CN110777364A - 一种石墨舟的缓存导正装置及管式pecvd设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种石墨舟的缓存导正装置及管式PECVD设备,该石墨舟的缓存导正装置包括:底座,其将各个组件固定;至少两组校正机构,其调整石墨舟的位置;以及感应组件,其包括触发组件和响应组件;其中,两两所述校正机构对称设置于所述底座的两侧,所述感应组件固定于所述底座的一侧且位于两两所述校正机构之间。本案的石墨舟的缓存导正装置有效防止石墨舟由缓存架上反复取放的过程中,对石墨舟造成划伤破损,导致石墨舟定位偏差加大、石墨舟掉落、石墨舟维护成本升高等问题的出现。

Description

一种石墨舟的缓存导正装置及管式PECVD设备
技术领域
本发明涉及太阳能电池制备领域,特别涉及一种石墨舟的缓存导正装置及管式PECVD设备。
背景技术
在太阳能电池制备领域中,采用PEVCD方式在电池表面上沉积形成减反膜是众所周知中,在沉积过程中往往需要用到用于提供沉积反应空间的管式真空加热设备。在研究和优化PEVCD沉积工艺的过程中,发明人发现现有技术中的石墨舟的缓存导正装置至少存在如下问题:
随着PECVD设备的产能要求越来越高,由最初的单管240片发展到现在的432片,PECVD设备也由当初的两管发展到现在的五管,参照设备的工艺时间一般设备中仅配备一套机械手取放模组,故石墨舟被放入工艺腔以及由工艺腔中取出的过程中需要放置在多层缓存架中进行缓存,并且工艺完成后的石墨舟为热舟,需通过机械手取放模组将石墨舟放置于缓存架中进行散热,散热完成将石墨舟取走。在将石墨舟由缓存架上反复取放的过程中,不可避免的对石墨舟造成划伤破损,导致石墨舟定位偏差加大、石墨舟掉落、石墨舟维护成本升高等问题的出现。
有鉴于此,实有必要开发一种石墨舟的缓存导正装置,用以解决上述问题。
发明内容
针对现有技术中存在的不足之处,本发明的目的是提供一种石墨舟的缓存导正装置,其通过底座,其将各个组件固定;至少两组校正机构,其调整石墨舟的位置;以及感应组件,其包括触发组件和响应组件;其中,两两所述校正机构对称设置于所述底座的两侧,所述感应组件固定于所述底座的一侧且位于两两所述校正机构之间,有效防止石墨舟由缓存架上反复取放的过程中,对石墨舟造成划伤破损,导致石墨舟定位偏差加大、石墨舟掉落、石墨舟维护成本升高等问题的出现。
为了实现根据本发明的上述目的和其他优点,提供了一种石墨舟的缓存导正装置,包括:
底座,其位于所述石墨舟的正下方;
两组校正机构,在所述石墨舟的下落缓存过程中,每一组所述校正机构与相应一组所述定位导向组件相配合;以及
感应组件,其包括触发组件和响应组件;
其中,两组所述校正机构在X轴方向上对称设置于所述底座的两侧,以使得每一组所述校正机构位于相应一组所述定位导向组件的正下方,所述感应组件固定于所述底座的一侧且位于两组所述校正机构之间。
优选的是,所述触发组件包括:
感应触碰块,其设置于所述触发组件的上端;
至少两个导向杆,其包括压块浮动导向轴和压块浮动弹簧;
感应压块,其固定连接所述导向杆;
其中,所述感应触碰块、所述导向杆和所述感应压块依次连接,且贯穿于连接板。
优选的是,所述感应触碰块和所述感应压块分别突出于所述连接板。
优选的是,所述响应组件位于所述触发组件的下方。
优选的是,所述响应组件包括:
微动开关固定板,其将所述响应组件固定于所述底座上;
感应微动开关,其上端设有一翘板机构。
优选的是,所述校正机构包括:
滚轮导正组件,其调整所述石墨舟长边方向上的偏差;
仿形定位组件,其位于所述滚轮导正组件在X轴方向上的旁侧,并且所述仿形定位组件的结构及尺寸与所述石墨舟的定位导向组件的形状相匹配。
优选的是,所述滚轮导正组件包括:
内部支撑轴,其将所述滚轮导正组件固定于所述底座上;
导向转动轴套,其与所述底座之间有间隙;
轴承,其位于所述内部支撑轴和所述导向转动轴套之间;
其中,所述内部支撑轴、导向转动轴套和所述轴承之间同轴安装。
进一步地,本还公开一种管式PECVD设备,其包含前述任一项的石墨舟的缓存导正装置。
本发明与现有技术相比,其有益效果是:通过底座,其将各个组件固定;至少两组校正机构,其调整石墨舟的位置;以及感应组件,其包括触发组件和响应组件;其中,两两所述校正机构对称设置于所述底座的两侧,所述感应组件固定于所述底座的一侧且位于两两所述校正机构之间。有效防止石墨舟由缓存架上反复取放的过程中,对石墨舟造成划伤破损,导致石墨舟定位偏差加大、石墨舟掉落、石墨舟维护成本升高等问题的出现。
附图说明
图1为根据本发明一个实施方式提出的石墨舟与石墨舟的缓存导正装置的位置关系立体图;
图2为根据本发明一个实施方式提出的石墨舟的缓存导正装置的立体图;
图3为根据本发明一个实施方式提出的石墨舟的缓存导正装置的正视图;
图4为根据本发明一个实施方式提出的石墨舟的缓存导正装置的局部剖视图;
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步的详细说明,本发明的前述和其它目的、特征、方面和优点将变得更加明显,以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
在附图中,为清晰起见,可对形状和尺寸进行放大,并将在所有图中使用相同的附图标记来指示相同或相似的部件。
在下列描述中,诸如中心、厚度、高度、长度、前部、背部、后部、左边、右边、顶部、底部、上部、下部等用词是相对于各附图中所示的构造进行定义的,特别地,“高度”相当于从顶部到底部的尺寸,“宽度”相当于从左边到右边的尺寸,“深度”相当于从前到后的尺寸,它们是相对的概念,因此有可能会根据其所处不同位置、不同使用状态而进行相应地变化,所以,也不应当将这些或者其他的方位用于解释为限制性用语。
涉及附接、联接等的术语(例如,“连接”和“附接”)是指这些结构通过中间结构彼此直接或间接固定或附接的关系、以及可动或刚性附接或关系,除非以其他方式明确地说明。
根据本发明的一实施方式结合图1、图2的示出,可以看出,石墨舟的缓存导正装置包括:
底座340,其位于所述石墨舟360的正下方,所述底座340上端面开设若干腰形固定孔,左右两侧开设滚轮导正组件310安装孔,前侧开设仿形导向组件311以及感应组件350安装孔,以实现将所述各个组件安装固定;
两组校正机构310,在所述石墨舟360的下落缓存过程中,每一组所述校正机构310与相应一组所述定位导向组件3611相配合;以及
感应组件350,其包括触发组件330和响应组件320;
其中,两组所述校正机构310在X轴方向上对称设置于所述底座340的两侧,以使得每一组所述校正机构310位于相应一组所述定位导向组件3611 的正下方,所述感应组件350固定于所述底座340的一侧且位于两组所述校正机构310之间。
现参考图4所示,可以看出感应触碰块331,其设置于所述触发组件330 的上端;
至少两个导向杆332,其包括压块浮动导向轴3322和压块浮动弹簧 3321;感应压块333,其固定连接所述导向杆332。
其中,所述感应触碰块331、所述导向杆332和所述感应压块333依次连接,且贯穿于连接板334。
所述感应触碰块331和所述感应压块333分别突出于所述连接板334。
所述响应组件320位于所述触发组件330的下方。
现参考图3,所述响应组件320包括:
微动开关固定板321,其将所述响应组件320固定于所述底座340上;
感应微动开关322,其上端设有一翘板机构,所述翘板机构的一端与所述感应压块333相接触,在具体实施方式中,所述翘板机构的端部优选的是滚轮结构。
具体实施方式为,石墨舟中的特定结构会将所述感应触碰块311压下,所述感应触碰块311沿着所述导向杆332向下运动,直到所述感应压块333 触发所述感应微动开关322,设备确定石墨舟放置到位,石墨舟被取走后,所述感应触碰块311在所述导向杆332上的弹簧作用下复位,所述感应微动开关322通过螺钉与所述微动开关固定板321连接,微动开关固定板321以腰型槽的方式与所述底座340连接,通过腰型槽调整所述感应微动开关322 的高度以适应不同尺寸的石墨舟。
所述校正机构310包括:
滚轮导正组件312,其调整所述石墨舟360长边方向上的偏差;
仿形定位组件311,其位于所述滚轮导正组件在X轴方向上的旁侧,并且所述仿形定位组件的结构及尺寸与所述石墨舟360的定位导向组件3611的形状相匹配。
所述仿形定位组件311用于对石墨舟短边方向较小的偏差进行导正固定,所述石墨舟360由上而下放置在缓存导正装置30的过程中,所述石墨舟360定位导向组件3611在所述石墨舟360深度方向上会接触到仿形定位组件 311,所述石墨舟360在重力作用下以所述石墨舟360定位导向组件3611与之间相同形状及倾斜角度为轨迹向下滑动,所述石墨舟360深度方向上的两组定位导向组件3611分别沿着仿形轨迹落在两组所述仿形定位组件311之间。
所述滚轮导正组件312包括:
内部支撑轴3122,其将所述滚轮导正组件312固定于所述底座340上;
导向转动轴套3121,其与所述底座340之间有间隙;
轴承3123,其位于所述内部支撑轴3122和所述导向转动轴套3121之间;
其中,所述内部支撑轴3122、导向转动轴套3121和所述轴承3123之间同轴安装。
在具体实施方式中,所述用于管式PECVD防划伤石墨舟的缓存导正装置30需成对使用,两组缓存导正装置30相对于所述石墨舟宽度方向对称安装,所述石墨舟下方配置多组风扇在石墨舟缓存过程中对所述石墨舟中石墨片进行散热,所述石墨舟由上而下放置在缓存导正装置30的过程中,所述石墨舟定位导向组件在所述石墨舟宽度方向上会接触到所述滚轮导正组件312 的所述导向转动轴套3121,在所述石墨舟由上而下的压力作用下,左侧滚轮导正组件312中的滚轮逆时针转动,右侧滚轮导正组件312中的滚轮顺时针转动,所述石墨舟宽度方向上的两组定位导向组件分别沿着滚轮转动轨迹落在两组滚轮导正组件之间。
这里说明的设备数量和处理规模是用来简化本发明的说明的。对本发明的应用、修改和变化对本领域的技术人员来说是显而易见的。
尽管本发明的实施方案已公开如上,但其并不仅限于说明书和实施方式中所列运用,它完全可以被适用于各种适合本发明的领域,对于熟悉本领域的人员而言,可容易地实现另外的修改,因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下,本发明并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。

Claims (8)

1.一种石墨舟的缓存导正装置,所述石墨舟具有位于其基准平面上的X轴与Y轴以及垂直于所述基准平面的Z轴,所述石墨舟沿着X轴方向延伸并且在其底部固接有在X轴方向上对称设置的定位导向组件,其特征在于,所述缓存导正装置包括:
底座(340),其位于所述石墨舟的正下方;
两组校正机构(310),在所述石墨舟的下落缓存过程中,每一组所述校正机构(310)与相应一组所述定位导向组件相配合;以及
感应组件(350),其包括触发组件(330)和响应组件(320);
其中,两组所述校正机构(310)在X轴方向上对称设置于所述底座(340)的两侧,以使得每一组所述校正机构(310)位于相应一组所述定位导向组件的正下方,所述感应组件(350)固定于所述底座(340)的一侧且位于两组所述校正机构(310)之间。
2.如权利要求1所述的石墨舟的缓存导正装置,其特征在于,所述触发组件(330)包括:
感应触碰块(331),其设置于所述触发组件(330)的上端;
至少两个导向杆(332),其包括压块浮动导向轴(3322)和压块浮动弹簧(3321);
感应压块(333),其固定连接所述导向杆(332);
其中,所述感应触碰块(331)、所述导向杆(332)和所述感应压块(333)依次连接,且贯穿于连接板(334)。
3.如权利要求2所述的石墨舟的缓存导正装置,其特征在于,所述感应触碰块(331)和所述感应压块(333)分别突出于所述连接板(334)。
4.如权利要求1所述的石墨舟的缓存导正装置,其特征在于,所述响应组件(320)位于所述触发组件(330)的下方。
5.如权利要求1所述的石墨舟的缓存导正装置,其特征在于,所述响应组件(320)包括:
微动开关固定板(321),其将所述响应组件(320)固定于所述底座(340)上;
感应微动开关(322),其上端设有一翘板机构。
6.如权利要求1所述的石墨舟的缓存导正装置,其特征在于,所述校正机构(310)包括:
滚轮导正组件(312),其调整所述石墨舟长边方向上的偏差;
仿形定位组件(311),其位于所述滚轮导正组件(312)在X轴方向上的旁侧,并且所述仿形定位组件(311)的结构及尺寸与所述石墨舟的定位导向组件的形状相匹配。
7.如权利要求6所述的石墨舟的缓存导正装置,其特征在于,所述滚轮导正组件(312)包括:
内部支撑轴(3122),其将所述滚轮导正组件(312)固定于所述底座(340)上;
导向转动轴套(3121),其与所述底座(340)之间有间隙;
轴承(3123),其位于所述内部支撑轴(3122)和所述导向转动轴套(3121)之间;
其中,所述内部支撑轴(3122)、导向转动轴套(3121)和所述轴承(3123)之间同轴安装。
8.一种管式PECVD设备,其特征在于,其包含有根据权利要求1~7中任一项所述的石墨舟的缓存导正装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111599894A (zh) * 2020-05-29 2020-08-28 苏州拓升智能装备有限公司 一种适用于TOPCon电池的双石墨舟缓存冷却装置
TWI828437B (zh) * 2021-12-03 2024-01-01 大陸商北京北方華創微電子裝備有限公司 半導體設備的片舟暫存裝置及半導體設備

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107195576A (zh) * 2017-05-24 2017-09-22 广东瑞谷光网通信股份有限公司 芯片xy移动、角度校正、顶取机构
CN208360072U (zh) * 2018-06-27 2019-01-11 深圳市一讯达科技有限公司 支架结构
CN208869657U (zh) * 2018-09-19 2019-05-17 昆山米克诺精密机械有限公司 一种用于石墨舟的三轴定位装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107195576A (zh) * 2017-05-24 2017-09-22 广东瑞谷光网通信股份有限公司 芯片xy移动、角度校正、顶取机构
CN208360072U (zh) * 2018-06-27 2019-01-11 深圳市一讯达科技有限公司 支架结构
CN208869657U (zh) * 2018-09-19 2019-05-17 昆山米克诺精密机械有限公司 一种用于石墨舟的三轴定位装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111599894A (zh) * 2020-05-29 2020-08-28 苏州拓升智能装备有限公司 一种适用于TOPCon电池的双石墨舟缓存冷却装置
TWI828437B (zh) * 2021-12-03 2024-01-01 大陸商北京北方華創微電子裝備有限公司 半導體設備的片舟暫存裝置及半導體設備

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