CN110722458B - 处理液体切换装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种处理液体切换装置，其能够防止导管的旋转动作受到阻碍，并且能够防止由处理液体造成装置周边的污染。该处理液体切换装置为一下构成，其具备：排出管，其从前端的排出口排出研磨剂；导管，其一端经由圆周方向的第一间隙插入有排出管的前端，并在另一端形成喷出口，并且以排出管的轴向为旋转中心能够旋转地被设置；液体接受管，其内导管的另一端经由圆周方向的第二间隙插入并且其一端相对于排出管(2)具有保持同轴状态的接受口，并其另一端具有第一分离口及第二分离口，喷出口的开口中心设置在相对于引导管的轴向偏离的位置，并且能够旋转地保持引导管的保持机构配置在导管的外周侧。

Description

处理液体切换装置

技术领域

本发明涉及一种切换处理液体的流动方向的处理液体切换装置。

背景技术

以往，已知的研磨液体切换装置具有：排出管，其从排出口排出在研磨装置上使用过的研磨液体；导管，其能够旋转地嵌合在排出口的周围壁的外周侧的一端；液体容器，其设置在导管的下侧并且以上部为开口并内部被分成多个液体接受区域(例如，参考专利文献1)。在该研磨液体切换装置中，由于在液体容器的上方以排出口为中心旋转导管而切换液体液体接受区域，该液体接受区域是从该导管的前端形成的喷射孔排出的研磨液体流入的液体接受区域。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开昭57-66860号公报

发明内容

发明所要解决的问题

但是，在传统的研磨液体切换装置中，由于在排出研磨液体的排出口的周围壁的外周侧上将导管的一端可旋转地嵌合，从而排出管和导管彼此接触。因此，当从排出口流出的研磨液体浸入排出管的周围壁和导管之间时，通过干燥浸入的研磨液体而使导管固定在排出管，从而产生妨碍导管的旋转动作的问题。

另外，由于导管的喷射孔移动至液体容器的上方，因此从排出口流出的研磨液体飞溅，从而能够造成研磨液体切换装置周边的污染和装置的故障。

本发明是鉴于上述情况而做出，其目的在于提供一种处理液体切换装置，其能够防止导管的旋转动作受到阻碍并且能够防止因研磨液体等的处理液体对装置周边的污染。

用于解决问题的技术方案

为了达到上述目的，本发明提供一种处理液体切换装置，该处理液体切换装置具备：排出管，其从前端形成的排出口排出处理液体；导管，其一端经由圆周方向(周向)的第一间隙插入有所述排出管的前端，并在另一端形成有排出所述处理液体的喷出口，并且以所述排出管的轴向为旋转中心能够旋转地被设置；液体接受管，其内所述导管的另一端经由圆周方向的第二间隙插入并且所述液体接受管的一端相对于所述排出管具有保持同轴状态的接受口，所述液体接受管的另一端具有多个分离口。

而且，喷出口的开口中心设置在相对于所述导管的旋转中心偏离的位置，并且能够旋转地保持所述导管的保持机构配置在所述导管的外周侧。

发明效果

根据本发明的处理液体切换装置，能够防止导管的旋转动作受到阻碍，并且能够防止由处理液体造成装置周边的污染。

附图说明

图1示出了具备第一实施例的处理液体切换装置的研磨装置的说明图。

图2是表示第一实施例的处理液体切换装置的纵截面图。

图3是第一实施例的处理液体切换装置的截面图，(a)是表示图2中的A-A截面，(b)是表示图2中的B-B截面，(c)是表示图2中的C-C截面。

图4是表示由第一实施例的处理液体切换装置切换处理液体的动作的说明图。

具体实施方式

以下，基于附图示出的第一实施例，对本发明的处理液体切换装置的实施方式进行说明。

(第一实施例)

以下，将第一实施例的处理液体切换装置1的构成分为“具备处理液体切换装置的研磨装置的构成”，“处理液体切换装置的详细构成”进行说明。

[具备处理液体切换装置的研磨装置的构成]

第一实施例的处理液体切换装置1在研磨装置101中对薄板状晶片W进行研磨时使用的研磨剂K(处理液体)分离为循环用和排出用时使用。另外，该处理液体切换装置1除了分离第一实施例示出的研磨剂K的目的以外也使用于例如将研磨剂K根据其种类分离的情况等。

在此，如图1所示，研磨装置101具备表面安装有(粘贴)研磨垫102a的定盘102和保持晶片W的游星轮103。而且，在该研磨装置101中，在研磨垫102a上通过游星轮103推压晶片W的状态下旋转定盘102及游星轮103而研磨晶片W。

而且，在该研磨装置101中研磨晶片W时，从研磨剂供给装置104向研磨垫102a上供给研磨剂K，从而提高晶片W的研磨精度和研磨速率。

在此，在研磨装置101中，已使用的用过的研磨剂K中存在能够循环的情况或不能够循环的情况。因此，如图1所示，设置在研磨装置101中的废液接受部101a设置有第一实施例的处理液体切换装置1。而且，通过该处理液体切换装置1改变从研磨装置101排出的研磨剂K的流动方向，从而将研磨剂K分离为循环用和排出用。

[处理液体切换装置的详细构成]

如图2所示，第一实施例的处理液体切换装置1具备排出管2、导管10、液体接受管5及旋转控制部6。

排出管2是其一端21与废液接受部101a(参见图1)连通，并且在前端22形成用于排出研磨剂K的排出口23的管。在该排出管2中，排出口23面向研磨装置101的下方，排出管2的前端部的轴向O沿铅直方向。另外，以下，“排出管2的轴向”是指排出管2的前端部的轴向O，即排出口23的开口方向。

如图2所示，导管10由旋转管3和连接到旋转管3的引导管4形成。

旋转管3是直管，两端都是敞开的。另一方面，引导管4是其一端41为开放式，而另一端42由屏蔽板45封闭的直管。而且，旋转管3的前端32插入在引导管4的一端41的状态下，旋转管3的前端32与引导管4的一端41相连接，并由旋转管3和引导管4形成导管10。在此，引导管4与旋转管3的连接可以通过使用例如螺栓或焊接等进行，也可以在旋转管3的外周表面33和引导管4的内周表面44上分别形成螺纹槽而通过相互拧紧来连接。

该导管10中，排出管2的前端22插入在旋转管3的一端31。另外，在第一实施例中，插入旋转管3中的排出管2的前端22穿过旋转管3，并且排出口23插入在引导管4的内部。

而且，在排出管2的外周表面24和旋转管3的内周表面34之间，以及，排出管2的外周表面24和引导管4的内周表面44之间，分别设置有沿圆周方向的第一间隙S1。也就是说，排出管2的前端22经由该第一间隙S1插入导管10。

此外，第一间隙S1的宽度均匀地设定在旋转管3和引导管4的整个圆周上。另外，“第一间隙S1的宽度”是指，由排出管2的外周表面24至旋转管3的内周表面34的距离，以及，由排出管2的外周表面24至引导管4的内周表面44的距离。

进一步，形成导管10的旋转管3的一端31的外周表面33上装配(嵌合)有轴承110。而且，该轴承110通过支架111由研磨装置101支撑。

据此，导管10相对排水管2的轴向O，其自身的轴向与排出管2的轴向O一致的同轴状态下，以轴向O为旋转中心能够旋转地被保持(支撑)。另外，可旋转地保持该导管10的保持机构30由轴承110和支架111构成，并且该保持机构30设置在导管10的外周侧并在液体接受管5的外部。

封闭引导管4的另一端42的屏蔽板45上形成有喷出口46，该喷出口46用于排出从排出管2流出的研磨剂K。该喷出口46设置在以其开口中心O1相对于作为导管10的旋转中心的轴向O在水平方向上偏移(偏离)的位置，并且沿引导管4的缘部在平面图中具有弧形形状(参见图3(c))。此外，该喷出口46相对于导管10的轴向O平行的方向，即在铅直方向上朝向下方形成开口(敞开)。

另一方面，屏蔽板45的法线方向相对于导管10的轴向O倾斜。在此，屏蔽板45的倾斜度形成为朝向喷出口46的下降梯度(下坡)。也就是说，导管10的另一端42呈现倾斜的所谓的斜切圆柱形状，并在管前端形成有喷出口46。另外，在本第一实施例中，在喷出口46的周缘上形成有沿导管10的轴向O立起的周围壁46a。

进一步，在引导管4的外周表面43上，设置有指示部7，该指示部7表示(指示)导管10的旋转方向上的位置。该指示部7具有指示杆71、第一传感器72及第二传感器73。

指示杆71是从引导管4的外周表面43沿径向延伸的杆构件，并设置在沿轴向O和喷出口46的开口中心O1之间以水平方向连接的直线X上，并且在喷出口46的上方位置(参见图3(a))。该指示杆71反射来自第一传感器72或第二传感器73照射的传感光。

第一传感器72安装在支架111的面向指示杆71的表面上，并且被保持在液体接受管5的第一分离口56a上方的位置。而且，第一传感器72向下方射出传感光。而且，由于该第一传感器72的下方配置指示杆71而反射传感光，并该第一传感器72检测出该反射光时，向旋转控制部6的控制运算部61输入检测到反射光的情况。

第二传感器73安装在支架111的面向指示杆71的表面上，并且被保持在液体接受管5的第二分离口56b上方的位置。而且，第二传感器73向下方射出传感光。而且，由于第二传感器73的下方配置指示杆71而反射传感光，并该第二传感器73检测出该反射光时，向旋转控制部6的控制运算部61输入检测到反射光的情况。

液体接受管5是直管，其一端51处形成有接受口55，另一端52形成有一对分离口(第一分离口56a、第二分离口56b)，并且经由未图示的支撑构造被支撑在研磨装置101和地板表面等上。在此，接受口55沿液体接受管5的轴向O敞开，并形成导管10的引导管4的另一端42沿圆周方向经由第二间隙S2插入。此外，第二间隙S2的宽度均匀地设置在引导管4的整个周上。另外，“第二间隙S2的宽度”是指从引导管4的外周表面43到液体接受管5的内周表面5a的距离。

据此，液体接受管5相对导管10的轴向O，以其自身的轴向O与导管10的轴向O一致的同轴状态被保持。进一步，在第一实施例中，液体接受管5的接受口55设置有环形盖构件58。盖构件58的内周缘接触引导管4的外周表面43，并且其外周缘相比接受口55向外突出，从而覆盖第二间隙S2。

第一分离口56a和第二分离口56b分别形成在液体接受管5的外周表面并沿径向敞开，在此，第一分离口56a和第二分离口56b夹持轴向O并形成在相对的位置。进一步，第一流出管57a连接在第一分离口56a。第二流出管57b连接在第二分离口56b。

而且，在液体接受管5的内部形成有分隔壁54，该分隔壁54从封闭液体接受管5的另一端52的底表面53沿轴向O立起，并分别针对第一分离口56a和第二分离口56b分隔液体接受管5的内部空间H。在此，分隔壁54以穿过轴向O并形成在从第一分离口56a和第二分离口56b的距离成为均等的位置。另外，第一分离口56a和第二分离口56b分别面向分隔壁54。此外，该分隔壁54以不接触插入液体接受管5中的引导管4的另一端42而从底表面53的高度尺寸设定为最大尺寸。进一步，在第一实施例中，底表面53以从形成分隔壁54的位置向各分离口56a、56b成下降梯度的方式倾斜。

旋转控制部6具有：具备CPU(Central Processing Unit)和存储器等的控制运算部61；以及旋转导管10的旋转驱动部62。

控制运算部61基于存储在存储器中的程序和输入的必要信息，判断导管10的方向和旋转的必要性(是否需要旋转)。而且，当判断需要旋转导管10时，向旋转驱动部62输出控制命令来控制旋转驱动部62的动作(操作)。另外，输入在控制运算部61的必要信息是指，例如来自第一传感器72或第二传感器73的反射光的检测信息，研磨剂K的pH状态，磨粒浓度状态，以及来自检测异物混入状态的传感器的检测信息等。

旋转驱动部62安装在研磨装置101上，并且针对旋转管3通过未图示的皮带和齿轮等机械地连接。而且，并且通过来自控制运算部61的控制命令的输入来驱动，并旋转形成在导管10的旋转管3。

以下，对“研磨剂分离时的问题”进行说明，并相继，将第一实施例的处理液体切换装置1的作用分为“研磨剂切换作用”、“管插入部分的间隙的介在作用”、“多个管插入配置作用”，“多个管的同轴配置作用”、“其他特征的作用”进行说明。

[研磨剂分离时的问题]

回收在研磨装置101研磨时使用的研磨剂K，并在用于循环和排出等进行分离的处理液体切换装置中，考虑在排出研磨剂K的排出口的周围壁的外周侧上导管的一端能够旋转地被嵌合的情况。在此情况下，由于排出管和导管彼此接触，因此从排出口流出的研磨剂K进入(浸入)排出管的周围壁和导管之间时，研磨剂K被干燥时，相对排出管，导管被固定。其结果是，导管的旋转运动受到阻碍。

另外，即使由侵入在排出管的周围壁和导管之间的研磨剂K相对排出管使导管被固定，通过增加旋转驱动部的驱动力，消除固定状态而导管能够旋转。但是，在这种情况下，设想固定状态的消除而有必要将旋转驱动部的驱动力增加至所需要以上。也就是说，必须使旋转驱动部大于必要的尺寸。因此，能够想到造成处理液体切换装置的尺寸变大，成本增加。

此外，当在进入排出管的周围壁和导管之间的研磨剂K被干燥的状态下，导管被旋转时，干燥的研磨剂K在排出管和导管之间被压碎而产生磨损粉尘。在该磨损灰尘混入循环研磨剂K中时，成为引起晶片W的划痕或压碎的原因。

进一步，内部被多个液体接受区域分割的液体接受体设置在导管下侧，并在液体接受体的上方旋转导管的情况时，从形成在导管前端的喷出口流出的研磨剂K在暴露于处理液体切换装置的外部的状态下坠落(流出)。因此，存在研磨剂K容易飞散的问题。特别是，当喷出口在空气中移动时研磨剂K流出时，飞溅的液滴在很宽的范围内散射，可能会造成污染研磨装置的周边或引起机械类故障。

此外，在通过导管的滑动改变喷出口的位置的情况时，必须分别确保导管及移动导管的驱动装置能够移动的范围。因此，由于处理液体切换装置的尺寸增大而成为研磨装置占据的面积增大或者在预定的场所内限制研磨装置的设置数量的因素。

[研磨剂切换作用]

当通过研磨装置101对晶片W实施研磨并排出使用后的研磨剂K时，该研磨剂K从废液接受部101a流入第一实施例的处理液体切换装置1的排出管2。而且，研磨剂K从形成在排出管2的前端22的排出口23流出。在此，排出管2的前端22插入旋转管3的一端31，并排出口23插入引导管4的内部。也就是说，从排出口23流出的研磨剂K流入导管10。

在此，引导管4的另一端42由屏蔽板45封闭，该屏蔽板45上形成有喷出口46。因此，流入导管10的研磨剂K从喷出口46流出，并进一步流入形成导管10的引导管4插入的液体接受管5。

此时，喷出口46的开口中心O1设定在相对于作为导管10的旋转中心的轴向O在水平方向上偏移的位置。另一方面，液体接受管5，以其自身的轴向O相对导管10的轴向O保持在一致的同轴状态。因此，研磨剂K流入相对于液体接受管5的轴向O在水平方向上偏移的位置。

与此相比，在液体接受管5的另一端52的外周表面上形成有一对分离口(第一分离口56a，第二分离口56b)，该一对分离口沿径向开口(敞开)并形成在彼此面对的位置。因此，如图2所示，当喷出口46面向第一分离口56a时，从喷出口46流出的研磨剂K从第一分离口56a作为循环用(用于循环)流入第一流出管57a。此外，如图4所示，当喷出口46面向第二分离口56b时，从喷出口46流出的研磨剂K从第二分离口56b作为排出用流入第二流出管57b。

如上所述，在第一实施例的处理液体切换装置1中，切换喷出口46朝向的方向，即通过控制导管10的方向(朝向)来切换研磨剂K的流动方向，并能够将流入第一流出管57a的研磨剂K和流入第二流出管57b的研磨剂K根据目的和用途分离。

此外，导管10的朝向由旋转控制部6的控制运算部61控制。也就是说，该控制运算部61中输入以下信息：在研磨装置101上使用的研磨剂K的pH状态；磨粒浓度状态；来自传感器检测的异物混入状态的检测信息；来自第一传感器72及第二传感器73的反射光的检测信息。

而且，控制运算部61基于从每个传感器输入的必要信息，判断导管10的实际朝向及导管10应面对的方向。而且，控制运算部61在导管10的实际朝向与导管10应面对的方向一致时，由于不需要旋转导管10，所以维持当前状态。

另一方面，在导管10的实际朝向与导管10应面对的方向不一致时，控制运算部61将控制命令输入到旋转驱动部62来操作旋转驱动部62，并以轴向O为中心使导管10旋转180°。

在此，喷出口46的开口中心O1设定在相对于作为导管10的旋转中心的轴向O在水平方向上偏移的位置。其结果是，在导管10旋转时，喷出口46以轴向O为中心旋转，并能够使喷出口46面向第一分离口56a或第二分离口56b的任一所需的分离口。并且可以相互对立。而且，能够沿所需方向排出研磨剂K。

[管插入部分的间隙的介在作用]

在第一实施例的处理液体切换装置1中，形成有研磨剂K流出的排出口23的排出管2的前端22，针对导管10经由圆周方向的第一间隙S1插入。即，在排出管2的外周表面24与旋转管3的内周表面34及引导管4的内周表面44之间分别形成空间(第一间隙S1)，并使排出管2与导管10不接触。因此，即使从排出口23流出的研磨剂K流入排出管2的外周表面24和导管10的内周表面(旋转管3的内周表面34和引导管4的内周表面44)之间，也不存在导管10针对排出管2被固定的情形。

进一步，形成导管10的引导管4的另一端42针对液体接受管5在圆周方向上经由第二间隙S2插入。因此，在引导管4的外周表面43和液体接受管5的内周表面5a之间形成空间(第二间隙S2)，使得导管10与液体接受管5不接触。其结果是，即使从喷出口46流出的研磨剂K进入导管10的外周表面(引导管4的外周表面43)和液体接受管5的内周表面5a之间，也不存在导管10针对液体接受管5被固定的情形。

而且，在该处理液体切换装置1中，安装在研磨装置101上的支架111和由支架111支撑的轴承110形成的保持机构30能够旋转地保持旋转管3的一端31的外周表面33。也就是说，该保持机构30配置在导管10的外周侧，并设置在液体接受管5的外部。

因此，该保持机构30的轴承110设置在研磨剂K几乎不会浸入的位置，并且能够防止研磨剂K接触并粘附在轴承110。其结果是，导管10的旋转不会被研磨剂K阻碍，并且能够防止导管10的旋转操作受到阻碍。

另外，由于导管10的旋转操作不受阻碍，因此不需要将旋转控制部6的旋转驱动部62的驱动力增加至必要以上，并且能够抑制处理液体切换装置的尺寸增大并使其成为廉价的装置。另外，由于研磨剂K不与轴承110接触，因此不会发生由于干燥的研磨剂K被粉碎而产生磨损粉尘。因此，能够防止由磨损粉尘引起的晶片W的划伤和压碎等。

[多个管插入配置作用]

在第一实施例的处理液体切换装置1中，将排出管2的前端22插入旋转管3内，并且流出研磨剂K的排出口23在旋转管3连接的引导管4内部排出研磨剂K。进一步，引导管4的另一端42插入液体接受管5中，并且流入引导管4的研磨剂K流出的喷出口46在液体接受管5内部排出研磨剂K。也就是说，排出管2和导管10和液体接受管5成为所谓的嵌套状态。

因此，研磨剂K能够以不露出处理液体切换装置1的外部而从排出管2流进第一流出管57a或第二流出管57b。据此，不会发生研磨剂K散布到处理液体切换装置1的周边的情况，从而能够防止由研磨剂K的飞散而污染研磨装置101和处理液体切换装置1的周边。

另外，由于能够防止研磨装置101和处理液体切换装置1周边的污染，因此能够缩短用户对研磨装置101和处理液体切换装置1的清洁时间。此外，还能够防止散射的研磨剂K进入研磨装置101的内部，从而保持研磨装置101的内部的清洁，并且能够降低由干燥的研磨剂K导致的故障风险。而且，由于研磨剂K不散射，因此能够消除伴随散射而损失研磨剂K。

[多个管的同轴配置作用]

在第一实施例的处理液体切换装置1中，相对于排出管2的轴向O，导管10及液体接受管5都处于同轴状态。此外，导管10以轴向O作为旋转中心旋转并使喷出口46面向期望的分离口。

因此，与通过滑动导管而使喷出口的位置变更的装置相比，能够减小处理液体切换装置1的占用面积，并且能够抑制处理液体切换装置1的尺寸的增加。而且，通过不增加处理液体切换装置1的尺寸，能够改善预定位置内的研磨装置的设置数量，并能够为提高生产效率做出贡献。

进一步，如用于滑动引导管4的装置那样，由于不需要确保导管和用于移动导管的驱动装置的可移动范围，因此能够扩大用户的工作区域，并能够改善针对研磨装置101实施装卸晶片W的操作性。

[其他特征的作用]

在第一实施例的处理液体切换装置1中，在封闭液体接受管5的另一端52的底表面53上形成沿轴向O立起的分隔壁54，并通过该分隔壁54，液体接受管5的内部空间H分别针对第一分离口56a和第二分离口56b被分隔。因此，能够防止流入液体接受管5内的研磨剂K朝向与喷出口46面向的分离口相反的分离口(例如，当喷出口46与第一分离口56a面向时，为第二分离口56b)流动，并能够将研磨剂K导向所期望的分离口。

另外，在第一实施例中，液体接受管5的底表面53以从形成分隔壁54的位置向分离口56a、56b形成下坡的方式倾斜。因此，防止研磨剂K越过分隔壁54，并且研磨剂K被进一步强力地引向所需的分离口。

另外，在第一实施例的处理液体切换装置1中，表示导管10的旋转位置的指示部7设置在引导管4的外周表面43上。因此，能够容易地掌握导管10的朝向，并且通过适当地控制导管10的旋转位置，能够朝向所期望的分离口适当地引导研磨剂K。

另外，在第一实施例中，指示部7具有：设置在引导管4上的指令杆71；以及针对该指示杆71射出传感光的第一传感器72、第二传感器73。因此，能够自动检测导管10的旋转位置，并能够更容易地掌握导管10的朝向。

而且，在第一实施例中，喷出口46朝向相对于导管10的轴向O平行的方向敞开，并且在铅直方向朝向下方。因此，由于从喷出口46流出的研磨剂K从喷出口46沿铅直方向向下流动，所以该研磨剂K几乎不会缠绕到引导管4的外周表面43侧。其结果是，能够抑制研磨剂K进入引导管4的外周表面43和液体接受管5的内周表面5a之间。

另外，在喷出口46的周缘上形成有沿着导管10的轴向O立起的周围壁46a。因此，研磨剂K的流动方向受到周围壁46a的限制，并且能够进一步抑制从喷出口46流出的研磨剂K的卷绕。

此外，在第一实施例的处理液体切换装置1中，设置在引导管4的另一端42处的屏蔽板45的法线方向相对于导管10的轴向O倾斜，并且引导管4的另一端42形成所谓倾斜圆柱形状。而且，屏蔽板45的倾斜形成为朝向喷出口46的下坡，并且喷出口46形成在倾斜圆柱形状的引导管4的另一端42的管前端。

据此，即使从喷出口46流出的研磨剂K粘附在屏蔽板45的外部时，也能够抑制研磨剂K进入引导管4的外周表面43侧。其结果是，能够进一步抑制研磨剂K进入引导管4的外周表面43和液体接受管5的内周表面5a之间。

而且，在第一实施例中，液体接受管5的接受口55设置有环形盖构件58，并且盖构件58覆盖第二间隙S2。因此，即使从喷出口46流出的研磨剂K在液体接受管5内部飞散并研磨剂K的飞溅进入第二间隙S2，也能够防止研磨剂K的飞溅飞从接受口55向处理液体切换装置1的外部飞散。据此，能够进一步抑制研磨装置101和处理液体切换装置1周围的污染。

以上，尽管基于第一实施例描述了本发明的处理液体切换装置，但具体结构不限于该示例，并且只要不超出权利要求书的各项权利要求的发明的主旨，就允许进行设计更改和添加技术内容。

第一实施例的研磨装置101是对晶片W的单面进行研磨的单面研磨装置，但本发明不限于此。可以使用只要对晶片W的表面进行研磨或者抛光的，例如双面抛光装置、边缘抛光装置、单面抛光装置、单面研磨装置、双面研磨装置、边缘研磨装置等的任何研磨装置或抛光装置。

此外，在第一实施例中，示出了适用处理液体切换装置1的研磨装置101的示例，但是本发明不限于此。例如，处理液体切换装置1可以适用(应用)于执行工件的蚀刻，清洁等的装置。

另外，在第一实施例中，示出了将处理液体切换装置1适用于研磨装置101而分离研磨剂K的示例，但是本发明不限于此。由于待分离的处理液体只要用于处理工件的液体即可，所以例如将处理液体切换装置1应用于执行工件的蚀刻或清洁的装置时，也可以适用于分离这些装置使用过的处理液体。

此外，在第一实施例的处理液体切换装置1中示出了通过旋转管3和引导管4形成导管10的示例，但是本发明不限于此。旋转管3和引导管4可以整体模制导管10可以由一个管构件形成。此外，也可以通过连接多个(3个以上)管构件形成导管10。

此外，在第一实施例的处理液体切换装置1中示出了液体接受管5具有一对分离口(第一分离口56a，第二分离口56b)，并分离为流向第一流出管57a的研磨剂K和流向第二流出管57b的研磨剂K的示例。但是，形成在液体接受管5的分离口的数量可以任意设定，并且可以是3个以上。

此外，在第一实施例的处理液体切换装置1中示出了喷出口46的形状在沿引导管4的缘部以平面图为弧形的示例，但是本发明不限于此，可以是圆形或方形等，只要是能够排出处理液体的形状即可。

此外，在第一实施例的处理液体切换装置1中示出了喷出口46相对于轴向O平行的方向(铅直方向向下)开口的示例。但是，本发明不限于此，喷出口46可以是例如在相对于轴向O倾斜的方向上(例如，倾斜向下)敞开。另外，也可以不形成周围壁46a。

而且，在第一实施例的处理液体切换装置1中示出了，一对分离口(第一分离口56a和第二分离口56b)分别形成在液体接受管5的圆周表面，并彼此面向的例子，但是本发明不限于此。例如，第一分离口56a可以形成在底表面53并在轴向O上敞开，第二分离口56b可以形成在外周表面并在径向上敞开。

此外，分隔壁54可以不形成在液体接受管5的内部。进一步，液体接受管5的底表面53可以形成为平坦表面。

而且，在第一实施例的处理液体切换装置1中示出了，具备旋转控制部6，并来自控制运算部61的控制命令被输入到旋转驱动部62，并且通过自动旋转旋转管3而旋转导管10的示例。但是，也可以将旋转控制部6的旋转驱动部62机械地连接于引导管4，并通过旋转引导管4而使导管10旋转。此外，旋转驱动部62可以是例如电机或汽缸等的能够获得动力的任何致动器，进一步，导管10的旋转可以由操作者手动执行。另外，在手动旋转导管10的情况时，可以通过使用指示杆71等旋转导管10。

此外，在第一实施例的处理液体切换装置1中示出了，如指示部7以指示杆71从导管10的外周表面突出，并反射从第一传感器72或第二传感器73照射的传感光的示例。但是，指示部7也可以是不需要像指示杆71那样突出，而是通过例如对导管10的外周表面着色或标记等来设置。此外，传感器是例如除光传感器之外的磁传感器或限位开关等的能够检测的传感器即可。进一步，不需要设置传感器也可，通过照相机或视觉检查等的识别手段来判断旋转方向的位置即可。此外，也可以通过使用驱动源的定位控制来判断旋转方向的位置。不管在任何情况下，只要能够从外部掌握导管10的旋转方向上的位置即可。

符号的说明

1 处理液体切换装置

2 排出管

3 旋转管

4 引导管

5 液体接受管

5a 内周表面

7 指示部

10 导管

21 一端

22 前端

23 排出口

30 保持机构

31 一端

32 前端

41 一端

42 另一端

45 屏蔽板

46 喷出口

51 一端

52 另一端

54 分隔壁

55 接受口

56a 第一分离口

56b 第二分离口

58 盖构件

101 研磨装置

H 内部空间

O 轴向

O1 开口中心

S1 第一间隙

S2 第二间隙

Claims (11)

1.一种处理液体切换装置，该处理液体切换装置是切换作为用于处理工件的液体的处理液体的流动方向的处理液体切换装置，其特征在于，该处理液体切换装置具备：

排出管，其从前端形成的排出口排出处理液体；

导管，其一端经由圆周方向的第一间隙插入有所述排出管的前端，并在其另一端形成有排出所述处理液体的喷出口，并且所述导管以所述排出管的轴向为旋转中心能够旋转地被保持；以及

液体接受管，所述导管的另一端经由圆周方向的第二间隙插入所述液体接受管，并且在所述液体接受管的一端具有相对于所述排出管保持为同轴状态的接受口，在所述液体接受管的另一端具有多个分离口，

所述排出管与所述导管不接触，

所述导管与所述液体接受管不接触，

所述喷出口的开口中心设定在相对于所述导管的旋转中心偏移的位置，

能够旋转地保持所述导管的保持机构配置在所述导管的外周侧。

2.根据权利要求1所述的处理液体切换装置，其特征在于，

在所述液体接受管的内部形成有分隔壁，该分隔壁针对所述多个分离口将所述液体接受管的内部空间分隔。

3.根据权利要求1所述的处理液体切换装置，其特征在于，

在所述导管设置有表示所述导管的旋转方向的位置的指示部。

4.根据权利要求2所述的处理液体切换装置，其特征在于，

在所述导管设置有表示所述导管的旋转方向的位置的指示部。

5.根据权利要求1所述的处理液体切换装置，其特征在于，

所述喷出口朝向相对于所述导管的轴向平行的方向开口。

6.根据权利要求2所述的处理液体切换装置，其特征在于，

所述喷出口朝向相对于所述导管的轴向平行的方向开口。

7.根据权利要求3所述的处理液体切换装置，其特征在于，

所述喷出口朝向相对于所述导管的轴向平行的方向开口。

8.根据权利要求4所述的处理液体切换装置，其特征在于，

所述喷出口朝向相对于所述导管的轴向平行的方向开口。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的处理液体切换装置，其特征在于，

在所述导管的另一端设置有屏蔽板，该屏蔽板形成有所述喷出口，

所述屏蔽板的法线方向相对于所述导管的轴向倾斜，

所述屏蔽板的倾斜形成为朝向所述喷出口具有下降梯度。

10.根据权利要求1至8中任一项所述的处理液体切换装置，其特征在于，

在所述接受口设置有覆盖所述第二间隙的环状的盖构件。

11.根据权利要求9所述的处理液体切换装置，其特征在于，

在所述接受口设置有覆盖所述第二间隙的环状的盖构件。

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