CN110649180B - 一种显示面板的制作方法、显示面板和显示装置 - Google Patents

一种显示面板的制作方法、显示面板和显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种显示面板的制作方法、显示面板和显示装置，显示面板包括显示区域，显示区域包括第一显示区和第二显示区；第二显示区复用为光感元件设置区；第一显示区和第二显示区均包括多个发光区，第二显示区还包括多个透光区；制作方法包括提供基板；在基板一侧形成至少覆盖第二显示区的光热转换层；在光热转换层远离基板一侧，通过蒸镀方式形成覆盖显示区域的发光功能层和第二电极层，第二电极层的位于至少相邻两个发光区的部分相连；在至少部分透光区，通过激光照射的方式去除光热转换层以及光热转换层背离基板一侧的所有膜层。本发明提供一种显示面板的制作方法、显示面板和显示装置，以实现提升光感元件设置区的透光性能，达到增透的目的。

Description

一种显示面板的制作方法、显示面板和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板的制作方法、显示面板和显示装置。
背景技术
随着科学技术的发展和社会的进步，人们对于信息的交流和传递等方面的依赖程度日益增加，而显示器作为信息交换和传递的主要载体和物质基础，现已成为众多科学家研究的热点。
为了实现例如摄像等功能，往往需要在光感元件设置区放置光学功能模组。光感元件设置区的透光性能的好坏决定了外界环境光得到光学功能模组的多少，而现有技术中光感元件设置区的透光性能较差。
发明内容
本发明提供一种显示面板的制作方法、显示面板和显示装置，以实现提升光感元件设置区的透光性能，达到增透的目的。
第一方面，本发明实施例提供一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括显示区域，所述显示区域包括第一显示区和第二显示区；所述第二显示区复用为光感元件设置区；所述第一显示区和所述第二显示区均包括多个发光区，所述第二显示区还包括多个透光区；所述制作方法包括：
提供基板；
在所述基板一侧形成至少覆盖所述第二显示区的光热转换层；
在所述光热转换层远离所述基板一侧，通过蒸镀方式形成覆盖所述显示区域的发光功能层和第二电极层，所述第二电极层的位于至少相邻两个所述发光区的部分相连；
在至少部分所述透光区，通过激光照射的方式去除所述光热转换层以及所述光热转换层背离所述基板一侧的所有膜层。
第二方面，本发明实施例提供一种显示面板，包括：显示区域，所述显示区域包括第一显示区和第二显示区；所述第二显示区复用为光感元件设置区；所述第一显示区和所述第二显示区均包括多个发光区，所述第二显示区还包括多个透光区；所述显示面板包括：
基板；
位于所述基板一侧且依次设置的光热转换层、发光功能层和第二电极层，所述第二电极层的位于至少相邻两个所述发光区的部分相连；
所述光热转换层、所述发光功能层和所述第二电极层与至少部分所述透光区不交叠。
第三方面，本发明实施例提供一种显示装置，包括第二方面所述的显示面板；以及位于所述第二显示区的光感元件；所述光感元件位于基板远离光热转换层的一侧，所述光感元件的感光面朝向所述基板。
本发明实施例提供的显示面板制作方法中，在第二显示区中首先形成了光热转换层，然后又在光热转换层上形成了发光功能层和第二电极层，使用激光照射第二显示区的透光区时，光热转换层在激光照射下将光能转化为热能并受热膨胀脱落，且光热转换层脱落时将位于其上的所有膜层一起从基板上剥离，由于透光区的发光功能层和第二电极层从基板上剥离，从而提升透光区的透光性能，即增加透光区的光线穿透率，提升光感元件设置区的透光性能，达到增透的目的。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法流程图；
图2-图6为与图1中显示面板制作方法对应的显示面板制作过程示意图；
图7为本发明实施例提供的另一种显示面板的制作方法流程图；
图8-图17为与图7中显示面板制作方法对应的显示面板制作过程示意图；
图18为本发明实施例提供的另一种显示面板的制作方法流程图；
图19-图28为与图18中显示面板制作方法对应的显示面板制作过程示意图；
图29为本发明实施例提供的另一种显示面板的制作方法流程图；
图30-图38为与图29中显示面板制作方法对应的显示面板制作过程示意图；
图39为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图；
图40为图39中Q1区域的放大结构示意图；
图41为沿图40中AA’的剖面结构示意图；
图42为本发明实施例提供的一种第二电极的俯视结构示意图；
图43为本发明实施例提供的一种光热转换层的结构示意图；
图44为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；
图45为本发明实施例提供的一种显示装置的剖面结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
在现有技术中，有机发光显示面板中的有机发光二极管包括阳极、阴极以及位于阳极和阴极之间的发光层，在有机发光显示面板工作时，各有机发光二极管的阴极接收相同电位的电源信号，因此，有机发光显示面板中的各有机发光二极管的阴极通常采用蒸镀的方式整层形成，即多个有机发光二极管的阴极连为一体。当在显示装置中集成光感器件，且将光感器件设置于显示区域时，对显示面板的透光率要求较高，而整层设置的阴极对显示面板的透光率影响较大。为了提高透光率，需要形成图形化的阴极，也就是将阴极设置于有机发光二极管所在的区域，而在相邻两个有机发光二极管之间的区域不设置阴极图形。在利用掩膜版蒸镀阴极图形时，掩膜版上对应未设置阴极图形的位置需要具有遮挡结构，掩膜版的开口位置对应形成阴极图形的位置，由于多个有机发光二极管的阴极需要连为一体，相应地，掩膜版上的各遮挡结构需相互独立浮空，这样的掩膜版无法真正实现。因此，如何实现蒸镀方式形成的阴极的图形化成为现有技术中需要解决的技术问题。本申请提供的显示面板的制作方法、显示面板和显示装置至少用于解决上述的技术问题。
图1为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法流程图，图2-图6为与图1中显示面板制作方法对应的显示面板制作过程示意图，参考图1以及图2-图6，显示面板包括显示区域，显示区域包括第一显示区A11和第二显示区A12。第二显示区A12复用为光感元件设置区。第一显示区A11和第二显示区A12均包括多个发光区A13，发光区A13用于显示图像。第二显示区A12还包括多个透光区A14，透光区A14可以透过由显示面板一侧入射的光线至显示面板的另一侧。显示面板的制作方法包括如下步骤：
S1、提供基板1。
参考图2，提供基板1。基板1可以为刚性基板，刚性基板例如可以为玻璃基板。基板1也可以为柔性基板，柔性基板例如可以为聚酰亚胺基板。
S2、在基板1一侧形成至少覆盖第二显示区A12的光热转换层2。
参考图3，光热转换层2覆盖第二显示区A12。在其他实施方式中，光热转换层2也可以覆盖第二显示区A12和第一显示区A11。
S3、在光热转换层2远离基板1一侧，通过蒸镀方式形成覆盖显示区域的发光功能层3和第二电极层4，第二电极层4的位于至少相邻两个发光区A13的部分相连。
参考图4，在光热转换层2远离基板1一侧形成整面铺设的发光功能层3和第二电极层4，发光功能层3和第二电极层4均覆盖第一显示区A11以及第二显示区A12。
S4、在至少部分透光区A14，通过激光照射的方式去除光热转换层2以及光热转换层2背离基板1一侧的所有膜层。
参考图5和图6，通过激光照射透光区A14(图中以一个透光区A14进行示例，第二显示区A12可以包括一个或者多个透光区A14，第二显示区A12包括多个透光区A14时，可以使用激光照射至少一个透光区A14)，去除光热转换层2背离基板1一侧的所有膜层。
本发明实施例提供的显示面板制作方法中，在第二显示区中首先形成了光热转换层，然后又在光热转换层上形成了发光功能层和第二电极层，使用激光照射第二显示区的透光区时，光热转换层在激光照射下将光能转化为热能并受热膨胀脱落，且光热转换层脱落时将位于其上的所有膜层一起从基板上剥离，由于透光区的发光功能层和第二电极层从基板上剥离，从而提升透光区的透光性能，即增加透光区的光线穿透率，提升光感元件设置区的透光性能，达到增透的目的。
图7为本发明实施例提供的另一种显示面板的制作方法流程图，图8-图17为与图7中显示面板制作方法对应的显示面板制作过程示意图，参考图7，以及图8-图17，显示面板的制作方法包括如下步骤：
S1、提供基板1。
S11、在基板1的一侧形成第一电极层50。图案化第一电极层50，形成多个第一电极5和反射层8。
其中，第一电极5至少位于发光区A13，且第一电极5与透光区A14不交叠，反射层8位于至少部分透光区A14的边缘。
参考图9，在基板1的一侧形成覆盖第一显示区A11和第二显示区A12的第一电极层50。
参考图10，图案化第一电极层50，形成多个第一电极5和反射层8。第一电极5至少部分位于第一显示区A11和第二显示区A12中的发光区A13内，反射层8位于透光区A14内，且位于透光区A14的边缘。第一电极5和反射电极8同层设置，且采用同种材料在同一工艺中形成，简化了工艺制程。
其中，发光功能层3位于第一电极5和第二电极层4之间。在外加电场的作用下，电子和空穴分别从第二电极层4和第一电极5注入发光功能层3并复合产生激子，激子在外加电场的作用下迁移，能量传递给发光功能层3中的发光分子，并激发电子从基态跃迁到激发态，激发态能量通过辐射跃迁的方式来释放能量，便产生了光线。
S2、在基板1一侧形成至少覆盖第二显示区A12的光热转换层2。
S3、在光热转换层2远离基板1一侧，通过蒸镀方式形成覆盖显示区域的发光功能层3和第二电极层4，第二电极层4的位于至少相邻两个发光区A13的部分相连。
S4、在至少部分透光区A14，通过激光照射的方式去除光热转换层2以及光热转换层2背离基板1一侧的所有膜层。
本发明实施例中，在形成光热转换层之前形成了第一电极层，且图案化第一电极层同时形成第一电极和反射层，节省了工艺制程。其中，反射层位于至少部分透光区的边缘，且位于光热转换层与基板之间，采用激光照射透光区的光热转换层时，反射层将透过光热转换层的光线再次反射至光热转换层，增加了照射激光的利用率，加速了透光区边缘的光热转换层的膨胀速率，从而有利于透光区中光热转换层以及光热转换层远离基板一侧所有膜层的脱落，且反射层仅位于透光区的边缘，减小了对透光区的透光率的影响。在其他实施方式中，也可以仅图案化第一电极层形成第一电极。
可选地，参考图9，在基板1的一侧形成第一电极层50之前，显示面板的制作方法还包括：在基板1一侧形成薄膜晶体管层6，薄膜晶体管层6可以包括多个薄膜晶体管，薄膜晶体管可以包括源极61、漏极62、栅极63和半导体层64。透光区A14与薄膜晶体管层6中的薄膜晶体管不交叠。
可选地，参考图11和图12，在图案化第一电极层50，形成多个第一电极5和反射层8之后，显示面板的制作方法还可以包括：在第一电极5远离基板1的一侧形成覆盖第一显示区A11和第二显示区A12的像素限定膜层70，图案化像素限定膜层70，形成像素限定层7，像素限定层7设置多个开口，开口位于发光区A13。在像素限定层7的开口中形成的发光功能层3、第二电极层4与第一电极5共同构成发光单元，发光单元所在区域为发光区A13。
可选地，参考图13和图14，在基板1一侧形成至少覆盖第二显示区A12的光热转换层2，包括：在基板1一侧形成光热转换膜层20，图案化光热转换膜层20，形成光热转换层2，光热转换层2与发光区A13不交叠。需要说明的是，在基板1一侧形成的光热转换膜层20可以覆盖第二显示区A12，或者，在基板1一侧形成的光热转换膜层20可以覆盖第一显示区A11和第二显示区A12，本发明实施例对此不作限定。本发明实施例中，由于对光热转换膜层20图案化处理，使得图案化光热转换膜层20后得到的光热转换层2不与发光区A13交叠，从而避免了光热转换层2对于发光显示造成不良影响情况的发生，保证了显示面板的显示效果。在其他实施方式中，也可以仅在基板1一侧形成覆盖第二显示区A12中透光区A14的光热转换层2。此时由于仅在透光区A14中形成光热转换层2，未在透光区A14之外的区域中形成光热转换层2，通过激光照射透光区A14的光热转换层2时，透光区A14中的光热转换层2不会受到透光区A14之外的区域中膜层的拉扯力(如果光热转换层2既位于透光区A14中又位于透光区A14之外的区域，透光区A14中的光热转换层2会受到与之一体连接且位于透光区A14之外不会发生膨胀的光热转换层2的拉扯力)，便于直接受热膨胀并脱落。
可选地，参考图16和图17，在至少部分透光区A14，通过激光照射的方式去除光热转换层2以及光热转换层2背离基板1一侧的所有膜层，包括：采用掩膜版M通过激光照射的方式去除至少部分透光区A14中的光热转换层2以及光热转换层2背离基板1一侧的所有膜层。其中，掩膜版M的镂空图案M1露出至少部分透光区A14。
示例性地，参考图16和图17，在使用激光照射时，可以采用掩膜版M遮挡第一显示区A11和第二显示区A12中的发光区A13，防止激光对于发光区A13中的发光功能层3造成损伤，影响发光显示功能。并使掩膜版M的镂空图案M1露出透光区A14，以使激光照射到透光区A14的光热转换层2。在使用激光照射时，发光功能层3以及第二电极层4位于光热转换层2与掩膜版M之间。且可以将设置有光热转换层2的基板1倒置，利用重力的作用使透光区A14中受热膨胀的光热转换层2从基板1剥离。
图18为本发明实施例提供的另一种显示面板的制作方法流程图，图19-图28为与图18中显示面板制作方法对应的显示面板制作过程示意图，参考图18，以及图19-图28，显示面板的制作方法包括如下步骤：
S1、提供基板1。
S121、在基板1的一侧形成第一电极层50，图案化第一电极层50，形成多个第一电极5，第一电极5至少位于发光区A13，且第一电极5与透光区A14不交叠。
参考图20，在基板1的一侧形成覆盖第一显示区A11和第二显示区A12的第一电极层50。
参考图21，图案化第一电极层50，形成多个第一电极5。第一电极5至少部分位于第一显示区A11和第二显示区A12中的发光区A13内。
S122、在第一电极5远离基板1的一侧形成像素限定膜层70，图案化像素限定膜层70，形成像素限定层7，像素限定层7设置多个开口，开口位于发光区A13。
参考图22和图23，在第一电极5远离基板1的一侧形成像素限定膜层70，图案化像素限定膜层70，形成像素限定层7。开口位于发光区A13，并漏出第一电极5。
S2、在基板1一侧形成至少覆盖第二显示区A12的光热转换层2。
S3、在光热转换层2远离基板1一侧，通过蒸镀方式形成覆盖显示区域的发光功能层3和第二电极层4，第二电极层4的位于至少相邻两个发光区A13的部分相连。
S4、在至少部分透光区A14，通过激光照射的方式去除光热转换层2以及光热转换层2背离基板1一侧的所有膜层。
本发明实施例中，在形成光热转换层之前形成了第一电极层，且图案化第一电极层形成第一电极。在形成光热转换层之前以及在形成第一电极之后，还形成了像素限定层。由于像素限定层形成在光热转换层之前，像素限定层位于光热转换层与基板之间，像素限定层未覆盖光热转换层，不会影响透光区中光热转换层在激光照射下的受热膨胀和脱落。
可选地，参考图20，在基板1的一侧形成第一电极层50之前，显示面板的制作方法还包括：在基板1一侧形成薄膜晶体管层6。其中，光热转换层2位于薄膜晶体管层6远离基板1的一侧，反射层8与薄膜晶体管层6中的任意一层金属层使用同种材料在同一工艺中形成，从而节省了工艺制程。
示例性地，参考图20，薄膜晶体管层6可以包括多个薄膜晶体管，薄膜晶体管可以包括源极61、漏极62、栅极63和半导体层64。透光区A14与薄膜晶体管层6中的薄膜晶体管不交叠。反射层8与源极61以及漏极62使用同种材料在同一工艺中形成。在其他实施方式中，反射层8也可以与栅极63使用同种材料在同一工艺中形成。或者，在其他实施方式中，也可以不在透光区A14中形成反射层8。
可选地，参考图24和图25，在基板1一侧形成至少覆盖第二显示区A12的光热转换层2，包括：在基板1一侧形成光热转换膜层20，图案化光热转换膜层20，形成光热转换层2，光热转换层2与发光区A13不交叠。
图29为本发明实施例提供的另一种显示面板的制作方法流程图，图30-图38为与图29中显示面板制作方法对应的显示面板制作过程示意图，参考图29，以及图30-图38，显示面板的制作方法包括如下步骤：
S1、提供基板1。
S2、在基板1一侧形成至少覆盖第二显示区A12的光热转换层2。
S21、在基板1的一侧形成第一电极层50，图案化第一电极层50，形成多个第一电极5，第一电极5至少位于发光区A13，且第一电极5与透光区A14不交叠。
参考图32，在光热转换层2远离基板1的一侧形成覆盖第一显示区A11和第二显示区A12的第一电极层50。
参考图33，图案化第一电极层50，形成多个第一电极5。第一电极5至少部分位于第一显示区A11和第二显示区A12中的发光区A13内。
S3、在光热转换层2远离基板1一侧，通过蒸镀方式形成覆盖显示区域的发光功能层3和第二电极层4，第二电极层4的位于至少相邻两个发光区A13的部分相连。
S4、在至少部分透光区A14，通过激光照射的方式去除光热转换层2以及光热转换层2背离基板1一侧的所有膜层。
本发明实施例中，在第一电极层之前形成了形成光热转换层，光热转换层位于第一电极层与基板之间，光热转换层不位于第一电极(第一电极由第一电极层图案化形成)与第二电极层之间，光热转换层不影响从第一电极注入的空穴的传输，从而在形成一整层的光热转换层之后，不需要去除发光区A13的光热转换层，从而节省了工艺制程。
可选地，参考图31，在基板1一侧形成至少覆盖第二显示区A12的光热转换层2之前，还包括：在至少部分透光区A14的边缘形成反射层8。由于反射层8位于至少部分透光区A14的边缘，且位于光热转换层2与基板1之间，采用激光照射透光区A14的光热转换层2时，反射层8将透过光热转换层2的光线再次反射至光热转换层2，增加了照射激光的利用率，加速了透光区A14边缘的光热转换层2的膨胀速率，从而有利于透光区A14中光热转换层2以及光热转换层2远离基板1一侧所有膜层的脱落，且反射层8仅位于透光区A14的边缘，减小了对透光区A14的透光率的影响。
可选地，参考图31，在基板1的一侧形成第一电极层50之前，显示面板的制作方法还包括：在基板1一侧形成薄膜晶体管层6。其中，光热转换层2位于薄膜晶体管层6远离基板1的一侧，反射层8与薄膜晶体管层6中的任意一层金属层使用同种材料在同一工艺中形成，从而节省了工艺制程。
可选地，参考图34和图35，在第一电极5远离基板1的一侧形成覆盖第一显示区A11和第二显示区A12的像素限定膜层70，图案化像素限定膜层70，形成像素限定层7，像素限定层7设置多个开口，开口位于发光区A13。开口还位于透光区A14，开口漏出透光区A14的光热转换层2，从而避免像素限定层7影响透光区A14中的光热转换层2的受热膨胀和脱落。
可选地，在一实施方式中，也可以不形成如图31所示的整层光热转换层2，而是形成图案化的光热转换层2。也就是说，在基板1一侧形成至少覆盖第二显示区A12的光热转换层2，包括：在基板1一侧形成光热转换膜层20，图案化光热转换膜层20，形成光热转换层2，光热转换层2与发光区A13不交叠。
可选地，在另一实施方式中，可以先形成覆盖第一显示区A11和第二显示区A12的第一电极层50，并图案化第一电极层50形成位于发光区A13的第一电极5。然后形成覆盖第二显示区A12的光热转换膜层20，并去除第二显示区A12中第一电极5上的光热转换膜层20以形成图案化的光热转换层2。然后再形成覆盖第一显示区A11和第二显示区A12的像素限定膜层70，并图案化像素限定膜层70，形成像素限定层7，像素限定层7设置多个开口，开口位于发光区A13。开口还位于透光区A14，开口漏出透光区A14的光热转换层2，从而避免像素限定层7影响透光区A14中的光热转换层2的受热膨胀和脱落。
可选地，在基板1一侧形成至少覆盖第二显示区A12的光热转换层2，包括：光热转换层2通过激光打印工艺形成。由于激光打印的方式可以直接形成图案化的光热转换层2，使图案化的光热转换层2不与第一显示区A11以及第二显示区A12中的发光区A13交叠。相对于先形成整层的光热转换膜层20，然后对光热转换膜层20图案化处理而言，节省了工艺制程。
图39为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图，图40为图39中Q1区域的放大结构示意图，图41为沿图40中AA’的剖面结构示意图，图42为本发明实施例提供的一种第二电极的俯视结构示意图，参考图39、图40、图41和图42，显示面板包括显示区域A1，显示区域A1包括第一显示区A11和第二显示区A12，第二显示区A12复用为光感元件设置区。第一显示区A11和第二显示区A12均包括多个发光区A13，第二显示区A12还包括多个透光区A14。显示面板包括基板1，以及位于基板1一侧且依次设置的光热转换层2、发光功能层3和第二电极层4。其中，第二电极层4的位于至少相邻两个发光区A13的部分相连。光热转换层2、发光功能层3和第二电极层4与至少部分透光区A14不交叠。
本发明实施例提供的显示面板中，位于透光区的发光功能层和第二电极层被从基板上剥离，透光区中无发光功能层和第二电极层，从而提升透光区的透光性能，即增加透光区的光线穿透率，提升光感元件设置区的透光性能，达到增透的目的。透光区的发光功能层和第二电极层从基板上剥离的方法可以采用上述任一实施例中的显示面板的制作方法实现。
可选地，参考图41，显示面板还包括反射层8，反射层8所在膜层位于光热转换层2与基板1之间，且反射层8位于至少部分透光区A14的边缘。采用激光照射透光区A14的光热转换层2时，反射层8将透过光热转换层2的光线再次反射至光热转换层2，增加了照射激光的利用率，加速了透光区A14边缘的光热转换层2的膨胀速率。从而在显示面板的制作过程中，有利于透光区A14中光热转换层2以及光热转换层2远离基板1一侧所有膜层的脱落，且反射层8仅位于透光区A14的边缘，减小了对透光区A14的透光率的影响。
可选地，参考图41，反射层8可以与第一电极5同层设置。在其他实施方式中，反射层8也可以与薄膜晶体管层6中的任意一层金属层使用同种材料在同一工艺中形成，从而节省了工艺制程。
可选地，参考图41，显示面板还包括第一电极5，第一电极5至少位于发光区A13，且第一电极5与透光区A14不交叠。光热转换层2所在膜层位于第一电极5所在膜层远离基板1的一侧，光热转换层2与第一电极5不交叠。本发明实施例中，光热转换层2不与第一电极5交叠，光热转换层2不与发光区A13交叠，从而避免了光热转换层2对于发光显示造成不良影响情况的发生，保证了显示面板的显示效果。
可选地，参考图41，发光功能层3包括第一辅助发光层31、发光材料层32和第二辅助发光层33，发光材料层32形成在像素限定层7的开口中。发光材料层32位于第一辅助发光层31和第二辅助发光层33之间，第一辅助发光层31位于第一电极5和发光材料层32之间，第二辅助发光层33位于第二电极层4和发光材料层32之间。发光材料层32例如可以包括发红光的红色发光材料层、发绿光的绿色发光材料层和发蓝光的蓝色发光材料层。第一辅助发光层31例如可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层中的至少一者，第二辅助发光层33例如可以包括空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层中的至少一者。去除透光区A14中的发光功能层3具体为去除透光区A14中的第一辅助发光层31和第二辅助发光层33。
可选地，参考图40和图42，第二显示区A12中包括多个透光区A14，多个透光区A14矩阵排列。在其他实施方式中，也可以设置多个透光区A14不规则排列，以防止多个透光区A14规则排列时形成的光栅衍射效应，从而避免对穿过透光区A14的光线造成影响。
图43为本发明实施例提供的一种光热转换层的结构示意图，参考图43，光热转换层2包括基体层21和位于基体层21中的光热转换粒子22。光热转换粒子22在收到激光照射时将光能转化为热能，并将热能传递给基体层21，基体层21受热膨胀，从而可以在重力的作用下从基板1脱离。
图44为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图，参考图44，显示面板还包括第一电极5，第一电极5至少位于发光区A13，且第一电极5与透光区A14不交叠。光热转换层2所在膜层位于第一电极5所在膜层与基板1之间。像素限定层7的开口位于发光区A13，像素限定层7的开口还位于透光区A14，也就是说，本发明实施例中，还去除了透光区A14中的像素限定层7的材料，从而进一步提高了透光区A14的透光性能。
本发明实施例还提供了一种显示装置，图45为本发明实施例提供的一种显示装置的剖面结构示意图，如图45所示，本发明实施例提供的显示装置包括本发明任意实施例所述的显示面板以及位于第二显示区A12的光感元件9。光感元件9位于基板1远离光热转换层2的一侧，光感元件9的感光面朝向基板1。光感元件9可以为光学器件或者光电器件，外接环境光穿透第二显示区A12中透光区A14的显示面板部分到达光感元件9，由于本发明实施例提供的显示装置包括本发明任意实施例所述的显示面板，因此本发明实施例提供的显示装置可以使更多的外界环境光达到光感元件9，以实现更好的光学成像或者光学探测等功能。本发明实施例提供的显示装置可以为手机，也可以为电脑、电视机、智能穿戴设备等，本发明实施例对此不作特殊限定。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (13)

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板包括显示区域，所述显示区域包括第一显示区和第二显示区；所述第二显示区复用为光感元件设置区；所述第一显示区和所述第二显示区均包括多个发光区，所述第二显示区还包括多个透光区；所述制作方法包括：
提供基板；
在所述基板一侧形成至少覆盖所述第二显示区的光热转换层；
在所述光热转换层远离所述基板一侧，通过蒸镀方式形成覆盖所述显示区域的发光功能层和第二电极层，所述第二电极层的位于至少相邻两个所述发光区的部分相连；
在至少部分所述透光区，通过激光照射的方式去除所述光热转换层以及所述光热转换层背离所述基板一侧的所有膜层。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述基板一侧形成至少覆盖所述第二显示区的光热转换层之前，包括：
在所述基板的一侧形成第一电极层；图案化所述第一电极层，形成多个第一电极和反射层；
其中，所述第一电极至少位于所述发光区，且所述第一电极与所述透光区不交叠，所述反射层位于至少部分所述透光区的边缘。
3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述基板一侧形成至少覆盖所述第二显示区的光热转换层之前，包括：
在所述基板的一侧形成第一电极层，图案化所述第一电极层，形成多个第一电极，所述第一电极至少位于所述发光区，且所述第一电极与所述透光区不交叠；
在所述第一电极远离所述基板的一侧形成像素限定膜层，图案化所述像素限定膜层，形成像素限定层，所述像素限定层设置多个开口，所述开口位于所述发光区。
4.根据权利要求2或3所述的制作方法，其特征在于，所述在所述基板一侧形成至少覆盖所述第二显示区的光热转换层，包括：
在所述基板一侧形成光热转换膜层，图案化光热转换膜层，形成光热转换层，所述光热转换层与所述发光区不交叠。
5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述基板一侧形成至少覆盖所述第二显示区的光热转换层之后，且在所述光热转换层远离所述基板一侧，通过蒸镀方式形成覆盖所述显示区域的发光功能层和第二电极层之前，包括：
在所述基板的一侧形成第一电极层，图案化所述第一电极层，形成多个第一电极，所述第一电极至少位于所述发光区，且所述第一电极与所述透光区不交叠。
6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，在所述基板一侧形成至少覆盖所述第二显示区的光热转换层之前，还包括：
在至少部分所述透光区的边缘形成反射层。
7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，在所述基板一侧形成至少覆盖所述第二显示区的光热转换层之前，还包括：
在所述基板一侧形成薄膜晶体管层；
其中，所述光热转换层位于所述薄膜晶体管层远离所述基板的一侧，所述反射层与所述薄膜晶体管层中的任意一层金属层使用同种材料在同一工艺中形成。
8.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述基板一侧形成至少覆盖所述第二显示区的光热转换层，包括：
所述光热转换层通过激光打印工艺形成。
9.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光热转换层包括基体层和位于基体层中的光热转换粒子。
10.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在至少部分所述透光区，通过激光照射的方式去除所述光热转换层以及所述光热转换层背离所述基板一侧的所有膜层，包括：
采用掩膜版通过激光照射的方式去除至少部分所述透光区中的所述光热转换层以及所述光热转换层背离所述基板一侧的所有膜层；
其中，所述掩膜版的镂空图案露出至少部分所述透光区。
11.一种显示面板，其特征在于，包括：显示区域，所述显示区域包括第一显示区和第二显示区；所述第二显示区复用为光感元件设置区；所述第一显示区和所述第二显示区均包括多个发光区，所述第二显示区还包括多个透光区；所述显示面板包括：
基板；
位于所述基板一侧且依次设置的光热转换层、发光功能层和第二电极层，所述第二电极层的位于至少相邻两个所述发光区的部分相连；
所述光热转换层、所述发光功能层和所述第二电极层与至少部分所述透光区不交叠；
所述显示面板还包括：
第一电极，所述第一电极至少位于所述发光区，且所述第一电极与所述透光区不交叠；
所述光热转换层所在膜层位于所述第一电极所在膜层远离所述基板的一侧，所述光热转换层与所述第一电极不交叠。
12.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，还包括：
反射层，所述反射层所在膜层位于所述光热转换层与所述基板之间，且所述反射层位于至少部分所述透光区的边缘。
13.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求11-12任一项所述的显示面板；以及位于所述第二显示区的光感元件；所述光感元件位于基板远离光热转换层的一侧，所述光感元件的感光面朝向所述基板。
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