CN110767573A - 清洗系统、清洗装置及清洗方法 - Google Patents

Abstract

一种清洗系统包括一清洗装置以及一模具。清洗装置包括一容纳结构，其中容纳结构具有一底面及一挡墙。挡墙从底面延伸出而形成一容纳槽。容纳槽适于容纳一清洗液。模具适于被支撑于挡墙的一顶端并接触清洗液。一种清洗方法亦被提及。

Description

清洗系统、清洗装置及清洗方法

技术领域

本发明是有关于一种清洗系统、清洗装置及清洗方法，且特别是有关于一种用于清洗模具的清洗系统、清洗装置及清洗方法。

背景技术

在一些晶圆制程中，利用模具将工作图样(working stamp)翻印至晶圆上，但模具会因翻印次数增加而造成模具表面残留金属缺陷以及残胶，使得工作图样翻印的良率下降，所以必须适度地进行模具的清洗。习知清洗方法将模具浸入清洗液中以清除金属缺陷，此种清洗方法容易使模具的边缘产生剥离(peeling)现象，造成模具的损坏。

发明内容

本发明提供一种清洗系统、清洗装置及清洗方法，可在清洗模具时避免模具的边缘产生剥离现象。

本发明的清洗系统包括一清洗装置以及一模具。清洗装置包括一容纳结构，其中容纳结构具有一底面及一挡墙，挡墙从底面延伸出而形成一容纳槽，容纳槽适于容纳一清洗液。模具适于被支撑于挡墙的一顶端并接触清洗液。

在本发明的一实施例中，上述的模具的外径大于容纳槽的外径。

在本发明的一实施例中，上述的清洗装置更包括一限位结构，限位结构至少部分地围绕容纳槽且具有一限位面，当模具被支撑于挡墙的顶端时，限位面抵靠模具的至少部分周缘。

在本发明的一实施例中，上述的限位面与底面之间的距离大于挡墙的顶端与底面之间的距离。

在本发明的一实施例中，上述的限位结构具有至少一导引斜面，导引斜面邻接限位面且适于导引模具至挡墙的顶端。

在本发明的一实施例中，上述的导引斜面倾斜于底面且倾斜于限位面。

在本发明的一实施例中，上述的限位面垂直于底面。

在本发明的一实施例中，上述的限位结构具有至少一缺口，缺口对位于容纳结构的部分周缘。

在本发明的一实施例中，上述的清洗装置包括一气体提供单元，气体提供单元适于提供气体至挡墙的顶端，以使模具分离于挡墙。

在本发明的一实施例中，上述的模具的一下表面接触清洗液，部分清洗液适于沿下表面移至容纳槽外。

本发明的清洗装置包括一容纳结构以及一限位结构。容纳结构具有一底面及一挡墙，其中挡墙从底面延伸出而形成一容纳槽，容纳槽适于容纳一清洗液，一模具适于被支撑于挡墙的一顶端并接触清洗液。限位结构至少部分地围绕容纳槽且具有一限位面，其中当模具被支撑于挡墙的顶端时，限位面抵靠模具的至少部分周缘。

在本发明的一实施例中，上述的限位面与底面之间的距离大于挡墙的顶端与底面之间的距离。

在本发明的一实施例中，上述的限位结构具有至少一导引斜面，导引斜面邻接限位面且适于导引模具至挡墙的顶端。

在本发明的一实施例中，上述的导引斜面倾斜于底面且倾斜于限位面。

在本发明的一实施例中，上述的限位面垂直于底面。

在本发明的一实施例中，上述的限位结构具有至少一缺口，缺口对位于容纳结构的部分周缘。

在本发明的一实施例中，上述的清洗装置包括一气体提供单元，其中气体提供单元适于提供气体至挡墙的顶端，以使模具分离于挡墙。

本发明的清洗方法包括以下步骤。提供一容纳结构，其中容纳结构具有一底面及一挡墙，挡墙从底面延伸出而形成一容纳槽。藉由容纳槽容纳一清洗液。藉由挡墙的一顶端支撑一模具，以使模具接触清洗液。

在本发明的一实施例中，上述的清洗方法包括以下步骤。当模具被支撑于挡墙的顶端时，藉由一限位结构的一限位面抵靠模具的至少部分周缘。

在本发明的一实施例中，上述的清洗方法包括以下步骤。藉由限位结构的一导引斜面导引模具至挡墙的顶端。

在本发明的一实施例中，上述的清洗方法包括以下步骤。藉由一气体提供单元提供气体至挡墙的顶端，以使模具分离于挡墙。

在本发明的一实施例中，上述的清洗方法包括以下步骤。使模具的一下表面接触清洗液。使清洗液沿模具的下表面移至容纳槽外。

基于上述，本发明的清洗系统使模具表面接触清洗液，藉以清除模具表面的金属缺陷，且由于模具是被支撑于容纳槽的挡墙的顶端而非浸入容纳槽内的清洗液中，故模具的边缘不会与清洗液接触。藉此，在清洗模具表面的同时避免了模具的边缘产生剥离现象。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。

附图说明

图1是本发明一实施例的清洗系统的立体图。

图2是图1的清洗装置的立体图。

图3是图2中的清洗系统的局部示意图。

图4是对应于图1的清洗系统的清洗方法流程图。

图5是本发明另一实施例的清洗系统的局部示意图。

具体实施方式

图1是本发明一实施例的清洗系统的立体图。图2是图1的清洗装置的立体图。图3是图1的清洗系统的局部示意图。请参考图1至图3，本实施例的清洗系统100包括一清洗装置110以及一模具120。清洗装置110包括一容纳结构111。容纳结构111具有一底面111a及一挡墙111b，挡墙111b从底面111a延伸出而形成一容纳槽111d，容纳槽111d适于容纳一清洗液C。清洗液C例如是强碱清洁液，适于清除例如是镍金属的脏污或是残胶。模具120的外径大于容纳槽111d的外径，使模具120适于被支撑于挡墙111b的一顶端111c并接触清洗液C。在本实施例中，清洗装置110被承载于一基座130，但在其他未示出的实施例中并不以此为限。

本实施例的模具120例如是用以在晶圆制程中将工作图样翻印至晶圆上。具体而言，本实施例的模具120例如是由石英基材及形成于石英基材表面的镍工作图样所组成，以利用模具120将工作图样翻印至晶圆上。随着翻印次数增加，需要清理模具120表面所残留的金属缺陷以及残胶。如上述般将模具120放置于挡墙111b的顶端111c，可使模具120的具有工作图样的下表面121接触容纳槽111d内的清洗液C，以清除留在下表面121的脏污。

由于模具120被支撑于挡墙111b的顶端111c而非浸入容纳槽111d内的清洗液C中，故模具120的周缘122不会接触到清洗液C。藉此，在清洗模具120表面的同时避免了模具120的边缘产生剥离现象。

在本实施例中，清洗装置110包括一限位结构112。所述限位结构112至少部分地围绕容纳槽111d。当模具120被支撑于挡墙111b的顶端111c时，限位结构112抵靠模具120的至少部分周缘122，以固定模具120的位置。

详细而言，本实施例的限位结构112具有一限位面112a，限位面112a垂直于容纳结构111的底面111a，且限位面112a与底面111a之间的距离大于挡墙111b的顶端111c与底面111a之间的距离。当模具120放置于挡墙111b的顶端111c时，限位结构112藉其限位面112a抵靠模具120的周缘122，以防止了模具120在清洗装置110上产生非预期的横向滑动。

另外，限位结构112更具有一导引斜面112b。导引斜面112b相较于限位面112a更加地远离于底面111a，且邻接限位面112a。并且，导引斜面112b倾斜于容纳结构111的底面111a且倾斜于限位面112a。当使用者放置模具120至清洗装置110时，导引斜面112b适于导引模具120至挡墙111b的顶端111c，并将模具120的周缘122导引至限位面112a使其与限位面112a互相抵靠。藉此，当使用者将模具120置于清洗状置110上方时，不需要刻意地将模具120的周缘122对准限位面112a，只需大致地放置，导引斜面112b会使得模具120藉由重力顺势地滑入而抵靠于限位面112a并支撑于挡墙111b的顶端111c。

在本实施例中，限位结构112对称地设置并部分地围绕于容纳槽111d的两侧。限位结构112在其未围绕容纳槽111d的部分形成了两个缺口112c，缺口112c对位于容纳结构111的部分周缘。当模具120放置于容纳结构111上时，使用者可藉由缺口112c的设计施力于模具120，以将模具120与容纳结构111分离。

以下以图1至图3的实施例，说明本发明的清洗方法。图4是对应于图1的清洗系统的清洗方法流程图。请参考图1至图4，首先，提供一容纳结构111，其中容纳结构111具有一底面111a及一挡墙111b，挡墙111b从底面111a延伸出而形成一容纳槽111d(步骤S301)。接着，藉由容纳槽111d容纳一清洗液C(步骤S302)。随后藉由挡墙111b的一顶端111c支撑一模具120，以使模具120接触清洗液C(步骤S303)。

为了使模具120的下表面121接触清洗液C，在所述步骤S302中藉由容纳槽111d容纳清洗液C时，可使清洗液C的液面高度略高于挡墙111b的顶端111c，利用表面张力的特性使清洗液C停留在容纳槽111d内。而在所述步骤S303中藉由挡墙111b的顶端111c支撑模具120时，高于挡墙111b的顶端111c的多余的清洗液C会沿着模具120的下表面121移至容纳槽111d外，以使容纳槽111d内不存在多余的空气而呈现真空状态。藉此，能确保模具120的下表面121对位于容纳槽111d的部分能完全接触到清洗液C，同时能确保模具120在清洗装置110上的稳固性。

图5是本发明另一实施例的清洗系统的局部示意图。请参考图5，本实施例的清洗装置110更包括一气体提供单元113。气体提供单元113适于提供气体至挡墙111b的顶端111c。当气体被提供至挡墙111b的顶端111c时，模具120与挡墙111b的顶端111c之间会产生气泡以破除模具120与清洗装置110之间的真空状态，利于使用者以较为省力的方式将模具120与清洗装置110分离。气体提供单元113可如图2所示设置于清洗装置110内并对位于模具120的下表面121与挡墙111b顶端111c的接触处，也可以气枪(图中未示出)的形式另外配置，本发明不对此加以限制。另外，气体提供单元113所提供的气体例如是氮气等的低活性气体。

综上所述，本发明的清洗系统使模具表面接触清洗液，藉以清除模具表面的金属缺陷，且由于模具是被支撑于容纳槽的挡墙的顶端而非浸入容纳槽内的清洗液中，故模具的边缘不会与清洗液接触。藉此，在清洗模具表面的同时避免了模具的边缘产生剥离现象。

虽然本发明已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，故本发明的保护范围当视后附的权利要求书所界定为准。

附图标记

100：清洗系统

110：清洗装置

111：容纳结构

111a：底面

111b：挡墙

111c：顶端

111d：容纳槽

112：限位结构

112a：限位面

112b：导引斜面

112c：缺口

113：气体提供单元

120：模具

121：下表面

122：周缘

130：基座

C：清洗液。

Claims (22)

1.一种清洗系统，其特征在于，包括：

清洗装置，包括容纳结构，其中所述容纳结构具有底面及挡墙，所述挡墙从所述底面延伸出而形成容纳槽，所述容纳槽适于容纳清洗液；以及

模具，适于被支撑于所述挡墙的顶端并接触所述清洗液。

2.如权利要求1所述的清洗系统，其中所述模具的外径大于所述容纳槽的外径。

3.如权利要求1所述的清洗系统，其中所述清洗装置更包括限位结构，所述限位结构至少部分地围绕所述容纳槽且具有限位面，当所述模具被支撑于所述挡墙的顶端时，所述限位面抵靠所述模具的至少部分周缘。

4.如权利要求3所述的清洗系统，其中所述限位面与所述底面之间的距离大于所述挡墙的所述顶端与所述底面之间的距离。

5.如权利要求3所述的清洗系统，其中所述限位结构具有至少一导引斜面，所述导引斜面邻接所述限位面且适于导引所述模具至所述挡墙的所述顶端。

6.如权利要求5所述的清洗系统，其中所述导引斜面倾斜于所述底面且倾斜于所述限位面。

7.如权利要求3所述的清洗系统，其中所述限位面垂直于所述底面。

8.如权利要求3所述的清洗系统，其中所述限位结构具有至少一缺口，所述缺口对位于所述容纳结构的部分周缘。

9.如权利要求1所述的清洗系统，其中所述清洗装置包括气体提供单元，所述气体提供单元适于提供气体至所述挡墙的所述顶端，以使所述模具分离于所述挡墙。

10.如权利要求1所述的清洗系统，其中所述模具的下表面接触所述清洗液，部分所述清洗液适于沿所述下表面移至所述容纳槽外。

11.一种清洗装置，其特征在于，包括：

容纳结构，具有底面及挡墙，其中所述挡墙从所述底面延伸出而形成容纳槽，所述容纳槽适于容纳清洗液，模具适于被支撑于所述挡墙的顶端并接触所述清洗液；以及

限位结构，至少部分地围绕所述容纳槽且具有限位面，其中当所述模具被支撑于所述挡墙的所述顶端时，所述限位面抵靠所述模具的至少部分周缘。

12.如权利要求11所述的清洗装置，其中所述限位面与所述底面之间的距离大于所述挡墙的所述顶端与所述底面之间的距离。

13.如权利要求11所述的清洗装置，其中所述限位结构具有至少一导引斜面，所述导引斜面邻接所述限位面且适于导引所述模具至所述挡墙的所述顶端。

14.如权利要求13所述的清洗装置，其中所述导引斜面倾斜于所述底面且倾斜于所述限位面。

15.如权利要求11所述的清洗装置，其中所述限位面垂直于所述底面。

16.如权利要求11所述的清洗装置，其中所述限位结构具有至少一缺口，所述缺口对位于所述容纳结构的部分周缘。

17.如权利要求11所述的清洗装置，包括气体提供单元，其中所述气体提供单元适于提供气体至所述挡墙的所述顶端，以使所述模具分离于所述挡墙。

18.一种清洗方法，其特征在于，包括：

提供容纳结构，其中所述容纳结构具有底面及挡墙，所述挡墙从所述底面延伸出而形成容纳槽；

藉由所述容纳槽容纳清洗液；以及

藉由所述挡墙的顶端支撑模具，以使所述模具接触所述清洗液。

19.如权利要求18所述的清洗方法，包括：

当所述模具被支撑于所述挡墙的所述顶端时，藉由限位结构的限位面抵靠所述模具的至少部分周缘。

20.如权利要求19所述的清洗方法，包括：

藉由所述限位结构的导引斜面导引所述模具至所述挡墙的所述顶端。

21.如权利要求18所述的清洗方法，包括：

藉由气体提供单元提供气体至所述挡墙的所述顶端，以使所述模具分离于所述挡墙。

22.如权利要求18所述的清洗方法，包括：

使所述模具的下表面接触所述清洗液；以及

使所述清洗液沿所述模具的所述下表面移至所述容纳槽外。

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