CN111108433A - 液晶元件的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明的课题在于获得一种于在基板上依序形成有层间绝缘膜与图案电极以及液晶取向膜的元件结构中可靠性优异的液晶元件。一种液晶元件的制造方法，包括：在一对基板中的至少一者形成层间绝缘膜21的步骤；在层间绝缘膜21上形成图案电极(像素电极19)的步骤；以及在图案电极上，以与层间绝缘膜21的至少一部分接触的方式形成液晶取向膜(第一取向膜32)的步骤，所述液晶元件的制造方法中，使用含有聚合物成分以及选自特定的溶剂群组中的至少一种溶剂的液晶取向剂来形成液晶取向膜。

Description

液晶元件的制造方法

相关申请的交叉参考

本申请基于2017年11月20号提出申请的日本专利申请编号2017-223114号，且将其记载内容引用于此。

技术领域

本公开涉及一种液晶元件的制造方法。

背景技术

作为液晶装置，已知有以扭转向列(Twisted Nematic，TN)型、超扭转向列(SuperTwisted Nematic，STN)型等为代表且使用具有正的介电特性各向异性的向列液晶的水平取向模式、使用具有负的介电特性各向异性的向列液晶的垂直(homeotropic)取向模式的垂直取向(Vertical Alignment，VA)型液晶装置等各种装置。另外，也已知有具有在一侧的基板上设置有一对电极的单元结构的共面切换(In-Plane Switching，IPS)型、边缘场切换(Fringe Field Switching，FFS)型等横向电场模式的液晶装置。

作为液晶元件的取向处理方式之一，已知有聚合物稳定取向(Polymer SustainedAlignment，PSA)方式(例如，参照专利文献1)。PSA方式为如下技术：在一对基板的间隙中，与液晶一起预先混入光聚合性单体来构筑液晶单元，然后，在对基板间施加电压的状态下照射紫外线而使光聚合性单体聚合，由此形成聚合物层，并利用所述聚合物层对液晶的初始取向进行控制。通过所述技术，可实现视场角的扩大及液晶分子响应的高速化，从而可消除多域垂直取向(Multi-domain Vertical Alignment，MVA)型面板中透射率及对比度不足的问题。

另外，在专利文献1中公开了以下情况：在PSA技术中，将以成为具有大量的开口部(狭缝部)的梳齿形装(也称为鱼骨(fish bone)形状)的方式经图案化而成的图案电极用作像素电极。在所述专利文献1的液晶装置中，在阵列基板侧的玻璃基板上形成漏极汇流线(drain busline)，并在其上形成有层间绝缘膜。另外，在层间绝缘膜上形成有鱼骨形状的像素电极，在像素电极上形成有液晶取向膜。液晶取向膜通常是通过将聚酰胺酸或聚酰亚胺、聚有机硅氧烷、(甲基)丙烯酸系聚合物、聚酰胺等聚合物成分溶解于溶剂中，并将所述聚合物组合物涂布于基板上而将溶剂去除来形成。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2003-149647号公报

发明内容

发明所要解决的问题

于在层间绝缘膜上配置具有大量狭缝部的图案电极，并在其上形成液晶取向膜的情况下，在液晶装置的像素区域(即显示区域)中，液晶取向剂与层间绝缘膜会在狭缝部中接触。所述情况下有以下担忧：层间绝缘膜受液晶取向剂的影响从而其特性发生变化，或者层间绝缘膜中所含的杂质成分等向液晶取向剂中溶出从而液晶取向膜的性能降低，因此液晶装置的可靠性降低。

本公开是鉴于所述课题而成，其目的之一在于提供一种液晶元件的制造方法，所述液晶元件的制造方法可获得于在基板上依序形成有层间绝缘膜与图案电极以及液晶取向膜的元件结构中可靠性优异的液晶元件。

解决问题的技术手段

本公开为解决所述课题而采用了以下手段。

＜1＞一种液晶元件的制造方法，所述液晶元件包括相向配置的一对基板、配置于所述一对基板间的液晶层、以及一对电极，其中所述一对电极中的至少一者为具有多个开口部的图案电极，所述液晶元件的制造方法包括：在所述一对基板中的至少一者形成层间绝缘膜的步骤；在所述层间绝缘膜上形成所述图案电极的步骤；以及在所述图案电极上，以与所述层间绝缘膜的至少一部分接触的方式形成液晶取向膜的步骤，使用含有聚合物成分以及选自下述所示的溶剂群组中的至少一种溶剂的液晶取向剂来形成所述液晶取向膜。

溶剂群组：

[A]溶剂：下述式(1)所表示的化合物、下述式(2)所表示的化合物、N,N,2-三甲基丙酰胺、及1,3-二甲基-2-咪唑烷酮。

[B]溶剂：二丙二醇单甲醚、二丙二醇二甲醚、二乙二醇单乙醚、4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮、4-羟基-2-丁酮、2-甲基-2-己醇、2,6-二甲基-4-庚醇、二异丁基酮、丙二醇二乙酸酯、二乙二醇二乙醚、二异戊基醚、二丙酮醇、及丙二醇单丁醚。

[化1]

(式(1)中，R¹为碳数2～5的一价烃基、或者在所述烃基中的碳-碳键间具有“-O-”的一价基)

[化2]

(式(2)中，R²及R³分别独立地为氢原子、碳数1～6的一价烃基、或者在所述烃基的碳-碳键间具有“-O-”的一价基，R²与R³可相互键结而形成环结构；R⁴为碳数1～6的烷基)

发明的效果

根据所述构成，在形成液晶取向膜时，即便在图案电极的开口部中，层间绝缘膜与液晶取向剂接触，层间绝缘膜或者液晶取向膜的性能也不易降低，可获得可靠性优异的液晶元件。

附图说明

图1为示意性地表示液晶装置的一部分的图。

图2为示意性地表示第一实施方式的液晶装置的一部分的剖面图。

图3为示意性地表示第二实施方式的液晶装置的一部分的剖面图。

图4为表示实施例中所使用的电极的结构的图。

图5为表示实施例中所使用的电极的结构的图。

具体实施方式

以下，参照附图来对实施方式进行说明。再者，在以下的各实施方式中，对于彼此相同或均等的部分，在图中附注相同的符号，且关于符号相同的部分引用各自的说明。

(液晶装置10的构成)

液晶装置10为聚合物稳定取向(Polymer Sustained Alignment，PSA)方式的垂直取向型液晶显示元件。在液晶装置10的显示部中，多个像素11被配置成矩阵状。如图1所示，像素11形成于由彼此交叉的扫描信号线12及图像信号线13围成的区域中。在各像素11中，配置有作为液晶驱动用元件发挥功能的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)14。如图2所示，液晶装置10包括阵列基板15、相向基板16、以及液晶层17。

阵列基板15具有玻璃基板或塑料基板等透明基板18、扫描信号线12、图像信号线13、薄膜晶体管14、像素电极19、及层间绝缘膜21(参照图2)。薄膜晶体管14构成为包含：包含扫描信号线12的栅极电极22、包含硅(Si)的半导体层23、包含图像信号线13的源极电极24、及连接于像素电极19的漏极电极25。薄膜晶体管14是通过光刻等公知的方法而设置。作为构成薄膜晶体管14的各部的具体的材料，可使用公知的材料。

像素电极19是由铟锡氧化物(Indium Tin Oxide，ITO)等透明导电体而形成。如图1所示，像素电极19为在平面状的电极上设置有多个狭缝部(细长的矩形形状的开口部)19c的图案电极。具体而言，像素电极19包括：沿相互正交的两个方向延伸的干线部19a、自干线部19a沿倾斜方向延伸的多个分支线部19b、以及形成于多个分支线部19b之间的多个狭缝部19c，从而具有导电部与非导电部的重复图案。像素电极19电性连接于薄膜晶体管14。薄膜晶体管14电性连接于扫描信号线12及图像信号线13，从而被供给有各种信号。

阵列基板15具有如下结构：在多个像素11呈矩阵状配置而成的显示区域中，依序层叠有透明基板18、层间绝缘膜21及像素电极19。像素电极19经由层间绝缘膜21中所设置的接触孔27而连接于漏极电极25。层间绝缘膜21是使用后述的感放射线性树脂组合物并通过光刻法而形成。通过设置层间绝缘膜21，抑制了像素电极19与信号线之间的电容耦合增大。

相向基板16构成为包含玻璃基板28、彩色滤光片层29、作为绝缘层的外涂层(省略图示)、及共用电极31。彩色滤光片层29包含以红色(R)、绿色(G)及蓝色(B)着色的子像素。彩色滤光片层29是通过光刻等公知的方法而制作。共用电极31为由ITO等透明导电体形成的平面状的电极，且跨及多个像素11而设置。

在阵列基板15的电极形成面形成有第一取向膜32，在相向基板16的电极形成面形成有第二取向膜33。第一取向膜32及第二取向膜33是规定液晶层17中的液晶分子的取向的液晶取向膜，且是使用作为含有聚合物成分的聚合物组合物的液晶取向剂而形成于基板上。第一取向膜32在显示区域中至少在狭缝部19c中与层间绝缘膜21接触。

阵列基板15及相向基板16以阵列基板15的取向膜形成面与相向基板16的取向膜形成面相向的方式，设置既定的间隙(单元间隔)而配置。经相向配置的一对基板的周缘部通过密封剂(省略图示)而贴合。作为密封剂的材料，可使用作为液晶装置用的密封剂而公知的材料(例如，热硬化性树脂或光硬化性树脂)。在由阵列基板15、相向基板16及密封剂围成的空间中填充有液晶组合物，由此，以与第一取向膜32及第二取向膜33相接的方式配置有液晶层17。

液晶层17具有负的介电各向异性。液晶层17分别在与阵列基板15的界面及与相向基板16的界面中具有作为聚合物层的PSA层34、PSA层35。PSA层34、PSA层35是通过使预先混入至液晶层17中的光聚合性单体，在液晶单元的构筑后使液晶分子预倾取向的状态下进行光聚合而形成。在液晶装置10中，通过PSA层34、PSA层35来控制液晶层17中的液晶分子的初始取向。

在液晶装置10中，在阵列基板15及相向基板16各自的外侧配置有偏光板36、偏光板37。在阵列基板15的外缘部中设置有端子区域，通过将用以驱动液晶的驱动器集成电路(Integrated Circuit，IC)等连接于所述端子区域以驱动液晶装置10。

＜液晶取向剂＞

接着，对用以形成液晶取向膜(第一取向膜32、第二取向膜33)的液晶取向剂进行说明。液晶取向剂含有聚合物成分与溶剂成分。

(聚合物成分)

关于液晶取向剂中所含有的聚合物，其主骨架并无特别限定，例如可列举：聚酰胺酸、聚酰胺酸酯、聚酰亚胺、聚有机硅氧烷、聚酯、纤维素衍生物、聚缩醛、聚苯乙烯衍生物、聚(苯乙烯-苯基马来酰亚胺)衍生物、聚(甲基)丙烯酸系聚合物等主骨架。这些中，优选为选自由聚酰胺酸、聚酰胺酸酯、聚酰亚胺及聚有机硅氧烷所组成的群组中的至少一种聚合物(以下也称为[P]聚合物)。再者，在液晶取向剂的制备时，作为聚合物，可单独使用一种，也可将两种以上组合使用。在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”为包含“丙烯酸”及“甲基丙烯酸”的含义。

合成[P]聚合物的方法并无特别限定。例如，在[P]聚合物为聚酰胺酸的情况下，所述聚酰胺酸可通过使四羧酸二酐与二胺反应而获得。

(聚酰胺酸)

作为聚酰胺酸的合成中使用的四羧酸二酐，例如可列举：脂肪族四羧酸二酐、脂环式四羧酸二酐、芳香族四羧酸二酐等。作为这些的具体例，脂肪族四羧酸二酐例如可列举：1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、乙二胺四乙酸二酐等；

脂环式四羧酸二酐例如可列举：1,2,3,4-环丁烷四羧酸二酐、1,3-二甲基-1,2,3,4-环丁烷四羧酸二酐、2,3,5-三羧基环戊基乙酸二酐、1,3,3a,4,5,9b-六氢-5-(四氢-2,5-二氧代-3-呋喃基)-萘并[1,2-c]呋喃-1,3-二酮、1,3,3a,4,5,9b-六氢-8-甲基-5-(四氢-2,5-二氧代-3-呋喃基)-萘并[1,2-c]呋喃-1,3-二酮、3-氧杂双环[3.2.1]辛烷-2,4-二酮-6-螺环-3'-(四氢呋喃-2',5'-二酮)、5-(2,5-二氧代四氢-3-呋喃基)-3-甲基-3-环己烯-1,2-二羧酸酐、2,4,6,8-四羧基双环[3.3.0]辛烷-2:4,6:8-二酐、环己烷四羧酸二酐、环戊烷四羧酸二酐等；

芳香族四羧酸二酐例如可列举：均苯四甲酸二酐、4,4'-(六氟亚异丙基)二邻苯二甲酸酐、对亚苯基双(偏苯三甲酸单酯酐)、乙二醇双(偏苯三甲酸酐酯)、1,3-丙二醇双(偏苯三酸酐酯)等，除此以外，还可使用日本专利特开2010-97188号公报中记载的四羧酸二酐。再者，四羧酸二酐可单独使用一种或者将两种以上组合使用。

就可使所获得的聚合物对溶剂的溶解性更高的方面而言，合成中使用的四羧酸二酐优选为包含脂环式四羧酸二酐，更优选为包含具有以下环结构的四羧酸二酐(以下也称为“特定四羧酸二酐”)：所述环结构为选自由环丁烷环、环戊烷环及环己烷环所组成的群组中的至少一种。相对于聚酰胺酸的合成中使用的四羧酸二酐的总量，特定四羧酸二酐的使用比例优选为10摩尔％以上，更优选为20摩尔％～100摩尔％。

作为聚酰胺酸的合成中使用的二胺，例如可列举：脂肪族二胺、脂环式二胺、芳香族二胺、二氨基有机硅氧烷等。作为这些的具体例，脂肪族二胺例如可列举：间苯二甲胺、1,3-丙二胺、四亚甲基二胺、六亚甲基二胺、1,3-双(氨基甲基)环己烷等；脂环式二胺例如可列举：1,4-二氨基环己烷、4,4'-亚甲基双(环己基胺)等；

芳香族二胺例如可列举：对苯二胺、4,4'-二氨基二苯基甲烷、4,4'-二氨基二苯基硫醚、1,5-二氨基萘、2,2'-二甲基-4,4'-二氨基联苯、4,4'-二氨基-2,2'-双(三氟甲基)联苯、4,4'-二氨基二苯基醚、1,3-双(4-氨基苯氧基)乙烷、1,3-双(4-氨基苯氧基)丙烷、9,9-双(4-氨基苯基)芴、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]六氟丙烷、4,4'-(对亚苯基二亚异丙基)双苯胺、1,4-双(4-氨基苯氧基)苯、2,6-二氨基吡啶、3,6-二氨基咔唑、N,N'-双(4-氨基苯基)联苯胺、1,4-双-(4-氨基苯基)-哌嗪、1-(4-氨基苯基)-2,3-二氢-1,3,3-三甲基-1H-茚-5-胺、1-(4-氨基苯基)-2,3-二氢-1,3,3-三甲基-1H-茚-6-胺、3,5-二氨基苯甲酸、胆甾烷氧基-3,5-二氨基苯(cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene)、胆甾烯氧基-3,5-二氨基苯(cholestenyloxy-3,5-diaminobenzene)、胆甾烷氧基-2,4-二氨基苯(cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene)、3,5-二氨基苯甲酸胆甾烷基酯(cholestanyl3,5-diaminobenzoate)、3,5-二氨基苯甲酸胆甾烯基酯(cholestenyl 3,5-diaminobenzoate)、3,5-二氨基苯甲酸羊毛甾烷基酯(lanostanyl 3,5-diaminobenzoate)、3,6-双(4-氨基苯甲酰基氧基)胆甾烷(3,6-bis(4-aminobenzoyloxy)cholestane)、4-(4'-三氟甲氧基苯甲酰氧基)环己基-3,5-二氨基苯甲酸酯、1,1-双(4-((氨基苯基)甲基)苯基)-4-庚基环己烷、1,1-双(4-((氨基苯基)甲基)苯基)-4-(4-庚基环己基)环己烷、2,4-二氨基-N,N-二烯丙基苯胺、4-氨基苄基胺、N-[4-(2-氨基乙基)苯基]苯-1,4-二胺、N-[4-(氨基甲基)苯基]苯-1,4-二胺、1,3-双(4-氨基苯基)脲、4,4'-[4,4'-丙烷-1,3-二基双(哌啶-1,4-二基)]二苯胺、2-丙炔基氧基-2,4-苯二胺及下述式(D-1)

[化3]

(式(D-1)中，X^I及X^II分别独立地为单键、-O-、*-COO-、*-OCO-或者*-NH-CO-(其中，带有“*”的结合键与二氨基苯基键结)，R^I及R^II分别独立地为碳数1～3的烷烃二基，a为0或者1，b为0～2的整数，c为1～20的整数，n为0或者1，m为0或者1；其中，a及b不会同时为0，在X^I为*-NH-CO-的情况下，n为0)

所表示的化合物等；

二氨基有机硅氧烷例如可列举：1,3-双(3-氨基丙基)-四甲基二硅氧烷等；除此以外，还可使用日本专利特开2010-97188号公报中记载的二胺。再者，在合成聚酰胺酸时，二胺可单独使用一种或者将两种以上组合使用。

聚酰胺酸可通过使如上所述的四羧酸二酐与二胺，视需要与分子量调整剂一并进行反应而获得。被供于聚酰胺酸的合成反应的四羧酸二酐与二胺的使用比例优选为相对于二胺的氨基1当量而四羧酸二酐的酸酐基成为0.2当量～2当量的比例。作为分子量调整剂，例如可列举：马来酸酐、邻苯二甲酸酐、衣康酸酐等酸一酐；苯胺、环己胺、正丁基胺等单胺化合物；异氰酸苯酯、异氰酸萘酯等单异氰酸酯化合物等。分子量调整剂的使用比例优选为相对于所使用的四羧酸二酐及二胺的合计量而设为20质量％以下。

聚酰胺酸的合成反应优选为在有机溶媒中进行。此时的反应温度优选为-20℃～150℃，反应时间优选为0.1小时～24小时。

作为反应中使用的有机溶媒，例如可列举：非质子性极性溶媒、酚系溶媒、醇、酮、酯、醚、卤化烃、烃等。优选的有机溶媒优选为使用选自由N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、γ-丁内酯、四甲基脲、六甲基磷酰三胺、间甲酚、二甲酚、卤化酚、及后述的特定溶剂所组成的群组中的一种以上作为溶媒，或者使用这些中的一种以上与其他有机溶媒(例如，丁基溶纤剂、二乙二醇二乙醚等)的混合物。有机溶媒的使用量优选为设为四羧酸二酐及二胺的合计量相对于反应溶液的总量而成为0.1质量％～50质量％的量。以所述方式，可获得将聚酰胺酸溶解而成的反应溶液。所述反应溶液可直接供于液晶取向剂的制备，也可将反应溶液中所含的聚酰胺酸离析之后供于液晶取向剂的制备。

(聚酰亚胺)

聚酰亚胺可通过将如所述那样合成的聚酰胺酸脱水闭环且酰亚胺化而获得。聚酰亚胺可为将作为其前体的聚酰胺酸所具有的酰胺酸结构全部进行脱水闭环而成的完全酰亚胺化物，也可为将仅酰胺酸结构的一部分脱水闭环且酰胺酸结构与酰亚胺环结构并存的部分酰亚胺化物。聚酰亚胺优选为其酰亚胺化率为30％以上，更优选为40％～99％，进而优选为60％～99％。所述酰亚胺化率是以百分率来表示酰亚胺环结构的数量相对于聚酰亚胺的酰胺酸结构的数量与酰亚胺环结构的数量的合计而言所占的比例。此处，酰亚胺环的一部分也可为异酰亚胺环。

聚酰胺酸的脱水闭环优选为通过如下方法进行：将聚酰胺酸溶解于有机溶媒中，在所述溶液中添加脱水剂及脱水闭环催化剂并视需要进行加热。在所述方法中，作为脱水剂，例如可使用乙酸酐、丙酸酐、三氟乙酸酐等酸酐。脱水剂的使用量优选为相对于聚酰胺酸的酰胺酸结构的1摩尔而设为0.01摩尔～20摩尔。作为脱水闭环催化剂，例如可使用吡啶、三甲吡啶、二甲吡啶、三乙胺等三级胺。脱水闭环催化剂的使用量优选为相对于所使用的脱水剂1摩尔而设为0.01摩尔～10摩尔。作为所使用的有机溶媒，可列举作为聚酰胺酸的合成所使用者而例示的有机溶媒。脱水闭环反应的反应温度优选为0℃～180℃，反应时间优选为1.0小时～120小时。所获得的反应溶液可直接供于液晶取向剂的制备，也可将聚酰胺酸离析之后供于液晶取向剂的制备。

(聚酰胺酸酯)

聚酰胺酸酯例如可利用以下方法来获得：[I]使通过所述反应而获得的聚酰胺酸与酯化剂进行反应的方法；[II]使四羧酸二酯与二胺进行反应的方法；[III]使四羧酸二酯二卤化物与二胺进行反应的方法等。此处，作为所述[I]的酯化剂，例如可列举甲醇、乙醇等。所述[II]中使用的四羧酸二酯可通过利用醇类等对四羧酸二酐进行开环而获得。所述[III]中使用的四羧酸二酯二卤化物可通过使如所述那样获得的四羧酸二酯与亚硫酰氯等适当的氯化剂进行反应而获得。所获得的聚酰胺酸酯可仅具有酰胺酸酯结构，也可为使酰胺酸结构与酰胺酸酯结构并存的部分酯化物。将聚酰胺酸酯溶解而成的反应溶液可直接供于液晶取向剂的制备，也可将反应溶液中所含的聚酰胺酸酯离析之后供于液晶取向剂的制备。

以所述方式获得的聚酰胺酸、聚酰胺酸酯及聚酰亚胺优选为当将其制成浓度10质量％的溶液时，具有10mPa·s～800mPa·s的溶液粘度者，更优选为具有15mPa·s～500mPa·s的溶液粘度者。再者，所述聚合物的溶液粘度(mPa·s)是对使用所述聚合物的良溶媒(例如γ-丁内酯、N-甲基-2-吡咯烷酮等)来制备的浓度10质量％的聚合物溶液，使用E型旋转粘度计在25℃下测定而得的值。关于聚酰胺酸、聚酰胺酸酯及聚酰亚胺，利用凝胶渗透色谱法(gel permeation chromatography，GPC)来测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量优选为500～100,000，更优选为1,000～50,000。

(聚有机硅氧烷)

聚有机硅氧烷例如可通过对水解性的硅烷化合物优选为在适当的有机溶媒、水及催化剂的存在下进行水解或者水解与缩合而获得。

作为聚有机硅氧烷的合成中使用的水解性的硅烷化合物，例如可列举：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、三甲氧基硅烷基丙基琥珀酸酐、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷等烷氧基硅烷化合物；3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三乙氧基硅烷、巯基甲基三甲氧基硅烷、巯基甲基三乙氧基硅烷、3-脲基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(3-环己基氨基)丙基三甲氧基硅烷等含氮与硫的烷氧基硅烷化合物；3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等含环氧基的硅烷化合物；3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、对苯乙烯基三甲氧基硅烷等含不饱和键的烷氧基硅烷化合物等。水解性硅烷化合物可单独使用这些中的一种或者将两种以上组合使用。再者，在本说明书中，“(甲基)丙烯酰～”为包含“丙烯酰～”及“甲基丙烯酰～”的含义。

所述水解与缩合反应通过使如上所述的硅烷化合物的一种或者两种以上与水，优选为在适当的催化剂及有机溶媒的存在下反应而进行。在进行反应时，水的使用比例相对于硅烷化合物(合计量)1摩尔，优选为1摩尔～30摩尔。作为所使用的催化剂，例如可列举酸、碱金属化合物、有机碱(例如三乙基胺或四甲基氢氧化铵等)、钛化合物、锆化合物等。催化剂的使用量根据催化剂的种类、温度等反应条件等而不同，应适宜设定，例如相对于硅烷化合物的合计量，优选为0.01倍摩尔～3倍摩尔。作为所使用的有机溶媒，例如可列举烃、酮、酯、醚、醇等，这些中，优选为使用非水溶性或难水溶性的有机溶媒。有机溶媒的使用比例相对于反应中使用的硅烷化合物的合计100质量份，优选为50质量份～1,000质量份。

所述水解与缩合反应例如优选为通过油浴等进行加热来实施。此时，加热温度优选为设为130℃以下，加热时间优选为设为0.5小时～12小时。在反应结束后，针对自反应液分取的有机溶媒层将溶媒去除，由此可获得聚硅氧烷。

于在聚有机硅氧烷的侧链导入预倾角赋予基或者光取向性基等功能性基的情况下，其合成方法并无特别限定，例如可列举如下方法：对含环氧基的硅烷化合物、或者含环氧基的硅烷化合物与其他硅烷化合物的混合物进行水解缩合而合成具有环氧基的聚有机硅氧烷，继而使所获得的含环氧基的聚有机硅氧烷、与具有所述功能性基的羧酸进行反应的方法等。含环氧基的聚有机硅氧烷与羧酸的反应可依照公知的方法进行。

聚有机硅氧烷通过GPC测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)优选为处于500～100,000的范围，更优选为处于1,000～30,000的范围，进而优选为1,000～20,000。若聚有机硅氧烷的重量平均分子量处于所述范围，则在制造液晶取向膜时容易操作，另外，可获得具有充分的材料强度及特性的液晶取向膜。

液晶取向剂中的[P]聚合物的含有比例(在含有两种以上的情况下为合计量)优选为相对于液晶取向剂中的聚合物成分的合计量而为60质量％以上，更优选为80质量％以上。另外，就可获得可靠性更优异的液晶元件的方面而言，液晶取向剂优选为包含[p]聚合物，所述[p]聚合物为选自由聚酰胺酸、聚酰胺酸酯及聚酰亚胺所组成的群组中的至少一种。液晶取向剂中的[p]聚合物的含有比例(在包含两种以上的情况下为其合计量)优选为相对于液晶取向剂中的聚合物成分的合计量而为40质量％以上，更优选为60质量％以上。

液晶取向剂中所含有的聚合物成分的至少一部分优选为具有下述式(3)所表示的部分结构的聚合物。

*-L¹-R¹¹-R¹²-R¹³-R¹⁴…(3)

(式(3)中，L¹为-O-、-CO-、-COO-*¹、-OCO-*¹、-NR¹⁵-、-NR¹⁵-CO-*¹、-CO-NR¹⁵-*¹、碳数1～6的烷烃二基、-O-R¹⁶-*¹、或者-R¹⁶-O-*¹(其中，R¹⁵为氢原子或者碳数1～10的一价烃基，R¹⁶为碳数1～3的烷烃二基；“*¹”表示与R¹¹的结合键)；R¹¹及R¹³分别独立地为单键、亚苯基或者亚环烷基，R¹²为单键、亚苯基、亚环烷基、-R¹⁷-B¹-*²、或者-B¹-R¹⁷-*²(其中，R¹⁷为亚苯基或者亚环烷基，B¹为-COO-*³、-OCO-*³、或者碳数1～3的烷烃二基；“*²”表示与R¹³的结合键，“*³”表示与R¹⁷的结合键)；R¹⁴为氢原子、氟原子、碳数1～18的烷基、碳数1～18的氟烷基、碳数1～18的烷氧基、碳数1～18的氟烷氧基、或者具有类固醇骨架的碳数17～51的烃基，也可具有自由基聚合性基或者光引发剂基；其中，在R¹⁴为氢原子、氟原子或者碳数1～3的基团的情况下，R¹¹、R¹²及R¹³不会全部为单键；“*”表示结合键)

在所述式(3)中，L¹、B¹的烷烃二基、以及R¹⁴的烷基、氟烷基、烷氧基及氟烷氧基优选为直链状。作为R¹⁴的具有类固醇骨架的基团，例如可列举：胆甾烷基、胆甾烯基、羊毛甾烷基等。R¹¹、R¹²、R¹³及R¹⁷的亚苯基优选为1,4-亚苯基，亚环烷基优选为1,4-亚环己基。关于R¹¹及R¹³，这些中的至少一个优选为亚苯基或者亚环烷基。R¹²优选为亚苯基、亚环烷基、-R¹⁷-B¹-*²、或者-B¹-R¹⁷-*²。具有所述式(3)所表示的部分结构的聚合物的主骨架并无特别限定，优选为[P]聚合物。

聚合物中的所述式(3)所表示的部分结构的含有比例优选为根据聚合物的主链而适宜设定，就充分加快液晶的响应速度的观点而言，优选为相对于聚合物的所有单体单元而设为1摩尔％～50摩尔％，更优选为设为2摩尔％～40摩尔％。

另外，就可获得不易产生残像、且液晶的响应速度快的液晶元件的方面而言，液晶取向剂优选为含有如下聚合物：所述聚合物具有选自由自由基聚合性基、光引发剂基、自由基聚合抑制剂基、含氮的杂环(其中，聚酰亚胺所具有的酰亚胺环除外)、氨基、及经保护的氨基所组成的群组中的至少一种(以下也称为“特定部分结构”)作为聚合物成分。

作为自由基聚合性基，例如可列举：(甲基)丙烯酰基、乙烯基、烯丙基、乙烯基苯基、马来酰亚胺基、乙烯氧基、乙炔基等。这些中，就反应性高的方面而言，特别优选为(甲基)丙烯酰基。

光引发剂基为通过光而产生聚合引发能力的部位或者具有光增感作用的部位，且为具有源自可通过可见光线、紫外线、远紫外线、电子束、X射线等放射线的照射而引发聚合性成分的聚合的化合物(光引发剂)的结构的基团。作为光引发剂基，优选为具有源自可通过光照射而产生自由基的自由基聚合引发剂的结构的基团。具体而言，例如可列举具有源自以下化合物的结构的基团等：苯乙酮系化合物、肟酯系化合物、二苯甲酰基系化合物、安息香系化合物、二苯甲酮系化合物、烷基苯酮系化合物、或者酰基氧化膦系化合物。这些中，光引发剂基优选为具有苯乙酮结构的基团。在聚合物具有自由基聚合性基及光引发剂基的至少任一者的情况下，优选为在侧链具有这些基团。

自由基聚合抑制剂基作为使以紫外线或热等能量为契机而产生的过氧化自由基或过氧化氢无效化的过氧化物分解剂、或者补足聚合中途的自由基性中间体而抑制聚合反应的进行的自由基捕捉剂发挥功能。通过使液晶取向膜中含有此种具有聚合抑制剂基的聚合物，可抑制在PSA模式中混入液晶层中的光聚合性化合物因光照射而进行反应。聚合抑制剂基优选为具有选自由受阻胺结构、受阻酚结构及苯胺结构所组成的群组中的至少一种的基团。

作为所述含氮的杂环，例如可列举：吡咯、咪唑、吡唑、三唑、吡啶、嘧啶、哒嗪、吡嗪、吲哚、苯并咪唑、嘌呤、喹啉、异喹啉、萘啶、喹喔啉、酞嗪、三嗪、咔唑、吖啶、哌啶、哌嗪、吡咯啶、六亚甲基亚胺等。其中，优选为具有选自由吡啶、嘧啶、吡嗪、哌啶、哌嗪、喹啉、咔唑及吖啶所组成的群组中的至少一种。

所述氨基及经保护的氨基优选为下述式(N-1)所表示的基团。

[化4]

(式(N-1)中，R⁵⁰为氢原子或者一价有机基；“*”为键结于烃基的结合键)

在所述式(N-1)中，R⁵⁰的一价有机基优选为一价烃基或者保护基。一价烃基优选为碳数1～10，具体而言，例如可列举：甲基、乙基、丙基、丁基等直链状或者分支状的烷基；环己基等环烷基；苯基、甲基苯基等芳基；苄基等芳烷基等。作为R⁵⁰可具有的取代基，例如可列举：卤素原子、氰基、烷基硅烷基、烷氧基硅烷基等。R⁵⁰优选为碳数1～5的烷基、环己基、苯基或者苄基。作为所述式(N-1)中的“*”所键结的烃基，例如可列举：烷烃二基、亚环己基、亚苯基等。

保护基优选为通过热而脱离的基团，例如可列举：氨基甲酸酯系保护基、酰胺系保护基、酰亚胺系保护基、磺酰胺系保护基、下述式(8-1)～式(8-5)分别所表示的基团等。其中，就通过热的脱离性高的方面、或者减少经脱保护的部分在膜中的残存量的方面而言，保护基优选为叔丁氧基羰基。

[化5]

(式(8-1)～式(8-5)中，Ar¹¹为自经取代或未经取代的芳香环去掉一个氢原子之后的碳数6～10的一价基，R⁶¹为碳数1～12的烷基，R⁶²为亚甲基或者亚乙基；“*”表示键结于氮原子的结合键)

具有所述特定部分结构的聚合物的主骨架并无特别限定，优选为[P]聚合物，更优选为[p]聚合物。聚合物中的所述特定部分结构的含有比例(在含有两种以上的情况下为其合计量)优选为相对于聚合物的所有单体单元而设为5摩尔％，更优选为设为10摩尔％～80摩尔％。

(溶剂)

液晶取向剂含有选自下述所示的溶剂群组(包含[A]溶剂与[B]溶剂的群组)中的至少一种的特定溶剂作为溶剂成分。

溶剂群组：

[A]溶剂：下述式(1)所表示的化合物、下述式(2)所表示的化合物、N,N,2-三甲基丙酰胺、及1,3-二甲基-2-咪唑烷酮。

[B]溶剂：二丙二醇单甲醚、二丙二醇二甲醚、二乙二醇单乙醚、4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮、4-羟基-2-丁酮、2-甲基-2-己醇、2,6-二甲基-4-庚醇、二异丁基酮、丙二醇二乙酸酯、二乙二醇二乙醚、二异戊基醚、二丙酮醇、及丙二醇单丁醚。

[化6]

(式(1)中，R¹为碳数2～5的一价烃基、或者在所述烃基中的碳-碳键间具有“-O-”的一价基)

[化7]

(式(2)中，R²及R³分别独立地为氢原子、碳数1～6的一价烃基、或者在所述烃基的碳-碳键间具有“-O-”的一价基，R²与R³可相互键结而形成环结构；R⁴为碳数1～6的烷基)

·关于[A]溶剂

(式(1)所表示的化合物)

关于所述式(1)所表示的化合物，R¹的碳数2～5的一价烃基优选为链状烃基，例如可列举：碳数2～5的烷基、烯基、炔基。另外，作为在所述烃基中的碳-碳键间具有“-O-”的一价基，例如可列举碳数2～5的烷氧基烷基。

作为这些的具体例，碳数2～5的烷基例如可列举：乙基、丙基、丁基、戊基等；碳数2～5的烯基例如可列举：乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、3-丁烯基等；碳数2～5的炔基例如可列举：乙炔基、2-丙炔基、2-丁炔基等；碳数2～5的烷氧基烷基例如可列举：甲氧基甲基、甲氧基乙基、甲氧基丙基、甲氧基丁基、乙氧基甲基、乙氧基乙基等，这些可为直链状，也可为分支状。所述基团中，R¹优选为碳数2～5的烷基或者烷氧基烷基。

作为所述式(1)所表示的化合物的具体例，例如可列举：N-乙基-2-吡咯烷酮、N-(正丙基)-2-吡咯烷酮、N-异丙基-2-吡咯烷酮、N-(正丁基)-2-吡咯烷酮、N-(叔丁基)-2-吡咯烷酮、N-(正戊基)-2-吡咯烷酮、N-甲氧基丙基-2-吡咯烷酮、N-乙氧基乙基-2-吡咯烷酮、N-甲氧基丁基-2-吡咯烷酮等。这些中，可特别优选地使用N-乙基-2-吡咯烷酮、N-(正戊基)-2-吡咯烷酮、N-(叔丁基)-2-吡咯烷酮、N-甲氧基丙基-2-吡咯烷酮。再者，所述式(1)所表示的化合物可将这些例示的化合物单独使用一种或者将两种以上组合使用。

(式(2)所表示的化合物)

关于所述式(2)所表示的化合物，作为R²及R³的碳数1～6的一价烃基，例如可列举碳数1～6的链状烃基、碳数3～6的脂环式烃基、碳数5或者6的芳香族烃基等。另外，作为在所述烃基的碳-碳键间具有“-O-”的一价基，例如可列举碳数2～6的烷氧基烷基等。

作为这些的具体例，碳数1～6的链状烃基例如可列举甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基等，这些可为直链状，也可为分支状。另外，碳数3～6的脂环式烃基例如可列举环戊基、环己基等；芳香族烃基例如可列举苯基等；碳数2～6的烷氧基烷基例如可列举R¹中所列举的烷氧基烷基等。再者，式(2)中的R²及R³相互可相同也可不同。另外，R²及R³通过相互键结而可与R²及R³所键结的氮原子一起形成环。作为R²、R³相互键结而形成的环，例如可列举吡咯啶环、哌啶环等，这些环上也可键结甲基等一价链状烃基。

R²及R³优选为氢原子或者碳数1～6的烷基，更优选为氢原子或者碳数1～3的烷基，进而优选为氢原子或者甲基。

作为R⁴的碳数1～6的烷基，可列举在所述R²及R³的碳数1～6的烷基的说明中所例示的基团。优选为碳数1～4的烷基，更优选为甲基或者乙基。

作为所述式(2)所表示的化合物的具体例，例如可列举：3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺(3-butoxy-N,N-dimethyl propanamide)、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-己氧基-N,N-二甲基丙酰胺、异丙氧基-N-异丙基-丙酰胺(isopropoxy-N-isopropyl-propionamide)、正丁氧基-N-异丙基-丙酰胺等。再者，所述式(2)所表示的化合物可单独使用一种或者将两种以上组合使用。

作为[A]溶剂，就可进一步减小对层间绝缘膜21带来的影响的方面而言，其中优选为选自由所述式(1)所表示的化合物、所述式(2)所表示的化合物及1,3-二甲基-2-咪唑烷酮所组成的群组中的至少一种，更优选为选自由所述式(1)所表示的化合物中R¹为碳数2～5的烷基或者烷氧基烷基的化合物、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺及1,3-二甲基-2-咪唑烷酮所组成的群组中的至少一种，特别优选为选自由N-乙基-2-吡咯烷酮、N-(正戊基)-2-吡咯烷酮、N-(叔丁基)-2-吡咯烷酮、N-甲氧基丙基-2-吡咯烷酮、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺及1,3-二甲基-2-咪唑烷酮所组成的群组中的至少一种。

作为[B]溶剂，就可进一步减小对层间绝缘膜21带来的影响的方面而言，所述中优选为选自由二丙二醇单甲醚、丙二醇二乙酸酯、二乙二醇二乙醚、二异戊基醚、二丙酮醇、及丙二醇单丁醚所组成的群组中的至少一种。

作为溶剂成分，可仅使用特定溶剂，也可并用特定溶剂以外的其他溶剂。作为所述其他溶剂，可列举聚合物的溶解性及流平性高的溶剂(以下也称为“第一溶剂”)、及润湿扩展性良好的溶剂(以下也称为“第二溶剂”)。

作为这些的具体例，第一溶剂例如可列举：N-甲基-2-吡咯烷酮、γ-丁内酯、γ-丁内酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯等；

第二溶剂例如可列举：乙二醇单甲醚、乳酸丁酯、乙酸丁酯、甲基甲氧基丙酸酯、乙基乙氧基丙酸酯、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇-正丙醚、乙二醇-异丙醚、乙二醇-正丁醚(丁基溶纤剂)、乙二醇二甲醚、乙二醇乙醚乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单甲醚乙酸酯、二乙二醇单乙醚乙酸酯、二乙二醇二乙醚乙酸酯、丙酸异戊酯、异丁酸异戊酯等。再者，作为其他溶剂，可单独使用所述中的一种，也可将两种以上混合使用。

在液晶取向剂的制备时，作为特定溶剂，可使用[A]溶剂及[B]溶剂的仅任一者，但就可抑制在形成液晶取向膜时在液晶取向剂与层间绝缘膜21接触的状态下对层间绝缘膜21带来的影响，并且可抑制来自层间绝缘膜21的杂质成分溶出的效果高的方面而言，优选为含有[A]溶剂的至少一种、以及[B]溶剂的至少一种。

就可充分获得对层间绝缘膜21带来的影响的抑制效果以及来自层间绝缘膜21的杂质成分溶出的抑制效果，同时抑制聚合物成分的析出的观点而言，[A]溶剂的使用比例(在使用两种以上的情况下为其合计量)优选为相对于液晶取向剂所含的溶剂的全体量而设为10质量％以上，更优选为设为20质量％以上。另外，就获得[B]溶剂所带来的涂布性的改善效果的观点而言，其使用比例的上限优选为相对于液晶取向剂所含的溶剂的全体量而设为90质量％以下，更优选为设为80质量％以下。再者，[A]溶剂可单独使用一种，或者也可将两种以上组合使用。

就可抑制对层间绝缘膜21带来的影响及来自层间绝缘膜21的杂质成分的溶出，并且使液晶取向剂的涂布性良好的观点而言，[B]溶剂的使用比例(在使用两种以上的情况下为其合计量)优选为相对于液晶取向剂所含的溶剂的全体量而设为10质量％以上，更优选为设为20质量％以上。另外，其使用比例的上限优选为相对于液晶取向剂所含的溶剂的全体量而设为80质量％以下，更优选为设为70质量％以下。再者，[B]溶剂可单独使用一种，或者也可将两种以上组合使用。

就可充分获得抑制对层间绝缘膜21带来的影响的效果及减少来自层间绝缘膜21的杂质成分溶出的效果的观点而言，特定溶剂的使用比例(在使用两种以上的情况下为其合计量)优选为相对于液晶取向剂所含的溶剂的全体量而设为50质量％以上，更优选为设为70质量％以上，进而优选为设为90质量％以上，特别优选为设为95质量％以上。

另外，在使用[A]溶剂、[B]溶剂以及其他溶剂的情况下，就充分获得本公开的效果的观点而言，其他溶剂的使用比例(在使用两种以上的情况下为其合计量)优选为相对于液晶取向剂所含的溶剂的全体量而设为50质量％以下，更优选为设为30质量％以下，更优选为设为10质量％以下，特别优选为设为5质量％以下。

液晶取向剂特别优选为溶剂成分包含[A]溶剂与[B]溶剂。其中，在本说明书中，所谓“溶剂成分包含[A]溶剂与[B]溶剂”容许以不会妨碍本公开的效果的程度含有[A]溶剂及[B]溶剂以外的其他溶剂。

除聚合物成分及溶剂成分以外，液晶取向剂视需要可含有其他成分。作为其他成分，例如可列举：抗氧化剂、金属螯合物化合物、硬化促进剂、表面活性剂、填充剂、分散剂、光增感剂等。其他成分的调配比例可在不损及本公开的效果的范围内，根据各化合物而适宜选择。

液晶取向剂中的固体成分浓度(液晶取向剂的溶媒以外的成分的合计质量在液晶取向剂的总质量中所占的比例)可考虑粘性、挥发性等适宜选择，优选为1质量％～10质量％的范围。在固体成分浓度小于1质量％的情况下，涂膜的膜厚过小而难以获得良好的液晶取向膜。另一方面，在固体成分浓度超过10质量％的情况下，涂膜的膜厚过大而难以获得良好的液晶取向膜，另外液晶取向剂的粘性增大而有涂布性降低的倾向。

＜感放射线性树脂组合物＞

接着，对用以形成层间绝缘膜21的感放射线性树脂组合物进行详细说明。所述感放射线性树脂组合物含有[Q]聚合物以及[R]感光剂。

([Q]聚合物)

[Q]聚合物优选为含有具有聚合性基的构成单元。[Q]聚合物所具有的聚合性基优选为选自由氧杂环丁基、氧杂环丙基、(甲基)丙烯酰基、及乙烯基所组成的群组中的至少一种。通过具有此种聚合性基，可容易地进行感放射线性树脂组合物的硬化，可获得良好的层间绝缘膜21，就所述方面而言优选。

[Q]聚合物的主骨架并无特别限定，优选为选自由(甲基)丙烯酸系聚合物、聚酰胺酸、聚酰胺酸酯、聚酰亚胺、及聚有机硅氧烷所组成的群组中的至少一种。这些中，特别优选为(甲基)丙烯酸系聚合物。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物可仅含有源自具有(甲基)丙烯酰基的单体的结构单元，也可含有源自具有(甲基)丙烯酰基的单体的结构单元、以及源自与具有(甲基)丙烯酰基的单体不同的其他单体的结构单元。(甲基)丙烯酸系聚合物中的源自其他单体的结构单元的含有比例优选为50摩尔％以下，更优选为40摩尔％以下，进而优选为30摩尔％以下。

具体而言，[Q]聚合物优选为含有具有酸性基的第一结构单元、具有氧杂环丁基或者氧杂环丙基的第二结构单元、以及形成与所述第一结构单元及所述第二结构单元不同主链结构的第三结构单元的聚合物。

作为第一结构单元所具有的酸性基，可列举：羧基、磺基、酚性羟基、磷酸基、磺酸基、膦酸基、磺酰胺基、键结于碳原子的氢原子被取代为拉电子基的羟基烷基等。作为酸性基，就碱显影性的方面而言，这些中优选为羧基、磺基、酚性羟基、含氟的醇性羟基、磷酸基、磺酸基、膦酸基或者这些的组合，更优选为羧基或者酚性羟基，特别优选为羧基。

第一结构单元优选为源自选自由(甲基)丙烯酸或者不饱和羧酸酐所组成的群组中的至少一种化合物的结构单元，特别优选为(甲基)丙烯酸及马来酸酐的至少一种。

相对于构成[Q]聚合物的所有结构单元，[Q]聚合物中的第一结构单元的含有比例优选为1摩尔％～50摩尔％，更优选为15摩尔％～30摩尔％。第一结构单元可为单独一种，或者也可组合两种以上。

第二结构单元优选为源自选自由(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯、4-羟基丁基(甲基)丙烯酸酯缩水甘油醚、及3-(甲基)丙烯酰基氧基甲基-3-乙基氧杂环丁烷所组成的群组中的至少一种化合物的结构单元。

相对于构成[Q]聚合物的所有结构单元，[Q]聚合物中的第二结构单元的含有比例优选为1摩尔％～15摩尔％，更优选为3摩尔％～10摩尔％。第二结构单元可为单独一种，或者也可组合两种以上。

第三结构单元只要为形成与第一结构单元及第二结构单元不同主链结构的源自单体的结构单元，则并无特别限定，就可使显影密接性及对热或者剥离溶液的耐性更良好的方面而言，优选为源自选自由苯乙烯、α-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、及4-羟基苯乙烯所组成的群组中的至少一种化合物的结构单元。

相对于构成[Q]聚合物的所有结构单元，[Q]聚合物中的第三结构单元的含有比例优选为25摩尔％～80摩尔％，更优选为30摩尔％～65摩尔％。第三结构单元可为单独一种，或者也可组合两种以上。

再者，[Q]聚合物也可还具有除第一结构单元、第二结构单元及第三结构单元以外的其他结构单元。作为此种结构单元，例如可列举(甲基)丙烯酸烷基酯等。

[Q]聚合物可使用提供第一结构单元～第三结构单元等的单体，依照自由基聚合等常法来合成。关于合成条件的详情，例如可参照日本专利特开2015-92233号公报中记载的各种条件而适宜设定。

([R]感光剂)

作为[R]感光剂，可优选地使用选自由光自由基聚合引发剂、光酸产生剂及光碱产生剂所组成的群组中的至少一种。

作为这些的具体例，光自由基聚合引发剂例如可列举：O-酰基肟化合物、苯乙酮化合物、联咪唑化合物等；

光酸产生剂例如可列举：肟磺酸酯化合物、鎓盐、磺酰亚胺化合物、含卤素的化合物、二偶氮甲烷化合物、砜化合物、磺酸酯化合物、羧酸酯化合物、醌二叠氮化合物等；

光酸碱剂例如可列举：钴等过渡金属络合物、邻硝基苄基氨基酸酯类、α,α-二甲基-3,5-二甲氧基苄基氨基酸酯类、酰氧基亚氨基类等。

[R]感光剂的使用比例根据所使用的化合物的种类而不同。例如，在光自由基聚合引发剂的情况下，优选为相对于[Q]聚合物100质量份而设为1质量份～40质量份，更优选为设为5质量份～30质量份。

相对于[Q]聚合物100质量份，光酸产生剂的使用比例优选为0.1质量份～50质量份，更优选为1质量份～30质量份。

相对于[Q]聚合物100质量份，光酸碱剂的使用比例优选为0.1质量份～20质量份，更优选为1质量份～10质量份。

除所述[Q]聚合物及[R]感光剂以外，感放射线性树脂组合物可还含有硬化促进剂、聚合性不饱和化合物、表面活性剂、保存稳定剂、接着助剂。这些各任意成分可单独使用一种，也可将两种以上组合使用。

感放射线性树脂组合物可通过将[Q]聚合物及[R]感光剂、以及视需要而调配的其他任意成分混合来制备。感放射线性树脂组合物优选为溶解于适当的溶媒中而以溶液状态来使用。作为所述溶媒，例如可列举：醇、二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、二乙二醇单烷基醚、二乙二醇二烷基醚、二丙二醇二烷基醚、丙二醇单烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇单烷基醚丙酸酯、酮、酯等。

关于溶媒的含量，就所获得的感放射线性树脂组合物的涂布性、稳定性等观点而言，优选为感放射线性树脂组合物的除溶媒之外的各成分的合计浓度成为5质量％～50质量％的量，更优选为成为10质量％～40质量％的量。

(液晶装置10的制造方法)

液晶装置10可通过包括以下的步骤A～步骤E的方法来制造。

步骤A：在基板上形成层间绝缘膜21的步骤。

步骤B：在层间绝缘膜21上形成像素电极19的步骤。

步骤C：在像素电极19上，以与层间绝缘膜21的一部分接触的方式形成液晶取向膜(第一取向膜32)的步骤。

步骤D：将阵列基板15与相向基板16介隔包含光聚合性单体的液晶层而相向配置来构筑液晶单元的步骤。

步骤E：对液晶单元进行光照射的步骤。

在制造图1及图2所示的液晶装置10时，首先，在玻璃基板等透明基板18上，通过光刻法等公知的方法形成薄膜晶体管14、扫描信号线12、图像信号线13。继而，在透明基板18中的薄膜晶体管14及信号线的形成面上涂布层间绝缘膜形成用的感放射线性树脂组合物，从而形成层间绝缘膜21(步骤A)。

感放射线性树脂组合物的涂布方法并无特别限定，例如可采用喷雾法、辊涂法、旋涂法、狭缝涂布法、棒涂法、喷墨涂布法等适宜的方法。这些方法中，就可形成均匀厚度的膜的方面而言，优选为旋涂法或者狭缝涂布法。在感放射线性树脂组合物的涂布后，优选为对涂布面进行加热(预烘烤)，并视需要介隔具有规定的图案的光掩模对涂膜进行曝光，然后进行显影及后烘烤，由此获得作为硬化膜的层间绝缘膜21。关于形成层间绝缘膜21时的各种条件，例如可采用日本专利特开2015-92233号公报中记载的条件。

在接下来的步骤B中，在透明基板18中的在步骤A中形成的层间绝缘膜21上形成像素电极19。像素电极19是在使用溅镀法等公知的方法形成膜厚为50nm～200nm、更优选为100nm～150nm的ITO(铟锡氧化物)膜、氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)膜后，通过光刻法来图案化为鱼骨形状(也称为“梳齿形状”)。由此，在基板上形成鱼骨型的像素电极19而制作阵列基板15。

另外，与所述分开进行，在玻璃基板等透明基板28上，使用光刻法等公知的方法依序形成彩色滤光片层29、外涂层(省略图示)及共用电极31而制作相向基板16。

在接下来的步骤C中，首先，在形成有电极的基板上涂布液晶取向剂，优选为对涂布面进行加热，由此在基板上形成涂膜。对基板的液晶取向剂的涂布是在电极形成面上优选为通过平版印刷法、旋涂法、辊涂布机法、柔版印刷法或者喷墨印刷法进行。在涂布液晶取向剂后，出于防止所涂布的液晶取向剂的滴液等目的，优选为实施预加热(预烘烤)。预烘烤温度优选为30℃～200℃，预烘烤时间优选为0.25分钟～10分钟。其后，出于将溶剂完全除去、视需要将聚合物中存在的酰胺酸结构加以热酰亚胺化的目的而实施煅烧(后烘烤)步骤。此时的煅烧温度(后烘烤温度)优选为80℃～300℃，后烘烤时间优选为5分钟～200分钟。如此形成的膜的厚度优选为0.001μm～1μm。将液晶取向剂涂布于基板上之后，将有机溶媒去除，由此形成液晶取向膜或者成为液晶取向膜的涂膜。

此处，在层间绝缘膜21上，在形成有具有大量狭缝部19c的图案电极(像素电极19)的基板的电极形成面上涂布液晶取向剂。因此，液体状的液晶取向剂会经由狭缝部19c的开口而与层间绝缘膜21接触。形成于基板上的液晶取向膜(第一取向膜32)在液晶装置10的显示区域中经由狭缝部19c而与层间绝缘膜21接触。

再者，可将所述中所形成的涂膜直接用作液晶取向膜，也可施以赋予液晶取向能力的处理(取向处理)。作为取向处理，可列举：利用卷绕着包含例如尼龙(nylon)、人造丝(rayon)、棉(cotton)等纤维的布的辊对涂膜朝一定方向进行摩擦的摩擦处理、使用液晶取向剂对形成于基板上的涂膜进行光照射而对涂膜赋予液晶取向能力的光取向处理等。

在接下来的步骤D中，将依序形成有层间绝缘膜21、像素电极19及第一取向膜32的阵列基板15与依序形成有共用电极31及第二取向膜33的相向基板16以相互的取向膜形成面相向的方式配置。在阵列基板15与相向基板16之间配置混入了光聚合性单体的液晶层17，由此构筑液晶单元。

液晶层17例如通过以下方法而形成：在涂布有密封剂的其中一个基板上滴加或者涂布液晶组合物，其后贴合另一个基板的方法(滴下式注入(One Drop Filling，ODF)方式)；或者将隔着单元间隔而相向配置的一对基板的周缘部通过密封剂而贴合，在由基板表面及密封剂包围的单元间隔内注入、填充液晶组合物，然后将注入孔密封的方法等。优选为对于所获得的液晶单元，进而进行在加热直至所使用的液晶成为各向同性相的温度后缓慢冷却至室温的退火处理，由此将液晶填充时的流动取向去除。

作为光聚合性单体，就通过光的聚合性高的方面而言，可优选地使用具有两个以上(甲基)丙烯酰基的化合物。作为其具体例，例如可列举：具有联苯基结构的二(甲基)丙烯酸酯、具有苯基-环己基结构的二(甲基)丙烯酸酯、具有2,2-二苯基丙烷结构的二(甲基)丙烯酸酯、具有二苯基甲烷结构的二(甲基)丙烯酸酯、具有二苯基硫醚结构的二-硫代(甲基)丙烯酸酯等。光聚合性单体的调配比例优选为相对于液晶层17的形成中使用的液晶组合物的全体量而设为0.1质量％～0.5质量％。再者，作为光聚合性单体，可单独使用一种，也可将两种以上组合使用。

在接下来的步骤E中，对步骤B中所获得的液晶单元进行光照射。对液晶单元的光照射可在未对电极间施加电压的状态下进行，也可在施加有不会驱动液晶层17中的液晶分子的既定电压的状态下进行，或者在对电极间施加有可驱动液晶分子的既定电压的状态下进行。优选为在对一对基板所具有的电极间施加有电压的状态下进行光照射。所施加的电压例如可设为5V～50V的直流或交流。作为所照射的光，例如可使用包含150nm～800nm波长的光的紫外线及可见光线，优选为包含300nm～400nm波长的光的紫外线。关于光的照射方向，在所使用的放射线为直线偏光或部分偏光的情况下，可自垂直于基板面的方向进行照射，也可自倾斜方向进行照射，或者可将这些组合来进行照射。在照射非偏光的放射线的情况下，照射方向设为倾斜方向。

作为照射光的光源，例如可使用低压水银灯、高压水银灯、氘灯、金属卤化物灯、氩共振灯、氙灯、准分子激光等。再者，所述优选波长区域的紫外线可通过将光源与例如滤光片衍射光栅等并用的手段等而获得。作为光的照射量，优选为1,000J/m²～200,000J/m²，更优选为1,000J/m²～100,000J/m²。

然后，将偏光板36、偏光板37贴合于液晶单元的外侧表面，由此获得液晶装置10。作为偏光板36、偏光板37，可列举：由乙酸纤维素保护膜夹持被称为“H膜”的偏光膜而成的偏光板、或者包括H膜其本身的偏光板等，所述H膜是一边使聚乙烯醇延伸取向一边吸收碘而成。

在本实施方式中，使用含有特定溶剂作为溶剂成分的液晶取向剂形成了第一取向膜32。由此，即便在第一取向膜32经由狭缝部19c与层间绝缘膜21接触的情况下，也可获得可靠性优异的液晶装置10。获得此种效果的理由虽不确定，但作为一个理由，认为液晶取向剂的制备中所使用的特定溶剂对层间绝缘膜21带来的影响小，由此层间绝缘膜21的性能降低得到了抑制。尤其在PSA技术中，为了改善MVA模式的响应特性，例如形成数μm程度的微细条带状的电极图案。于在基板上形成有此种微细的电极图案的情况下，认为若因液晶取向剂与层间绝缘膜21接触而层间绝缘膜21膨润，从而膜的厚度稍有变化，则在像素电极19中也容易产生变形而招致元件性能的降低。关于所述方面，推测通过利用特定溶剂而层间绝缘膜21的膨润得到抑制，可极力减少对像素电极19的影响，由此可充分抑制元件性能的降低。另外也推测，在液晶取向剂与层间绝缘膜21接触的状态下可抑制杂质成分自层间绝缘膜21向液晶取向剂的溶出，由此可充分抑制元件性能的降低。

(第二实施方式)

接着，关于第二实施方式，以与第一实施方式的不同点为中心进行说明。在本实施方式中，于在阵列基板15上设置有彩色滤光片层的方面与所述第一实施方式不同。

图3为示意性地表示第二实施方式的元件结构的一部分的剖面图。与第一实施方式的液晶装置同样地，图3所示的液晶装置10具有阵列基板15与相向基板16介隔液晶层17相向配置的结构。阵列基板15在透明基板18上具有TFT 14、以及包括着色图案29a及层间绝缘膜29b而构成的彩色滤光片层29。着色图案29a包含以红色(R)、绿色(G)及蓝色(B)着色的子像素，且是通过光刻等公知的方法而制作。层间绝缘膜29b是使用第一实施方式中所说明的感放射线性树脂组合物而形成。所述层间绝缘膜29b是以保护着色图案29a并且形成显示出优异的特性的像素电极19为目的而设置。像素电极19配置于层间绝缘膜29b上。

所述情况下，也于在层间绝缘膜29b上形成有鱼骨形状的图案电极(像素电极19)的基板的电极形成面上形成第一取向膜32，因此第一取向膜32在狭缝部19c中会与层间绝缘膜29b接触。关于所述方面，通过使用所述液晶取向剂形成第一取向膜32，可获得可靠性优异的液晶装置10。

(其他实施方式)

·在所述第一实施方式中，将阵列基板15侧的像素电极19设为图案电极，且层间绝缘膜21与第一取向膜32在狭缝部19c中接触，但也可对相向电极16侧设置图案电极及层间绝缘膜，并使图案电极与层间绝缘膜在狭缝部中接触。

以上所详述的本发明的液晶装置10可有效地应用于各种用途，例如可用作时钟、可携式游戏、文字处理机、笔记本个人计算机、汽车导航系统、摄录机、个人数字助理(Personal Digital Assistant，PDA)、数字照相机、移动电话、智能手机、各种监视器、液晶电视、信息显示器等的各种显示装置、或调光装置等。

实施例

以下，基于实施例，对本发明的实施方式进行更详细的说明，但并不通过以下实施例来限定性地解释本发明。

在以下的例子中，利用以下方法来测定聚合物溶液中的聚酰亚胺的酰亚胺化率、聚合物溶液的溶液粘度、聚合物的重量平均分子量、及环氧当量。

[聚酰亚胺的酰亚胺化率]

将聚酰亚胺的溶液投入至纯水中，在将所获得的沉淀在室温下进行充分减压干燥后，溶解于氘化二甲基亚砜中，以四甲基硅烷为基准物质，在室温下测定¹H-核磁共振(Nuclear Magnetic Resonance，NMR)。根据所获得的¹H-NMR光谱，通过下述数式(1)求出酰亚胺化率[％]。

酰亚胺化率[％]＝(1-(A¹/(A²×α)))×100…(1)

(数式(1)中，A¹为在化学位移10ppn附近出现的源自NH基的质子的峰值面积，A²为源自其他质子的峰值面积，α为聚合物的前体(聚酰胺酸)中的其他质子相对于NH基的一个质子的个数比例)

[聚合物的重量平均分子量]

重量平均分子量为通过以下条件的凝胶渗透色谱法所测定的聚苯乙烯换算值。

管柱：东曹(股)制造、TSKgelGRCXLII

溶剂：四氢呋喃

温度：40℃

压力：68kgf/cm²

[环氧当量]

环氧当量是通过日本工业标准(Japanese Industrial Standards，JIS)C 2105中记载的盐酸-甲基乙基酮法进行测定。

示出以下例子中所使用的略号。再者，以下有时将式X所表示的化合物简单表示为“化合物X”。

[化8]

[化9]

[化10]

[化11]

1.感放射线性树脂组合物(层间绝缘膜形成用)的制备

(1)[Q]聚合物的合成

[合成例1：聚合物(Q-1)的合成]

在具备冷却管及搅拌机的烧瓶中，装入8质量份的2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)、及220质量份的二乙二醇甲基乙醚。继而，装入25质量份的甲基丙烯酸、45质量份的甲基丙烯酸3,4-环氧环己基酯、及30质量份的苯乙烯，进行氮气置换后，一边缓缓搅拌，一边使溶液的温度上升至70℃，将所述温度保持5小时来进行聚合，由此获得含有聚合物(Q-1)的溶液。聚合物(Q-1)的Mw为8000。

[合成例2：聚合物(Q-2)的合成]

在具备冷却管及搅拌机的烧瓶中，装入8质量份的2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)、及220质量份的二乙二醇甲基乙醚。继而，装入15质量份的甲基丙烯酸、40质量份的甲基丙烯酸3,4-环氧环己基酯、20质量份的苯乙烯、15质量份的甲基丙烯酸四氢糠酯、及10质量份的甲基丙烯酸正月桂酯，进行氮气置换后，一边缓缓搅拌，一边使溶液的温度上升至70℃，将所述温度保持5小时来进行聚合，由此获得含有聚合物(Q-2)的溶液。聚合物(Q-2)的Mw为8000。

[合成例3：聚合物(Q-3)的合成]

在具备冷却管及搅拌机的烧瓶中，装入8质量份的2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)、及220质量份的二乙二醇甲基乙醚。继而，装入40质量份的甲基丙烯酸缩水甘油酯、20质量份的4-(α-羟基六氟异丙基)苯乙烯、10质量份的苯乙烯、及30质量份的N-环己基马来酰亚胺，进行氮气置换后，一边缓缓搅拌，一边使溶液的温度上升至70℃，将所述温度保持5小时来进行聚合，由此获得含有聚合物(Q-3)的溶液。聚合物(Q-3)的Mw为8000。

(2)感放射线性树脂组合物的制备

[制备例1]

在所述合成例1中所获得的含有聚合物(Q-1)的溶液(聚合物(Q-1)相当于100质量份(固体成分)的量)中，加入20质量份的1,2-辛烷二酮1-[4-(苯硫基)-2-(O-苯甲酰基肟)](巴斯夫(BASF)公司制造艳佳固(Irgacure)(注册商标)OXE01)，进而加入100质量份的二季戊四醇五丙烯酸酯与二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物(卡亚拉得(KAYARAD)(注册商标)DPHA，日本化药公司制造)并加以混合。以固体成分浓度成为30质量％的方式加入二乙二醇乙基甲醚并使其溶解后，利用孔径0.2μm的膜滤器进行过滤，从而制备感放射线性树脂组合物(V-1)。

[制备例2～制备例4]

将配方组成变更为如下述表1所记载，除所述方面以外，以与制备例1相同的方式分别制备感放射线性树脂组合物(V-2)～感放射线性树脂组合物(V-4)。再者，在下述表1中，“-”是指未调配所述成分(以下的表中也同样如此)。

[表1]

表1中，化合物的简称如以下所示。

R-1：1,2-辛二酮1-[4-(苯硫基)-2-(O-苯甲酰基肟)](巴斯夫(BASF)公司制造，艳佳固(Irgacure)(注册商标)OXE01)

R-2：4,4'-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚(1.0摩尔)、与1,2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯(2.0摩尔)的缩合物

U-1：二季戊四醇五丙烯酸酯与二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物(卡亚拉德(KAYARAD)(注册商标)DPHA，日本化药公司制造)

2.聚合物的合成(液晶取向剂用)

[合成例5：聚合物(PI-1)的合成]

使作为四羧酸二酐的2,3,5-三羧基环戊基乙酸二酐100摩尔份、以及作为二胺的胆甾烷氧基-2,4-二氨基苯20摩尔份、3,5-二氨基苯甲酸50摩尔份、及化合物(d-8)30摩尔份溶解于N-甲基-2-吡咯烷酮(N-methyl-2-pyrrolidone，NMP)中，在室温下进行6小时反应，获得含有20质量％的聚酰胺酸的溶液。接着，向所获得的聚酰胺酸溶液中添加吡啶及乙酸酐，并进行化学酰亚胺化。将化学酰亚胺化后的反应溶液浓缩，以浓度成为10质量％的方式利用NMP进行制备。所获得的聚酰亚胺(设为聚合物(PI-1))的酰亚胺化率为约75％。

[合成例6～合成例8]

将所使用的四羧酸二酐及二胺的种类及量变更为如下述表2所述，除此以外，以与合成例5相同的方式合成聚酰亚胺(聚合物(PI-2)～聚合物(PI-4))。再者，表2中，括弧内的数值表示各化合物相对于聚合物的合成中所使用的四羧酸二酐的合计100摩尔份而言的使用比例[摩尔份]。

[合成例9：聚合物(PAA-1)的合成]

使作为四羧酸二酐的2,3,5-三羧基环戊基乙酸二酐70摩尔份、及1,2,3,4-环丁烷四羧酸二酐30摩尔份、以及作为二胺的胆甾烷氧基-2,4-二氨基苯20摩尔份、化合物(d-12)30摩尔份、4,4'-二氨基二苯基甲烷40摩尔份、及4,4'-[4,4'-丙烷-1,3-二基双(哌啶-1,4-二基)]二苯胺10摩尔份溶解于NMP中，在室温下进行6小时反应，获得含有20质量％的聚酰胺酸的溶液。将此处所获得的聚酰胺酸设为聚合物(PAA-1)。

[合成例10]

将所使用的四羧酸二酐及二胺的种类及量变更为如下述表2所述，除此以外，以与合成例9相同的方式合成聚酰胺酸(将其设为聚合物(PAA-2))。

[表2]

[合成例11]

在具备搅拌机、温度计、滴加漏斗及回流冷却管的反应容器中装入100g的化合物(s-1)、500g的甲基异丁基酮、及10g的三乙基胺，在室温下加以混合。接着，花30分钟，自滴加漏斗中滴加100g的去离子水后，在回流下一边搅拌一边以80℃进行6小时反应。在反应结束后，取出有机层，通过0.2质量％硝酸铵水溶液进行清洗至清洗后的水成为中性为止后，在减压下蒸馏去除溶媒及水，由此以粘稠的透明液体的形式获得反应性聚有机硅氧烷(ESSQ-1)。对所述反应性聚有机硅氧烷进行了¹H-NMR分析，结果确认到在化学偏移(δ)＝3.2ppm附近可获得基于环氧基的峰值，反应过程中未发生环氧基的副反应。所获得的反应性聚有机硅氧烷(ESSQ-1)的重量平均分子量Mw为3000，环氧当量为190g/摩尔。

[合成例12、合成例13]

将所使用的单体的种类及量变更为如下述表3所述，除此以外，以与合成例11相同的方式合成反应性聚有机硅氧烷(聚合物(ESSQ-2)及聚合物(ESSQ-3))。再者，表3中，括弧内的数值表示各化合物相对于聚合物的合成中所使用的单体的合计100摩尔份而言的使用比例[摩尔份]。

[表3]

[合成例14]

在500mL的三口烧瓶中装入反应性聚有机硅氧烷(ESSQ-1)10.0g、作为溶媒的甲基异丁基酮300g、作为改性成分的化合物(c-1)16g及化合物(c-3)16g、以及作为催化剂的UCAT 18X(商品名，三亚普罗(San-Apro)(股份)制造)0.10g，在100℃下搅拌48小时以进行反应。反应结束后，在反应混合物中加入乙酸乙酯，将所获得的溶液水洗3次，使用硫酸镁将有机层进行干燥后，蒸馏去除溶剂，由此获得含有聚合性基的聚有机硅氧烷(PSQ-1)75g。所获得的聚合物的重量平均分子量Mw为6000。

[合成例15、合成例16]

将所使用的反应性聚有机硅氧烷及改性成分的种类及量变更为如下述表4所述，除此以外，以与合成例14相同的方式合成含有聚合性基的聚有机硅氧烷(聚合物(PSQ-2)及聚合物(PSQ-3))。表4中，括弧内的数值表示各化合物相对于聚合物的合成中所使用的单体的合计100摩尔份而言的使用比例[摩尔份]。

[表4]

3.液晶取向剂及液晶显示元件的评价

[实施例1]

(1)液晶取向剂的制备

在含有聚合物(PI-1)作为聚合物成分的溶液中，以成为聚合物(PI-1)：聚合物(PSQ-1)＝95：5(质量比)的方式加入聚合物(PSQ-1)，进而加入作为溶剂的NMP、二乙二醇二乙醚(Diethylene Glycol Diethyl Ether，DEDG)及二丙酮醇(Diacetone Alcohol，DAA)并充分进行搅拌，制成溶媒组成为NMP：DEDG：DAA＝50：30：20(质量比)、固体成分浓度为6.5质量％的溶液。使用孔径1μm的过滤器对所述溶液进行过滤，由此制备液晶取向剂(W-1)。

(2)液晶组合物(LC-1)的制备

相对于向列液晶(默克(Merck)公司制造，MLC-6608)10g，以相对于液晶组合物的所有构成成分的总量而成为0.3质量％的方式添加下述式(RM-1)所表示的化合物并加以混合，由此获得液晶组合物(LC-1)。

[化12]

(3)液晶显示元件的制造

使用旋转器，在玻璃基板(“康宁(Corning)7059”(康宁(Corning)公司制造))上涂布感放射线性树脂组合物(V-1)，然后在90℃的洁净烘箱内进行10分钟预烘烤而分别在玻璃基板上形成膜厚2.0μm的涂膜。继而，使用UV(紫外)曝光机(拓普康深紫外线(TOPCONDeep-UV)曝光机TME-400PRJ)，经由图案掩模来照射100mJ的UV光。然后，使用2.38质量％的浓度的氢氧化四甲基铵水溶液(显影液)，利用覆液法，在25℃下进行100秒的显影处理。显影处理后，以超纯水进行1分钟涂膜的流水清洗，使其干燥而在基板上形成经图案化的涂膜后，在烘箱中以230℃进行30分钟加热(后烘烤)而使其硬化。接着，使用佳能(Canon)(股份)制造的PLA-501F曝光机(超高压水银灯)，不经由光掩模，以500J/m²的曝光量对各涂膜的整个面进行曝光。然后，在230℃下进行30分钟后烘烤而使各涂膜硬化，从而形成层间绝缘膜。

接着，在形成有层间绝缘膜的玻璃基板上，形成经图案化为鱼骨状的ITO电极。本实施例中，将ITO电极的电极图案设为线/空间＝3.5μm/3.5μm的鱼骨状。将此处所使用的ITO电极的电极图案示于图4。另外，通过进行同样的操作而准备包括不具有图案的ITO电极的玻璃基板。所述一对基板中，在包括不具有图案的ITO电极的玻璃基板的电极侧表面形成3.5μm柱间隙物。

接着，在一对基板各自的电极形成面上旋涂液晶取向剂(W-1)后，在80℃的热板上加热(预烘烤)1分钟而去除溶媒，然后在230℃的热板上加热(后烘烤)15分钟，从而形成平均膜厚为100nm的涂膜。对所述涂膜，在超纯水中进行1分钟超声波清洗后，在100℃的洁净烘箱中进行10分钟干燥，从而获得具有液晶取向膜的一对基板。

接着，在包括经图案化的ITO电极的玻璃基板的ITO面的外缘，涂布放入了直径为5.5μm的氧化锆球的环氧树脂接着剂，然后在环氧树脂接着剂的内侧的面上滴加6点(纵2点×横3点，各点的间隔设为上下左右为10mm，各点的涂布量设为0.6mg)液晶组合物(LC-1)。将所述基板与另一片玻璃基板以相对的方式重合压接，并使接着剂硬化而制造液晶单元。对所获得的液晶单元，依照后述的“PSA工艺-1”进行紫外线照射及退火，由此制作评价用液晶单元。

(PSA工艺-1)

对于液晶单元，在电极间施加频率为60Hz的交流20Vpp，在液晶受到驱动的状态下，使用将金属卤化物灯用作光源的紫外线照射装置，照射80mW的紫外线50秒钟。继而，在未施加电压的状态下，使用将金属卤化物灯用作光源的紫外线照射装置，照射3.5mW的紫外线30分钟。最后，将液晶单元放入120℃的洁净烘箱中10分钟来进行退火。再者，照射量是使用以波长365nm基准测量的光量计而测量的值。

(4)电压保持率(VHR)的评价

将所述(3)中所制造的评价用液晶单元放置于恒温槽中，在60℃下以60微秒的施加时间、167毫秒的跨度施加5V的电压后，利用东阳特克尼卡(Toyo Technica)公司制造的“VHR-1”来测定自施加解除起167毫秒后的电压保持率(VHR)。此时，将VHR为96％以上的情况评价为“非常良好(◎)”，将为93％以上、小于96％的情况评价为“良好(○)”，将为90％以上、小于93％的情况评价为“可(△)”，将为90％以下的情况评价为“不良(×)”。其结果，所述实施例中VHR＝97％，为“非常良好(◎)”的评价。

[实施例2～实施例22、比较例1、比较例2]

将所使用的聚合物以及溶剂的种类及量如下述表5中记载那样进行变更，除此以外，进行与所述相同的操作而分别制备液晶取向剂。另外，除将层间绝缘膜的制作中使用的感放射线性树脂组合物变更为下述表5所示的组合物的方面、及使用各例中所制备的液晶取向剂来制作液晶取向膜的方面以外，以与所述相同的方式制造评价用液晶单元，并且使用所获得的评价用液晶单元进行电压保持率的评价。将其结果示于下述表5中。

[表5]

表5中，聚合物栏的括弧内的数值表示各聚合物相对于液晶取向剂的制备中使用的聚合物成分的合计100质量份而言的调配比例[质量份]。溶剂组成栏的数值表示各化合物相对于液晶取向剂的制备中使用的溶剂的总体100质量份而言的调配比例[质量份]。溶剂的简称如以下所述(下述表6中也同样如此)。

NMP：N-甲基-2-吡咯烷酮

NEP：N-乙基-2-吡咯烷酮

DMI：1,3-二甲基-2-咪唑烷酮

EQM：3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺

BC：丁基溶纤剂

DEDG：二乙二醇二乙醚

PGDAc：丙二醇二乙酸酯

DPM：二丙二醇单甲醚

DAA：二丙酮醇

PG：丙二醇单丁醚

DIPE：二异戊基醚

如表5所示，在使用包含特定溶剂的液晶取向剂来形成液晶取向膜的实施例1～实施例22中，可获得与使用不包含特定溶剂的液晶取向剂来形成液晶取向膜的比较例1、比较例2相比可靠性优异的液晶显示元件。这些中，使用包含[A]溶剂与[B]溶剂的液晶取向剂的实施例1～实施例18为“非常良好”的评价而尤其优异。

进而，在所述实施例1～实施例22中，将玻璃基板所具有的ITO电极的图案变更为图5所示的图案，除此以外，以与所述相同的方式制造液晶显示元件来进行评价，结果在任一实施例中均获得了与所述相同的效果。

[实施例23]

(1)ITO配线变形的评价

将N-乙基-2-吡咯烷酮(NEP)及二乙二醇二乙醚(DEDG)混合并充分进行搅拌，制备溶剂组成为NEP：DEDG＝50：50(质量比)的评价用溶剂(Z-1)。

另外，通过进行与所述实施例1的(3)相同的操作而准备在层间绝缘膜上配有包含ITO的图案电极的玻璃基板。将所述玻璃基板在80℃的评价用溶剂(Z-1)中浸渍30分钟，并利用下述所示的基准对层间绝缘膜的膨润程度及ITO电极的变形程度进行评价。在与液晶取向剂的溶剂成分接触的情况下，层间绝缘膜的膨润越小且电极的变形越小，则所述溶剂对层间绝缘膜及ITO电极带来的影响越小，越可担保液晶元件的可靠性，因此可以说作为液晶取向剂的溶剂而优选。其结果，所述实施例为“A”的评价。

(评价基准)

A：无层间绝缘膜的膨润且无电极的异常

B：可见层间绝缘膜的膨润，但电极无异常

C：因层间绝缘膜的膨润而有电极的变形等轻微的异常

D：因层间绝缘膜的膨润而有电极的断线等严重的异常

[实施例24～实施例44、比较例3、比较例4]

将溶剂组成、及所使用的感放射线性树脂组合物的种类如下述表6那样进行变更，除此以外，进行与所述相同的操作，并对各溶剂进行ITO配线变形的评价。将其结果示于下述表6中。

[表6]

根据表6的结果，在使用特定溶剂的实施例23～实施例44中，未见层间绝缘膜的膨润或者即便产生膨润但其程度小且未见电极的异常。根据这些结果可知，根据特定溶剂，即便于在微细条带状的电极图案上形成液晶取向膜的情况下，电极的形状也不易变化，可担保液晶元件的可靠性。

符号的说明

1：ITO电极

2：狭缝部

3：遮光膜

10：液晶装置

14：薄膜晶体管

15：阵列基板

16：相向基板

17：液晶层

19：像素电极

19c：狭缝部

21：层间绝缘膜

29：彩色滤光片层

29a：着色图案

29b：层间绝缘膜

31：共用电极

32：第一取向膜

33：第二取向膜

34、35：PSA层(取向控制层)

Claims (15)

1.一种液晶元件的制造方法，所述液晶元件包括相向配置的一对基板、配置于所述一对基板间的液晶层、以及一对电极，其中

所述一对电极中的至少一者为具有多个开口部的图案电极，

所述液晶元件的制造方法包括：在所述一对基板中的至少一者形成层间绝缘膜的步骤；

在所述层间绝缘膜上形成所述图案电极的步骤；以及

在所述图案电极上，以与所述层间绝缘膜的至少一部分接触的方式形成液晶取向膜的步骤，

使用含有聚合物成分、以及选自下述所示的溶剂群组中的至少一种溶剂的液晶取向剂来形成所述液晶取向膜，

溶剂群组：

[A]溶剂：下述式(1)所表示的化合物、下述式(2)所表示的化合物、N,N,2-三甲基丙酰胺、及1,3-二甲基-2-咪唑烷酮；

[B]溶剂：二丙二醇单甲醚、二丙二醇二甲醚、二乙二醇单乙醚、4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮、4-羟基-2-丁酮、2-甲基-2-己醇、2,6-二甲基-4-庚醇、二异丁基酮、丙二醇二乙酸酯、二乙二醇二乙醚、二异戊基醚、二丙酮醇、及丙二醇单丁醚；

[化1]

(式(1)中，R¹为碳数2～5的一价烃基、或者在所述烃基中的碳-碳键间具有“-O-”的一价基；)

[化2]

(式(2)中，R²及R³分别独立地为氢原子、碳数1～6的一价烃基、或者在所述烃基的碳-碳键间具有“-O-”的一价基，R²与R³可相互键结而形成环结构；R⁴为碳数1～6的烷基)。

2.根据权利要求1所述的液晶元件的制造方法，还包括以下步骤：通过将所述液晶层中所混入的光聚合性单体聚合，在所述液晶层中的各基板侧的界面形成控制所述液晶的取向的取向控制层。

3.根据权利要求1或2所述的液晶元件的制造方法，其中所述液晶取向剂含有所述[A]溶剂的至少一种、以及所述[B]溶剂的至少一种。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的液晶元件的制造方法，其中所述液晶取向剂含有[P]聚合物，所述[P]聚合物为选自由聚酰胺酸、聚酰胺酸酯、聚酰亚胺及聚有机硅氧烷所组成的群组中的至少一种。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的液晶元件的制造方法，其中所述液晶取向剂含有[p]聚合物，所述[p]聚合物为选自由聚酰胺酸、聚酰胺酸酯及聚酰亚胺所组成的群组中的至少一种，

所述[p]聚合物具有源自四羧酸衍生物的部分结构，所述四羧酸衍生物具有选自由环丁烷环、环戊烷环及环己烷环所组成的群组中的至少一种环结构。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的液晶元件的制造方法，其中所述液晶取向剂含有以下聚合物：所述聚合物具有选自由自由基聚合性基、光引发剂基、自由基聚合抑制剂基、含氮的杂环(其中，聚酰亚胺所具有的酰亚胺环除外)、氨基、及经保护的氨基所组成的群组中的至少一种。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的液晶元件的制造方法，其中所述液晶取向剂含有具有下述式(3)所表示的部分结构的聚合物：

*-L¹-R¹¹-R¹²-R¹³-R¹⁴ …(3)

(式(3)中，L¹为-O-、-CO-、-COO-*¹、-OCO-*¹、-NR¹⁵-、-NR¹⁵-CO-*¹、-CO-NR¹⁵-*¹、碳数1～6的烷烃二基、-O-R¹⁶-*¹、或者-R¹⁶-O-*¹(其中，R¹⁵为氢原子或者碳数1～10的一价烃基，R¹⁶为碳数1～3的烷烃二基；“*¹”表示与R¹¹的结合键)；R¹¹及R¹³分别独立地为单键、亚苯基或者亚环烷基，R¹²为单键、亚苯基、亚环烷基、-R¹⁷-B¹-*²、或者-B¹-R¹⁷-*²(其中，R¹⁷为亚苯基或者亚环烷基，B¹为-COO-*³、-OCO-*³、或者碳数1～3的烷烃二基；“*²”表示与R¹³的结合键，“*³”表示与R¹⁷的结合键)；R¹⁴为氢原子、氟原子、碳数1～18的烷基、碳数1～18的氟烷基、碳数1～18的烷氧基、碳数1～18的氟烷氧基、或者具有类固醇骨架的碳数17～51的烃基，也可具有自由基聚合性基或者光引发剂基；其中，在R¹⁴为氢原子、氟原子或者碳数1～3的基团的情况下，R¹¹、R¹²及R¹³不会全部为单键；“*”表示结合键)。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的液晶元件的制造方法，其中在形成所述层间绝缘膜的基板上形成有液晶驱动用元件及彩色滤光片层。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的液晶元件的制造方法，其中所述层间绝缘膜是使用含有[Q]聚合物以及[R]感光剂的感放射线性树脂组合物而形成。

10.根据权利要求9所述的液晶元件的制造方法，其中所述[Q]聚合物具有选自由氧杂环丁基、氧杂环丙基、(甲基)丙烯酰基及乙烯基所组成的群组中的至少一种。

11.根据权利要求9或10所述的液晶元件的制造方法，其中所述[R]感光剂为选自由光自由基聚合引发剂、光酸产生剂、及光碱产生剂所组成的群组中的至少一种。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的液晶元件的制造方法，其中所述[Q]聚合物为含有具有酸性基的第一结构单元、具有氧杂环丁基或者氧杂环丙基的第二结构单元、以及形成与所述第一结构单元及所述第二结构单元不同主链结构的第三结构单元的聚合物。

13.根据权利要求12所述的液晶元件的制造方法，其中所述第一结构单元为源自选自由(甲基)丙烯酸及不饱和羧酸酐所组成的群组中的至少一种化合物的结构单元。

14.根据权利要求12或13所述的液晶元件的制造方法，其中所述第二结构单元为源自选自由(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯、4-羟基丁基(甲基)丙烯酸酯缩水甘油醚、及3-(甲基)丙烯酰基氧基甲基-3-乙基氧杂环丁烷所组成的群组中的至少一种化合物的结构单元。

15.根据权利要求12至14中任一项所述的液晶元件的制造方法，其中所述第三结构单元为源自选自由苯乙烯、α-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、及4-羟基苯乙烯所组成的群组中的至少一种化合物的结构单元。

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