CN110970336B - 一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置 - Google Patents

一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置 Download PDF

Info

Publication number
CN110970336B
CN110970336B CN201811133840.XA CN201811133840A CN110970336B CN 110970336 B CN110970336 B CN 110970336B CN 201811133840 A CN201811133840 A CN 201811133840A CN 110970336 B CN110970336 B CN 110970336B
Authority
CN
China
Prior art keywords
electric push
push rod
piezoelectric ceramic
frame
substrate processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201811133840.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN110970336A (zh
Inventor
何龙
施小罗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hunan Jiayeda Electronics Co ltd
Original Assignee
Hunan Jiayeda Electronics Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hunan Jiayeda Electronics Co ltd filed Critical Hunan Jiayeda Electronics Co ltd
Priority to CN201811133840.XA priority Critical patent/CN110970336B/zh
Publication of CN110970336A publication Critical patent/CN110970336A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110970336B publication Critical patent/CN110970336B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742—Mechanical parts of transfer devices
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/01—Manufacture or treatment

Abstract

本发明公开了一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，包括超声波清洗机、风干框、风扇机、高温高压老化烤箱、控温操作面板、导轨、地面、圆杆、承载方板、条形侧板、清洗控制面板、支撑板、第一电动推杆、方体斗框、长方体框、第二电动推杆、圆弧条框、U型长板、第三电动推杆、网格板、单槽轮和伺服电机。本发明设计合理，实现了快速有序上料的功能，保证了待处理压电陶瓷基片摆放的整齐性，提高了工作效率，结构紧凑，实现将清洗的压电陶瓷基片全部取出的功能，适用于对批量压电陶瓷基片的清洗，运行稳定，具有驱动移动的功能，保证了处理操作的快速连续性，有利于将待老化处理的压电陶瓷基片快速移至放入烤箱内。

Description

一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置
技术领域
本发明涉及一种压电陶瓷基片处理装置，具体是一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，属于压电元件应用技术领域。
背景技术
压电元器件利用材料的压电效应制成的器件，大多数压电器件的结构由电极、压电片、支架和外壳组成，其中压电片可以是圆片、长条片、棒、圆柱等形状，压电器件的应用范围很广，当电信号频率接近压电片的固有频率时，压电器件靠逆压电效应产生机械谐振，谐振频率主要决定于压电片的尺寸和形状，且为提高压电元件电极的结合力，一般会对部分采用压电陶瓷基片进行相应的处理。
在对较多大批量的压电陶瓷基片进行清洗、老化处理时，存在因压电陶瓷基片较小而不便于很好的整齐放置的问题，工作人员摆放工作量较大，且上料放置较慢，大批量的压电陶瓷基片在清洗时存在放入取出的不便性，待清洗压电陶瓷基片完毕时，需要将压电陶瓷基片搬运至老化处理的烤箱内，且距离较长，人工推至牵拉承载结构较费力，不利于提高工作效率。因此，针对上述问题提出一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置。
发明内容
本发明的目的就在于为了解决上述问题而提供一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置。
本发明通过以下技术方案来实现上述目的，一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，包括超声波清洗机、高温高压老化烤箱、支撑板、放料机构、升降机构和移动机构，所述超声波清洗机一侧的地面上安装有支撑板，且超声波清洗机另一侧的地面上安装有风干框，所述高温高压老化烤箱位于风干框一侧，且风干框内壁两侧安装有多个风扇机，所述放料机构包括方体斗框、长方体框、第二电动推杆、圆弧条框和第一电动推杆，所述方体斗框底部端口安装在长方体框顶部端口，且长方体框两侧底部中间位置活动安装有第二电动推杆一端，所述长方体框顶部端口两侧活动安装有两个圆弧条框，且圆弧条框外侧圆弧面中部活动安装在第二电动推杆的伸缩杆一端，所述第一电动推杆的伸缩杆一端安装在长方体框一侧表面中部，所述升降机构包括第三电动推杆、圆杆、承载方板和条形侧板，所述承载方板放置在超声波清洗机内底部，且承载方板顶部四角处均垂直安装有圆杆，所述圆杆一端通过连接杆与对应的第三电动推杆的伸缩杆一端连接，所述承载方板顶部等距安装有多组条形侧板，且每组设有两个所述条形侧板，每组两个所述条形侧板垂直对称安装在承载方板顶部表面，所述移动机构包括U型长板、导轨、单槽轮和伺服电机，所述导轨设有两个，且两个所述导轨平行位于超声波清洗机两侧，所述U型长板内对称安装有两个单槽轮，且U型长板通过单槽轮与对应的导轨滚动连接，所述U型长板一侧安装有伺服电机，且伺服电机的轴杆安装在单槽轮一侧的轴杆一端，所述U型长板顶部垂直对称安装有两个第三电动推杆。
优选的，所述第一电动推杆安装在支撑板一侧顶部，且第一电动推杆的伸缩杆一端穿过支撑板内侧表面。
优选的，所述承载方板顶部每组的两个条形侧板之间对称竖直安装有两个网格板，且两个所述网格板之间的距离大于压电陶瓷基片的厚度。
优选的，所述长方体框的端口宽度等于一个压电陶瓷基片的厚度。
优选的，所述圆弧条框为圆筒的四分之一结构，且两个所述圆弧条框之间展开的宽度等于压电陶瓷基片的厚度。
优选的，所述导轨部分位于风干框内底部的地面上，且其中一个导轨一侧的地面上等距放置有多个高温高压老化烤箱。
优选的，所述超声波清洗机一侧安装有清洗控制面板，且超声波清洗机的放置端口为长方形结构。
优选的，所述高温高压老化烤箱一侧安装有控温操作面板，且高温高压老化烤箱内部放置空间大于承载方板与条形侧板形成的立体空间。
优选的，所述第一电动推杆、第二电动推杆及第三电动推杆分别安装有对应的编码器，且第一电动推杆、第二电动推杆及第三电动推杆分别通过导电线与外接电源电性连接。
优选的，所述连接杆两端分别与第三电动推杆的伸缩杆一端螺栓连接及圆杆一端螺栓连接，且第三电动推杆的伸缩杆一端和圆杆一端均开设有连接孔。
本发明的有益效果是：
1.该种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置设计合理，实现了快速有序上料的功能，保证了待处理压电陶瓷基片摆放的整齐性，提高了工作效率。
2.该种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置结构紧凑，实现将清洗的压电陶瓷基片全部取出的功能，适用于对批量压电陶瓷基片的清洗。
3.该种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置运行稳定，具有驱动移动的功能，保证了处理操作的快速连续性，有利于将待老化处理的压电陶瓷基片快速移至放入烤箱内。
附图说明
图1为本发明整体结构示意图；
图2为本发明超声波清洗机的俯视图；
图3为本发明条形侧板与网格板连接结构示意图；
图4为本发明U型长板和导轨连接结构示意图。
图中：1、超声波清洗机，2、风干框，3、风扇机，4、高温高压老化烤箱，5、控温操作面板，6、导轨，7、地面，8、圆杆，9、承载方板，10、条形侧板，11、清洗控制面板，12、支撑板，13、第一电动推杆，14、方体斗框，15、长方体框，16、第二电动推杆，17、圆弧条框，18、U型长板，19、第三电动推杆，20、网格板，21、单槽轮，22、伺服电机。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-4所示，一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，包括超声波清洗机1、高温高压老化烤箱4、支撑板12、放料机构、升降机构和移动机构，所述超声波清洗机1一侧的地面7上安装有支撑板12，且超声波清洗机1另一侧的地面7上安装有风干框2，所述高温高压老化烤箱4位于风干框2一侧，且风干框2内壁两侧安装有多个风扇机3，所述放料机构包括方体斗框14、长方体框15、第二电动推杆16、圆弧条框17和第一电动推杆13，所述方体斗框14底部端口安装在长方体框15顶部端口，且长方体框15两侧底部中间位置活动安装有第二电动推杆16一端，所述长方体框15顶部端口两侧活动安装有两个圆弧条框17，且圆弧条框17外侧圆弧面中部活动安装在第二电动推杆16的伸缩杆一端，所述第一电动推杆13的伸缩杆一端安装在长方体框15一侧表面中部，所述升降机构包括第三电动推杆19、圆杆8、承载方板9和条形侧板10，所述承载方板9放置在超声波清洗机1内底部，且承载方板9顶部四角处均垂直安装有圆杆8，所述圆杆8一端通过连接杆与对应的第三电动推杆19的伸缩杆一端连接，所述承载方板9顶部等距安装有多组条形侧板10，且每组设有两个所述条形侧板10，每组两个所述条形侧板10垂直对称安装在承载方板9顶部表面，所述移动机构包括U型长板18、导轨6、单槽轮21和伺服电机22，所述导轨6设有两个，且两个所述导轨6平行位于超声波清洗机1两侧，所述U型长板18内对称安装有两个单槽轮21，且U型长板18通过单槽轮21与对应的导轨6滚动连接，所述U型长板18一侧安装有伺服电机22，且伺服电机22的轴杆安装在单槽轮21一侧的轴杆一端，所述U型长板18顶部垂直对称安装有两个第三电动推杆19。
所述第一电动推杆13安装在支撑板12一侧顶部，且第一电动推杆13的伸缩杆一端穿过支撑板12内侧表面，通过安装在支撑板12上的第一电动推杆13，达到推动长方体框15及其连接部分移至承载方板9顶部的效果；所述承载方板9顶部每组的两个条形侧板10之间对称竖直安装有两个网格板20，且两个所述网格板20之间的距离大于压电陶瓷基片的厚度，达到承载压电陶瓷基片的效果，且单层分布；所述长方体框15的端口宽度等于一个压电陶瓷基片的厚度，有利于压电陶瓷基片逐渐滑落掉出；所述圆弧条框17为圆筒的四分之一结构，且两个所述圆弧条框17之间展开的宽度等于压电陶瓷基片的厚度，便于圆形状的压电陶瓷基片滑落进入对应的两个网格板20之间；所述导轨6部分位于风干框2内底部的地面7上，且其中一个导轨6一侧的地面7上等距放置有多个高温高压老化烤箱4，适用于批量对压电陶瓷基片的清洗；所述超声波清洗机1一侧安装有清洗控制面板11，且超声波清洗机1的放置端口为长方形结构，便于设置相关清洗参数；所述高温高压老化烤箱4一侧安装有控温操作面板5，且高温高压老化烤箱4内部放置空间大于承载方板9与条形侧板10形成的立体空间，便于将承载有压电陶瓷基片的承载方板9放入高温高压老化烤箱4内进行老化处理；所述第一电动推杆13、第二电动推杆16及第三电动推杆19分别安装有对应的编码器，且第一电动推杆13、第二电动推杆16及第三电动推杆19分别通过导电线与外接电源电性连接，有利于通过编码器控制相关电动推杆的运行状态及伸缩量；所述连接杆两端分别与第三电动推杆19的伸缩杆一端螺栓连接及圆杆8一端螺栓连接，且第三电动推杆19的伸缩杆一端和圆杆8一端均开设有连接孔，有利于对应的第三电动推杆19的伸缩杆一端与对应的圆杆8一端连接固定。
本发明在使用时，在对压电元件进行提高电极结合力的处理过程中需要对压电陶瓷基片进行清洗老化处理，所以首先将较多的圆形状的压电陶瓷基片放置在方体斗框14内，且部分单个压电陶瓷基片滑落位于长方体框15内，然后通过启动与内置编码器及外接电源电性连接的第一电动推杆13推动长方体框15及其连接部分向前移动，待长方体框15底部端口位于第一组条形侧板10之间顶部中间位置时，通过启动与内置编码器及外接电源电性连接的第二电动推杆16处于收缩状态，使得第二电动推杆16牵动对应的圆弧条框17，向外侧展开，通过两个圆弧条框17之间展开，使得长方体框15内的压电陶瓷基片单层竖直放置在每组条形侧板10的两个网格板20之间，待该组条形侧板10之间装满压电陶瓷基片时，再使两个圆弧条框17闭合，且移至下一组条形侧板10顶部，通过上述的操作有序地将其他两个条形侧板10之间装满压电陶瓷基片，从而实现了快速有序上料的功能，保证了待处理压电陶瓷基片摆放的整齐性，提高了工作效率；
当上料装载完毕时，通过将装载压电陶瓷基片的承载方板9全部浸入超声波清洗机1内，从而达到清洗的效果，待清洗完毕后，通过启动与内置编码器及外接电源电性连接的第三电动推杆19处于伸展状态，使得相连接的承载方板9上升至超声波清洗机1内端口顶部，从而实现将清洗的压电陶瓷基片全部取出的功能，适用于对批量压电陶瓷基片的清洗；
当需要清洗好的压电陶瓷基片进行老化处理时，通过启动与内置控制器及外接电源的伺服电机22带动U型长板18内对应的单槽轮21滚动，使得U型长板18及其连接部分向风干框2内部移动，并通过启动风干框2内安装的风扇机3产生风，使得潮湿的压电陶瓷基片表面风干，然后再移至导轨6一侧对应的其中一个高温高压老化烤箱4面前，再将装满有压电陶瓷基片的承载方板9放入高温高压老化烤箱4，烤至三百度，通过更换承载方板9及上述的操作运行方式，将下一组装满压电陶瓷基片的承载方板9移至另一个高温高压老化烤箱4并装入箱内，具有驱动移动的功能，保证了处理操作的快速连续性，有利于将待老化处理的压电陶瓷基片快速移至放入烤箱内。
第一电动推杆13和第三电动推杆19均采用秦艺电机官方电提供的电动推杆TS-LD及其配套电源和电路。
第二电动推杆16采用上海舜拓电机有限公司提供的电动推杆ANT-35及其配套电源和电路。
伺服电机22采用良荣电机淘宝旗舰店提供的伺服电机LRF90型号及其配套电源和电路。
涉及到电路和电子元器件和模块均为现有技术，本领域技术人员完全可以实现，无需赘言，本发明保护的内容也不涉及对于软件和方法的改进。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的得同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (9)

1.一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：包括超声波清洗机(1)、高温高压老化烤箱(4)、支撑板(12)、放料机构、升降机构和移动机构，所述超声波清洗机(1)一侧的地面(7)上安装有支撑板(12)，且超声波清洗机(1)另一侧的地面(7)上安装有风干框(2)，所述高温高压老化烤箱(4)位于风干框(2)一侧，且风干框(2)内壁两侧安装有多个风扇机(3)；
所述放料机构包括方体斗框(14)、长方体框(15)、第二电动推杆(16)、圆弧条框(17)和第一电动推杆(13)，所述方体斗框(14)底部端口安装在长方体框(15)顶部端口，且长方体框(15)两侧底部中间位置活动安装有第二电动推杆(16)一端，所述长方体框(15)顶部端口两侧活动安装有两个圆弧条框(17)，且圆弧条框(17)外侧圆弧面中部活动安装在第二电动推杆(16)的伸缩杆一端，所述第一电动推杆(13)的伸缩杆一端安装在长方体框(15)一侧表面中部；
所述升降机构包括第三电动推杆(19)、圆杆(8)、承载方板(9)和条形侧板(10)，所述承载方板(9)放置在超声波清洗机(1)内底部，且承载方板(9)顶部四角处均垂直安装有圆杆(8)，所述圆杆(8)一端通过连接杆与对应的第三电动推杆(19)的伸缩杆一端连接，所述承载方板(9)顶部等距安装有多组条形侧板(10)，且每组设有两个所述条形侧板(10)，每组两个所述条形侧板(10)垂直对称安装在承载方板(9)顶部表面；
所述移动机构包括U型长板(18)、导轨(6)、单槽轮(21)和伺服电机(22)，所述导轨(6)设有两个，且两个所述导轨(6)平行位于超声波清洗机(1)两侧，所述U型长板(18)内对称安装有两个单槽轮(21)，且U型长板(18)通过单槽轮(21)与对应的导轨(6)滚动连接，所述U型长板(18)一侧安装有伺服电机(22)，且伺服电机(22)的轴杆安装在单槽轮(21)一侧的轴杆一端，所述U型长板(18)顶部垂直对称安装有两个第三电动推杆(19)；所述第一电动推杆(13)安装在支撑板(12)一侧顶部，且第一电动推杆(13)的伸缩杆一端穿过支撑板(12)内侧表面。
2.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述承载方板(9)顶部每组的两个条形侧板(10)之间对称竖直安装有两个网格板(20)，且两个所述网格板(20)之间的距离大于压电陶瓷基片的厚度。
3.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述长方体框(15)的端口宽度等于一个压电陶瓷基片的厚度。
4.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述圆弧条框(17)为圆筒的四分之一结构，且两个所述圆弧条框(17)之间展开的宽度等于压电陶瓷基片的厚度。
5.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述导轨(6)部分位于风干框(2)内底部的地面(7)上，且其中一个导轨(6)一侧的地面(7)上等距放置有多个高温高压老化烤箱(4)。
6.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述超声波清洗机(1)一侧安装有清洗控制面板(11)，且超声波清洗机(1)的放置端口为长方形结构。
7.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述高温高压老化烤箱(4)一侧安装有控温操作面板(5)，且高温高压老化烤箱(4)内部放置空间大于承载方板(9)与条形侧板(10)形成的立体空间。
8.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述第一电动推杆(13)、第二电动推杆(16)及第三电动推杆(19)分别安装有对应的编码器，且第一电动推杆(13)、第二电动推杆(16)及第三电动推杆(19)分别通过导电线与外接电源电性连接。
9.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述连接杆两端分别与第三电动推杆(19)的伸缩杆一端螺栓连接及圆杆(8)一端螺栓连接，且第三电动推杆(19)的伸缩杆一端和圆杆(8)一端均开设有连接孔。
CN201811133840.XA 2018-09-27 2018-09-27 一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置 Active CN110970336B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811133840.XA CN110970336B (zh) 2018-09-27 2018-09-27 一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811133840.XA CN110970336B (zh) 2018-09-27 2018-09-27 一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110970336A CN110970336A (zh) 2020-04-07
CN110970336B true CN110970336B (zh) 2022-05-03

Family

ID=70026624

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811133840.XA Active CN110970336B (zh) 2018-09-27 2018-09-27 一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110970336B (zh)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6062119A (en) * 1998-01-29 2000-05-16 Micron Electronics, Inc. Method for handling and manipulating microelectronic components
CN104979439A (zh) * 2015-07-09 2015-10-14 绍兴文理学院 一种多行组合滚动式固晶机
CN105161446A (zh) * 2015-10-16 2015-12-16 深圳市华龙精密模具有限公司 半导体mgp塑封模全自动高效排放料饼设备
CN205194662U (zh) * 2015-10-16 2016-04-27 深圳市华龙精密模具有限公司 半导体mgp塑封模全自动高效排放料饼设备
CN106971972A (zh) * 2017-02-27 2017-07-21 王松 一种pcb分板移动搬运机构
CN107086191A (zh) * 2017-04-25 2017-08-22 无锡明祥电子有限公司 引线框架自动装片机
CN207021238U (zh) * 2017-08-18 2018-02-16 佛山市蓝箭电子股份有限公司 半导体测试分选机用的自动上料装置
CN208209852U (zh) * 2018-03-30 2018-12-07 江苏仟略信息技术有限公司 一种太阳能电池板安装装置
CN208271832U (zh) * 2018-02-11 2018-12-21 浙江捷莱光电科技有限公司 一种led封装烘箱用放置架

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6062119A (en) * 1998-01-29 2000-05-16 Micron Electronics, Inc. Method for handling and manipulating microelectronic components
CN104979439A (zh) * 2015-07-09 2015-10-14 绍兴文理学院 一种多行组合滚动式固晶机
CN105161446A (zh) * 2015-10-16 2015-12-16 深圳市华龙精密模具有限公司 半导体mgp塑封模全自动高效排放料饼设备
CN205194662U (zh) * 2015-10-16 2016-04-27 深圳市华龙精密模具有限公司 半导体mgp塑封模全自动高效排放料饼设备
CN106971972A (zh) * 2017-02-27 2017-07-21 王松 一种pcb分板移动搬运机构
CN107086191A (zh) * 2017-04-25 2017-08-22 无锡明祥电子有限公司 引线框架自动装片机
CN207021238U (zh) * 2017-08-18 2018-02-16 佛山市蓝箭电子股份有限公司 半导体测试分选机用的自动上料装置
CN208271832U (zh) * 2018-02-11 2018-12-21 浙江捷莱光电科技有限公司 一种led封装烘箱用放置架
CN208209852U (zh) * 2018-03-30 2018-12-07 江苏仟略信息技术有限公司 一种太阳能电池板安装装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN110970336A (zh) 2020-04-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN206869936U (zh) 一种切割效果好的薄膜切割设备
CN108642833B (zh) 一种方便衣物叠放的烫平装置
CN110970336B (zh) 一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置
CN106625077B (zh) 一种木材打磨装置
CN107053280A (zh) 一种切割效果好的薄膜切割设备
CN110202055A (zh) 一种五金冲压用连续模具
JPH10300348A (ja) 高周波乾燥装置
CN109622509A (zh) 半导体晶圆清洗设备
CN212431574U (zh) 一种纺织材料用烘干设备
CN107806746A (zh) 一种纸箱纸板储存干燥架
CN210616858U (zh) 一种改进型陶瓷自动滚压成型机
CN211739773U (zh) 一种集成电路板烘干装置
CN106946002A (zh) 一种木材搬运装置
CN208887317U (zh) 一种水泥生产用的烘干装置
CN208120205U (zh) 一种堆垛机器人
CN207358245U (zh) 一种风机设备加工用切割装置
CN218498029U (zh) 一种单晶硅片的清洗装置
CN220449632U (zh) 一种汽车热成型钢制搬运结构
CN115716069B (zh) 一种全自动碳氢真空超声波清洗设备
CN213747559U (zh) 一种箱体甩干全自动流水线
CN220255642U (zh) 一种便于批量固定的香菇加工用烘干机
CN213811397U (zh) 一种前丛板坐生产用焊条烘干机
CN220331522U (zh) 一种砖坯压制定型装置
CN218155531U (zh) 一种高温烧结炉进料结构
CN219766196U (zh) 一种氮化硅陶瓷基板的清洗装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant