CN111142282A - 显示面板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示面板及其制造方法。该显示面板包括有上基板、下基板和显示介质层。显示介质层位于上基板和下基板之间。上基板包括支撑板和遮光层。支撑板具有面向显示介质层的下表面以及上表面。支撑板包括形成于上表面的凹陷结构，且凹陷结构环绕上基板的主动区域。遮光层设置于支撑板的上表面上。凹陷结构至少部分地位于主动区域和遮光层之间。遮光层的下表面比凹陷结构的下表面更远离支撑板的下表面。本发明提供的显示面板，由于在形成凹陷结构之后印刷遮光层，凹陷结构的壁的锐度有助于增加遮光层边缘的线性度，从而改善显示面板的光学性能。

Description

显示面板及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种电子设备，且特别涉及一种显示面板及其制造方法。
背景技术
在典型的显示面板中，显示介质层夹在上基板和下基板之间。两个基板通过框胶(sealant)组合以形成显示单元。遮光层经常加在显示面板上以描绘出显示区域。遮光层可以具有框状图案(frame-like pattern)或矩阵状图案(matrix-like pattern)，且以框状图案或矩阵状图案所环绕的区域作为显示区域。除了定义显示区域外，遮光层还可以防止不必要的漏光(light leakage)。遮光层边缘的线性(linearity)和锐度(sharpness)可能影响显示面板的光学性能。因此，如何制备具有锐利与良好线性边缘的遮光层是一个正蓬勃发展的研究领域。
发明内容
本发明公开一种显示面板，包括上基板，且上基板具有遮光层和凹陷结构，其中凹陷结构至少部分地位于遮光层和上基板的主动区域之间。
本发明公开一种显示面板的制造方法，该显示面板包括上基板，且上基板具有遮光层和凹陷结构，其中凹陷结构至少部分地位于遮光层和上基板的主动区域之间。
本发明提供一种显示面板，包括上基板、下基板和显示介质层。显示介质层可位于上基板和下基板之间。上基板可包括支撑板和凹陷结构。支撑板可具有面向显示介质层的下表面以及上表面。支撑板可包括形成于上表面的凹陷结构，且凹陷结构环绕上基板的主动区域。遮光层可设置于支撑板的上表面上。凹陷结构至少可部分地位于主动区域和遮光层之间。遮光层的下表面可比凹陷结构的下表面更远离支撑板的下表面。
根据本发明的一实施例，其中支撑板还可包括固定在凹陷结构中的突起部，且遮光层设置于突起部上。
根据本发明的一实施例，其中凹陷结构可包括位于突起部和主动区域之间的内凹槽以及外凹槽，且突起部可位于内凹槽和外凹槽之间。
根据本发明的一实施例，其中内凹槽和外凹槽之中的一者或两者可设置有无机填料。
根据本发明的一实施例，其中支撑板位于突起部所在的区域的厚度与支撑板位于主动区域的厚度可皆大于支撑板位于凹陷结构的区域的厚度。
根据本发明的一实施例，其中支撑板位于突起部所在的区域的厚度可不同于支撑板位于主动区域的厚度。
根据本发明的一实施例，其中显示面板还可包括无机支撑体，无机支撑体形成在上基板的凹陷结构内。无机支撑体可介于支撑板和遮光层之间。
根据本发明的一实施例，其中凹陷结构可具有环绕主动区域的内壁与环绕无机支撑体的外壁，且在无机支撑体和凹陷结构的内壁之间可存在第一间隙，以及在无机支撑体和凹陷结构的外壁之间可存在第二间隙。
根据本发明的一实施例，其中显示面板还可包括无机填料，填充于凹陷结构的第一间隙和第二间隙之中的一者或两者。
根据本发明的一实施例，其中无机支撑体还可包括多个堆叠支撑层。
根据本发明的一实施例，其中显示面板还包括抗反射层，设置于上基板的主动区域的上表面上。
根据本发明的一实施例，其中抗反射层还可覆盖位于凹陷结构的底部的上表面上。
根据本发明的一实施例，其中抗反射层可进一步与遮光层堆叠。
根据在本发明的一实施例，其中抗反射层的一部分可位于遮光层和支撑板之间。
根据本发明的一实施例，其中抗反射层的一部分的上表面或下表面可与位于主动区域的支撑板的上表面共平面。
根据本发明的一实施例，其中遮光层可位于抗反射层的一部分和支撑板之间。
根据本发明的一实施例，其中遮光层的上表面或下表面可与位在主动区域的支撑板的上表面共平面。
本发明提供一种显示面板的制作方法，包括以下步骤。提供上基板。组合上基板及下基板和显示介质层。显示介质层是夹在上基板和下基板之间。提供上基板的方法可包括以下步骤。形成凹陷结构在支撑板的上表面且环绕上基板的主动区域。在支撑板的该上表面上打印出遮光层，且遮光层比凹陷结构的下表面更远离支撑板的下表面。凹陷结构至少部分地位于主动区域和遮光层之间。
根据本发明的一实施例，其中遮光层通过柔版印刷(flexographic printing)或凹版印刷(gravure printing)打印。
根据本发明的一实施例，其中形成凹陷结构包括以下步骤。通过移除支撑板的对应部分以形成环绕主动区域的内凹槽与环绕内凹槽的外凹槽。保留内凹槽和外凹槽之间的支撑板的突起部。打印遮光层在突起部上。
根据本发明的一实施例，更包括可形成无机支撑体在凹陷结构的中心区域，其中遮光层打印在无机支撑体上。
根据本发明的一实施例，更包括将无机填料填入位在遮光层的一侧的凹陷结构或凹陷结构的一部分。
综上所述，根据本发明一些实施例的显示面板具有上基板，该上基板包括凹陷结构和遮光层。凹陷结构可以形成在支撑板的上表面上，并且至少部分地位于遮光层和上基板的主动区域之间。在本发明的显示面板中，由于在形成凹陷结构之后印刷遮光层，凹陷结构的壁的锐度有助于增加遮光层边缘的线性度，从而改善显示面板的光学性能。
附图说明
包括附图提供对本发明进一步理解，并且附图是包含在本说明书中并构成本说明书的一部分。附图示出了本发明的实施例，并且和描述一同来解释本发明的原理。
图1A为本发明一实施例的一种显示面板的剖面示意图。
图1B至图1G是本发明一些实施例的显示面板的上基板的剖面示意图。
图2A至图2B是本发明一些实施例的显示面板的上基板的俯视示意图。
图3A至图3F是本发明一些实施例的一种显示面板的制造方法中的部分步骤的上基板的示意图。
图4A至图4B是本发明一些实施例的显示面板的上基板的剖面示意图。
图5A至图5C是本发明的一些实施例的显示面板的上基板的剖面示意图。
图6A至图6B是本发明的一些实施例的显示面板的上基板的剖面示意图。
在附图中，为了清楚起见，可能改变所示部件的相对尺寸。
【符号说明】
100、DP1、DP2：显示面板
110A～110O：上基板
112、112I～112V：支撑板
112S：外边缘
114：电极层
116、1161：遮光层
118A～118D：抗反射层
1181：第一部分
1181b：底表面
1182：第二部分
1183：第三部分
1184：外部部分
120：下基板
130：显示介质层
140：框胶
AR：主动区域
150、150B、156、156'：凹陷结构
152、152'：内凹槽
154、154'：外凹槽
160、160F、160G：突起部
170A、170B：无机填料
180、180M：无机支撑体
1801：第一支撑层
1802：第二支撑层
1803：第三支撑层
M1：图案化辅助掩模
200：滚筒
210、300、400、500：印刷基板
220、310：凸起印刷图案
230、320、420、530：墨水
410、520：凹版印刷图案
510：凸出部分
112b、112b2、112b3、112b4、116b、152b：下表面
112t、112t2、112t3、112t4、116t、180t：上表面
S1、S2、S3、S4、S5、S6、S5'、S6'、S7、S8：壁
W152、W154、W160：宽度
TAR、T150、T156、T160、T160F、T160G、T180：厚度
E152、E154：挖掘部分
N152、N154：间隔距离
G1：第一间隙
G2：第二间隙
具体实施方式
现将详细地参考本发明的示范性实施例，示范性实施例的实例说明于附图中。只要有可能，相同元件符号在图式和描述中用来表示相同或相似部分。
在本发明中，用于描述位置关系“元件A设置在元件B上”，包括元件A和元件B之间设置一个或多个其他元件的可能性，以及元件A和元件B之间不存在其他元件的可能性。
图1A是本发明一实施例的一种显示面板的剖面示意图。请参照图1A，显示面板100包括上基板110A、相对于上基板110A的下基板120、显示介质层130和框胶140。上基板110A和下基板120经由框胶140组装。上基板110A和下基板120的尺寸可以类似，使其在堆叠时，上基板110A的轮廓和下基板120的轮廓可以对齐。然而，在一些替代实施例中，上基板110A和下基板120的尺寸可以不同。显示介质层130夹在上基板110A和下基板120之间，并被框胶140环绕。显示介质层130可以由液晶材料构成，使上基板110A、下基板120、显示介质层130和框胶140可作为液晶单元，但本发明不限于此。
在一些实施例中，上基板110A包括支撑板112、电极层114、遮光层116和抗反射层118A。在一些实施例中，电极层114设置在支撑板112面向显示介质层130的下表面112b上。在一些实施例中，电极层114全面地覆盖下表面112b，但是本发明不限于此。抗反射层118A和遮光层116可以设置在支撑板112相对于下表面112b的上表面112t上。
为简单起见，在本发明的附图中，下基板120绘示为板状结构，但在一些实施例中，下基板120可以是包括支撑板(未示出)的电晶体阵列基板(transistor arraysubstrate)，以及设置在其上的电晶体阵列(未示出)，其中支撑板例如是玻璃板或硅背板，而电晶体阵列可以是薄膜电晶体阵列(thin film transistor array)、互补金属氧化物半导体(Complementary Metal-Oxide Semiconductor，CMOS)元件阵列或其他相似阵列。电晶体阵列和电极层114可用于提供驱动电场以驱动显示介质层130。在一些实施例中，显示面板100可以是薄膜电晶体液晶显示面板(Thin Film Transistor Liquid Crystal Displaypanel，TFT-LCD panel)或硅基液晶(Liquid Crystal on Silicon，LCoS)显示面板。在一些实施例中，可以基于显示面板100的驱动电路设计以省略电极层114。在本发明的一些实施例的显示面板中，根据设计和作业需求，可以具有如上列的上基板110A与下基板120的每个元件。
在本发明的一些实施例中，上基板110A的支撑板112可以由玻璃或其他透明材料制成，以允许显示光(display light)穿过上基板110A。在一些实施例中，显示光在上基板110A的主动区域AR中呈现图像，如此，主动区域AR可以被视为显示面板100的显示区域。在一些实施例中，在支撑板112的上表面112t形成凹陷结构150。凹陷结构150是挖掘在支撑板112内，以致于上表面112t具有一个非平坦的轮廓，其呈现至少一个凹陷部分。在一些实施例中，凹陷结构150环绕主动区域AR。在一些实施例中，凹陷结构150至少部分地位于遮光层116和主动区域AR之间。在一些实施例中，凹陷结构150包括环绕主动区域AR的内凹槽152和环绕内凹槽152的外凹槽154。在一些实施例中，内凹槽152的内壁S1可以定义出主动区域AR的边界。在一些实施例中，内凹槽152可以与显示介质层130的外围部分重叠。在一些实施例中，支撑板112可以具有位于内凹槽152和外凹槽154之间的突起部160。在一些实施例中，突起部160由内凹槽152的外壁S2和外凹槽154的内壁S3界定。换句话说，突起部160可以在凹陷结构150中固定。在一些实施例中，内凹槽152的宽度W152由测量内凹槽152的内壁S1和外壁S2之间的距离而得到，并且包括在10微米(μm)至1毫米(mm)的范围内，但本发明不限于此。在一些实施例中，突起部160的宽度W160为测量内凹槽152的外壁S2与外凹槽154的内壁S3之间的距离而得到，并且在300微米至3厘米的范围内，但本发明不限于此。在一些实施例中，外凹槽154的宽度W154为测量外凹槽154的内壁S3和外壁S4之间的距离而得到，并且包括在10微米至1厘米的范围内，但本发明不限于此。在一些实施例中，外凹槽154可以延伸到支撑板112的边缘，使得外凹槽154没有外壁S4。在一些实施例中，壁S1、S2、S3、S4可以具有尖锐的垂直轮廓，但本发明不限于此。
由于凹陷结构150的存在，支撑板112可以在上基板110A的主动区域AR中具有第一厚度TAR、在突起部160区域具有第二厚度T160而在凹陷结构150区域具有第三厚度T150，第一厚度TAR和第二厚度T160均可以大于第三厚度T150。在一些实施例中，支撑板112位于内凹槽152区域的厚度等于支撑板112位于外凹槽154区域的厚度，致使第三厚度T150可在对应于内凹槽152或外凹槽154的任一区域中所测量而得的。在一些替代实施例中，支撑板112位于内凹槽152区域的厚度可以与支撑板112位于外凹槽154区域的厚度不同，第三厚度T150可以是对应于内凹槽152和外凹槽154的两个厚度中的最小厚度。在一些实施例中，支撑板112位在凹陷结构150区域的第三厚度T150对支撑板112位在主动区域AR的第一厚度TAR的比例可不大于0.5。
在一些实施例中，遮光层116设置于内凹槽152和外凹槽154之间的上基板112的上表面112t上。在一些实施例中，遮光层116的设置方式使内凹槽152插设在遮光层116和主动区域AR之间。在一些实施例中，遮光层116的下表面116b比凹陷结构150的底部(例如内凹槽152的下表面152b)更远离支撑板112的下表面112b。在一些实施例中，凹陷结构150的底部可定义为相对于下表面112b且由凹陷结构150所暴露出的部分的上表面112t。遮光层116设置在支撑板112的突起部160的上方。
遮光层116具有遮光效果。显示面板100的显示光可被遮光层116阻挡或遮挡。遮光层116的材料可包括有机墨水，但本发明不限于此。在一些实施例中，在形成凹陷结构150后，将遮光层116打印在上基板110A上。以下进一步讨论，在遮光层116进行打印步骤时，凹陷结构150的存在可使遮光层116具有良好线性的锐利边缘。
抗反射层118A可包括在上基板110A的主动区域AR内的支撑板112的上表面112t上延伸的第一部分1181，在凹陷结构150的底部上延伸的第二部分1182，与在支撑板112的突起部160上延伸的第三部分1183。第一部分1181的底表面1181b与支撑板112的上表面112t共面，但不以此为限。遮光层116可直接设置在支撑板112的突起部160上，其中抗反射层118A的第三部分1183再堆叠于其上。也就是说，遮光层116可设置在抗反射层118A的第三部分1183和支撑板112的突起部160之间，但本发明不限于此。
图1B至图1G是本发明一些实施例中的显示面板的上基板的剖面示意图，其中图1B至图1G中所示出的上基板可以是图1A中所示的上基板110A的替代实施例，且相同元件符号在图式和描述中用来表示相同或相似部分。值得注意的是，为了简单起见，在本发明的附图仅示出本发明一些实施例中的显示面板的上基板。根据一些实施例，本发明所示出的所有上基板，可与下基板和显示介质层组装以形成显示面板。
在一些替代实施例中，如图1B的上基板110B所示。参照图1B，上基板110B可包括支撑板112I、电极层114、遮光层116和抗反射层118B。上基板110B与上基板110A的差异在于：在上基板110B的支撑板112I中可省略外凹槽154(图1A所示)。具体地，支撑板112I具有凹陷结构150B，其仅有内凹槽152。仅具有内凹槽152的凹陷结构150B完全设置在上基板110B的主动区域AR和遮光层116之间。此外，抗反射层118B可包括在上基板110B的主动区域AR上延伸的第一部分1181、在凹陷结构150B的底部上延伸的第二部分1182、堆叠于遮光层116的第三部分1183以及从遮光层116的外边缘延伸到支撑板112I的外边缘112S且与遮光层116的下表面116b共平面的外部部分1184。
如图1C所示的替代上基板110C。请参照图1C，在本发明的一些实施例中，上基板110C与上基板110A相似，上基板110C包括有支撑板112、电极层114、遮光层116和抗反射层118A。而与上基板100A的差异在于，上基板110C的遮光层116可设置在突起部160上的抗反射层118A的第三部分1183的上方。即，抗反射层118A的第三部分1183可以设置在遮光层116和支撑板112的突起部160之间。
图1D示出根据一些替代实施例的上基板110D。类似于上基板110A，上基板110D可包括支撑板112、电极层114、遮光层116和抗反射层118C。而与上基板110A不同处在于，上基板110D的抗反射层118C可不存在于设置遮光层116的区域中。也就是说，遮光层116可以设置在支撑板112上，而没有抗反射层118C堆叠于上或下的任一侧。请参照图1D，根据一些实施例，抗反射层118C仍可包括在上基板110D的主动区域AR中延伸的第一部分1181和在凹陷结构150的底部延伸的第二部分1182，但不包括在突起部160上延伸的部分(如图1A中所示的第三部分1183)。在一些替代实施例中，如图1E所示，上基板110E相似于上基板110A，包括支撑板112、电极层114、遮光层116和抗反射层118D。上基板110E的抗反射层118D可以包括在主动区域AR中延伸的第一部分1181与在突起部160上延伸第三部分1183，但不包括在凹陷结构150的底部的部分(如图1A中所示的第二部分1182)。在一些替代实施例中，抗反射层可完全省略。
如图1F和图1G所示，在一些实施例中，支撑板在突起部所在的位置处的厚度可不同于支撑板在主动区域处的厚度。例如，在图1F的上基板110F中，上基板110F包括支撑板112II、电极层114、遮光层116和抗反射层118A，其中电极层114、遮光层116和抗反射层118A之间的结构设计和配置关系相似于图1A示出的实施例的各部件。然而，图1F中的支撑板112II的结构与图1A中的支撑板112不同，其中，突起部160F所在的支撑板112II的厚度T160F大于主动区域AR中的支撑板112II的厚度TAR。因此，设置在突起部160F上的遮光层116的下表面116b比主动区域AR中的支撑板112II的上表面112t2更远离支撑板112II的下表面112b2。在一些实施例中，厚度T160F与厚度TAR之间的比例可以在1.05至1.5的范围内，但本发明不限于此。
在图1G的上基板110G中，上基板110G包括支撑板112III、电极层114、遮光层116和抗反射层118A，其中电极层114、遮光层116和抗反射层118A之间的结构设计和配置关系可相似于图1A所示出的实施例中的各部件。然而，图1G中的支撑板112III的结构与图1A中的支撑板112不同，突起部160G所在的支撑板112III的厚度T160G略小于主动区域AR中的支撑板112III的厚度TAR。因此，设置在突起部160G上的遮光层116的下表面116b比主动区域AR中的支撑板112III的上表面112t3更靠近支撑板112III的下表面112b3。在一些实施例中，厚度T160G与厚度TAR之间的比例可以在0.95至0.5的范围内，但本发明不限于此。
值得注意的是，在本发明公开的其余部分中，支撑板112、112I、112II、112III的任一结构都可作为上基板的支撑结构，尽管附图仅示出上基板的突起部160所在的支撑板112的厚度T160等于主动区域AR中的支撑板112的厚度TAR，如图1A所示。但本发明不限于此。
图2A至图2B是本发明一些实施例的显示面板的上基板的俯视示意图。如图2A所示，当从顶部观察时，显示面板DP1可以包括上基板110A。具体地，显示面板DP1可以包括图1A中描绘的大部分或全部部件。但是图2A仅示出了遮光层116和凹陷结构150，且为了说明而省略了其他部件。在本实施例中，凹陷结构150可以包括内凹槽152和外凹槽154，其将遮光层116夹在其间。内凹槽152、遮光层116和外凹槽154中的每一个可分别具有框状图案。在一些实施例中，内凹槽152、遮光层116和外凹槽154可以同心方式设置来环绕主动区域AR。在图2A中，内凹槽152和外凹槽154显示为具有连续的框架图案，在一些替代实施例中，内凹槽152和外凹槽154中的一个或两个的图案可以是不连续的，如图2B中所示的显示面板DP2。例如，如图2B所示，内凹槽152'可包括多个的挖掘部分(excavated portions)E152，外凹槽154'可包括多个挖掘部分E154，其中挖掘部分E152彼此之间存在间隔距离N152，而挖掘部分E154彼此之间存在间隔距离N154。挖掘部分E152沿着遮光层116的内边缘设置，并且挖掘部分E154沿着遮光层116的外边缘设置。
图3A至图3F是本发明一些实施例的一种显示面板的制造方法中的部分步骤的上基板的剖面示意图。制造方法可以包括以下步骤，但不限于此，步骤的顺序也不限于在此呈现的顺序。如图3A中所示，可以在支撑板112中形成包括有内凹槽152和外凹槽154的凹陷结构150，例如通过在蚀刻步骤期间采用图案化辅助掩模M1(patterned auxiliary mask)。在一些实施例中，预制的刚性掩模(rigid mask)或光阻层(photoresist layer)可以用于图案化辅助掩模M1，但本发明不限于此。在一些实施例中，干式蚀刻工艺(dry etchingprocess，例如等离子蚀刻(plasma etching))或湿式蚀刻工艺(wet etching process，例如使用氢氟酸(hydrofluoric acid)作为蚀刻剂)可以用于蚀刻步骤，蚀刻工艺的类型可取决于支撑板112所选择的材料，但本发明不限于此。在一些实施例中，凹陷结构150的形成也产生突起部160(图3A未标示)。具体地，突起部160被认为是厚于形成凹陷结构150的相邻部分。在一些实施例中，执行蚀刻步骤使得至少内凹槽152的外壁S2和外凹槽154的内壁S3(定义出突起部160的两壁)具有锐利的垂直轮廓。在形成凹陷结构150之后，可以去除图案化辅助掩模M1。在蚀刻步骤期间可决定支撑板112的厚度T150(假设在下表面112b上未进行背面研磨(back-grinding))，且厚度T150不大于厚度TAR的一半。如果需要，可进一步地调整支撑板112的突起部160的厚度T160和主动区域AR中的支撑板112的厚度TAR，例如通过进一步的蚀刻步骤或研磨步骤(grinding step)，以制造如图1F或1G所示的上基板。
如图3B所示，在去除图案化辅助掩模M1后，可在突起部160上形成遮光层116，例如通过光刻(photolithography)或印刷(printing)。在一些实施例中，遮光层116可以通过喷墨印刷(ink-jet printing)或超级喷墨印刷(super ink-jet printing)来产生，但是本发明不限于此。在一些实施例中，如图3C至图3F所示，遮光层116可以通过使用各种工具的柔版印刷(flexographic printing)、微接触印刷(microcontact printing)或凹版印刷(gravure printing)来印制。
根据一些实施例，如图3C所示，使用滚筒200通过柔版印刷来印制遮光层116。滚筒200可以压在支撑板112上，并且印刷基板210可具有形成在其上的凸起印刷图案220。在一些实施例中，印刷基板210位于滚动滚筒200上，并且墨水230预先转印在凸起印刷图案220上。当滚筒200使凸起印刷图案220与支撑板112接触时，凸起印刷图案220上的油墨230被转移到支撑板112的上表面112t，进而形成遮光层116的一部分1161。在一些实施例中，印刷基板210的凸起印刷图案220可以设计为仅在突起部160所在的位置处接触支撑板112，进而在突起部160上形成遮光层116。在一些实施例中，在与支撑板112接触时，凸起印刷图案220的周边可以定位在环绕突起部160的凹陷结构150的内凹槽152或外凹槽154上。由于凹陷结构150的存在，凸起印刷图案220的周边上的墨水230可以不印刷到支撑板112上，并且通过凸起印刷图案220转印的墨水230所形成的遮光层116可被限制在突起部160上而不会超过突起部160的面积。藉此，遮光层116边缘的线性和锐度将由凹陷结构150的壁S2、S3的线性和锐度决定，例如突起部160的边缘。根据本发明的一些实施例，通过包括有凹陷结构150的支撑板112，可利用柔版印刷以印刷具有锐利和良好线性边缘的遮光层116。
图3D示出了根据本发明的替代实施例的遮光层116(如图3B所示)的形成。在图3D所示的实施例中，图3B的遮光层116是通过使用印刷基板300的微接触印刷所形成。详细而言，具有凸起印刷图案310的印刷基板300可以用墨水320浸泡，并压在支撑板112上。在一些实施例中，印刷基板300可以仅通过凸起印刷图案310以接触支撑板112。此外，可以仅在凸起印刷图案310和支撑板112的突起部160之间发生接触，使得墨水320仅转移于突起部160上，如此以形成如图3B所示的遮光层116。相似于图3C所描述的内容，当印刷基板300接触支撑板112时，与内凹槽152和/或外凹槽154重叠定位的凸起印刷图案310的周边可不将墨水320转移到支撑板112上，如此使遮光层116边缘的线性和锐度将由凹陷结构150的壁S2、S3的线性和锐度决定。根据本发明的一些实施例，通过包括有凹陷结构150的支撑板112，可利用微接触印刷以印刷具有锐利和良好线性边缘的遮光层116(如图3B所示)。
图3E和3F示出了根据本发明的替代实施例的遮光层116(如图3B中所示)的形成。在图3E和图3F所示的实施例中，图3B的遮光层116是通过凹版印刷所产生。请参照图3E，提供已雕刻有凹版印刷图案410的印刷基板400。在将印刷基板400与支撑板112压在一起之前，凹版印刷图案410可预先填充墨水420。在一些实施例中，印刷基板400仅通过凹版印刷图案410与具有突起部160F的支撑板112接触，如提供图1F中所示的支撑板112II。具体地，在支撑板112II中，突起部160F所在的支撑板112II的厚度T160F可以大于中心区域中的支撑板112II的厚度TAR。因此，当印刷基板400和支撑板112II被压在一起时，突出部分160F可以进入凹版印刷图案410，类似于上述图3C和图3D所述，当印刷基板400以所述方式接触支撑板112II时，凹版印刷图案410的周边可以定位成与凹陷结构150重叠，如此遮光层116边缘的线性和锐度将由凹陷结构150的壁S2、S3的线性和锐度决定。
根据一些替代实施例，如图3F所示，印刷基板500可以包括凸出部分(bulgingportion)510，于此挖有凹版印刷图案520。当印刷基板500置于支撑板112上方时，凸出部分510可从印刷基板500朝向支撑板112突出，且凹版印刷图案520可用墨水530填充。在一些实施例中，当印刷基板500与支撑板112压在一起，突起部160可进入凹版印刷图案520，使得墨水530被转移到突起部160。在一些实施例中，印刷基板500上的墨水530可以接触到突起部160。支撑板112通过凹版印刷图案520仅与突起部160相对应。通过凸出部分510选择合适的厚度，印刷基板500可选择性地用凹版印刷图案520来接触支撑基板112的突起部160，独立于支撑板112的厚度T160、TAR的相对大小。类似于图3C、图3D及图3E所述，当印刷基板500以所述方式接触支撑板112时，凹版印刷图案520的周边可以定位成与凹陷结构150重叠，如此遮光层116边缘的线性和锐度将由凹陷结构150的壁S2、S3的线性和锐度决定。基于上述，根据本发明的一些实施例，通过包括有凹陷结构150的支撑板112，凹版印刷可打印出具有锐利边缘和良好线性的遮光层116(如图3B所示)。
为了制造根据本发明的一些实施例的显示面板，如图1A至图1G所示，进一步将遮光层116、抗反射层118A(或118B或118C或118D)和电极层114形成以完成上基板，上基板可与下基板(图1A所示)和显示介质层(图1A所示)组装在一起。显示介质层(图1A所示)可夹在上基板和下基板之间。在一些实施例中，电极层114的材料包括氧化铟锡(ITO)或任何其他可传导显示光且透明的材料。抗反射层118A(或118B或118C或118D)的材料可包括氧化硅、氧化钛或其组合。在一些实施例中，电极层114和抗反射层118A(或118B或118C或118D)可以通过沉积步骤形成，例如热蒸镀(thermal evaporation)、溅射(sputtering)、化学气相沉积(chemical vapor deposition)、等离子体增强化学气相沉积(plasma enhancedchemical vapor deposition)或其他合适的沉积技术，但本发明不限于此。
需注意的是，本发明不受电极层114、遮光层116、抗反射层118A(或118B或118C或118D)和凹陷结构150形成于上基板的顺序限制，只要在形成遮光层116之前，先形成设置在遮光层116和主动区域AR之间的凹陷结构150的部分。例如，在一些替代实施例中，在执行蚀刻步骤形成凹陷结构150之前，可以在支撑板112上形成抗反射层118A，使凹槽底部没有抗反射层，且遮光层覆盖在突起部上的抗反射层上。在一些替代实施例中，可以选择性地由图1A的上基板110A去除抗反射层118A的部分1182、1183(图1A所示)来形成图1D的上基板110D或图1E的上基板110E。
图4A示出根据本发明的一些实施例的显示面板的上基板110I的剖面图。图4A的上基板110I与图1A的上基板110A相似，相同或相似的附图符号用于表示相同或相似的部分。简言之，上基板110I包括支撑板112、设置在支撑板112的下表面112b的电极层114、设置在支撑板112的上表面112t的遮光层116和设置在支撑板112的上表面112t的抗反射层1181、1182。形成在上表面112t上的凹陷结构150可以包括设置在遮光层116和上基板110I的主动区域AR之间的内凹槽152，以及环绕遮光层116的外凹槽154。支撑板112的突起部160可以固定在凹陷结构150中。抗反射层118A可以包括设置在支撑板112的主动区域AR中的上表面112t上的第一部分1181、设置在凹陷结构150的底部的第二部分1182以及与遮光层116堆叠的第三部分1183。图1A的上基板与图4A的上基板110I之间的差异在于内凹槽152填充有无机填料170A。
在一些实施例中，无机填料170A可以设置在内凹槽152中的抗反射层118A的第二部分1182上，但是本发明不限于此。在一些替代实施例中，抗反射层118A的第二部分1182可以设置在内凹槽152中的无机填料170A的顶部上，并且无机填料170A可以设置在内凹槽152的底部。在一些替代实施例中，如图4B所示，在上基板110J中，无机填料170B设置在支撑板112的外凹槽154中。在一些替代实施例(未示出)中，内凹槽152和外凹槽154均可由无机填料170A、170B填充。此外，抗反射层118A可以不存在于内凹槽152和外凹槽154之中的一者或两者。
无机填料170A、170B可作为绝缘材料，并且可以为上基板110I、110J的突起部160提供保护。在一些实施例中，无机填料170A、170B的材料包括氧化硅，氧化钛，氧化铝，氧化锌，其他无机氧化物或其组合。在一些实施例中，无机填料170A、170B的材料不同于支撑板112的材料，但是本发明不限于此。在一些实施例中，无机填料170A、170B的材料可以与支撑板112的材料相同。在一些实施例中，无机填料170A、170B的材料不同于抗反射层118A的材料，但是本发明不限于此。在一些实施例中，无机填料170A、170B的材料与抗反射层118A的材料相同。在一些实施例中，无机填料170A、170B可以通过热蒸镀、溅射、化学气相沉积或其他合适的技术来形成，但本发明不限于此。
图5A示出根据本发明的一些实施例的显示面板的上基板110K的剖面图。图5A的上基板110K可以是本发明的一些实施例的实现示例。图5A的上基板110K类似于图1A的上基板110A，且相同或相似的附图符号用于表示相同或相似的部分。简而言之，上基板110K包括支撑板112IV，其具有设置在上基板112IV的下表面112b4的电极层114以及形成在上基板112IV的上表面112t4的遮光层116与抗反射层118A。图1A的上基板110A与图5A的上基板110K之间的差异在于上基板112IV在上表面112t4上具有凹陷结构156，无机支撑体180形成在凹陷结构156中，并且遮光层116堆叠在无机支撑体180的顶部上。也就是说，无机支撑体180介于凹陷结构156中的遮光层116和支撑板112IV之间。抗反射层118A可以包括设置在上基板110K的主动区域AR中的上表面112t4上的第一部分1181、设置在凹陷结构156的底部的第二部分1182以及与无机支撑体180上的遮光层116堆叠的第三部分1183。
如图5A所示，凹陷结构156比无机支撑体180宽，并且具有环绕上基板110K的主动区域AR的内壁S5和环绕无机支撑体180的外壁S6。在一些实施例中，内壁S5定义出上基板110K的主动区域AR的边界。在一些实施例中，第一间隙G1在凹陷结构156的内壁S5和无机支撑体180之间延伸，第二间隙G2在外壁S6和无机支撑体180之间延伸，但本发明不限于此。换句话说，无机支撑体180位于凹陷结构156的中心区域，且不接触凹陷结构156的内壁S5或外壁S6。如图5B所示的替代上基板110L，在一些替代实施例中，可以省略第二间隙G2，并且支撑板112V的凹槽156'所具有的宽度使得外壁S6'可以直接接触无机支撑体180，并且内壁S5'是通过第一间隙G1与无机支撑体180隔开。
再参照图5A，在一些实施例中，无机支撑体180的厚度T180可以根据主动区域AR中的支撑板112IV的厚度TAR和形成凹陷结构156的支撑板112IV的厚度T156来调整。在图5A所示的情况下，无机支撑体180的厚度T180等于主动区域AR中的支撑板112IV的厚度TAR与形成凹陷结构156的支撑板112IV的厚度T156之间的差值。换句话说，无机支撑体180的上表面180t可以与主动区域AR中的支撑板112IV的上表面112t4共平面。然而，本发明不限于此。在一些替代实施例(未示出)中，无机支撑体180的厚度T180可以大于主动区域AR中的支撑板112IV的厚度TAR与支撑板112IV的厚度T156之间的差值，其中凹陷结构156形成，使得遮光层116的下表面116b比主动区域AR中的支撑板112IV的上表面112t4更远离支撑板112IV的下表面112b4。在一些替代实施例(未示出)中，无机支撑体180的厚度T180可以小于主动区域AR中的支撑板112IV的厚度TAR与支撑板112IV的厚度T156之间的差值，以形成凹陷结构156。在相同的替代实施例中，通过调整无机支撑体180的厚度T180，遮光层116的上表面116t可以与主动区域AR中的支撑板112IV的上表面112t4共面平或低于其平面。
在一些实施例中，无机支撑体180的材料包括氧化硅，氧化钛、氧化铝、氧化锌、其他无机氧化物或其组合。在一些实施例中，无机支撑体180的材料不同于支撑板112IV的材料，但本公开不限于此。在一些实施例中，无机支撑体180由多个堆叠支撑层形成。例如，如图5C所示，上基板110M的无机支撑体180M可包括设置在凹陷结构156的底部的第一支撑层1801、设置在第一支撑层1801上的第二支撑层1802以及设置在第二支撑层1802上的第三支撑层1803。第一支撑层1801设置在第二支撑层1802和支撑板112IV之间。第二支撑层1802设置在第一支撑层1801和第三支撑层1803之间。第三支撑层1803设置在第二支撑层102与遮光层116或抗反射层118A之间(根据一些替代实施例，未示出)。在一些实施例中，相邻的支撑层可包括不同材料，但本发明不限于此。
图5A至图5C所示的上基板的制造过程包括在凹陷结构156内形成无机支撑体180的步骤。在一些实施例中，无机支撑体180通过热蒸镀、溅射或使用任何合适的技术所形成，但本发明不限于此。在无机支撑体180M具有多层结构的一些实施方案中，可以进行多次的沉积步骤。
在一些实施例中，无机支撑体180的壁S7、S8(图5A中示出)具有锐利的垂直轮廓。在一些实施例中，无机支撑件180的壁S7和S8分别面向凹陷结构156的内壁S5和外壁S6。在一些实施例中，遮光层116的形成方式相似于前述，请参照图3C至图3C，但本发明不限于此。在本实施例中，无机支撑体180(或180M)可以执行与突起部160类似的功能(例如，在图3B至图3F中示出)。也就是说，无机支撑体180(或180M)可以作为支撑板112IV和印刷基板(其可类似于先前描述的印刷基板210、300、400或500)之间的接触点。换句话说，遮光层116的边缘的锐度和线性可以通过无机支撑体180(或180M)的壁S7、S8的锐度和线性来决定。如此一来，通过诸如柔性版印刷、微接触印刷或凹版印刷的印刷技术在无机支撑体180(或180M)上形成遮光层116，产生具有良好线性边缘及清晰图案的遮光层116。
图6A示出根据本发明的一些实施例的显示面板的上基板110N的剖面图。图6A的上基板110N可以是本发明的一些实施例的实现示例。图6A的上基板110N类似于图5A的上基板110K，且相同或相似的附图符号用于表示相同或相似的部分。简而言之，上基板110N包括支撑板112IV，其具有设置在其下表面112b4上的电极层114，以及形成在其上表面112t4的遮光层116、抗反射层1181、1182与凹陷结构156。无机支撑体180可以设置在凹陷结构156内。凹陷结构156的内壁S5可以环绕上基板110N的主动区域AR，而外壁S6可以环绕无机支撑体180。第一间隙G1可以在无机支撑体180和内壁S5之间延伸，第二间隙G2可以在外壁S6和无机支撑体180之间延伸。抗反射层118A可以包括设置在上基板110N的主动区域AR中的上表面112t4上的第一部分1181、设置在凹部结构156的底部的第二部分1182以及与无机支撑体180的顶部上的遮光层116堆叠的第三部分1183。图5A的上基板110K与图6A的上基板110N之间的差异在于：第一间隙G1填充有无机填料170A。在一些实施例中，无机填料170A可以设置在位于第一间隙G1中的抗反射层118A的第二部分1182的部分上，但是本发明不限于此。如图6B所示，在根据一些替代实施例的上基板110O中，无机填料170A可不设置在第一间隙G1内，而无机填料170B设置在第二间隙G2中。在一些替代实施例(未示出)中，第一间隙G1和第二间隙G2均可分别由无机填料170A和170B填充。
综上所述，根据本发明实施例的显示面板包括上基板。上基板具有支撑板、凹陷结构和遮光层。遮光层设置在支撑板的上表面上。凹陷结构形成在支撑板的上表面上，并环绕上基板的主动区域。遮光层的底部比凹陷结构的底部更远离支撑板的下表面。凹陷结构至少部分地位于主动区域和遮光层之间。在制造显示面板时，在形成遮光层之前，先形成介于遮光层预定设置位置和主动区域之间的凹陷结构的部分，通过诸如柔性版印刷、微接触印刷或凹版印刷等印刷技术，允许遮光层具有锐利且线性的边缘。在一些实施例中，遮光层形成在凹陷结构中的构件上，其中构件可以是由凹陷结构的壁定义出的支撑板的突起部，或是设置在凹陷结构内的一些其他无机支撑体。在一些实施例中，遮光层的边缘的锐度和线性度由凹陷结构的壁或无机支撑体的壁的锐度和线性所确定。根据本发明的一些实施例的制造方法，可以采用相对便宜且快速的印刷技术以形成具有尖锐和线性边缘的遮光层，从而降低工艺的失败率，增加产品产量并降低制造成本。
虽然本发明已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，故本发明的保护范围当视后附的权利要求所界定者为准。

Claims (22)

1.一种显示面板，包括有上基板、下基板和位于该上基板和该下基板之间的显示介质层，其中该上基板包括：
支撑板，具有下表面以及上表面，该下表面面向该显示介质层，其中该支撑板包括形成于该上表面的凹陷结构，且该凹陷结构环绕该上基板的主动区域；以及
遮光层，设置于该支撑板的该上表面上，其中该凹陷结构至少部分地位于该主动区域和该遮光层之间，且该遮光层的下表面比该凹陷结构的下表面更远离该支撑板的该下表面。
2.如权利要求1所述的显示面板，其中该支撑板还包括固定在该凹陷结构中的突起部，且该遮光层设置于该突起部上。
3.如权利要求2所述的显示面板，其中该凹陷结构包括内凹槽以及外凹槽，该内凹槽位于该突起部和该主动区域之间，且该突起部位于该内凹槽和该外凹槽之间。
4.如权利要求3所述的显示面板，其中该内凹槽和该外凹槽之中的一者或两者内设置有无机填料。
5.如权利要求4所述的显示面板，其中该支撑板位于该突起部所在的区域的厚度与该支撑板位于该主动区域的厚度皆大于该支撑板位于该凹陷结构的区域的厚度。
6.如权利要求5所述的显示面板，其中该支撑板位于该突起部所在的区域的厚度不同于该支撑板位于该主动区域的厚度。
7.如权利要求1所述的显示面板，还包括无机支撑体，该无机支撑体形成在该上基板的该凹陷结构内，且该无机支撑体介于该支撑板和该遮光层之间。
8.如权利要求7所述的显示面板，其中该凹陷结构具有环绕该主动区域的内壁与环绕该无机支撑体的外壁，且在该无机支撑体和该凹陷结构的该内壁之间存在第一间隙，以及在该无机支撑体和该凹陷结构的该外壁之间存在第二间隙。
9.如权利要求8所述的显示面板，还包括无机填料，填充于该凹陷结构的该第一间隙和该第二间隙之中的一者或两者。
10.如权利要求7所述的显示面板，其中该无机支撑体还包括多个堆叠支撑层。
11.如权利要求1所述的显示面板，还包括抗反射层，设置于该上基板在该主动区域的该上表面上。
12.如权利要求11所述的显示面板，其中该抗反射层还覆盖位于该上基板在该凹陷结构的底部的该上表面上。
13.如权利要求11所述的显示面板，其中该抗反射层进一步与该遮光层堆叠。
14.如权利要求13所述的显示面板，其中该抗反射层的一部分位于该遮光层和该支撑板之间。
15.如权利要求14所述的显示面板，其中该抗反射层的该部分的上表面或下表面与位于该主动区域的该支撑板的该上表面共平面。
16.如权利要求13所述的显示面板，其中该遮光层位于该抗反射层的一部分和该支撑板之间。
17.如权利要求16所述的显示面板，其中该遮光层的上表面或下表面与该支撑板的位于该主动区域的该上表面共平面。
18.一种显示面板的制造方法，该方法包括：
提供一上基板，其中提供该上基板包括：
形成凹陷结构在一支撑板的上表面上，该凹陷结构环绕该上基板的主动区域；以及
在该支撑板的该上表面上打印出遮光层且该遮光层处在比该凹陷结构的下表面更远离该支撑板的下表面，其中该凹陷结构至少部分地位于该主动区域和该遮光层之间；以及
组合该上基板、下基板和显示介质层，其中该显示介质层是夹在该上基板和该下基板之间。
19.如权利要求18所述的显示面板的制造方法，其中该遮光层通过柔版印刷或凹版印刷打印。
20.如权利要求18所述的显示面板的制造方法，其中形成该凹陷结构的方法包括通过移除该支撑板的对应部分以形成环绕该主动区域的内凹槽与环绕该内凹槽的外凹槽，保留该内凹槽和该外凹槽之间的该支撑板的突起部，以及在该突起部上打印该遮光层。
21.如权利要求18所述的显示面板的制造方法，还包括形成无机支撑体在该凹陷结构的中心区域，其中该遮光层打印在该无机支撑体上。
22.如权利要求18所述的显示面板的制造方法，还包括将无机填料填入位于该遮光层的一侧的该凹陷结构或该凹陷结构的一部分。
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TW (1) TWI683167B (zh)

Citations (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1014195A1 (en) * 1998-12-25 2000-06-28 Canon Kabushiki Kaisha Method of drying resinous composition layer, method of manufacturing color filter substrate using the same drying method, and liquid crystal display device
US20030076609A1 (en) * 2001-10-02 2003-04-24 Seiko Epson Corporation Color filter and manufacturing method therefor, display device and electronic equipment
US20030219920A1 (en) * 2002-05-23 2003-11-27 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Fabrication method of liquid crystal display device
US20040201798A1 (en) * 2003-04-09 2004-10-14 Sheng-Shiou Yeh Method for manufacturing color filter having low reflection and liquid crystal display device incorporating same
US20040252360A1 (en) * 2001-07-09 2004-12-16 E Ink Corporation Electro-optic display and lamination adhesive for use therein
US20040259326A1 (en) * 2003-03-25 2004-12-23 Yamanaka Hideo Manufacturing process for ultra slim electrooptic display device unit
US20060238693A1 (en) * 2005-04-20 2006-10-26 Lg Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device and method for fabricating the same
US20060290877A1 (en) * 2005-06-24 2006-12-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Printing bead spacers in liquid crystal displays
JP2007017985A (ja) * 2005-07-08 2007-01-25 Icf Technology Co Ltd カラーフィルターの製造方法
US20070153214A1 (en) * 2005-12-29 2007-07-05 So-Youn Park Display panel and method of manufacturing the same
CN101285956A (zh) * 2007-04-12 2008-10-15 京东方显示器科技公司 制造液晶显示设备的方法
JP2009058609A (ja) * 2007-08-30 2009-03-19 Sharp Corp 液晶表示パネル及びその製造方法
US20110023736A1 (en) * 2009-07-28 2011-02-03 Bo-Sung Kim Method of forming ink patterns and apparatus for printing ink patterns
US20110132527A1 (en) * 2009-12-07 2011-06-09 Kook Yun-Ho Method for fabricating cliché and method for forming thin film pattern by using the same
TW201122647A (en) * 2009-12-31 2011-07-01 Himax Display Inc Manufacturing methods of liquid crystal on silicon display panel and its substrate
US20120033172A1 (en) * 2010-08-09 2012-02-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Method for forming pattern and method for manufacturing liquid crystal display device
US20120314164A1 (en) * 2010-01-29 2012-12-13 Sharp Kabushiki Kaisha Color filter substrate, liquid crystal display panel, and method for producing color filter substrate
CN103454803A (zh) * 2013-09-22 2013-12-18 京东方科技集团股份有限公司 液晶显示装置用基板及制作方法、液晶显示装置
TW201403187A (zh) * 2012-07-11 2014-01-16 Himax Display Inc 顯示器
CN103576390A (zh) * 2012-08-01 2014-02-12 立景光电股份有限公司 显示器
CN203444196U (zh) * 2013-08-28 2014-02-19 京东方科技集团股份有限公司 一种基板及具有该基板的显示装置
TW201413333A (zh) * 2012-09-28 2014-04-01 Himax Display Inc 主動陣列基板及其製造方法
CN103907083A (zh) * 2011-09-01 2014-07-02 Lg伊诺特有限公司 触控面板和包括该触控面板的液晶显示器
CN103941478A (zh) * 2013-01-17 2014-07-23 立景光电股份有限公司 有源阵列基板及其制造方法
US20150038044A1 (en) * 2013-08-01 2015-02-05 Samsung Display Co., Ltd. Method of forming structure including micropattern, method of forming nanopattern, and method of manufacturing display panel for liquid crystal display
US20150114815A1 (en) * 2013-10-26 2015-04-30 Tpk Touch Systems (Xiamen) Inc. Touch panel and method for manufacturing the same
US20150131041A1 (en) * 2012-05-25 2015-05-14 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
CN105093692A (zh) * 2015-08-07 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制作方法、显示装置
US20160004110A1 (en) * 2013-03-22 2016-01-07 Sharp Kabushiki Kaisha Display panel and method of producing display panel
JP2016008152A (ja) * 2014-06-24 2016-01-18 三星ダイヤモンド工業株式会社 脆性基板の分断方法および表示パネルの製造方法
US20160190502A1 (en) * 2014-12-24 2016-06-30 Samsung Display Co., Ltd. Window for display device and display device including the same
US20170017116A1 (en) * 2014-03-07 2017-01-19 Empire Technology Development Llc Substrates having polarizer and color filter functions, and methods for their preparations
US20170139289A1 (en) * 2015-11-16 2017-05-18 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
US20170261815A1 (en) * 2015-08-17 2017-09-14 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Thin-film transistor array substrate and liquid crystal display panel
US20170299916A1 (en) * 2016-04-15 2017-10-19 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
CN206573817U (zh) * 2017-02-28 2017-10-20 厦门天马微电子有限公司 显示面板和显示装置
CN206684418U (zh) * 2017-02-20 2017-11-28 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板以及电子设备
CN206757243U (zh) * 2017-05-19 2017-12-15 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板、显示面板及显示装置
CN107526202A (zh) * 2016-11-09 2017-12-29 惠科股份有限公司 一种液晶面板、液晶显示器及液晶面板的制造方法
CN107544175A (zh) * 2017-09-27 2018-01-05 京东方科技集团股份有限公司 一种基板及显示装置
US20180275469A1 (en) * 2017-03-23 2018-09-27 Boe Technology Group Co., Ltd. Color filter substrate and method of manufacturing the same, and display panel

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006267849A (ja) 2005-03-25 2006-10-05 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示装置およびその製造方法
CN202412966U (zh) 2012-01-11 2012-09-05 冠捷显示科技（厦门）有限公司 一种新型电子产品中的玻璃面板结构

Patent Citations (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1014195A1 (en) * 1998-12-25 2000-06-28 Canon Kabushiki Kaisha Method of drying resinous composition layer, method of manufacturing color filter substrate using the same drying method, and liquid crystal display device
US20040252360A1 (en) * 2001-07-09 2004-12-16 E Ink Corporation Electro-optic display and lamination adhesive for use therein
US20030076609A1 (en) * 2001-10-02 2003-04-24 Seiko Epson Corporation Color filter and manufacturing method therefor, display device and electronic equipment
CN1478206A (zh) * 2001-10-02 2004-02-25 精工爱普生株式会社 滤色器和其制造方法及显示装置和电子设备
US20030219920A1 (en) * 2002-05-23 2003-11-27 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Fabrication method of liquid crystal display device
US20040259326A1 (en) * 2003-03-25 2004-12-23 Yamanaka Hideo Manufacturing process for ultra slim electrooptic display device unit
US20040201798A1 (en) * 2003-04-09 2004-10-14 Sheng-Shiou Yeh Method for manufacturing color filter having low reflection and liquid crystal display device incorporating same
US20060238693A1 (en) * 2005-04-20 2006-10-26 Lg Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device and method for fabricating the same
US20060290877A1 (en) * 2005-06-24 2006-12-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Printing bead spacers in liquid crystal displays
JP2007017985A (ja) * 2005-07-08 2007-01-25 Icf Technology Co Ltd カラーフィルターの製造方法
US20070153214A1 (en) * 2005-12-29 2007-07-05 So-Youn Park Display panel and method of manufacturing the same
CN101285956A (zh) * 2007-04-12 2008-10-15 京东方显示器科技公司 制造液晶显示设备的方法
US20080254559A1 (en) * 2007-04-12 2008-10-16 Boe Hydis Technology Co., Ltd. Method of Fabricating Liquid Crystal Display Device
JP2009058609A (ja) * 2007-08-30 2009-03-19 Sharp Corp 液晶表示パネル及びその製造方法
US20110023736A1 (en) * 2009-07-28 2011-02-03 Bo-Sung Kim Method of forming ink patterns and apparatus for printing ink patterns
US20110132527A1 (en) * 2009-12-07 2011-06-09 Kook Yun-Ho Method for fabricating cliché and method for forming thin film pattern by using the same
TW201122647A (en) * 2009-12-31 2011-07-01 Himax Display Inc Manufacturing methods of liquid crystal on silicon display panel and its substrate
US20120314164A1 (en) * 2010-01-29 2012-12-13 Sharp Kabushiki Kaisha Color filter substrate, liquid crystal display panel, and method for producing color filter substrate
US20120033172A1 (en) * 2010-08-09 2012-02-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Method for forming pattern and method for manufacturing liquid crystal display device
CN103907083A (zh) * 2011-09-01 2014-07-02 Lg伊诺特有限公司 触控面板和包括该触控面板的液晶显示器
US20150131041A1 (en) * 2012-05-25 2015-05-14 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
TW201403187A (zh) * 2012-07-11 2014-01-16 Himax Display Inc 顯示器
CN103576390A (zh) * 2012-08-01 2014-02-12 立景光电股份有限公司 显示器
TW201413333A (zh) * 2012-09-28 2014-04-01 Himax Display Inc 主動陣列基板及其製造方法
CN103941478A (zh) * 2013-01-17 2014-07-23 立景光电股份有限公司 有源阵列基板及其制造方法
US20160004110A1 (en) * 2013-03-22 2016-01-07 Sharp Kabushiki Kaisha Display panel and method of producing display panel
US20150038044A1 (en) * 2013-08-01 2015-02-05 Samsung Display Co., Ltd. Method of forming structure including micropattern, method of forming nanopattern, and method of manufacturing display panel for liquid crystal display
CN203444196U (zh) * 2013-08-28 2014-02-19 京东方科技集团股份有限公司 一种基板及具有该基板的显示装置
CN103454803A (zh) * 2013-09-22 2013-12-18 京东方科技集团股份有限公司 液晶显示装置用基板及制作方法、液晶显示装置
US20150114815A1 (en) * 2013-10-26 2015-04-30 Tpk Touch Systems (Xiamen) Inc. Touch panel and method for manufacturing the same
US20170017116A1 (en) * 2014-03-07 2017-01-19 Empire Technology Development Llc Substrates having polarizer and color filter functions, and methods for their preparations
JP2016008152A (ja) * 2014-06-24 2016-01-18 三星ダイヤモンド工業株式会社 脆性基板の分断方法および表示パネルの製造方法
US20160190502A1 (en) * 2014-12-24 2016-06-30 Samsung Display Co., Ltd. Window for display device and display device including the same
CN105093692A (zh) * 2015-08-07 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制作方法、显示装置
US20170261815A1 (en) * 2015-08-17 2017-09-14 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Thin-film transistor array substrate and liquid crystal display panel
US20170139289A1 (en) * 2015-11-16 2017-05-18 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
US20170299916A1 (en) * 2016-04-15 2017-10-19 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
CN107526202A (zh) * 2016-11-09 2017-12-29 惠科股份有限公司 一种液晶面板、液晶显示器及液晶面板的制造方法
CN206684418U (zh) * 2017-02-20 2017-11-28 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板以及电子设备
CN206573817U (zh) * 2017-02-28 2017-10-20 厦门天马微电子有限公司 显示面板和显示装置
US20180275469A1 (en) * 2017-03-23 2018-09-27 Boe Technology Group Co., Ltd. Color filter substrate and method of manufacturing the same, and display panel
CN206757243U (zh) * 2017-05-19 2017-12-15 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板、显示面板及显示装置
CN107544175A (zh) * 2017-09-27 2018-01-05 京东方科技集团股份有限公司 一种基板及显示装置

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Publication number Publication date
US10802325B2 (en) 2020-10-13
US20200142248A1 (en) 2020-05-07
TWI683167B (zh) 2020-01-21
TW202018392A (zh) 2020-05-16
CN111142282B (zh) 2022-04-19

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