CN110796949A - 一种显示基板、其制作方法及母板、显示面板、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示基板、其制作方法及母板、显示面板、显示装置，包括：衬底基板，在衬底基板上依次设置的无机膜层、平坦层和阳极；其中，衬底基板具有显示区域，包围显示区域的切割区域，以及位于显示区域与切割区域之间的过渡区域；阳极设置于显示区域内；无机膜层覆盖衬底基板且在切割区域被减薄处理；过渡区域的无机膜层上具有源漏极金属残留；平坦层至少设置于显示区域和过渡区域且包覆源漏极金属残留。通过设置平坦层包覆源漏极金属残留，使得后续在制作阳极的过程中，平坦层可将源漏极金属残留与刻蚀液中的阳极金属离子(例如Ag+)隔离开，从而避免了由源漏极金属残留与阳极金属离子发生置换反应所生成的阳极金属造成的显示不良。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板、其制作方法及母板、显示面板、显示装置。
背景技术
相关技术中，一般通过在母板上制作多个显示基板，并采用激光切割母板以获得显示基板。通常的设计是在切割区域使用一薄层无机膜层如硅的氮氧化合物来保护衬底基板，防止激光烧焦衬底基板的表面。并通过对无机膜层进行减薄，以防切割过程中造成无机膜层裂开。然而，减薄处理后的无机膜层存在一定的高度差，再进行后续工艺段如源漏极金属(Ti/Al/Ti)的蒸镀与刻蚀时，在无机膜层的台阶处会具有源漏极金属的残留。而后续在阳极(Ag/ITO/Ag)的湿法刻蚀工艺的过程中，游离的Ag+会与残留的源漏极金属中的Al发生置换反应，置换出Ag单质，Ag单质被刻蚀液带到显示区域，造成显示不良。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供一种显示基板、其制作方法及母板、显示面板、显示装置，用以提高显示品质。
因此，本发明实施例提供的一种显示基板，包括：衬底基板，在所述衬底基板上依次设置的无机膜层、平坦层和阳极；其中，
所述衬底基板具有显示区域，包围所述显示区域的切割区域，以及位于所述显示区域与所述切割区域之间的过渡区域；
所述阳极设置于所述显示区域内；
所述无机膜层覆盖所述衬底基板，且所述无机膜层在所述切割区域被减薄处理；
所述过渡区域的所述无机膜层上具有源漏极金属残留；
所述平坦层至少设置于所述显示区域和所述过渡区域，且所述平坦层包覆所述源漏极金属残留。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述平坦层在所述衬底基板上的正投影与所述显示区域和所述过渡区域完全重叠，并与所述切割区域部分重叠。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述切割区域的所述无机膜层包括刻蚀阻挡层，所述显示区域和所述过渡区域的所述无机膜层包括在所述衬底基板上依次层叠设置的所述刻蚀阻挡层、缓冲层、第一绝缘层和第二绝缘层。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述刻蚀阻挡层在所述切割区域的厚度小于其在所述显示区域和所述过渡区域的厚度。
基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法，包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上整面涂覆无机材料层，并对切割区域的所述无机材料层进行减薄处理，形成无机膜层；
在所述无机膜层上形成位于显示区域的源漏极，以及位于过渡区域的源漏极金属残留；
在所述源漏极所在层上形成平坦层，所述平坦层包覆所述源漏极金属残留，且所述平坦层在所述切割区域断开；
在所述平坦层上依次整面涂覆阳极材料层和光刻胶层；
对所述阳极材料层进行曝光显影、湿法刻蚀，形成位于所述显示区域的阳极；
沿所述切割区域对所述衬底基板进行切割，获得所述显示基板。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，在所述衬底基板上涂覆无机材料层，并对切割区域的所述无机材料层进行减薄处理，具体包括：
在所述衬底基板上依次整面涂覆形成刻蚀阻挡层、缓冲层、第一绝缘层和第二绝缘层；
采用第一刻蚀掩膜板对所述切割区域的所述第一绝缘层和所述第二绝缘层进行刻蚀后，再采用第二刻蚀掩膜板对所述切割区域的所述缓冲层和所述刻蚀阻挡层进行刻蚀，形成所述无机膜层。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，在所述源漏极所在层上形成平坦层，具体包括：
在所述源漏极所在层上整面涂覆有机材料层；
对所述有机材料层进行曝光显影，形成包覆所述源漏金属残留且在所述切割区域断开的所述平坦层。
基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种母板，包括：多个阵列排布的上述显示基板；
各所述显示基板的平坦层相互独立，相邻两个所述显示基板的无机膜层相互连接。
基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种显示面板，包括上述显示基板。
基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种显示装置，包括：上述显示面板。
本发明有益效果如下：
本发明实施例提供的一种显示基板、其制作方法及母板、显示面板、显示装置，包括：衬底基板，在衬底基板上依次设置的无机膜层、平坦层和阳极；其中，衬底基板具有显示区域，包围显示区域的切割区域，以及位于显示区域与切割区域之间的过渡区域；阳极设置于显示区域内；无机膜层覆盖衬底基板，且无机膜层在切割区域被减薄处理；过渡区域的无机膜层上具有源漏极金属残留；平坦层至少设置于显示区域和过渡区域，且平坦层包覆源漏极金属残留。通过设置平坦层包覆源漏极金属残留，使得后续在制作阳极的过程中，平坦层可将源漏极金属残留与刻蚀液中的阳极金属离子(例如Ag+)隔离开，从而避免了由源漏极金属残留与阳极金属离子发生置换反应所生成的阳极金属造成的显示不良，提供了显示品质。
附图说明
图1为本发明实施例提供的显示基板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的显示基板的制作方法流程图；
图3为图2所示制作方法中各步骤对应显示基板的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的母板的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“内”、“外”、“上”、“下”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
下面结合附图，对本发明实施例提供的显示基板、其制作方法及母板、显示面板、显示装置的具体实施方式进行详细地说明。附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本公开内容。
本发明实施例提供的一种显示基板，如图1所示，包括：衬底基板101，在衬底基板101上依次设置的无机膜层102、平坦层103和阳极(图中未示出)；其中，
衬底基板101具有显示区域A，包围显示区域A的切割区域B，以及位于显示区域A与切割区域B之间的过渡区域C；
阳极(图中未示出)设置于显示区域A内；
无机膜层102覆盖衬底基板101，且无机膜层102在切割区域B被减薄处理；
过渡区域C的无机膜层102上具有源漏极金属残留P；
平坦层103至少设置于显示区域A和过渡区域C，且平坦层103包覆源漏极金属残留P。
在本发明实施例提供的上述显示基板中，通过设置平坦层103包覆源漏极金属残留P，使得后续在制作阳极(图中未示出)的过程中，平坦层103可将源漏极金属残留P与刻蚀液中的阳极金属离子(例如Ag+)隔离开，从而避免了由源漏极金属残留P与阳极金属离子发生置换反应所生成的阳极金属造成的显示不良，提高了显示品质。
可选地，在本发明实施例提供的上述显示基板中，衬底基板101可以是柔性衬底基板，例如由聚乙烯醚邻苯二甲酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、多芳基化合物、聚醚酰亚胺、聚醚砜或聚酰亚胺等具有优良的耐热性和耐久性的塑料基板；还可以是刚性衬底基板，例如玻璃基板，在此不做限定。
无机膜层102的材料可以为氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧化铅、五氧化二钽、二氧化锆、氧化铝等高介电常数材料、介电材料、其他适用的材料或其组合，在此不做限定。
平坦层103的材料可以为聚丙烯酸树脂、聚环氧丙烯酸树脂、感光性聚酰亚胺树脂、聚酯丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯树脂、酚醛环氧压克力树脂等有机绝缘材料，在此不做限定。
相关技术中，显示基板一般还包括驱动电路，并会在切割前显示基板所在母板上设置与驱动电路通过相互独立的多条走线连接的测试单元。该测试单元在显示基板所包含背板膜层工艺完成后，对驱动电路进行检测是否存在短路或断路等问题，检测完成后测试单元会被切除。再进行后续阳极工艺的过程中，在坡面及台阶处会具有阳极金属的残留，该残留会造成切除测试单元的切割线处的走线与走线之间短路。
为解决该问题，在本发明实施例提供的上述显示基板中，如图1所示，平坦层103在衬底基板101上的正投影与显示区域A和过渡区域C完全重叠，并与切割区域B部分重叠。也就是说，平坦层103会覆盖无机膜层102的台阶和坡面，这样，在阳极材料层进行刻蚀时，可以有效避免在无机膜层102的台阶及坡面留下阳极金属，从而可防止切除测试单元的切割线处的走线与走线之间短路。
可选地，在本发明实施例提供的上述显示基板中，切割区域B的无机膜层102包括刻蚀阻挡层1021，显示区域A和过渡区域C的无机膜层102包括在衬底基板101上依次层叠设置的刻蚀阻挡层1021、缓冲层1022、第一绝缘层1023和第二绝缘层1024。并且，无机膜层102被减薄处理后，使得刻蚀阻挡层1021在切割区域B的厚度小于其在显示区域A和过渡区域C的厚度。
基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法，如图2所示，包括如下步骤，并且图3示出了各步骤对应显示基板的结构示意图：
S201、提供一衬底基板101。
S202、在衬底基板上整面涂覆无机材料层，并对切割区域的无机材料层进行减薄处理，形成无机膜层102；
具体地，步骤S202可通过以下方式进行实现：
在衬底基板101上依次整面涂覆形成刻蚀阻挡层1021、缓冲层1022、第一绝缘层1023和第二绝缘层1024；
采用第一刻蚀掩膜板(EBA Mask)对切割区域B的第一绝缘层1023和第二绝缘层1024进行刻蚀后，再采用第二刻蚀掩膜板(EBB Mask)对切割区域B的缓冲层1022和刻蚀阻挡层1021进行刻蚀，形成无机膜层102。
S203、在无机膜层102上形成位于显示区域A的源漏极(图中未示出)，以及位于过渡区域C的源漏极金属残留P。
S204、在源漏极所在层上形成平坦层103，平坦层103包覆源漏极金属残留P，且平坦层103在切割区域B断开；
具体地，步骤S204可通过以下方式进行实现：
在源漏极所在层上整面涂覆有机材料层；
对有机材料层进行曝光显影，形成包覆源漏金属残留P且在切割区域B断开的平坦层103；可选地，平坦层103覆盖无机膜层102的台阶和坡面。
S205、在平坦层103上依次整面涂覆阳极材料层104和光刻胶层；
S206、对阳极材料层104进行曝光显影、湿法刻蚀，形成位于显示区域A的阳极(图中未示出)；
S207、沿切割区域B对衬底基板101进行切割，获得显示基板。
在本发明实施例提供的上述制作方法中，所形成的平坦层103包覆源漏极金属残留P，使得后续在制作阳极的过程中，平坦层103可将源漏极金属残留P与刻蚀液中的阳极金属离子(例如Ag+)隔离开，从而避免了由源漏极金属残留P与阳极金属离子发生置换反应所生成的阳极金属造成的显示不良，提高了显示品质。此外，平坦层103覆盖无机膜层102的台阶和坡面，这样，在阳极层进行刻蚀时，可以有效避免在台阶及坡面上留下阳极金属，从而可防止切除测试(Array Test)单元404的切割线处的走线与走线之间短路。
需要说明的是，在本发明实施例提供的上述制作方法中，形成各层结构涉及到的构图工艺，不仅可以包括沉积、光刻胶涂覆、掩模板掩模、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等部分或全部的工艺过程，还可以包括其他工艺过程，具体以实际制作过程中形成所需构图的图形为准，在此不做限定。例如，在显影之后和刻蚀之前还可以包括后烘工艺。
其中，沉积工艺可以为化学气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积法或物理气相沉积法，在此不做限定；掩膜工艺中所用的掩膜板可以为半色调掩膜板(Half ToneMask)、单缝衍射掩模板(Single Slit Mask)或灰色调掩模板(Gray Tone Mask)，在此不做限定；刻蚀可以为干法刻蚀或者湿法刻蚀，在此不做限定。
基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种母板，如图4所示，包括：多个阵列排布的上述显示基板；
各显示基板的平坦层103相互独立，相邻两个显示基板的无机膜层102相互连接。
具体地，本发明实施例提供的显示基板，如图4所示，可以包括：显示元件401、连接端子(Pad)402和驱动电路403；其中，显示元件401用于显示画面，驱动电路403用于通过连接端子(Pad)402为显示元件401提供驱动信号。
可选地，在本发明实施例提供了一种母板中，如图4所示，还可以包括：测试(ArrayTest)单元404，用于在显示基板所包含的背板(BP)膜层工艺完成后，通过走线405对驱动电路进行检测是否有断路或短路等问题。在实际显示基板中，不包含测试(Array Test)单元404，即测试(Array Test)单元404在后续工艺中会被切除掉。平坦层103会覆盖无机膜层102的台阶和坡面，这样，在阳极层进行刻蚀时，可以有效避免在台阶及坡面上留下阳极金属，从而可防止切除测试(Array Test)单元404的切割线处的走线与走线之间短路。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的上述显示基板，由于该显示面板解决问题的原理与上述显示基板解决问题的原理相似，因此，该显示面板的实施可以参见上述显示基板的实施例，重复之处不再赘述。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示面板，该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪、智能手表、健身腕带、个人数字助理等任何具有显示功能的产品或部件。由于该显示装置解决问题的原理与上述显示面板解决问题的原理相似，因此，该显示装置的实施可以参见上述显示面板的实施例，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的一种显示基板、其制作方法及母板、显示面板、显示装置，包括：衬底基板，在衬底基板上依次设置的无机膜层、平坦层和阳极；其中，衬底基板具有显示区域，包围显示区域的切割区域，以及位于显示区域与切割区域之间的过渡区域；阳极设置于显示区域内；无机膜层覆盖衬底基板，且无机膜层在切割区域被减薄处理；过渡区域的无机膜层上具有源漏极金属残留；平坦层至少设置于显示区域和过渡区域，且平坦层包覆源漏极金属残留。通过设置平坦层包覆源漏极金属残留，使得后续在制作阳极的过程中，平坦层可将源漏极金属残留与刻蚀液中的阳极金属离子(例如Ag+)隔离开，从而避免了由源漏极金属残留与阳极金属离子发生置换反应所生成的阳极金属造成的显示不良，提高了显示品质。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板，在所述衬底基板上依次设置的无机膜层、平坦层和阳极；其中，
所述衬底基板具有显示区域，包围所述显示区域的切割区域，以及位于所述显示区域与所述切割区域之间的过渡区域；
所述阳极设置于所述显示区域内；
所述无机膜层覆盖所述衬底基板，且所述无机膜层在所述切割区域被减薄处理；
所述过渡区域的所述无机膜层上具有源漏极金属残留；
所述平坦层至少设置于所述显示区域和所述过渡区域，且所述平坦层包覆所述源漏极金属残留。
2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述平坦层在所述衬底基板上的正投影与所述显示区域和所述过渡区域完全重叠，并与所述切割区域部分重叠。
3.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述切割区域的所述无机膜层包括刻蚀阻挡层，所述显示区域和所述过渡区域的所述无机膜层包括在所述衬底基板上依次层叠设置的所述刻蚀阻挡层、缓冲层、第一绝缘层和第二绝缘层。
4.如权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述刻蚀阻挡层在所述切割区域的厚度小于其在所述显示区域和所述过渡区域的厚度。
5.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上整面涂覆无机材料层，并对切割区域的所述无机材料层进行减薄处理，形成无机膜层；
在所述无机膜层上形成位于显示区域的源漏极，以及位于过渡区域的源漏极金属残留；
在所述源漏极所在层上形成平坦层，所述平坦层包覆所述源漏极金属残留，且所述平坦层在所述切割区域断开；
在所述平坦层上依次整面涂覆阳极材料层和光刻胶层；
对所述阳极材料层进行曝光显影、湿法刻蚀，形成位于所述显示区域的阳极；
沿所述切割区域对所述衬底基板进行切割，获得所述显示基板。
6.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于，在所述衬底基板上涂覆无机材料层，并对切割区域的所述无机材料层进行减薄处理，具体包括：
在所述衬底基板上依次整面涂覆形成刻蚀阻挡层、缓冲层、第一绝缘层和第二绝缘层；
采用第一刻蚀掩膜板对所述切割区域的所述第一绝缘层和所述第二绝缘层进行刻蚀后，再采用第二刻蚀掩膜板对所述切割区域的所述缓冲层和所述刻蚀阻挡层进行刻蚀，形成所述无机膜层。
7.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于，在所述源漏极所在层上形成平坦层，具体包括：
在所述源漏极所在层上整面涂覆有机材料层；
对所述有机材料层进行曝光显影，形成包覆所述源漏金属残留且在所述切割区域断开的所述平坦层。
8.一种母板，其特征在于，包括：多个阵列排布的如权利要求1-4任一项所述的显示基板；
各所述显示基板的平坦层相互独立，相邻两个所述显示基板的无机膜层相互连接。
9.一种显示面板，其特征在于，包括：如权利要求1-4任一项所述的显示基板。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求9所述的显示面板。
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