化石墨烯的高效还原剂。
由还原氧化石墨烯的P2p X射线光电子能谱可知(见图5),由三(2-羧乙基)膦盐酸盐还原制备的还原氧化石墨烯中没有磷元素,无杂质。采用四探针法表征了所得还原氧化石墨烯的导电性能,其导电率为2800S/m。
表1三(2-羧乙基)膦盐酸盐与常见还原剂对氧化石墨烯的还原效果对比
还原剂 碳/氧原子比 参考文献
单宁酸 2.44/1 Green Chem.2011,13,1655
氢溴酸 3.9/1 Carbon,2011,49,573
尿素 4.5/1 Energy Environ.Sci.2012,5,6391
柠檬酸钠 4.7/1 Mater.Res.Bull.2013,48,4797
L-抗坏血酸 5.7/1 J.Phys.Chem.C,2011,115,11957
咖啡酸 7.15/1 Sci.Rep.2014,4,4684
对苯二胺 7.36/1 Chem.Commun.2009,30,4527
吡咯 7.7/1 Carbon,2011,49,3497
亚硫酸氢钠 7.89/1 J.Phys.Chem.C,2010,114,19885
硼氢化钠 8.6/1 Adv.Funct Mater.2009,19,1987
8.8/1 Carbon,2009,47,145
羟胺 9.7/1 J.Phys.Chem.C,2011,115,11957
水合肼 10.3/1 Carbon,2007,45,1558
55%氢碘酸 12/1 Carbon,2010,48,4466
三(2-羧乙基)膦盐酸盐 12.8/1
实施例2
将2mL 3mg/mL氧化石墨烯水溶液与2mL 50mmol/L三(2-羧乙基)膦盐酸盐水溶液于10mL的玻璃管制瓶中混合,室温下摇荡1分钟,然后将封口的玻璃管制瓶放置在80℃环境中,反应10小时后取出管制瓶,冷却至室温,用孔径为0.22μm的醋酸纤维滤膜过滤,并用超纯水清洗3遍,滤饼在40℃真空烘箱中烘干后得到还原氧化石墨烯粉末。所得还原氧化石墨烯碳/氧原子比为11.0,导电率为1850S/m。
实施例3
将2mL 3mg/mL氧化石墨烯水溶液与2mL 50mmol/L三(2-羧乙基)膦盐酸盐水溶液于10mL的玻璃管制瓶中混合,室温下摇荡1分钟,然后将封口的玻璃管制瓶放置在25℃环境中,反应24小时后,用孔径为0.44μm的醋酸纤维滤膜过滤,并用超纯水清洗3遍,滤饼在40℃真空烘箱中烘干后得到还原氧化石墨烯粉末。所得还原氧化石墨烯碳/氧原子比为9.5,导电率为1300S/m。
实施例4
将2mL 3mg/mL氧化石墨烯水溶液与2mL 50mmol/L三(2-羧乙基)膦盐酸盐水溶液于10mL的玻璃管制瓶中混合,室温下摇荡1分钟,然后将封口的玻璃管制瓶放置在50℃环境中,反应15小时后,用孔径为0.44μm的醋酸纤维滤膜过滤,并用超纯水清洗3遍,滤饼在40℃真空烘箱中烘干后得到还原氧化石墨烯粉末。所得还原氧化石墨烯碳/氧原子比为10.4,导电率为1700S/m。
实施例5
将2mL 0.5mg/mL氧化石墨烯水溶液与2mL 30mmol/L三(2-羧乙基)膦盐酸盐水溶液于10mL的玻璃管制瓶中混合,室温下摇荡1分钟,然后将封口的玻璃管制瓶放入90℃烘箱中,9小时后取出管制瓶,冷却至室温,用孔径为0.44μm的醋酸纤维滤膜过滤,并用超纯水清洗3遍,滤饼在40℃真空烘箱中烘干后得到还原氧化石墨烯粉末。所得还原氧化石墨烯碳/氧原子比为12.0,导电率为2500S/m。
实施例6
将2mL 5mg/mL石墨烯水溶液与2mL 60mmol/L三(2-羧乙基)膦盐酸盐水溶液于10mL的玻璃管制瓶中混合,室温下摇荡1分钟,然后将封口的玻璃管制瓶放入90℃烘箱中,9小时后取出管制瓶,冷却至室温,用孔径为0.44μm的醋酸纤维滤膜过滤,并用超纯水清洗3遍,滤饼在40℃真空烘箱中烘干后得到还原氧化石墨烯粉末。所得还原氧化石墨烯碳/氧原子比为11.4,导电率为2000S/m。

Claims (10)

1.一种高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法,其特征在于:将氧化石墨烯水溶液与三(2-羧乙基)膦盐酸盐水溶液混合均匀,所得混合液在密闭条件下25~100℃进行还原反应,反应后的混合物经微孔滤膜过滤、水洗,收集滤饼,烘干,得到高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯。
2.根据权利要求1所述的高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法,其特征在于:所得混合液中氧化石墨烯与三(2-羧乙基)膦盐酸盐的质量比为1:1~1:50。
3.根据权利要求2所述的高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法,其特征在于:所得混合液中氧化石墨烯与三(2-羧乙基)膦盐酸盐的质量比为1:3~1:20。
4.根据权利要求1~3任意一项所述的高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法,其特征在于:所述氧化石墨烯水溶液中氧化石墨烯的浓度为0.1~10mg/mL。
5.根据权利要求4所述的高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法,其特征在于:所述氧化石墨烯水溶液中氧化石墨烯的浓度为0.5~5mg/mL。
6.根据权利要求1所述的高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法,其特征在于:所述氧化石墨烯水溶液是将氧化石墨烯与水混合后超声分散5~10分钟制得,所述超声的功率为300~700W。
7.根据权利要求1~3任意一项所述的高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法,其特征在于:所述三(2-羧乙基)膦盐酸盐水溶液中三(2-羧乙基)膦盐酸盐的浓度为5~100mmol/L。
8.根据权利要求7所述的高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法,其特征在于:所述三(2-羧乙基)膦盐酸盐水溶液中三(2-羧乙基)膦盐酸盐的浓度为10~60mmol/L。
9.根据权利要求1所述的高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法,其特征在于:所得混合液在密闭条件下80~95℃进行还原反应,反应时间为6~24小时。
10.根据权利要求1所述的高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法,其特征在于:所述微孔滤膜是孔径为0.22~0.8μm的醋酸纤维滤膜。
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