CN110854291A - 一种显示面板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示面板及其制备方法，显示面板包括显示区和围绕所述显示区的非显示区；以及阵列基板和彩膜基板，相对设置；封装结构，所述封装结构包括第一粘接层，设于所述阵列基板朝向所述彩膜基板的一面，且从所述显示区延伸至所述非显示区；第二粘接层，设于所述彩膜基板朝向所述阵列基板的一面，且从所述显示区延伸至所述非显示区；所述第一粘接层与所述第二粘接层相互粘接；吸水层，设于所述第一粘接层和所述第二粘接层之间，所述吸水层位于所述非显示区且围绕所述显示区。粘接层在全波段(380‑780nm)的平均透过率大于98％，从而在满足顶发光对透过率要求的同时提高封装层的寿命。

Description

一种显示面板及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示面板技术领域，特别涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
量子点(QD)是一种无机纳米级半导体材料，通过对其施加一定的光压和电场，它便会发出特定频率的光，而发出的光的频率会随着量子点的尺寸的改变而变化，因而通过精准控制量子点的尺寸就可以发出非常纯的RGB三原色，从而显著提高色域。OLED拥有自发光、超轻薄、响应速度快、宽视角等特性，蓝光OLED器件是理想的量子点激发光源。因此量子点与蓝光OLED的结合(QD-BOLED)制作的面板将同时拥有量子点与OLED的优点，从而提升产品性能。但量子点和OLED都容易受水汽影响，必须进行封装，需要开发新的封装方法和结构来对QD-BOLED显示面板进行封装。
目前底发光大尺寸OLED显示面板的主要封装方式主要有面贴合封装、边框胶、吸湿剂、填充胶封装。对于现有的用于底发光的面贴合封装胶材来说，其结构分为两层，第一层为吸水层，里面含有金属氧化物颗粒作为吸水的干燥剂，其粒径为1-6um左右，第二层为缓冲层，主要是起粘接基板，吸收冲击保护OLED发光层的作用。很明显，现有的面贴合封装胶材无法用于顶发光的OLED中，因为吸水层含有干燥剂颗粒，透过率小于5％，无法满足顶发光对透过率大于98％的要求。目前的解决方案是将微米级别的干燥剂颗粒替换为纳米级别的干燥剂颗粒，或将不透光的干燥剂替换为透光的干燥剂颗粒，虽然这两种方法透过率都能满足要求，但封装层寿命无法达到量产水平。
因此，确有必要来开发一种新型的显示面板的封装方法，以克服现有技术的缺陷。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种显示面板，其能够解决现有技术中面贴合封装胶材无法用于顶发光的OLED中的问题。
为实现上述目的，本发明还提供一种显示面板，包括显示区和围绕所述显示区的非显示区；以及阵列基板和彩膜基板，相对设置；封装结构，所述封装结构包括第一阻水层，设于所述阵列基板朝向所述彩膜基板的一面，且从所述显示区延伸至所述非显示区；第一粘接层，设于所述第一阻水层上；第二阻水层，设于所述彩膜基板朝向所述阵列基板的一面，且从所述显示区延伸至所述非显示区；第二粘接层，设于所述第二阻水层上，所述第一粘接层与所述第二粘接层相互粘接；吸水层，设于所述第一粘接层和所述第二粘接层之间，所述吸水层位于所述非显示区且围绕所述显示区。
进一步的，在其他实施方式中，其中，所述吸水层靠近非显示区一侧的边缘与所述第一粘接层和第二粘接层的边缘齐平。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述吸水层朝向非显示区一侧的边缘位于所述第一粘接层和第二粘接层的边缘内侧。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述吸水层采用压敏型或热敏型的胶材。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述吸水层的厚度为10-30um，所述第一粘接层和第二粘接层的厚度均为10-50um，所述吸水层的厚度小于所述第一粘接层和第二粘接层的厚度总和的一半。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述吸水层中分散有若干干燥剂颗粒，所述干燥剂颗粒采用金属氧化物或吸水分子筛中的一种，所述干燥剂颗粒的粒径<6um。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述第一粘接层和所述第二粘接层的透光率大于98％。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述阵列基板包括薄膜晶体管结构层；蓝光OLED器件层，设于所述薄膜晶体管结构层上，且位于所述显示区；其中第一阻水层，完全包覆所述蓝光OLED器件层，所述第一阻水层的边缘位于所述第一粘接层边缘的内侧。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述彩膜基板包括盖板；RGB色阻和黑色光阻层，设于所述盖板上，且位于所述显示区；阻挡层，包覆所述RGB色阻和黑色光阻层；像素定义层，设于所述阻挡层上，在所述显示区，所述像素定义层中具有若干开口；量子点层，设于所述开口中；所述第二阻水层完全包覆所述量子点层、所述像素定义层和所述RGB色阻和黑色光阻层；其中所述第二无机阻水层的边缘位于所述第二粘接层边缘的内侧。
本发明还提供一种制备方法，用以制备本发明涉及的所述显示面板，包括显示区和围绕所述显示区的非显示区，制备方法包括以下步骤：提供一彩膜基板；制备第二阻水层于所述彩膜基板上；提供一封装层，将所述封装层贴合在所述彩膜基板上；所述封装层包括第二粘接层；吸水层，设于非显示区的所述第一粘接层上；第一粘接层，设于所述第一粘接层和所述非显示区的吸水层上；其中将所述第二粘接层黏贴在所述第二阻水层上；提供一阵列基板；制备第一阻水层于所述阵列基板上；将所述第一粘接层黏贴在所第一阻水层上；固化所述封装层。
相对于现有技术，本发明的有益效果在于：本发明提供一种显示面板及其制备方法，在非显示区的两个粘接层之间设置吸水层，吸水层的外边缘与粘接层的外边缘齐平或在粘接层的外边缘的内侧，粘接层在全波段(380-780nm)的平均透过率大于98％，从而在满足顶发光对透过率要求的同时提高封装层的寿命。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的流程图；
图3为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S11时的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S12时的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S13时的结构示意图；
图6为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S14时的结构示意图；
图7为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S2时的结构示意图；
图8为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S3时的结构示意图；
图9为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S41时的结构示意图；
图10为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S42时的结构示意图；
图11为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S5时的结构示意图；
图12为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S6时的结构示意图。
具体实施方式中的附图标记：
显示面板-100； 阵列基板-10；
封装结构-20； 彩膜基板-30；
封装层-40；
第一阻水层-21； 第一粘接层-22；
第二阻水层-23； 第二粘接层-24；
吸水层25；
薄膜晶体管结构层-11； 蓝光OLED器件层-12；
盖板-31； RGB色阻-32；
黑色光阻层-33； 阻挡层-34；
像素定义层-35； 量子点层-36。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
这里所公开的具体结构和功能细节仅仅是代表性的，并且是用于描述本发明的示例性实施例的目的。但是本发明可以通过许多替换形式来具体实现，并且不应当被解释成仅仅受限于这里所阐述的实施例。
请参阅图1所示，图1为本发明提供的显示面板100的结构示意图，包括显示区和围绕所述显示区的非显示区；以及阵列基板10、彩膜基板30和封装结构20。
阵列基板10和彩膜基板30相对设置，封装结构20设于阵列基板10和彩膜基板30之间。
阵列基板10包括薄膜晶体管结构层11和设于薄膜晶体管结构层11上的蓝光OLED器件层12，蓝光OLED器件层12位于所述显示区。具体地讲，薄膜晶体管结构11包括衬底基板、设置于衬底基板上的缓冲层、设置于缓冲层上的有源层、设置于有源层上的栅极平坦化层、设置于栅极平坦化层上的栅极层、设置于栅极层上的源漏极层、设置于源漏极层上的保护层、设置于保护层上的像素电极层，薄膜晶体管结构11中具有若干阵列排布的子像素，每一子像素包括所述有源层、所述栅极平坦化层、所述栅极层以及所述源漏极层。本案的设计要点在封装结构20，故对于薄膜晶体管结构11的具体结构就不再一一赘述。
彩膜基板30包括盖板31、RGB色阻32、黑色光阻层33、阻挡层34、像素定义层35、量子点层-36。RGB色阻32和黑色光阻层33相互间隔地设于盖板31上，且位于所述显示区；阻挡层34设于RGB色阻32和黑色光阻层33上且包覆RGB色阻32和黑色光阻层33；像素定义层35设于阻挡层34上，在所述显示区；像素定义层35中具有若干开口，量子点层36设于所述开口中。
封装结构20包括第一阻水层21、第一粘接层22、第二阻水层23、第二粘接层24和吸水层25。第一阻水层21设于阵列基板10朝向彩膜基板30的一面，且从所述显示区延伸至所述非显示区；其中第一阻水层21完全包覆蓝光OLED器件层12；第一粘接层22设于第一阻水层21上，且完全包覆第一阻水层21，进一步地提高显示面板的封装效果。
第二阻水层23设于彩膜基板30朝向阵列基板10的一面，且从所述显示区延伸至所述非显示区；第二阻水层23完全包覆量子点层36、像素定义层35和RGB色阻32和黑色光阻层33；第二粘接层24设于第二阻水层23上且完全包覆第二阻水层23。
第一粘接层22与第二粘接层24相互粘接；吸水层25设于第一粘接层22和第二粘接层24之间，吸水层25位于所述非显示区且围绕所述显示区。在本实施例中，吸水层25朝向非显示区一侧的边缘位于第一粘接层22和第二粘接层24的边缘内侧。
在其他实施方式中，吸水层25靠近非显示区一侧的边缘与第一粘接层22和第二粘接层的边缘齐平。
在本实施例中，吸水层25采用压敏型或热敏型的胶材。
其中吸水层25的厚度为10-30um，第一粘接层22和第二粘接层24的厚度均为10-50um，吸水层25的厚度小于第一粘接层22和第二粘接层24的厚度总和的一半。其中第一粘接层22和第二粘接层24的透光率大于98％，满足顶发光对透过率要求的同时提高封装层的寿命。
吸水层25中分散有若干干燥剂颗粒，所述干燥剂颗粒采用金属氧化物或吸水分子筛中的一种，所述干燥剂颗粒的粒径<6um。
本发明还提供一种制备方法，用以制备本发明涉及的显示面板100，包括显示区和围绕所述显示区的非显示区，制备方法包括以下步骤S1-S6。请参阅图2，图2所示为本发明实施例提供的显示面板100的制备方法的流程图。
步骤S1：提供一彩膜基板30；步骤S1包括步骤S11-S14。
步骤S11：提供一盖板31；请参阅图3所示，图3为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S11时的结构示意图。
步骤S12：制备RGB色阻32和黑色光阻层33；请参阅图4所示，图4为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S12时的结构示意图。
步骤S13：制备阻挡层34在RGB色阻32和黑色光阻层33上，制备像素定义层35在阻挡层34上；请参阅图5所示，图5为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S13时的结构示意图。
其中像素定义层35具有若干开口。
步骤S14：填充量子点层36于像素定义层35的开口中；请参阅图6所示，图6为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S14时的结构示意图。
步骤S2：制备第二阻水层23于彩膜基板30上；请参阅图7所示，图7为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S2时的结构示意图。
其中第二阻水层23完全包覆量子点层36、像素定义层35和RGB色阻32和黑色光阻层33。
步骤S3：提供一封装层40，将封装层40贴合在彩膜基板30上；请参阅图8所示，图8为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S3时的结构示意图。
其中封装层40包括第一粘接层22、第二粘接层24和吸水层25。第一粘接层22与第二粘接层24相互粘接；吸水层25设于第一粘接层22和第二粘接层24之间，吸水层25位于所述非显示区且围绕所述显示区。在本实施例中，吸水层25朝向非显示区一侧的边缘位于第一粘接层22和第二粘接层24的边缘内侧。
其中是将第二粘接层24黏贴在第二阻水层23上，第二粘接层24完全包覆第二阻水层23。
步骤S4：提供一阵列基板10；步骤S4包括步骤S41-S42。步骤S41：提供一薄膜晶体管结构层11，请参阅图9所示，图9为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S41时的结构示意图。
步骤S42：制备蓝光蓝光OLED器件层12于薄膜晶体管结构层11上，请参阅图10所示，图10为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S42时的结构示意图。
其中蓝光OLED器件层12位于显示区内。
步骤S5：制备第一阻水层21于阵列基板10上；请参阅图11所示，图11为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S5时的结构示意图。
其中第一阻水层21位于蓝光OLED器件层12上且完全包覆蓝光OLED器件层12。
步骤S6：将第一粘接层22黏贴在第一阻水层21上，固化封装层40；请参阅图12所示，图12为本发明实施例提供的显示面板的制备方法步骤S5时的结构示意图。
其中第一粘接层22完全包覆第一阻水层21。
相对于现有技术，本发明的有益效果在于：本发明提供一种显示面板及其制备方法，在非显示区的两个粘接层之间设置吸水层，吸水层的外边缘与粘接层的外边缘齐平或在粘接层的外边缘的内侧，粘接层在全波段(380-780nm)的平均透过率大于98％，从而在满足顶发光对透过率要求的同时提高封装层的寿命。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括显示区和围绕所述显示区的非显示区；以及
阵列基板和彩膜基板，相对设置；封装结构，所述封装结构包括
第一阻水层，设于所述阵列基板朝向所述彩膜基板的一面，且从所述显示区延伸至所述非显示区；
第一粘接层，设于所述第一阻水层上；
第二阻水层，设于所述彩膜基板朝向所述阵列基板的一面，且从所述显示区延伸至所述非显示区；
第二粘接层，设于所述第二阻水层上，所述第一粘接层与所述第二粘接层相互粘接；
吸水层，设于所述第一粘接层和所述第二粘接层之间，所述吸水层位于所述非显示区且围绕所述显示区。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述吸水层靠近非显示区一侧的边缘与所述第一粘接层和第二粘接层的边缘齐平。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述吸水层朝向非显示区一侧的边缘位于所述第一粘接层和第二粘接层的边缘内侧。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述吸水层采用压敏型或热敏型的胶材。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述吸水层的厚度为10-30um，所述第一粘接层和第二粘接层的厚度均为10-50um，所述吸水层的厚度小于所述第一粘接层和第二粘接层的厚度总和的一半。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述吸水层中分散有若干干燥剂颗粒，所述干燥剂颗粒采用金属氧化物或吸水分子筛中的一种，所述干燥剂颗粒的粒径<6um。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一粘接层和所述第二粘接层的透光率大于98％。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括薄膜晶体管结构层；
蓝光OLED器件层，设于所述薄膜晶体管结构层上，且位于所述显示区；
其中第一阻水层，完全包覆所述蓝光OLED器件层，所述第一粘接层完全包覆所述第一阻水层。
9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述彩膜基板包括盖板；
RGB色阻和黑色光阻层，设于所述盖板上，且位于所述显示区；
阻挡层，包覆所述RGB色阻和黑色光阻层；
像素定义层，设于所述阻挡层上，在所述显示区，所述像素定义层中具有若干开口；
量子点层，设于所述开口中；所述第二阻水层完全包覆所述量子点层、所述像素定义层和所述RGB色阻和黑色光阻层；其中所述第二粘接层完全包覆所述第二无机阻水层。
10.一种制备方法，用以制备如权利要求1-9任一项所述的显示面板，包括显示区和围绕所述显示区的非显示区，其特征在于，包括以下步骤：
提供一彩膜基板；
制备第二阻水层于所述彩膜基板上；
提供一封装层，将所述封装层贴合在所述彩膜基板上；所述封装层包括
第二粘接层；
吸水层，设于非显示区的所述第一粘接层上；
第一粘接层，设于所述第一粘接层和所述非显示区的吸水层上；
其中将所述第二粘接层黏贴在所述第二阻水层上；
提供一阵列基板；
制备第一阻水层于所述阵列基板上；
将所述第一粘接层黏贴在所第一阻水层上；
固化所述封装层。
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CN113193132A (zh) * 2021-04-26 2021-07-30 睿馨（珠海）投资发展有限公司 一种量子点oled发光器件、显示装置及其制备方法

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