CN110635059A - 显示基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，该显示基板包括基板以及形成于所述基板之上的像素界定层，所述像素界定层之间形成有亚像素区，所述亚像素区和所述像素界定层之上设置有覆盖所述基板的有机功能层，所述有机功能层中设有开口，所述开口将所述亚像素区之上的有机功能层与所述亚像素区之外区域的有机功能层隔开；该显示基板能够解决亚像素区漏光的问题。

Description

显示基板及其制备方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
背景技术
有机电致发光器件(Organic Light-Emitting Diode，简称：OLED)相对于液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，应用范围越来越广泛，被公认为最有发展潜力的显示装置。
目前OLED技术已逐渐成熟，慢慢走入市场，尤其是小尺寸OLED面板。大尺寸OLED面板由于尺寸较大，掩膜工艺产生的阴影效应比较严重。市场上一般采用开放式掩膜工艺(Open Mask)，将白光有机发光二极管(WOLED)与彩膜基板(CF)组合，制备形成大尺寸OLED面板。白光有机发光二极管技术多为B+Y两叠层或者B+Y+B三叠层结构，因此在点亮的情况下，电荷产生层(Charge Generation Layer)会向像素区四周迁移，产生电流导致像素区边缘的非像素区及相邻像素区串扰发光，导致像素区漏光，影响显示效果。
发明内容
本发明实施例所要解决的技术问题是，提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，该显示基板能够解决亚像素区漏光的问题。
为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示基板，包括基板衬底以及形成于所述基板衬底之上的像素界定层，所述像素界定层之间形成有亚像素区，所述亚像素区和所述像素界定层之上设置有覆盖所述基板衬底的有机功能层，所述有机功能层中设有开口，所述开口将所述亚像素区之上的有机功能层与所述亚像素区之外区域的有机功能层隔开。
可选地，所述开口位于所述像素界定层远离所述基板衬底一侧的表面。
可选地，所述有机功能层之上设置有覆盖所述开口的阴极层。
可选地，所述有机功能层包括电荷产生层。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括前述的显示基板。
本发明实施例还提供了一种显示基板的制备方法，所述显示基板的制备方法包括：
在基板衬底之上形成像素界定层，使所述像素界定层之间形成亚像素区；
在所述像素界定层之上形成呈固态的形态转变层，其中，所述形态转变层在光照条件下能够在固态和液态之间转换；
在所述像素界定层和所述亚像素区之上形成有机功能层，使所述有机功能层覆盖所述形态转变层；
将呈固态的所述形态转变层进行液化，使所述形态转变层以及位于所述形态转变层之上的有机功能层从所述像素界定层之上剥离，形成将所述亚像素区之上的有机功能层与所述亚像素区之外区域的有机功能层隔开的开口。
可选地，所述形态转变层边缘与所述像素界定层表面边缘之间的距离为2um-5um。
可选地，所述形态转变层在紫外光的照射下呈液态，在可见光的照射下呈固态。
可选地，所述形态转变层的材料具有热力学稳定的顺式和亚稳定的反式。
可选地，所述形态转变层的材料包括氮化镓、氮化铝、季戊四醇四硝酸酯和三硝基甲苯中的至少一种。
本发明提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置，该显示基板通过在有机功能层中设置开口，以将亚像素区之上的有机功能层与亚像素区之外区域的有机功能层隔开，使亚像素区在点亮的情况下，亚像素区之上的有机功能层产生的电流无法向亚像素区之外区域流动，从而避免亚像素区之外区域的非亚像素区以及相邻的未被点亮的亚像素区点亮，解决了亚像素区漏光的问题。
当然，实施本发明的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。本发明的其它特征和优点将在随后的说明书实施例中阐述，并且，部分地从说明书实施例中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明实施例的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
图1为现有显示基板在信赖过程中B纯色画面色点变化图；
图2为现有显示基板的电路图；
图3为本发明实施例显示基板的结构示意图；
图4-图8为本发明实施例提供的一种显示基板制备过程的示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
现有显示基板中，小尺寸OLED由于是单色器件，单色器件的工艺过程中有机功能层是共同的，因此会产生边缘漏光的现象。现有显示基板通过掩膜版对共同有机功能层的有机材料采用UV照射，破坏共同有机功能层的有机功能键，使其失去传输空穴和电子的特性，从而避免显示基板漏光。然而，这种工艺操作难度大，实际效果差。且对于大尺寸OLED，由于采用开放式掩膜工艺，发光层及有机功能层是共同的，漏光比较严重，特别是长时间点亮，目前还未解决。
现有显示基板采用开放式掩膜工艺制备而成，即在显示基板之上通过蒸镀工艺形成覆盖亚像素区和亚像素区之外区域的有机功能层，这种结构容易造成亚像素区的漏光。其中，亚像素区的漏光包括位于该亚像素区边缘的非亚像素区及相邻亚像素区的漏光。现有显示基板的亚像素区漏光的原理为：现有显示基板在工作时候，空穴和电子分别从像素电极层和阴极层注入，经过有机功能层到发光层复合；现有显示基板由于采用B+Y或者B+Y+B串联的方式，因此必须采用电荷产生层。而电荷产生层的材料通常采用活泼金属金属锂掺杂电子传输层，在有电流的驱动下，金属锂会在亚像素区的有机功能层迁移到亚像素区之外区域的有机功能层，产生正电荷与阴极层的电子复合使得亚像素区之外区域发光，造成亚像素区的漏光。
图1为现有显示基板在信赖过程中B纯色画面色点变化图；图2为现有显示基板的电路图。如图1所示，在信赖性过程中B画面的色点增加很快，影响功耗和画面的纯度。如图2所示，现有显示基板由于电荷产生层的导电性较好，无法有效避免亚像素区的漏光。
为了解决现有显示基板中亚像素区漏光等问题。本发明实施例提供一种显示基板，包括基板衬底以及形成于所述基板衬底之上的像素界定层，所述像素界定层之间形成有亚像素区，所述亚像素区和所述像素界定层之上设置有覆盖所述基板的有机功能层，所述有机功能层中设有开口，所述开口将所述亚像素区之上的有机功能层与所述亚像素区之外区域的有机功能层隔开。
本发明提供的显示基板通过在有机功能层中设置开口，以将亚像素区之上的有机功能层与亚像素区之外区域的有机功能层隔开，使亚像素区在点亮的情况下，亚像素区之上的有机功能层产生的电流无法向亚像素区之外区域流动，从而避免亚像素区之外区域的非亚像素区以及相邻的未被点亮的亚像素区点亮，解决了亚像素区漏光的问题。
下面通过具体实施例详细说明本发明实施例的技术方案。
第一实施例
图3为本发明实施例显示基板的结构示意图。如图3所示，本发明实施例显示基板为有机发光二级管显示面板，包括基板衬底10以及形成于基板衬底10之上的像素电极层11和像素界定层12，像素界定层12之间形成有亚像素区13，亚像素区13以及像素界定层12之上设置有覆盖基板衬底10的有机功能层14。有机功能层14中设有开口15，开口15将亚像素区13之上的有机功能层14与亚像素区13之外区域的有机功能层14隔开。开口15位于像素界定层12远离基板衬底10一侧的表面。其中，亚像素区13之外区域包括相邻的亚像素区13以及位于亚像素区13外侧的非亚像素区。所述非亚像素区包括像素界定层12。
实施例中，不对基板衬底10的材料做限定，基板衬底10可以是刚性材料，具体的，其材料可以包括但不限于：硅片、玻璃、云母片或其他刚性载体材料。
实施例中，有机功能层14包括电荷产生层。本实施例的显示基板通过开口15，将亚像素区13之上的电荷产生层与亚像素区13之外区域的电荷产生层隔开，使亚像素区13被点亮时，其上的电荷产生层产生的电流流动至开口处断开，避免电流流动至亚像素区13之外区域的电荷产生层，使亚像素区13漏光。
实施例中，有机功能层14之上设置有覆盖开口15的阴极层。阴极层填充于开口15中，使亚像素区13之上的有机功能层14与亚像素区13之外区域的有机功能层14之间通过阴极层隔开，从而避免亚像素区13发生漏光。
下面通过本实施例显示基板的制备过程进一步说明本实施例的技术方案。其中，本实施例中所说的“构图工艺”包括沉积膜层、涂覆光刻胶、掩模曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等处理，本实施例中所说的“光刻工艺”包括涂覆膜层、掩模曝光、显影等处理，本实施例中所说的蒸镀、沉积、涂覆、涂布等均是相关技术中成熟的制备工艺。
图4-图8为本发明实施例提供的一种显示基板制备过程的示意图。显示基板的制备过程包括：
1)形成像素界定层和亚像素区。所述形成像素界定层和亚像素区包括：在基板衬底10之上沉积金属薄膜，通过构图工艺对金属薄膜进行构图，在基板衬底10之上形成像素电极层11，在像素电极层11之上涂覆覆盖整个基板衬底10的薄膜层，通过构图工艺对薄膜层进行刻蚀，使薄膜层形成像素界定层12，像素界定层12之间形成亚像素区13，如图4所示。其中，金属薄膜可以采用金属材料，如银Ag、铜Cu、铝Al、钼Mo等，或上述金属的合金材料，如铝钕合金AlNd、钼铌合金MoNb等，可以是多层金属，如Mo/Cu/Mo等，也可以是金属和透明导电材料形成的堆栈结构，如ITO/Ag/ITO等。
2)在像素界定层之上形成呈固态的形态转变层。所述在像素界定层之上形成呈固态的形态转变层包括：采用曝光刻蚀的方法，或者采用转印的方法，在像素界定层12远离基板衬底10一侧的表面之上形成呈固态的形态转变层16。其中，形态转变层16具有的特性是在特定光照条件下呈固态，在特定光照条件下呈液态，如图5所示。
实施例中，形态转变层16边缘与像素界定层12表面边缘之间的距离为2um-5um，以防止将形态转变层16从像素界定层12之上剥离时，将亚像素区13之上的有机功能层14被剥离，影响亚像素区13的显示效果。
实施例中，形态转变层16在紫外光的照射下呈液态，在可见光的照射下呈固态。其中，形态转变层16的材料具有热力学稳定的顺式和亚稳定的反式，比如，形态转变层16的材料为偶氮苯基团。或者，形态转变层16的材料为可在固态和气体之间转换的气体产生材料，比如，形态转变层16的材料包括氮化镓、氮化铝、季戊四醇四硝酸酯和三硝基甲苯中的至少一种。
3)在像素界定层12和亚像素区13之上形成覆盖形态转变层16的有机功能层14，如图6所示。其中，有机功能层14可以为电荷产生层，也可以为包括电荷产生层、电子传输层以及空穴传输层等层膜结构的发光功能层。也就是说，实施例中，在形态转变层16之上设置电荷产生层之后，进行对形态转变层16液化，将电荷产生层从像素界定层12之上剥离；或者，在形态转变层16之上设置包括电荷产生层、电子传输层以及空穴传输层等层膜结构的发光功能层之后，进行对形态转变层16液化，将发光功能层从像素界定层12之上剥离。
4)对呈固态的形态转变层进行液化。所述对呈固态的形态转变层进行液化包括：将基板衬底10翻转，使基板衬底10具有有机功能层14的一面朝下；对基板衬底10进行360-400nm的紫外光照射，使呈固态的形态转变层16变成液态或气态，使转变形成液态或气态的形态转变层16以及位于该形态转变层16之上的有机功能层14从像素界定层12的表面之上剥离，掉落至位于基板衬底10下方的空白玻璃上，从而在有机功能层14中形成开口15。该开口15将亚像素区13之上的有机功能层14与亚像素区13之外区域的有机功能层14隔开，如图7所示。
5)将上述基板衬底10翻转后，放置于金属蒸镀腔内。在有机功能层14和开口15之上形成覆盖整个基板衬底10的阴极层17，如图8所示。
综上所述，本发明实施例显示基板通过开口将亚像素区之上的有机功能层与亚像素区之外区域的有机功能层隔开，以解决亚像素区漏光的问题。
第二实施例
基于前述实施例的技术构思，本发明实施例还提供了一种显示基板的制备方法，所述显示基板的制备方法包括：
在基板衬底之上形成像素界定层，使所述像素界定层之间形成亚像素区；
在所述像素界定层之上形成呈固态的形态转变层，其中，所述形态转变层在光照条件下能够在固态和液态之间转换；
在所述像素界定层和所述亚像素区之上形成有机功能层，使所述有机功能层覆盖所述形态转变层；
将呈固态的所述形态转变层进行液化，使所述形态转变层以及位于所述形态转变层之上的有机功能层从所述像素界定层之上剥离，形成将所述亚像素区之上的有机功能层与所述像素界定层之上的有机功能层隔开的开口。
第三实施例
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括前述的显示基板。显示装置可以是手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
在本发明实施例的描述中，需要理解的是，术语“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种显示基板，其特征在于，包括基板衬底以及形成于所述基板衬底之上的像素界定层，所述像素界定层之间形成有亚像素区，所述亚像素区和所述像素界定层之上设置有覆盖所述基板衬底的有机功能层，所述有机功能层中设有开口，所述开口将所述亚像素区之上的有机功能层与所述亚像素区之外区域的有机功能层隔开。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述开口位于所述像素界定层远离所述基板衬底一侧的表面。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述有机功能层之上设置有覆盖所述开口的阴极层。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述有机功能层包括电荷产生层。
5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-4任一所述的显示基板。
6.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述显示基板的制备方法包括：
在基板衬底之上形成像素界定层，使所述像素界定层之间形成亚像素区；
在所述像素界定层之上形成呈固态的形态转变层，其中，所述形态转变层在光照条件下能够在固态和液态/气态之间转换；
在所述像素界定层和所述亚像素区之上形成有机功能层，使所述有机功能层覆盖所述形态转变层；
将呈固态的所述形态转变层进行液化，使所述形态转变层以及位于所述形态转变层之上的有机功能层从所述像素界定层之上剥离，形成将所述亚像素区之上的有机功能层与所述亚像素区之外区域的有机功能层隔开的开口。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述形态转变层边缘与所述像素界定层表面边缘之间的距离为2um-5um。
8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述形态转变层在紫外光的照射下呈液态，在可见光的照射下呈固态。
9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述形态转变层的材料具有热力学稳定的顺式和亚稳定的反式。
10.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述形态转变层的材料包括氮化镓、氮化铝、季戊四醇四硝酸酯和三硝基甲苯中的至少一种。
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