CN110687750A - 防板偏检知设计 - Google Patents

Abstract

一种防板偏检知设计，其具有机台本体、承载平台、第一侦测组件、第二侦测组件及控制装置。承载平台设置于机台本体中，承载平台的曝光面用以承载待曝光件。第一侦测组件包含有两个第一侦测器，两个第一侦测器能侦测待曝光件的第一侧边。第二侦测组件包含有两个第二侦测器，两个第二侦测器能侦测待曝光件的第二侧边。控制装置能依据第一侦测组件及第二侦测组件侦测待曝光件的第一侧边及第二侧边的结果，而判断待曝光件是否正确地设置于承载平台，而控制装置能于待曝光件未正确地设置于承载平台上时，控制警示装置动作，以提醒使用者。

Description

防板偏检知设计

技术领域

本发明涉及一种曝光设备内部构件的设计，特别是一种适用于曝光设备中的防板偏检知设计。

背景技术

现有的曝光设备，仅在电路板送入曝光设备前，进行位置的校正，在电路板进入曝光设备后，则直接进行曝光作业。因此，现有的曝光设备，容易发生电路板进入曝光设备后，因为电路板相对于曝光底片的位置有所偏差，从而导致曝光后的电路板，整片无法使用而必须报废的问题。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种防板偏检知设计，其适用于曝光设备中，所述防板偏检知设计用以改善现有的曝光设备，容易发生电路板位置偏差，而导致曝光后的电路板必须报废的问题。

为了实现上述目的，本发明提供一种防板偏检知设计，其适用于一曝光设备，所述防板偏检知设计用以对一待曝光件进行曝光，防板偏检知设计包含：一机台本体、一承载平台、一第一侦测组件、一第二侦测组件及一控制装置。机台本体设置有一曝光装置，曝光装置用以对待曝光件进行曝光。承载平台设置于机台本体，承载平台具有一曝光面，曝光面用以承载待曝光件，曝光面彼此相互垂直的两侧边分别定义为一第一基线及一第二基线。第一侦测组件包含有两个第一侦测器，其用以侦测设置于曝光面上的待曝光件的一第一侧边相对于第一基线的位置。第二侦测组件包含有两个第二侦测器，其用以侦测设置于曝光面上的待曝光件的一第二侧边相对于第二基线的位置。其中，第一侧边垂直于第二侧边。控制装置电性连接第一侦测组件及第二侦测组件，控制装置能依据两个第一侦测器侦测待曝光件的第一侧边相对于第一基线的位置的结果，及两个第二侦测器侦测待曝光件的第二侧边相对于第二基线的位置的结果，以在待曝光件未正确地设置于曝光面上时，控制一警示装置动作；控制装置能依据两个第一侦测器侦测待曝光件的第一侧边相对于第一基线的位置的结果，及两个第二侦测器侦测待曝光件的第二侧边相对于第二基线的位置的结果，在待曝光件正确地设置于曝光面上时，控制曝光装置动作，以对待曝光件进行曝光作业。

优选地，所述第一侦测组件的两个所述第一侦测器于所述第二基线的方向的间距不大于0.5厘米。

优选地，所述第二侦测组件的两个所述第二侦测器于所述第一基线的方向的间距不大于0.5厘米。

优选地，所述第一侦测组件的两个所述第一侦测器能分别侦测设置于所述曝光面上的所述待曝光件的所述第一侧边，并对应产生两个第一侦测信号，而所述控制装置能依据两个所述第一侦测信号，据以判断所述待曝光件的所述第一侧边相对于所述第一基线的一第一偏差量。

优选地，所述第二侦测组件的两个所述第二侦测器能分别侦测设置于所述曝光面上的所述待曝光件的所述第二侧边，并对应产生两个第二侦测信号，而所述控制装置能依据两个所述第二侦测信号，据以判断所述待曝光件的所述第二侧边相对于所述第二基线的一第二偏差量。

优选地，所述防板偏检知设计还包含有一上台框装置，其设置于所述机台本体，且所述上台框装置对应位于所述承载平台的上方，所述上台框装置能受所述控制装置控制，以抵靠于所述承载平台具有所述曝光面的一侧；两个所述第一侦测器分别设置于所述承载平台及所述上台框装置。

优选地，设置于所述承载平台的所述第一侦测器，能用以侦测所述承载平台上是否设置有所述待曝光件；当所述控制装置依据设置于所述承载平台的所述第一侦测器所侦测的结果，判断所述承载平台未设置有所述待曝光件时，所述控制装置将对应控制所述警示装置动作。

优选地，所述第一侦测组件连接有一第一调整组件，所述第一调整组件能受所述控制装置控制，以对应改变至少一个所述第一侦测器相对于所述第一基线的距离。

优选地，所述第二侦测组件连接有一第二调整组件，所述第二调整组件能受所述控制装置控制，以对应改变至少一个所述第二侦测器相对于所述第二基线的距离；通过所述第二调整组件调整后的两个所述第二侦测组件，能用以侦测所述待曝光件的第二侧边相对于平行于所述第二基线的一辅助基线的位置。

优选地，其中一个所述第一侦测器对应位于所述第一基线上，另一个所述第一侦测器向所述第二基线的方向偏离所述第一基线的距离不大于0.5厘米；其中一个所述第二侦测器对应位于所述第二基线上，另一个所述第二侦测器向所述第二基线的方向偏离所述第二基线的距离不大于0.5厘米。

本发明的防板偏检知设计，可达到的功效为：可以在待曝光件进行曝光作业前，先利用第一侦测组件及第二侦测组件，对待曝光件进行位置的侦测，借此判断待曝光件是否正确地设置于承载平台上，并配合控制装置及警示装置，以在判断待曝光件正确地设置于承载平台上时，才进行曝光作业；若待曝光件未正确地设置于承载平台上时，则不进行曝光作业，并通过警示装置实时地通知相关人员。如此，将可大幅降低待曝光件在未正确地设置于承载平台的情况下，进行曝光作业，而发生曝光后的待曝光件无法使用的问题。

附图说明

图1为本发明的防板偏检知设计的示意图。

图2为本发明的防板偏检知设计的承载平台及其中一第一侦测器的示意图。

图3为本发明的防板偏检知设计的上台框装置、其中一第一侦测器及第二侦测组件的示意图。

图4为本发明的防板偏检知设计的承载平台、上台框装置、第一侦测组件及第二侦测组件的示意图。

图5为本发明的防板偏检知设计的承载平台、第一侦测组件及第二侦测组件的设置位置的示意图。

图6～图12为待曝光件设置于本发明的防板偏检知设计的承载平台上的各种状态示意图。

图13为本发明的防板偏检知设计的其中一第一侦测器及第一调整组件的示意图。

图14为本发明的防板偏检知设计的其中一第一侦测器及第一调整组件的示意图。

图15为本发明的防板偏检知设计的两个第二侦测器及第二调整组件的示意图。

具体实施方式

请参阅图1，其为本发明的防板偏检知设计的示意图。本发明的防板偏检知设计是应用于一曝光设备中，特别是可以应用于用来对电路板进行曝光作业的曝光设备中。防板偏检知设计1包含有一机台本体10、一承载平台11、一上台框装置12、一曝光装置13及一控制装置14。机台本体10内具有一曝光空间10a。关于机台本体10的外型可以是依据需求变化，机台本体10可以是独立的设备，或者可以是与其他机台设备相互连接，于此不加以限制。机台本体10包含有一活动开口101，使用者能通过活动开口101对机台本体10内的相关构件，进行维修、更换、清洁等。

请一并参阅图1及图2，图2为承载平台的示意图。承载平台11设置于机台本体10中，且对应位于曝光空间10a中。承载平台11具有透光的一曝光面111，曝光面111用以承载一待曝光件(例如电路板)。在实际应用中，曝光面111可以具有多个抽气孔(图未标示)，多个抽气孔则是对应连接至至少一抽气装置(图未示)，通过抽气装置及多个抽气孔的配合，能据以使设置曝光面111上的待曝光件，固定贴附于曝光面111上。曝光装置13的一下曝光单元131，设置于机台本体10中，且下曝光单元131所发出的曝光光束，能通过曝光面111照射于待曝光件。

如图1、图3及图4所示，上台框装置12设置于机台本体10中，且上台框装置12位于曝光空间10a中。上台框装置12具有透光的一固定面121，固定面121用以设置一曝光底片。曝光装置13的一上曝光单元132，设置于机台本体10中，且上曝光单元132所发出的曝光光束，能通过固定面121照设于曝光底片。在不同的实施例中，防板偏检知设计1可以是仅包含有下曝光单元131，而不包含有上曝光单元132。

控制装置14电性连接曝光装置13，控制装置14能控制上曝光单元132及下曝光单元131，以利用上曝光单元132及下曝光单元131所发出的曝光光束，配合曝光底片对待曝光件进行曝光作业。在实际应用中，控制装置14可以是设置于机台本体10中的计算机、处理器等，或者控制装置14可以是独立于机台本体10的计算机，于此不加以限制。

请一并参阅图2至图5，曝光面111的外型为矩形，且曝光面111彼此相互垂直的两侧边分别定义为一第一基线C1及一第二基线C2。防板偏检知设计1还包含有一第一侦测组件15及一第二侦测组件16。第一侦测组件15包含有两个第一侦测器151、152，第二侦测组件16包含有两个第二侦测器161、162。两个第一侦测器151、152及两个第二侦测器161、162，分别电性连接控制装置14，而控制装置14能控制两个第一侦测器151、152及两个第二侦测器161、162，以判断设置于承载平台11上的待曝光件S(如图6所示)是否正确地设置。

进一步来说，两个第一侦测器151、152可以是分别设置于承载平台11及上台框装置12，且两个第一侦测器151、152彼此不相互面对地设置，而两个第一侦测器151、152是大致邻近于第一基线C1设置。在实际应用中，关于第一侦测组件15的两个第一侦测器151、152相对于第一基线C1的设置位置，可以是依据需求设计，举例来说，两个第一侦测器151、152可以是于第二基线C2的方向的间距不大于0.5厘米，又或者，其中一个第一侦测器151、152可以是对应位于第一基线C1上，而另一第一侦测器151、152于第二基线C2的方向，与第一基线C1的距离是不大于0.5厘米。

各个第一侦测器151、152能依据是否侦测到待曝光件S，而对应产生侦测信号，而控制装置14则可依据两个第一侦测器151、152所产生的侦测信号，以判断待曝光件S的第一侧边S1(如图6所示)相对于第一基线C1的位置。举例来说，各第一侦测器151、152可以是接近传感器，当第一侦测器151、152未侦测到待曝光件S时，第一侦测器151、152可以不产生任何信号，而当第一侦测器151、152侦测到待曝光件S时，则可以对应产生一第一信号。当然，各第一侦测器151、152侦测待曝光件S，而对应产生信号的方式不以此为限，在不同的实施例中，也可以是，各第一侦测器151、152在未侦测到待曝光件S时，对应产生一种侦测信号，而侦测到待曝光件S时，则对应产生另一种侦测信号。

在实际应用中，可以是两个第一侦测器151、152分别独立地电性连接控制装置14，而控制装置14依据两个第一侦测器151、152所传递的两个第一侦测信号，据以判断待曝光件S的第一侧边S1相对于第一基线C1的一第一偏差量。在不同的实施例，也可以是两个第一侦测器151、152所分别侦测的结果，通过微处理器整合输出为单个结果信号至控制装置14，而控制装置14则能直接依据结果信号，判断待曝光件S的第一侧边S1相对于第一基线C1的位置。

在实际的应用中，设置于承载平台11的第一侦测器151，还可以用来侦测曝光面111上是否设置有待曝光件S，借此，当控制装置14依据设置于承载平台11的第一侦测器151所侦测的结果，判断承载平台11未设置有待曝光件时，控制装置14则能对应控制警示装置(图未示，例如是警示灯、警示喇叭等)动作，以提醒使用者承载平台11上未设置有待曝光件。相对地，设置于上台框装置12的第一侦测器152，也可以用来侦测固定面121上是否设置有曝光底片，借此，当控制装置14依据设置于上台框装置12的第一侦测器152，判断上台框装置12未设置有曝光底片时，控制装置14则能控制警示装置动作以提醒用户。

特别说明的是，各个第一侦测器151、152相对于第一基线C1的设置位置，可以依据第一侦测器151、152的侦测方式不同，而有所不同。举例来说，如图6所示，第一侦测器151可以是对应设置于第一基线C1上，第一侦测器152则可以是位于第一基线C1向图中正Y轴方向偏移的位置。而，各第一侦测器151(152)可以是在侦测到待曝光件S的第一侧边S1(即，各第一侦测器151(152)的部分被待曝光件S遮蔽)时，向控制装置14传递第一种侦测信号；各第一侦测器151(152)完全被待曝光件S遮蔽时，则可以向控制装置14发出第二种侦测信号；各第一侦测器151(152)完全未被待曝光件S遮蔽时，则可以向控制装置14传递第三种侦测信号。

如图6所示，当待曝光件S的第一侧边S1大致与第一基线C1对齐设置时，控制装置14将可接收到来自第一侦测器151所传递的第一种控制信号(意即，有侦测到第一侧边S1)及来自第一侦测器152所传递的第二种侦测信号(意即，有侦测到第一侧边S1)，借此，控制装置14能据以判断待曝光件S的第一侧边S1相对于第一基线C1位于正确的位置。

如图7所示，当控制装置14接收到两个第一侦测器151、152所传递的两个第三种侦测信号(意即，没有侦测到第一侧边S1或待曝光件S)时，控制装置14则可据以判断待曝光件S的第一侧边S1相对于第一基线C1是向图中的正Y轴方向偏离设置，如此，可能代表承载平台11上未设置有待曝光件S，或者待曝光件S被设置于承载平台11上完全不正确的位置。

如图8所示，当控制装置14接收到两个第一侦测器151、152所传递的两个第二种侦测信号(意即，只侦测到待曝光件S而未侦测到第一侧边S1)时，控制装置14则可据以判断待曝光件S的第一侧边S1相对于第一基线C1是向图中的负Y轴方向偏离设置。

如图9所示，当待曝光件S的第一侧边S1与第一基线C1之间形成有夹角(即待曝光件S相对于承载平台11逆时针旋转)时，两个第一侦测器151、152将会传递两个第一种侦测信号至控制装置14，如此，控制装置14将可得知两个第一侦测器151、152皆侦测到待曝光件S的第一侧边S1，从而可判断待曝光件S的第一侧边S1相对于第一基线C1是倾斜地设置，而待曝光件S未正确地设置于承载平台11。

需注意的是，上述利用两个第一侦测器151、152，侦测待曝光件S的第一侧边S1，据以对应传递不同种类的侦测信号至控制装置14的实施例中，两个第一侦测器151、152必须是非同时对应位于第一基线C1上，而两个第一侦测器151、152可以是其中一个对应位于第一基线C1上，另一个偏离第一基线C1设置，或者也可以是两个第一侦测器151、152分别向第一基线C1的两侧方向偏离。

如图2、图4、图5及图13所示，在不同的应用中，第一侦测组件15可以连接有一第一调整组件17，第一调整组件17能受控制装置14控制，以对应改变至少一个第一侦测器151、152相对于第一基线C1的距离，或者第一调整组件17也可以用来改变两个第一侦测器151、152于第一基线C1的方向上的间隔距离D1。

举例来说，第一调整组件17可以是包含有两个连接臂171、173及两个驱动器172、174。设置于承载平台11的第一侦测器151，可以是与连接臂171相连接，而连接臂171连接驱动器172，驱动器172能受控制装置14控制，以带动连接臂171动作，从而使第一侦测器151向第二基线C2的方向靠近或远离第一基线C1。

如图3、图5及图14所示，设置于上台框装置12的第一侦测器152，可以连接连接臂173，连接臂173与驱动器174连接，而驱动器174能受控制装置14控制，以通过连接臂173带动第一侦测器152向承载平台11的方向移动。

另外，第一调整组件17还可以包含有一滑块175、一滑轨176及一限位构件177。设置于上台框装置12的第一侦测器152还可以与滑块175相连接，而滑块175可滑动地设置于滑轨176上，滑轨176则是对应固定设置于上台框装置12，且滑块175与滑轨176还可以连接有限位构件177，使用者可以通过操作限位构件177，以使滑块175无法相对于滑轨176移动。滑轨176可以沿第一基线C1设置，而使用者可以通过人力或是电子控制的方式，控制滑块175沿滑轨176移动，据以使第一侦测器151沿第一基线C1的方向移动，而当使用者使第一侦测器151移动至所需的位置后，用户则可以利用人力或电子控制的方式，操作限位构件177以使滑块175与滑轨176相互固定，借此使滑块175无法再相对于滑轨176移动。当然，所述滑块175、滑轨176及限位构件177也可以应用于设置在承载平台11的第一侦测器151。

请一并参阅图3、图4、图5及图15，两个第二侦测器161、162可以设置于上台框装置12，而两个第二侦测器161、162能用来侦测待曝光件S的第二侧边S2相对于承载平台11的一第二基线C2的位置。其中，所述第二侧边S2与前述的第一侧边S1相互垂直，所述第二基线C2与前述的第一基线C1相互垂直。

关于两个第二侦测器161、162的实际动作方式，与前述两个第一侦测器151、152大致相同，两者差异仅在于两个第一侦测器151、152用来侦测待曝光件S的第一侧边S1相对于第一基线C1的位置，而两个第二侦测器161、162则用来侦测待曝光件S的第二侧边S2相对于第二基线C2的位置，是以，以下仅说明关于第二侦测器161、162中需特别强调的部分，其余未详细说明的部分，请参阅前述对于第一侦测器151、152的说明。

如图3、图5及图15所示，两个第二侦测器161、162可以一并设置于上台框装置12，且两个第二侦测器161、162大致邻近于第二基线C2设置。在实际应用中，关于第二侦测组件16的两个第二侦测器161、162相对于第二基线C2的设置位置，可以是依据需求设计，举例来说，两个第二侦测器161、162可以于第一基线C1的方向的间距D2不大于0.5厘米，又或者，其中一个第二侦测器161、162可以对应位于第二基线C2上，而另一第二侦测器161、162于第一基线C1的方向与第二基线C2的距离不大于0.5厘米。

在实际应用中，两个第二侦测器161、162可以分别独立地电性连接控制装置14，而控制装置14依据两个第二侦测器161、162所传递的两个第二侦测信号，据以判断待曝光件S的第二侧边S2相对于第二基线C2的一第二偏差量。

如图3、图4、图5及图15所示，在不同的应用中，第二侦测组件16可以连接有一第二调整组件18，第二调整组件18能受控制装置14控制，以对应改变至少一个第二侦测器161、162相对于第二基线C2的距离，或者第二调整组件18也可以用来改变两个第二侦测器161、162于第二基线C2的方向上的间隔距离D2。

举例来说，如图2、图3及图15所示，第二调整组件18可以包含有一连接臂181及一驱动器182。设置于上台框装置12的第二侦测器161、162与连接臂181相连接，而连接臂181连接驱动器182，驱动器182能受控制装置14控制，以带动连接臂181作动，从而使第二侦测器161、162沿第一基线C1的方向靠近或远离第二基线C2。

于本实施例中，以两个第二侦测器161、162设置于一连动板Q，而连接板Q与连接臂181相连接，而驱动器182能通过连接臂181及连接板Q同时调整两个第二侦测器161、162相对于第二基线C2的位置，但不以此为限。在不同的实施中，两个第二侦测器161、162也可以分别独立地连接不同的连接臂及驱动器，于此不加以限制。

另外，第二调整组件18还可以包含有一滑块183、一滑轨184及一限位构件185。设置于上台框装置12的第二侦测器161、162可以与滑块183相连接，而滑块183是可滑动地设置于滑轨184上，滑轨184则是对应固定设置于上台框装置12，且滑块183与滑轨184之间设置有限位构件185，使用者可以是通过操作限位构件185，以使滑块183无法相对于滑轨184移动。滑轨184可以是沿第二基线C2设置，而使用者可以是通过人力或是电子控制的方式，控制滑块183沿滑轨184移动，据以使第二侦测器161、162沿第二基线C2的方向移动，而当使用者使第二侦测器161、162移动至所需的位置后，用户则可以是利用人力或是电子控制的方式，操作限位构件185以固定滑块183，而使滑块183无法再相对于滑轨184移动。

各个第二侦测器161、162相对于第二基线C2的设置位置，可以是依据第二侦测器161、162的侦测方式不同及待曝光件S的尺寸的不同而有所不同。于以下说明中，是以待曝光件S的尺寸明显较曝光面111的尺寸小为例进行说明，但不以此为限。在待曝光件S的尺寸大致等于曝光面111的大小时，两个第二侦测器161、162则可以是不通过第二调整组件18进行调整，而两个第二侦测器161、162可以是用来侦测待曝光件S的第二侧边S2相对于第二基线C2的位置。换言之，于以下说明中，是以两个第二侦测器161、162是先经过第二调整组件18调整后，才对待曝光件S的第二侧边S2相对于平行于第二基线C2的一辅助基线C21的位置进行侦测。

具体来说，请一并参阅图6、图10至图12，各第二侦测器161(162)可以是在侦测到待曝光件S的第二侧边S2，即，各第二侦测器161(162)的部分被待曝光件S遮蔽时，向控制装置14传递第一种侦测信号，而各第二侦测器161(162)完全被待曝光件S遮蔽时，则可以是向控制装置14发出第二种侦测信号，当第二侦测器161(162)完全未被待曝光件S遮蔽时，则可以是向控制装置14传递第三种侦测信号。

如图6所示，当待曝光件S的第二侧边S2大致与第二基线C2平行设置时，控制装置14将可接收到来自第二侦测器161所传递的第一种控制信号(意即，有侦测到第二侧边S2)，及来自第二侦测器162所传递的第三种侦测信号(意即，没有侦测到第二侧边S2且没有侦测到待曝光件S)，借此，控制装置14能据以判断待曝光件S的第二侧边S2相对于第二基线C2位于正确的位置。

如图10所示，当控制装置14接收到两个第二侦测器161、162所传递的两个第三种侦测信号(意即，没有侦测到第二侧边S2且没有侦测到待曝光件S)时，控制装置14则可据以判断待曝光件S的第二侧边S2相对于第二基线C2是向图中的正X轴方向偏离设置，如此，可能代表承载平台11上未设置有待曝光件S，或者待曝光件S被设置于承载平台11上完全不正确的位置。

如图11所示，当控制装置14接收到两个第二侦测器161、162所传递的两个第二种侦测信号(意即，只侦测到待曝光件S而未侦测到第二侧边S2)时，控制装置14则可据以判断待曝光件S的第二侧边S2相对于第二基线C2是向图中的负Y轴方向偏离设置。

如图12所示，当待曝光件S的第二侧边S2与第二基线C2之间形成有夹角(即待曝光件S相对于承载平台11顺时针旋转)时，两个第二侦测器161、162将会传递两个第二种侦测信号至控制装置14，如此，控制装置14将可得知两个第二侦测器161、162皆侦测到待曝光件S的第二侧边S2，从而可判断待曝光件S的第二侧边S2相对于第二基线C2是倾斜地设置，而待曝光件S未正确地设置于承载平台11。

需注意的是，上述利用两个第二侦测器161、162，侦测待曝光件S的第二侧边S2，据以对应传递不同种类的侦测信号至控制装置14的实施例中，两个第二侦测器161、162必须是非同时对应位于第二基线C2上，而两个第二侦测器161、162可以是其中一个对应位于第二基线C2上，另一个偏离第二基线C2设置，或者也可以是两个第二侦测器161、162分别向第二基线C2的两侧方向偏离。

综上所述，本发明的防板偏检知设计1，利用两个第一侦测器151、152及两个第二侦测器161、162配合控制装置14，将可侦测待曝光件S设置于承载平台11上时，是呈现为如图6的正确放置状态、如图7所呈现的向图中坐标系的正Y轴方向偏移的放置状态、如图8所呈现的向图中坐标系的负Y轴方向偏移的放置状态、如图9所呈现的逆时针偏转的放置状态、如图10所呈现的向图中坐标系的正X轴方向偏移的放置状态、如图11所呈现的向图中坐标系的负X轴方向偏移的放置状态，或是如图12所呈现的逆时针偏转的放置状态，从而控制装置14能依据上述不同的状态，在待曝光件S正确地设置于承载平台11上时，对应控制曝光装置13以对待曝光件S进行曝光作业；相对地，控制装置14判断待曝光件S呈现为图7至图12中的任一状态时，控制装置14则可以是控制警示装置，以提醒相关用户待曝光件S未正确地设置于承载平台11，当然，在实际应用中，控制装置14在判断待曝光件S未正确地设置于承载平台11时，控制装置14还可以是控制相关载运装置(例如具有吸盘的机械手臂等)，以调整待曝光件S相对于承载平台11的位置，或者重新置放待曝光件S。

如上所载，本发明的防板偏检知设计1可以在对待曝光件S进行曝光作业前，先对待曝光件S进行位置检测，从而可大幅降低待曝光件S因为放置位置不正确，而导致发生曝光后无法使用的问题。

Claims (10)

1.一种防板偏检知设计，其特征在于，所述防板偏检知设计用以对一待曝光件进行曝光，所述防板偏检知设计包含：

一机台本体，其设置有一曝光装置，所述曝光装置用以对所述待曝光件进行曝光；

一承载平台，其设置于所述机台本体，所述承载平台具有一曝光面，所述曝光面用以承载所述待曝光件，所述曝光面彼此相互垂直的两侧边分别定义为一第一基线及一第二基线；所述曝光装置所产生的曝光光束能通过所述曝光面而照射于所述待曝光件；

一第一侦测组件，其包含有两个第一侦测器，所述第一侦测器用以侦测设置于所述曝光面上的所述待曝光件的一第一侧边相对于所述第一基线的位置；

一第二侦测组件，其包含有两个第二侦测器，所述第二侦测器用以侦测设置于所述曝光面上的所述待曝光件的一第二侧边相对于所述第二基线的位置；其中，所述第一侧边垂直于所述第二侧边；

一控制装置，其电性连接所述第一侦测组件及所述第二侦测组件，所述控制装置能依据两个所述第一侦测器侦测所述待曝光件的所述第一侧边相对于所述第一基线的位置的结果，及两个所述第二侦测器侦测所述待曝光件的所述第二侧边相对于所述第二基线的位置的结果，以在所述待曝光件未正确地设置于所述曝光面上时，控制一警示装置动作；所述控制装置能依据两个所述第一侦测器侦测所述待曝光件的所述第一侧边相对于所述第一基线的位置的结果，及两个所述第二侦测器侦测所述待曝光件的所述第二侧边相对于所述第二基线的位置的结果，在所述待曝光件正确地设置于所述曝光面上时，控制所述曝光装置动作，以对所述待曝光件进行曝光作业。

2.依据权利要求1所述的防板偏检知设计，其特征在于，所述第一侦测组件的两个所述第一侦测器于所述第二基线的方向的间距不大于0.5厘米。

3.依据权利要求1所述的防板偏检知设计，其特征在于，所述第二侦测组件的两个所述第二侦测器于所述第一基线的方向的间距不大于0.5厘米。

4.依据权利要求1所述的防板偏检知设计，其特征在于，所述第一侦测组件的两个所述第一侦测器能分别侦测设置于所述曝光面上的所述待曝光件的所述第一侧边，并对应产生两个第一侦测信号，而所述控制装置能依据两个所述第一侦测信号，据以判断所述待曝光件的所述第一侧边相对于所述第一基线的一第一偏差量。

5.依据权利要求1所述的防板偏检知设计，其特征在于，所述第二侦测组件的两个所述第二侦测器能分别侦测设置于所述曝光面上的所述待曝光件的所述第二侧边，并对应产生两个第二侦测信号，而所述控制装置能依据两个所述第二侦测信号，据以判断所述待曝光件的所述第二侧边相对于所述第二基线的一第二偏差量。

6.依据权利要求1所述的防板偏检知设计，其特征在于，所述防板偏检知设计还包含有一上台框装置，所述上台框装置设置于所述机台本体，且所述上台框装置对应位于所述承载平台的上方，所述上台框装置能受所述控制装置控制，以抵靠于所述承载平台具有所述曝光面的一侧；两个所述第一侦测器分别设置于所述承载平台及所述上台框装置。

7.依据权利要求6所述的防板偏检知设计，其特征在于，设置于所述承载平台的所述第一侦测器能用以侦测所述承载平台上是否设置有所述待曝光件；当所述控制装置依据设置于所述承载平台的所述第一侦测器所侦测的结果，判断所述承载平台未设置有所述待曝光件时，所述控制装置将对应控制所述警示装置动作。

8.依据权利要求1所述的防板偏检知设计，其特征在于，所述第一侦测组件连接有一第一调整组件，所述第一调整组件能受所述控制装置控制，以对应改变至少一个所述第一侦测器相对于所述第一基线的距离。

9.依据权利要求1所述的防板偏检知设计，其特征在于，所述第二侦测组件连接有一第二调整组件，所述第二调整组件能受所述控制装置控制，以对应改变至少一个所述第二侦测器相对于所述第二基线的距离；通过所述第二调整组件调整后的两个所述第二侦测组件，能用以侦测所述待曝光件的第二侧边相对于平行于所述第二基线的一辅助基线的位置。

10.依据权利要求1所述的防板偏检知设计，其特征在于，其中一个所述第一侦测器对应位于所述第一基线上，另一个所述第一侦测器向所述第二基线的方向偏离所述第一基线的距离不大于0.5厘米；其中一个所述第二侦测器对应位于所述第二基线上，另一个所述第二侦测器向所述第二基线的方向偏离所述第二基线的距离不大于0.5厘米。

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