CN110752230A - 柔性基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

一种柔性基板及其制作方法、显示装置，该柔性基板具有弯折区，该柔性基板包括衬底基板、以及依次层叠设置于该衬底基板上的第一有机层和第二有机层，在该弯折区内，该第一有机层与该第二有机层接触的表面有凹凸结构。该柔性基板可以提高第二有机层对第一有机层表面的附着力，从而减少或者消除该第二有机层的脱落风险。

Description

柔性基板及其制作方法、显示装置

技术领域

本公开实施例涉及一种柔性基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

随着柔性电子技术的发展，具有可折叠性能的柔性电子装置逐渐受到人们的青睐。例如，为了实现显示装置的窄边框甚至无边框显示，可以对显示装置的非显示区进行弯折处理；或者为了便于携带，也可以对电子装置进行弯曲处理。柔性电子装置的性能与制备工艺技术息息相关，如何改善柔性电子工艺技术，是本领域关注的问题。

发明内容

本公开实施例提供一种柔性基板，具有弯折区，所述柔性基板包括衬底基板、以及依次层叠设置于所述衬底基板上的第一有机层和第二有机层，在所述弯折区内，所述第一有机层与所述第二有机层接触的表面有凹凸结构。

例如，所述凹凸结构包括至少一个凹入结构，所述第二有机层包括填充到所述至少一个凹入结构的第一部分以及位于所述凹入结构之外的第二部分。

例如，所述凹凸结构在对应所述第二有机层的边缘处比中心处具有更高的分布密度、更大的平面面积或者更大的截面面积。

例如，所述凹凸结构包括多个所述凹入结构，所述多个凹入结构排列为多行，所述多行的延伸方向与所述弯折区的弯折轴平行。

例如，每个凹入结构的平面形状为条状，所述条状的延伸方向与所述弯折轴平行，所述条状的宽度从对应所述第二有机层的边缘处到中心处逐步减小。

例如，所述凹入结构的垂直于衬底基板的方向上的截面形状包括矩形、梯形、半圆形、椭圆形及其组合；所述凹入结构的平行于所述衬底基板的方向上的平面形状包括圆形、三角形、矩形、椭圆形、T形、条状、折线状、网状及其组合。

例如，所述凹凸结构包括多个所述凹入结构，每个凹入结构为条状，所述多个凹入结构交织形成网状结构。

例如，所述柔性基板还包括设置于所述衬底基板和所述第一有机层之间的绝缘层，所述绝缘层包括对应所述弯折区的开口以用于弯折，所述第一有机层覆盖所述绝缘层且填充至所述开口中。

例如，所述第二有机层延伸至所述弯折区外，在该弯折区外，所述第一有机层与所述第二有机层接触的表面也设置有所述凹凸结构。

例如，所述第一有机层包括平坦化层。

例如，所述第一有机层还包括像素界定层和/或隔垫层，所述像素界定层和/或所述隔垫层设置于所述平坦化层上，且包括间隔设置的多个部分，以构成所述凹凸结构。

例如，所述第二有机层填充入像素界定层和/或隔垫层的间隔区域，并与所述平坦化层的表面接触。

例如，所述第二有机层为紫外光可固化材料。

例如，所述第一有机层的材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、环氧树脂、聚酰亚胺、聚乙烯中的至少一种。

例如，所述柔性基板还包括显示区和焊盘区，所述弯折区位于所述显示区与所述焊盘区之间。

本公开实施例还提供一种显示装置，包括如上所述的任一柔性基板。

本公开实施例还提供上述任一柔性基板的制作方法，包括：在所述衬底基板上形成所述第一有机层，对所述第一有机层对应所述弯折区的表面进行处理形成所述凹凸结构，在所述弯折区形成所述第二有机层。

例如，形成所述第二有机层包括：在所述第一有机层上形成有机溶液层，固化所述有机溶液层形成所述第二有机层。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。

图1为本公开一实施例提供的一种柔性基板的结构示意图；

图2为图1中柔性基板弯折区的放大剖视图；

图3A-3R示出了本公开实施例提供的柔性基板的几种示例；

图4为本公开另一实施例提供的一种柔性基板的结构示意图；

图5为本实施例提供的一种作为显示面板的柔性基板的示意图；

图6A是本公开实施例提供的柔性基板的显示区的部分放大剖视图；

图6B-6C是本公开实施例提供的柔性基板的弯折区的放大剖视图；

图7是本公开实施例提供的一种显示装置的示意图；

图8是本公开实施例提供的一种柔性基板的制作方法的流程图。

具体实施方式

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

柔性电子装置包括柔性基板以及在该柔性基板上制备的各种电路结构以及电子器件等。根据需要，柔性电子装置的一些部分(例如焊盘区等)可被折叠并固定，或者在使用过程中根据需要弯折以调整不同部分之间的位置关系(例如多屏手机)。柔性电子装置被弯折的部分为弯折区。在柔性电子装置的弯折区，通常在外侧会形成一层有机保护层来对器件进行保护。由于弯折应力，该有机保护层容易发生断裂而脱落，从而引发弯折区器件结构发生不良的风险。

本公开实施例提供一种柔性基板，具有弯折区，该柔性基板包括衬底基板、以及依次层叠设置于该衬底基板上的第一有机层和第二有机层，在所述弯折区内，所述第一有机层与所述第二有机层接触的表面有凹凸结构。

本公开实施例通过在第一有机层与第二有机层接触的表面设置凹凸结构，来增加第二有机层与第一有机层的接触面积，从而释放了第二有机层中易于导致断裂的内应力，提高了第二有机层对第一有机层表面的附着力，从而减少或者消除该第二有机层的脱落风险。

以下将通过几个实施例对该柔性基板进行说明。

图1为本公开实施例提供的一种柔性基板的结构示意图。如图所示，柔性基板100包括弯折区BA。例如，该柔性基板例如应用于有机发光二极管显示面板、液晶显示面板等显示面板。例如，该弯折区BA设置于该柔性基板的非显示区，可被弯折以将柔性基板的边缘部分折叠到有效工作部分(例如显示区域)的背面，从而可以实现窄边框显示面板。

图2为图1中柔性基板的弯折区处于弯折之前的平坦状态的放大剖视图。如图所示，柔性基板100包括衬底基板10以及依次层叠设置于衬底基板10上的第一有机层11和第二有机层12。在弯折区BA内，第一有机层11与第二有机层12接触的表面有凹凸结构。例如，该第二有机层12配置为对第一有机层11提供保护，尤其是在弯折区被弯折后对第一有机层11提供保护。

例如，该第一有机层11与第二有机层12之间的接触表面形成的凹凸结构包括至少一个凹入结构110，第二有机层12包括填充到该凹入结构110的第一部121分以及位于该凹入结构110之外的第二部分122。

需要说明的是，该凹凸结构是指根据需要而设置的结构，区别于常规的制作方法中避免不了出现的不平整状态。该凹凸结构可以包括相对于该第一有机层11的基准平面(该第一有机层在平整处的表面或者衬底基板所在平面)凹入的结构，也包括相对于该基准平面凸起的结构，或者包括凹入结构和凸起结构的组合图案。由于凹入状态和凸起状态是相对的，为了方便描述，本公开实施例将凹入结构和凸起结构统一称为“凹入结构”，也即本公开实施例中的“凹入结构”包括相对于第一有机层11的基准平面凹入的结构和凸出的结构。

图3A-3R示出了本公开实施例提供的柔性基板的凹凸结构的几种示例。

例如，如图2所示，凹入结构110的垂直于衬底基板10的平均尺寸d1为第一有机层11在弯折区BA中垂直于衬底基板10的平均尺寸d2(该第一有机层在平整处的厚度)的四分之一到二分之一。

例如，该凹入结构也可以是贯穿第一有机层11的通孔结构，也即d1＝d2，在这种情形下，第二有机层12填充该通孔。

例如，为了提高第二有机层12对弯折区BA的保护效果，第二有机层12的覆盖范围还可以超出该弯折区，也即该第二有机层12还包括位于该弯折区以外的非弯折区NBA的部分。在这种情形下，如图3D-3I(平面图)所示，在该非弯折区NBA，第一有机层11与第二有机层12接触的表面也设置有该凹凸结构110。

例如，凹入结构110的垂直于衬底基板10的方向上的截面形状包括矩形、正梯形(如图3A所示)、倒梯形(如图2所示)、半圆形、椭圆形(如图3B所示)及其组合(如图3C所示)。

例如，凹入结构110的平行于衬底基板10的方向上的平面形状包括圆形(如图3D所示)、三角形、矩形、椭圆形、T形(如图3F所示)、条状(如图3G-3N所示)、折线状(如图3I和3J所示)、网状及其组合(如图3H、3K、3M、3N所示)。

例如，该第一有机层11为多个层结构层叠形成，该凹凸结构由多个层结构上的凹凸结构组合而成。例如，在图3C中，该凹入结构110由两个矩形的凹入子结构组成，该两个凹入子结构可以分别设置在该第一有机层11所包括的两个层结构中。

例如，如图3D、3E和3F所示，该凹凸结构包括多个凹入结构110，该多个凹入结构110成点状周期排布或者交错排布。例如，该多个凹入结构110排列为n行(n＞1)，每行的延伸方向与弯折区BA的弯折轴BX平行，从而可以进一步提高第二有机层12的耐弯折性能，减小脱落几率。例如，相邻的凹入结构110之间的间距相同。

例如，如图3G和3P所示，该凹凸结构包括多个凹入结构110，每个凹入结构110呈条状分布。例如，该条状的凹入结构110的平面形状为矩形。

例如，如图3H和图3M，该矩形的边缘还可以有突出图案，该图案的形状例如可以为圆形或者多边形。

例如，如图3I和图3J，该条状的凹入结构110的平面形状为折线形。

例如，还可以采用多种图案的组合来构成该凹入结构，以进一步增加第二有机层12对于第一有机层11的附着力。请一并参阅图3K和3L，图3L为图3K中柔性基板沿剖面线A-A’方向的剖视图，凹入结构110中深色的图案为相对于浅色的图案(圆形)凹陷入第一有机层11的部分，而该浅色的图案可以代表第一有机层11的基准平面。在这种情形下，第二有机层12可以填充入凹入结构110中，并包围该岛状(圆形部分)的第一有机层部分。

例如，如图3G-3K所示，该凹入结构110的延伸方向与弯折区BA的弯折轴BX平行，从而可以提高第二有机层12的耐弯折性能。

例如，该凹入结构110的延伸方向也可以与弯折轴BX垂直，如图3M和3N所示，在第二有机层(未示出)的覆盖范围超出该弯折区BA的情形下，凹入结构110横跨弯折区BA而延伸至弯折区BA两侧的非弯折区NBA，从而与第二有机层位于非弯折区NBA的部分接触。

例如，如图3O所示，该凹凸结构包括多个凹入结构，每个凹入结构为条状，该多个凹入结构交织形成网状结构。

由于第二有机层12在边缘处比中心处更容易脱落，因此可以设置该凹凸结构在对应第二有机层12的边缘处比中心处具有更高的分布密度、更大的平面面积或者更大的截面面积。通过这种设置可以增大第二有机层12在边缘处与第一有机层11的接触面积从而更好地释放弯折应力，降低第二有机层12在边缘处脱落的风险。

例如，如图3P所示，凹入结构110的平面形状为条状，该条状的延伸方向与弯折轴BX平行，该条状的宽度从对应第二有机层12的边缘处到中心处逐步减小，也即该凹入结构的平面面积从对应第二有机层12的边缘处到中心处逐步减小。

例如，在图3O中，网状的凹凸结构的分布密度在对应第二有机层12的边缘处到中心处逐步减小。

例如，如图3Q和3R，该凹入结构还可以在弯折区BA与非弯折区NBA具有不同的形状。

需要说明的是，在上述平面图中，没有特别说明，凹入结构110可以是相对于该第一有机层11的基准平面凹入的结构，也包括相对于该基准平面凸起的结构，或者包括凹入结构和凸起结构的组合图案，本公开实施例对此不作限制。

例如，该衬底基板10为有机柔性材料，例如聚酰亚胺(PI)、聚乙烯对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚醚砜等。

例如，第一有机层11的材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、环氧树脂、聚酰亚胺、聚乙烯中的至少一种。

例如，第二有机层12为紫外光可固化材料。例如，第二有机层12还可以为可热固化材料。或者，第二有机层12的材料可以既包括紫外光可固化组分，又包括热固化组分。

例如，第二有机层12的材料为紫外固化胶(UV胶)、氨基甲酸酯丙烯酸酯(聚氨酯丙烯酸酯)、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯或聚醚丙烯酸酯等。

例如，如图4所示，柔性基板100还包括设置于衬底基板10与第一有机层11之间的绝缘层13。绝缘层13对应于弯折区BA设置有开口130，第一有机层覆盖绝缘层13并填充至开口130中。

例如，绝缘层13为无机绝缘材料，例如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等硅的氧化物、硅的氮化物或硅的氮氧化物，或者氧化铝、氮化钛等包括金属元素的绝缘材料。

由于无机绝缘材料通常柔韧性较差，在外力作用下容易开裂，因此在弯折区内形成开口130而将无机绝缘材料去除，这样可以提高柔性基板在弯折区的耐弯折性能。

如图所示，该凹凸结构包括与开口130重叠的第一部分111以及与开口130重叠的第二部分121。

例如，绝缘层13可以是单层结构也可以为包括多层绝缘材料层的多层结构。本公开实施例对此不作限制。

如上所述，该柔性基板例如应用于有机发光二极管显示面板、液晶显示面板等显示面板。

例如，该弯折区BA位于该显示面板的非显示区以实现窄边框显示面板。例如，该弯折区BA也可以位于该显示面板的显示区用于实现美观、方便握持等。本公开实施例对于弯折区BA在柔性基板上的设置位置不作限定。

图5为本实施例提供的一种作为显示面板的柔性基板的示意图。如图所示，弯折区BA设置于柔性基板100包括的显示区(DA)与焊盘区BP之间。该焊盘区BP和该弯折区BA均位于该显示区以外的非显示区(NDA)。

显示区DA设置有像素阵列结构，该像素阵列结构包括沿X方向延伸的多条栅线101和沿Y方向延伸的多条数据线102，该多条栅线101和多条数据线102彼此交叉定义出多个像素区。为清楚起见，图5中仅示意性地画出几条栅线和几条数据线作为参考。根据需要，该像素阵列结构还可以包括电源线、感测线等。

焊盘区BP内设置有焊盘电极(Bonding Pad)(未示出)，用于与外部元件(例如驱动芯片)进行绑定(Bonding)，以为显示区的像素阵列结构提供各种信号，例如电源电压信号、时序信号等。显示区中的像素阵列结构通过导线103与焊盘电极相连以实现像素阵列结构和焊盘电极之间信号的传输，导线103延伸穿过弯折区BA以连接焊盘电极与像素阵列结构。

例如，为了方便布线，弯折区BA设置于该柔性基板沿X方向的非显示区侧，即沿数据线102的延伸方向的一侧，且该弯曲轴BX与Y方向平行。这样可以在阵列基板沿Y方向的非显示区侧绑定设置栅极驱动电路，或者在衬底基板上直接形成GOA(Gate Driver OnArray)型栅极驱动电路。该弯折区也可以设置于该柔性基板沿栅线101的延伸方向(即Y方向)的非显示区，该弯曲轴与数据线102的延伸方向(即X方向)平行。本公开实施例对此不作限制。

以下将以该阵列基板为应用于OLED显示的阵列基板为例，并参照参阅图6A-6C对本公开实施例提供的阵列基板的结构进行示例性说明。

图6A是本公开实施例提供的柔性基板的显示区沿B-B’方向的放大剖视图，如图6A所示，在显示区，柔性基板包括设置于衬底基板10上的像素阵列结构，该像素阵列结构包括多个有机发光二极管(OLED)201以及与之连接的像素电路，该有机发光二极管在像素电路的驱动下发光。例如，该像素电路包括常规的OLED像素驱动电路，例如包括开关晶体管、驱动晶体管及存储电容等，或者还可以进一步包括复位晶体管、发光控制晶体管等，本实施例不限制像素电路的具体结构。图6A示出了相邻排列的三个有机发光二极管201，并且，为了清楚起见，仅示出了该像素电路中与OLED连接的驱动晶体管205。

如图所示，驱动晶体管205包括有源层206、栅极207、栅极绝缘层132和源漏电极层208(包括源极和漏极)。有机发光二极管201包括第一电极202、第二电极204以及设置于第一电极202和第二电极204之间的有机发光层203，其中，第一电极202与驱动晶体管201的漏极电连接。

需要说明的是，这里采用的晶体管的源极、漏极在结构上可以是对称的，所以其源极、漏极在结构上可以是没有区别的，因此根据需要二者是可以互换的。在图6A中，驱动晶体管205为顶栅型，但是本公开的实施例并不限制于晶体管的具体类型，除了其可以为顶栅型之外，其也可以为底栅型或双栅型等，并且当晶体管为不同的类型时，衬底基板上的层结构也相应调整而彼此不同。

柔性基板包括设置于源漏电极层208与第一电极202之间的平坦化层151、以及设置于第一电极202上的像素界定层(Pixel Defining Layer，PDL)152以及隔垫层153。

平坦化层151中设置有过孔111，第一电极202通过过孔111与驱动晶体管205的漏极电连接。

像素界定层152用于将相邻的有机发光层203间隔开从而避免发生串色。在像素界定层152中设置有第一开口211从而定义出像素区(开口区)，该第一开口暴露出有机发光元件201的第一电极202，有机发光层203即透过该第一开口形成于第一电极202之上。

隔垫层153用于在蒸镀形成有机发光层203时支撑蒸镀掩膜板，从而将像素界定层152与蒸镀掩膜板进行隔离以对像素界定层152形成保护；隔垫层153还可以起到进一步隔离相邻有机发光层的作用。隔垫层153通常包括由第二开口212间隔开的多个隔垫物(Spacer)1530，隔垫物1530的形状通常为长方体、柱状、球状、半球状或不限于此。

平坦化层151、像素界定层152及隔垫层153的材料均为有机材料，例如为聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、环氧树脂、聚酰亚胺、聚乙烯中的至少一种。

例如，该柔性基板还包括封装层209，封装层209将OLED 201密封，从而可以减少或防止由环境中包括的湿气和/或氧引起的OLED 201的劣化。

例如，该柔性基板还包括设置于衬底基板10与有源层206之间的缓冲层131，该缓冲层用于提供形成像素阵列结构的平坦表面，其材料例如为氮化硅、氧化硅或者硅的氮氧化物。该缓冲层同时还可以起到阻挡湿气和/或氧渗透穿过衬底基板10的作用，从而对像素阵列结构形成保护。该缓冲层例如可以包括多层结构，例如可以用氧化硅和氮化硅交替堆叠的多个层形成。

请对应参照图6B，图6B为柔性基板在弯折区BA的放大剖视图。在该弯折区，柔性基板包括依次设置于衬底基板10上的缓冲层131、栅绝缘层132、第一层间绝缘层133、第二层间绝缘层134、导线103、第一有机层11和第二有机层12。

如图所示，缓冲层131、栅绝缘层132、第一层间绝缘层133及第二层间绝缘层134共同构成绝缘层13；也即，绝缘层13包括多层绝缘结构层。绝缘层13中设置有开口130，例如，导线103填充并延伸通过该开口。例如，导线103与驱动晶体管205的源漏电极层208同层设置，二者可通过同一次构图工艺对同一导电材料层构图形成。

如图所示，第一有机层11包括平坦化层151，凹入结构110设置于平坦化层151的表面。

在另一示例中，第一有机层11还包括设置于平坦化层151上的像素界定层152和/或隔垫层153。例如，如图6C所示，在弯折区BA内，像素界定层152和/或隔垫层153包括间隔设置的多个部分(即凹入结构110)，该多个部分构成该凹凸结构；也即，凹入结构110由像素界定层152与隔垫层153之一形成；或者，凹入结构110由像素界定层152及隔垫层153共同形成，这一情形可以参照图3C的示例，此处不再赘述。

在这种情形下，第二有机层12填充入像素界定层152和/或隔垫层153的间隔区域，并与平坦化层151的表面接触。

平坦化层151可以在一道构图工艺中同时形成弯折区的图案与显示区的图案。例如，在平坦化层151表面有凹入结构110(如图6B所示)的情形下，平坦化层151中的过孔111与该凹入结构可以在一道构图工艺中形成。例如，在凹入结构110的高度与过孔111的高度(即平坦化层151的厚度)不同的情形下，可以通过半色调掩膜板在一道构图工艺中形成该过孔与凹入结构。

例如，在第一有机层还包括像素界定层152的情形下，也即凹入结构110由像素界定层152形成，此时像素界定层中的第一开口211与凹入结构110可以在一道构图工艺中形成。例如，在一道构图工艺中在像素界定层152的显示区部分与弯折区部分同时形成开口，显示区的开口即为上述第一开口211，弯折区的开口将像素界定层152间隔成多个部分从而形成该凹入结构。

上述描述也同适用于隔垫层153，例如，可以在一道构图工艺中在像素隔垫层153的显示区部分与弯折区部分同时形成开口，显示区的开口将隔垫层153间隔成多个隔垫物1530，弯折区的开口将隔垫层152间隔成多个部分从而形成该凹入结构。此处不再赘述。

例如，第二有机层12的覆盖范围还可以延伸至弯折区以外的非显示区。在这种情形下，在第二有机层12覆盖的非弯折区，第一有机层11与第二有机层12接触的表面也设置有该凹凸结构110。

本公开实施例还提供一种显示装置，如图7所示，该显示装置200包括上述柔性基板100。

例如，该显示装置200为有机发光二极管显示装置、液晶显示装置、电子纸显示装置等。

本公开实施例还提供一种柔性基板的制作方法，用于制作上述柔性基板。如图8所示，该制作方法包括：

步骤S801：在衬底基板上形成第一有机层；

步骤S802：对该第一有机层对应弯折区的表面进行处理形成凹凸结构；以及

步骤S803：在该弯折区形成第二有机层。

例如，形成该第二有机层包括：在第一有机层上形成有机溶液层，固化该有机溶液层形成该第二有机层。

例如，该有机溶液层通过印刷或者旋涂的方式形成于第一有机层上。

由于该有机溶液层为液态或半固态性质，可以自然流动填充入第一有机层表面的凹凸结构中而形成平坦的表面，因此经固化后所形成固态的第二有机层具有平坦的表面。

例如，该固化方式根据有机溶液层的材料组分，可以是紫外光照固化或者热固化，或者既采用紫外光照固化又采用热固化。

例如，该有机溶液层的材料为紫外固化胶水(UV胶水)、氨基甲酸酯丙烯酸酯(聚氨酯丙烯酸酯)、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯或聚醚丙烯酸酯等。

例如，对第一有机层对应弯折区的表面进行处理包括对第一有机层进行常规的光刻步骤从而在第一有机层的表面形成凹凸结构。

此后，对该柔性基板的弯折区进行弯折，将弯折区之外的边缘部分折叠到主体部分的背面，从而可以减小显示面板的周边部分的宽度，实现窄边框显示面板。

以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (18)

1.一种柔性基板，具有弯折区，所述柔性基板包括衬底基板以及依次层叠设置于所述衬底基板上的第一有机层和第二有机层，

其中，在所述弯折区内，所述第一有机层与所述第二有机层接触的表面有凹凸结构。

2.如权利要求1所述的柔性基板，其中，所述凹凸结构包括至少一个凹入结构，

所述第二有机层包括填充到所述至少一个凹入结构的第一部分以及位于所述凹入结构之外的第二部分。

3.如权利要求2所述的柔性基板，其中，所述凹凸结构在对应所述第二有机层的边缘处比中心处具有更高的分布密度、更大的平面面积或者更大的截面面积。

4.如权利要求2所述的柔性基板，其中，所述凹凸结构包括多个所述凹入结构，

所述多个凹入结构排列为多行，所述多行的延伸方向与所述弯折区的弯折轴平行。

5.如权利要求4所述的柔性基板，其中，每个凹入结构的平面形状为条状，所述条状的延伸方向与所述弯折轴平行，所述条状的宽度从对应所述第二有机层的边缘处到中心处逐步减小。

6.如权利要求2所述的柔性基板，其中，所述凹入结构的垂直于衬底基板的方向上的截面形状包括矩形、梯形、半圆形、椭圆形及其组合；

所述凹入结构的平行于所述衬底基板的方向上的平面形状包括圆形、三角形、矩形、椭圆形、T形、条状、折线状、网状及其组合。

7.如权利要求2所述的柔性基板，其中，所述凹凸结构包括多个所述凹入结构，每个凹入结构为条状，所述多个凹入结构交织形成网状结构。

8.如权利要求1-7任一所述的柔性基板，其中，所述柔性基板还包括设置于所述衬底基板和所述第一有机层之间的绝缘层，所述绝缘层包括对应所述弯折区的开口以用于弯折，所述第一有机层覆盖所述绝缘层且填充至所述开口中。

9.如权利要求1-7任一所述的柔性基板，其中，所述第二有机层延伸至所述弯折区外，在该弯折区外，所述第一有机层与所述第二有机层接触的表面也设置有所述凹凸结构。

10.如权利要求1-7任一所述的柔性基板，其中，所述第一有机层包括平坦化层。

11.如权利要求10所述的柔性基板，其中，所述第一有机层还包括像素界定层和/或隔垫层，

所述像素界定层和/或所述隔垫层设置于所述平坦化层上，且包括间隔设置的多个部分，以构成所述凹凸结构。

12.如权利要求11所述的柔性基板，其中，所述第二有机层填充入像素界定层和/或隔垫层的间隔区域，并与所述平坦化层的表面接触。

13.如权利要求1-7任一所述的柔性基板，其中，所述第二有机层为紫外光可固化材料。

14.如权利要求1-7任一所述的柔性基板，其中，所述第一有机层的材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、环氧树脂、聚酰亚胺、聚乙烯中的至少一种。

15.如权利要求1-7任一所述的柔性基板，所述柔性基板还包括显示区和焊盘区，

其中，所述弯折区位于所述显示区与所述焊盘区之间。

16.一种显示装置，包括如权利要求1-15任一所述的柔性基板。

17.一种如权利要求1-15任一所述的柔性基板的制作方法，包括：

在所述衬底基板上形成所述第一有机层，对所述第一有机层对应所述弯折区的表面进行处理形成所述凹凸结构，

在所述弯折区形成所述第二有机层。

18.如权利要求17所述的制作方法，其中，形成所述第二有机层包括：

在所述第一有机层上形成有机溶液层，固化所述有机溶液层形成所述第二有机层。

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