CN110603430B - 光测量控制程序、光测量系统及光测量方法 - Google Patents
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Abstract
本发明的光测量控制程序为在包含法布里‑珀罗干涉滤光器及光检测器的光检测装置中,通过取得自光检测器输出的电信号而使计算机执行对成为测量对象的光进行测量的处理的光测量控制程序;上述法布里‑珀罗干涉滤光器具有经由空隙而彼此相对的一对镜面部,且一对镜面部间的距离对应于一对镜面部间产生的电位差而变化;上述光检测器检测透过法布里‑珀罗干涉滤光器的光;且该光测量控制程序使计算机作为以下两者发挥功能:电压控制部,其在开始电信号的取得前,将一对镜面部间产生的电位差控制为阶段性增加直至达到与测量对象的光的波长对应的设定电位差;及信号取得部,其在电压控制部在一对镜面部间产生设定电位差的状态下取得电信号。
Description
技术领域
本公开关于一种光测量控制程序、光测量系统及光测量方法。
背景技术
以往,已知具备法布里-珀罗干涉型的光滤光器的光检测装置。例如专利文献1所公开的分光检测装置具备光滤光器与接收透过光滤光器的光的受光元件。该光滤光器具有彼此相对的第1基板与第2基板,且第1基板与第2基板之间的距离通过静电致动器控制。通过控制距离,而控制光滤光器的透过波长。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2011-191492号公报
发明内容
发明所要解决的问题
然而,以专利文献1的技术,自未施加电压的初期状态急速施加电压直至达到作为目标的电压。此时,可能产生施加的电压超过作为目标的电压的所谓过冲(overshoot)。因此,有空隙小于目标,产生起因于牵引(pull in)现象的粘附(sticking)的担忧。该情况,有难以稳定测量的担忧。
本公开的一形态的目的在于提供使用法布里-珀罗干涉滤光器而可测量稳定的光的光测量控制程序、光测量系统及光测量方法。
解决问题的技术手段
一方面的光测量控制程序为在包含法布里-珀罗干涉滤光器及光检测器的光检测装置中,通过取得自上述光检测器输出的电信号而使计算机执行对成为测量对象的光进行测量的处理的光测量控制程序;上述法布里-珀罗干涉滤光器具有经由空隙而彼此相对的一对镜面部,且一对镜面部间的距离对应于一对镜面部间产生的电位差而变化;上述光检测器检测透过法布里-珀罗干涉滤光器的光;且该光测量控制程序使计算机作为以下两者发挥功能:电压控制部,其在开始电信号的取得前,将一对镜面部间产生的电位差控制为阶段性增加直至达到与测量对象的光的波长对应的设定电位差;及信号取得部,其取得电压控制部在一对镜面部间产生设定电位差的状态下的电信号。
一方面的光测量系统包含:法布里-珀罗干涉滤光器,其具有经由空隙而彼此相对的一对镜面部,且一对镜面部间的距离对应于一对镜面部间产生的电位差而变化;光检测器,其检测透过法布里-珀罗干涉滤光器的光;及控制部,其控制一对镜面部间产生的电位差,并取得自光检测部输出的电信号;且控制部包含:电压控制部,其以透过法布里-珀罗干涉滤光器的光的波长成为测量对象的光的波长的方式,在一对镜面部间产生与测量对象的光的波长对应的设定电位差;及信号取得部,其取得电压控制部在一对镜面部间产生设定电位差的状态下的电信号;且电压控制部在由信号取得部开始电信号的取得前,使一对镜面部间产生的电位差阶段性增加直至达到设定电位差。
另外,一方面的光测量方法使用包含法布里-珀罗干涉滤光器及光检测器的光检测装置,通过取得自上述光检测器输出的电信号而对成为测量对象的光进行测量的光测量方法;上述法布里-珀罗干涉滤光器具有经由空隙而彼此相对的一对镜面部,且一对镜面部间的距离对应于一对镜面部间产生的电位差而变化;光检测器,其检测透过法布里-珀罗干涉滤光器的光;且该光测量方法包含:电压控制步骤,其在开始电信号的取得前,使一对镜面部间产生的电位差阶段性增加直至达到与测量对象的光的波长对应的设定电位差;信号取得步骤,其在电压控制步骤后,取得使在一对镜面部间产生设定电位差的状态下的电信号。
这样的光测量控制程序、光测量系统及光测量方法为对应于一对镜面部间产生的电位差大小,而控制一对镜面部间的距离。由此,可控制透过法布里-珀罗干涉滤光器的光的波长。此情况下,通过产生与测量对象的光的波长对应的设定电位差,可检测测量对象的波长的光。此处,在一对镜面部间产生的电位差阶段性增加直至达到设定电位差。因此,与电位差急剧增加的情形相比,能够抑制过冲的产生。由此,能够抑制一对镜面部彼此的粘附。因此,可测量使用法布里-珀罗干涉滤光器的稳定的光。
另外,在一方面也可为,取得一对镜面部间产生的电位差达到设定电位差起经过待机时间后的信号。根据该构成,即使因在一对镜面部间产生的设定电位差的增加的影响而使法布里-珀罗干涉滤光器的温度上升,也可通过待机时间使法布里-珀罗干涉滤光器的温度稳定,而可抑制法布里-珀罗干涉滤光器的透过波长的变动。
另外,在一方面也可为,在一对镜面部间产生的电位差达到设定电位差后,且取得电信号之前,取得法布里-珀罗干涉滤光器的温度。根据该构成,可取得接近于取得电信号时的法布里-珀罗干涉滤光器温度的温度。由此,基于例如测量的温度,可进行设定电位差的修正。
另外,在一方面也可为,在取得电信号之后,使一对镜面部间产生的电位差自设定电位差阶段性减少。根据该构成,在测量结束后,因一对镜面部彼此的距离阶段性变化,故抑制该镜面部的振动。此时,可迅速开始例如下次的测量。
另外,在一方面也可为,作为设定电位差,包含与互不相同的多个波长对应的多个设定电位差,且在一对镜面部间依序产生多个设定电位差的各个,且在开始电信号的取得之前,使一对镜面部间产生的电位差阶段性增加直至达到多个设定电位差的中最初的设定电位差。此情况下,通过光测量控制程序、光测量系统及光测量方法,可获得分光光谱。
另外,在一方面也可为,以多个设定电位差依序变大的顺序,在一对镜面部间产生多个设定电位差的各个。此情况下,因最初在一对镜面部间产生的设定电位差为最小,故可降低发生粘附的风险。
另外,在一方面也可为,以将多个设定电位差依序变小的顺序,在一对镜面部间产生各多个设定电位差的各个。此情况下,因一面降低对于法布里-珀罗干涉滤光器的电性负荷一面进行光的测量,故可抑制法布里-珀罗干涉滤光器的温度变化。由此,抑制透过法布里-珀罗干涉滤光器的光的波长变动。
发明的效果
根据一方面的光测量控制程序、光测量系统及光测量方法,可测量使用法布里-珀罗干涉滤光器的稳定的光。
附图说明
图1为一实施方式的光检测装置的剖面图。
图2为法布里-珀罗干涉滤光器的立体图。
图3为沿图2的III―III线的剖面图。
图4为用于说明光检测装置的驱动方法的框图。
图5为显示使用光检测装置的测量流程的表格。
图6为显示施加于法布里-珀罗干涉滤光器的电压与时间的关系的图表。
图7为显示光测量控制程序的图。
图8为显示利用光检测装置的测量流程的其它例的表格。
图9为施加于法布里-珀罗干涉滤光器的电压与时间的关系的其它例的图表。
具体实施方式
以下,针对本公开的实施方式,一面参照图式一面进行具体说明。为便于说明,对实质相同的要件标注相同符号,有省略其说明的情形。另,本实施方式的光测量系统作为一例,可利用于流体中的物质识别、流通线路的塑料的选别等。在如此的用途中,具有以高速连接并测量多个样本。
首先,在说明光测量系统之前,对用于光测量系统的光检测装置的一例,参照图1~3进行说明。如图1所示,光检测装置1具备封装体2。封装体2为具有底座3与盖4的CAN封装(金属外壳的封装)。盖4通过侧壁5及顶壁6一体构成。底座3及盖4由金属材料形成,且相互气密接合。在由金属材料形成的封装体2中,侧壁5的形状为以特定的线L为中心线的圆筒状。底座3及顶壁6在平行于线L的方向彼此相对,且分别封闭侧壁5的两端。
在底座3的内面3a固定有配线基板7。作为配线基板7的基板材料,可使用例如硅、陶瓷、石英、玻璃、及塑料等。在配线基板7中安装有光检测器(光检测部)8与热敏电阻等的温度检测器16(参照图4)。光检测器8配置于线L上。更具体而言,光检测器8以其受光部的中心线与线L一致的方式配置。光检测器8使用例如使用InGaAs等的量子型传感器、热电堆或辐射测热器的热型传感器等的红外线检测器。在检测紫外线、可见光、近红外线的各波长域的光的情形时,作为光检测器8,可使用例如硅光电二极管等。另,在光检测器8中可设置1个受光部,或也可将多个受光部设置为阵列状。再者,也可将多个光检测器8安装于配线基板7。温度检测器16也可以能够检测法布里-珀罗干涉滤光器10的温度变化的方式配置于例如接近法布里-珀罗干涉滤光器10的位置。
在配线基板7上固定有多个间隔件9。作为各间隔件9的材料,可使用例如硅、陶瓷、石英、玻璃、及塑料等。在多个间隔件9上,通过例如粘合剂固定法布里-珀罗干涉滤光器10。法布里-珀罗干涉滤光器10配置于线L上。更具体而言,法布里-珀罗干涉滤光器10以该透光区域10a的中心线与线L一致的方式配置。另,间隔件9也可与配线基板7一体构成。另外,法布里-珀罗干涉滤光器10也可并非由多个间隔件9支承,而是由1个间隔件9支承。另外,间隔件9也可与法布里-珀罗干涉滤光器10一体构成。
在底座3固定有多个引线接脚11。更具体而言,各引线接脚11在维持与底座3之间的电绝缘性及气密性的状态下,贯穿底座3。在各引线接脚11通过导线12而电连接设置于配线基板7的电极焊垫、光检测器8的端子、温度检测器16的端子、及法布里-珀罗干涉滤光器10的端子的各个。另,光检测器8、温度检测器16及法布里-珀罗干涉滤光器10也可经由配线基板7电连接于各引线接脚11。例如,也可将各个端子与设置于配线基板7的电极焊垫电连接,并通过导线12连接电极焊垫与各引线接脚11。由此,分别对光检测器8、温度检测器16、及法布里-珀罗干涉滤光器10输入输出电信号。
在封装体2形成有开口2a。更具体而言,开口2a以其中心线与线L一致的方式形成于盖4的顶壁6。在平行于线L的方向观察的情形时,开口2a的形状为圆形状。在顶壁6的内面6a,以封闭开口2a的方式配置透光构件13。透光构件13与顶壁6的内面6a气密接合。透光构件13具有在平行于线L的方向彼此相对的光入射面13a及光出射面(内面)13b、以及侧面13c。透光构件13的光入射面13a成为开口2a的与顶壁6的外表面大致同一平面。透光构件13的侧面13c接触于封装体2的侧壁5的内面5a。即,透光构件13直达开口2a内及侧壁5的内面5a。此种透光构件13以将开口2a作为下侧的状态于盖4的内侧设置玻璃颗粒,且通过使该玻璃颗粒熔融而形成。即,透光构件13由熔融玻璃而形成。
在透光构件13的光出射面13b,通过粘合构件15固定带通滤波器14。即,粘合构件15经由接合于顶壁6的内面6a的透光构件13,对于顶壁6的内面6a固定带通滤波器14。带通滤波器14使透过透光构件13的光中的光检测装置1的测定波长范围的光(特定波长范围的光,应入射至法布里-珀罗干涉滤光器10的透光区域10a的光)选择性透过(即,仅使该波长范围的光透过)。带通滤波器14的形状为四边形板状。更具体而言,带通滤波器14具有在与线L平行的方向彼此相对的光入射面14a及光出射面14b、以及4个侧面14c。带通滤波器14为在通过透光性材料(例如,硅、玻璃等)形成为四边形板状的透光构件的表面,形成介电质多层膜(例如,包含TiO2、Ta2O5等的高折射材料与SiO2、MgF2等的低折射材料的组合的多层膜)的滤波器。
粘合构件15具有配置于带通滤波器14的光入射面14a的全区域的第1部分15a。即,第1部分15a为配置于粘合构件15中彼此相对的透光构件13的光出射面13b与带通滤波器14的光入射面14a之间的部分。再者,粘合构件15具有于自平行于线L的方向观察的情形时自带通滤波器14的外缘朝外侧突出的第2部分15b。第2部分15b到达至侧壁5的内面5a,并与侧壁5的内面5a接触。另外,第2部分15b与带通滤波器14的侧面14c接触。
在如以上所述般构成的光检测装置1中,若自外部,经由开口2a、透光构件13及粘合构件15而将光入射至带通滤波器14,则使特定波长范围的光选择性透过。若将透过带通滤波器14的光入射至法布里-珀罗干涉滤光器10的透光区域10a,则使特定波长范围的光中的特定波长的光选择性透过。透过法布里-珀罗干涉滤光器10的透光区域10a的光入射至光检测器8的受光部,并由光检测器8检测。即,光检测器8将透过法布里-珀罗干涉滤光器10的光转换为电信号并输出。例如,光检测器8输出与入射至受光部的光的强度相应的大小的电信号。
如图2及图3所示,在法布里-珀罗干涉滤光器10中,将使与第1镜面部35与第2镜面部36之间(一对镜面部间)的距离对应的光透过的透光区域10a设置于线L上。透光区域10a为例如圆柱状的区域。在透光区域10a中,精度极良好地控制第1镜面部35与第2镜面部36的距离。即,透光区域10a为在法布里-珀罗干涉滤光器10中为了可使特定波长的光选择性透过而将第1镜面部35与第2镜面部36的距离控制为特定距离的区域,且为可供具有与第1镜面部35与第2镜面部36的距离对应的特定波长的光透过的区域。
法布里-珀罗干涉滤光器10具备矩形板状的基板21。基板21具有在平行于线L的方向上彼此相对的第1表面21a及第2表面21b。第1表面21a为光入射侧的表面。第2表面21b为光检测器8侧(即,光出射侧)的表面。在第1表面21a配置有第1层构造体30。在第2表面21b配置有第2层构造体40。
第1层构造体30通过将第1反射防止层31、第1层叠体32、第1中间层33及第2层叠体34依序层叠于第1表面21a而构成。在第1层叠体32与第2层叠体34之间,通过框状的第1中间层33形成空隙(气隙)S。通过框状的第1中间层33,在第1层叠体32上,经由空隙S而支承薄膜状的第2层叠体34。在沿线L的剖面中,透光区域10a的空隙S的宽度大于透光区域10a的外侧的各个空隙S的宽度。基板21包含例如硅、石英、玻璃等。在基板21包含硅的情形时,第1反射防止层31及第1中间层33例如由氧化硅构成。第1中间层33的厚度为例如数十nm~数十μm。
第1层叠体32中对应于透光区域10a的部分作为第1镜面部35发挥功能。第1层叠体32通过将多个多晶硅层与多个氮化硅层逐层交替层叠而构成。构成第1镜面部35的多晶硅层及氮化硅层的各光学厚度优选为中心透过波长的1/4的整数倍。另,第1镜面部35也可未经由第1反射防止层31而直接配置于第1表面21a。
第2层叠体34中对应于透光区域10a的部分作为第2镜面部36发挥功能。第2镜面部36在平行于线L的方向中,经由空隙S与第1镜面部35相对。第2层叠体34通过将多个多晶硅层与多个氮化硅层逐层交替层叠而构成。构成第2镜面部36的多晶硅层及氮化硅层的各光学厚度优选为中心透过波长的1/4的整数倍。
在第1层叠体32及第2层叠体34中,也可替代氮化硅层而配置氧化硅层。另外,作为构成第1层叠体32及第2层叠体34的各层的材料,除上述的材料的外,可使用二氧化钛、氧化钽、氧化锆、氟化镁、氧化铝、氟化钙、硅、锗、及硫化锌等。
在第2层叠体34中在对应于空隙S的部分,形成有自与第2层叠体34的第1中间层33相反侧的表面34a直至空隙S的多个贯通孔34b。多个贯通孔34b形成为未对第2镜面部36的功能造成实质性影响的程度。多个贯通孔34b为用于通过蚀刻去除第1中间层33的一部分而形成空隙S的贯通孔。
在第1镜面部35,以包围透光区域10a的方式形成第1电极22。在第1镜面部35,以包含透光区域10a的方式形成第2电极23。即,第1镜面部35包含第1电极22及第2电极23。第1电极22及第2电极23通过第1层叠体32中最接近空隙S的多晶硅层中掺杂杂质并低电阻化而形成。在第2镜面部36,形成第3电极24。即,第2镜面部36包含第3电极24。第3电极24在平行于线L的方向中,经由空隙S与第1电极22及第2电极23相对。第3电极24通过在第2层叠体34中最接近空隙S的多晶硅层中掺杂杂质并低电阻化而形成。另,第2电极23的大小优选为包含透光区域10a的整体的大小,但也可与透光区域10a的大小大致相同。
在第1层构造体30中,设置一对第1端子25及一对第2端子26。一对第1端子25隔着透光区域10a彼此相对。各第1端子25配置于自第2层叠体34的表面34a直至第1层叠体32的贯通孔内。各第1端子25经由配线22a与第1电极22电连接。一对第2端子26在与一对第1端子25彼此相对的方向垂直的方向中,隔着透光区域10a而彼此相对。各第2端子26配置于自第2层叠体34的表面34a直至第1中间层33的内部的贯通孔内。各第2端子26经由配线23a与第2电极23电连接,并且经由配线24a与第3电极24电连接。
在第1层叠体32的第1中间层33侧的表面32a上,设置有沟槽27、28。沟槽27以包围配线23a的与第2端子26的连接部分的方式延伸为环状。沟槽27将第1电极22与配线23a电绝缘。沟槽28沿第1电极22的内缘延伸为环状。沟槽28将第1电极22与第1电极22内侧的区域(即,存在第2电极23的区域)电绝缘。在第2层叠体34的表面34a,设置有沟槽29。沟槽29以包围第1端子25的方式延伸为环状。沟槽29将第1端子25与第3电极24电绝缘。各沟槽27、28、29内的区域可为绝缘材料,也可为空隙。
第2层构造体40通过将第2反射防止层41、第3层叠体42、第2中间层43及第4层叠体44以该顺序层叠于第2表面21b而构成。第2反射防止层41、第3层叠体42、第2中间层43及第4层叠体44具有分别与第1反射防止层31、第1层叠体32、第1中间层33及第2层叠体34同样的构成。如此,第2层构造体40具有将基板21作为基准与第1层构造体30对称的层叠构造。即,第2层构造体40以与第1层构造体30对应的方式构成。第2层构造体40具有抑制基板21的翘曲等的功能。
在第3层叠体42、第2中间层43及第4层叠体44中,以包含透光区域10a的方式形成开口40a。开口40a的中心线与线L一致。开口40a为例如圆柱状的区域,且具有与透光区域10a大致相同的直径。开口40a在光出射侧开口,且开口40a的底面到达至第2反射防止层41。开口40a使透过第1镜面部35及第2镜面部36的光通过。
在第4层叠体44的光出射侧的表面,形成遮光层45。遮光层45例如由铝等构成。在遮光层45的表面及开口40a的内面,形成保护层46。保护层46包含例如氧化铝等。另,通过将保护层46的厚度设为1~100nm(优选为30nm左右),可忽略保护层46的光学影响。
如以上所述般构成的法布里-珀罗干涉滤光器10具有经由空隙S彼此相对的一对第1镜面部35、第2镜面部36。一对第1镜面部35、第2镜面部36间的距离对应于一对第1镜面部35、第2镜面部36间产生的电位差而变化。即,在法布里-珀罗干涉滤光器10中,经由一对第1端子25及一对第2端子26对第1电极22与第3电极24施加电压。由此,通过该电压在第1电极22与第3电极24之间产生电位差,且在第1电极22与第3电极24之间产生对应于该电位差的静电力。通过该静电力,将第2镜面部36吸引至固定于基板21的第1镜面部35侧,并调整第1镜面部35与第2镜面部36的距离。如此,在法布里-珀罗干涉滤光器10中,第1镜面部35与第2镜面部36的距离为可变。
透过法布里-珀罗干涉滤光器10的光的波长依存于透光区域10a的第1镜面部35与第2镜面部36之间的距离。因此,通过调整施加于第1电极22与第3电极24的电压,可适当选择透过的光的波长。第1电极22与第3电极24之间的电位差越大,第1镜面部35与第2镜面部36的距离越小,且透过法布里-珀罗干涉滤光器10的光的波长越短。第2电极23为与第3电极24相同电位。因此,第2电极23作为用于确保透光区域10a的第1镜面部35及第2镜面部36平坦的补偿电极发挥功能。
在光检测装置1中,通过一面使施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压变化(即,在法布里-珀罗干涉滤光器10中一面使第1镜面部35与第2镜面部36的距离变化),一面以光检测器8检测透过法布里-珀罗干涉滤光器10的透光区域10a的光的强度,可获得分光光谱。
接着,参照图4对光测量系统进行说明。如图4所示,光检测系统100包含光检测装置1、电源装置60及控制装置70。如上所述,光检测装置1包含法布里-珀罗干涉滤光器10、光检测器8及温度检测器16。电源装置60可在构成法布里-珀罗干涉滤光器10的一对第1镜面部35、第2镜面部36间施加电压。更具体而言,电源装置60电连接于引线接脚11,并经由一对第1端子25及一对第2端子26在第1电极22与第3电极24之间施加电压。
控制装置70具有电压控制部71、信号数据取得部(信号取得部)72及温度数据取得部(温度取得部)73。控制装置70可由计算机构成,该计算机包含进行运算处理的CPU等的运算电路;由RAM及ROM的内存构成的记忆装置;及输入输出装置。例如控制装置70也可由包含智能型手机、平板终端的智能型装置等的计算机构成。控制装置70与电源装置60电连接。另外,控制装置70与光检测装置1的光检测器8及温度检测器16电连接。控制装置70所执行的光测量方法可基于储存于记忆装置的程序而执行。
电压控制部71基于例如由使用者设定的条件,控制施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压。即,电压控制部71对电源装置60输出控制信号,并控制自电源装置60施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压。例如,电压控制部71对电源装置60输出指定施加的电压大小、施加的时序及施加的持续时间的控制信号。另,所谓施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压为施加于第1电极22与第3电极24间的电压。
信号数据取得部72取得由光检测器8转换的电信号。例如,信号数据取得部72基于自电压控制部71输出至电源装置60的控制信号与所取得的来自光检测器8的电信号,可将施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压与在施加该电压的状态下取得的电信号建立关联并保持。
温度数据取得部73取得法布里-珀罗干涉滤光器10的温度。在本实施方式中,温度数据取得部73基于来自光检测装置1的温度检测器16的输入值而取得法布里-珀罗干涉滤光器10的温度。在例如温度检测器16为热敏电阻的情形时,温度数据取得部73取得热敏电阻的电阻值,并自该电阻值导出温度。
在本实施方式的控制装置70中,电压控制部71以将透过法布里-珀罗干涉滤光器10的光的波长设为测量对象的光的波长的方式,在一对镜面部间产生对应于测量对象的光的波长的电位差(设定电位差)。例如,电压控制部71可对应于测量对象的光的波长,对法布里-珀罗干涉滤光器10施加所将设定的电压(以下,称为设定电压)。此处,对电压控制部71的设定电压的导出方法的一例进行说明。
首先,测量施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压(控制电压)与峰值透过波长的实测数据,并将控制电压与峰值透过波长的关系以将控制电压设为变量的多项式(作为一例为7次式)进行拟合(fitting)。继而,通过拟合将多项式的系数作为波长换算系数予以导出。然后,使用由波长换算系数特定出的多项式,作成控制电压与峰值透过波长以一对一对应的列表,制作对于例如0.25mV间距的控制电压的峰值透过波长的列表。该列表也可限定施加的电压范围。此时,可抑制对于法布里-珀罗干涉滤光器10过量施加电压,并抑制法布里-珀罗干涉滤光器10的损伤(粘附等)。
接着,基于该峰值透过波长的列表,制作例如对于1nm间距的峰值透过波长的控制电压的列表。控制电压的列表的波长范围可配合法布里-珀罗干涉滤光器10的对应波长范围(例如,1550-1850nm)而设定。控制电压的列表也可限定波长的范围。此时,可抑制对于法布里-珀罗干涉滤光器10过量施加电压,并抑制法布里-珀罗干涉滤光器10的损伤(粘附等)。另,控制电压的列表也可使用由拟合所导出的多项式并制作。此情况下,测量施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压(控制电压)与峰值透过波长的实测数据,并将控制电压与峰值透过波长的关系以将峰值透过波长为变量的多项式(作为一例为7次式)进行拟合。继而,通过拟合将多项式的系数作为电压运算系数予以导出,使用所得的多项式制作控制电压的列表。由此,可导出与测量对象所指定的光的波长对应的设定电压。另外,通过参照控制电压的列表,在信号数据取得部72中,将自光检测器8输入的电信号与峰值透过波长产生对应。
另外,法布里-珀罗干涉滤光器10的峰值透过波长受到温度变化的影响。因此,在本实施方式中,也可制作修正与法布里-珀罗干涉滤光器10的温度对应的控制电压的列表。例如,基于由温度数据取得部73取得的法布里-珀罗干涉滤光器10的温度与上述控制电压的列表,制作对于1nm间距的峰值透过波长的经温度修正的控制电压的列表。在峰值透过波长因温度而以大致一定比例变动的情形时,可使用用于温度修正的系数而制作经温度修正的控制电压的列表。
另外,通过光测量系统100的电路构成,有在对于法布里-珀罗干涉滤光器10实际施加的电压与由电压控制部71指定的电压之间产生偏移的情形。因此,也可根据需要修正电压的误差。例如,也可反映电路所致的电压误差,制作对于1nm间距的峰值透过波长的控制电压的列表。或,也可进而设置测定例如实际施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压的机构。即,在所测定的电压与由电压控制部71指定的电压间有偏移的情形时,也可以消除该偏移的方式进行调节控制电压的反馈控制。此情况下,可抑制由电压控制部71指定的电压与实际施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压的误差。
继而,针对由控制装置70执行的控制更详细地进行说明。图5为显示控制装置70的控制流程的表格。在该表格中显示由控制装置70执行的各控制的项目。另外,显示在每控制的项目由电压控制部71指定的电压的状态。另外,图6为示意性显示根据图5的表格控制的情形的施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压与时间的关系的表格。在本实施方式中,将第1电极22的电位固定为0V,并在第2电极23及第3电极24施加电压。即,施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压的大小相当于在第1电极22与第3电极24之间产生的电位差。
如图5所示,在光测量系统100的测定开始时,电压控制部71将包含不施加电压的指定的控制信号对于电源装置60输出。即,尚未对法布里-珀罗干涉滤光器10施加电压。在开始时点,例如使用者也可指定作为测量对象的波长的范围。如此的指定可通过控制装置70的输入设备等进行。另外,也可预先决定作为测量对象的波长的范围。
继而,通过控制装置70的控制移至测定开始电压设定(电压控制步骤的一例)。在测定开始电压设定中,电压控制部71在由信号数据取得部72开始电信号的取得之前,使施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压阶段性上升(增加)至达到设定电压。即,电压控制部71以对于电源装置60开始施加电压的方式输出控制信号。由此,在一对镜面部间产生的电位差阶段性增加至达到与设定电压对应的设定电位差。电压控制部71将与作为测量对象的波长范围中的最初检测的波长对应的设定电压设定为第1波长电压。然后,电压控制部71在电压的施加开始后,使电压阶段性上升至达到第1波长电压。在本实施方式中,通过电压控制部71将电压控制为阶梯函数状。例如,由电压控制部71指定的电压的值也可自0V开始以每5msec上升1V。如图6所示,测定开始电压设定的处理在时间t0~t1之间执行。此时,将时间t1的电压V1的值设为第1波长电压。在本实施方式中,由电压控制部71指定的电压的值也可基于上述控制电压的列表,且基于温度等进行修正。
另,在本说明书的「使电压阶段性上升(下降)至达到设定电压」意指,在自当前的电压至达到设定电压为止的至少1阶段,将当前的电压与设定电压之间的电压设定为目标的电压。此情况下,施加电压相对于时间的变化量于自当前的电压达到目标的电压时大幅变化。且,一旦变化量减小后,再次向下一目标的电压增大变化量。通过重复该步骤直至达到设定电压,而将电压阶段性上升至设定电压。
继而,由控制装置70进行的控制移至电压上升后等待时间。在该控制中,电压控制部71将施加第1波长电压的控制信号输出至电源装置60的状态维持特定的待机时间(例如200msec)。该待机时间也可通过使用者自由地设定。
继而,控制装置70的控制移至温度测量(温度取得步骤的一例)。在温度测量的控制中,温度数据取得部73取得法布里-珀罗干涉滤光器10的温度。该控制由电压设定、取得等待时间及处理时间构成。电压控制部71将施加第1波长电压的控制信号作为电压设定而对电源装置60输出。温度数据取得部73在经过作为取得等待时间而指定的时间(例如1msec)后,取得来自温度检测器16的输入值。然后,在经过作为处理时间所指定的时间(例如4msec)之间之前,处理由温度数据取得部73取得的温度数据。即,在该处理时间之间可将温度的数据记录于控制装置70的记忆装置。另外,基于例如取得的温度的数据,也可修正控制电压的列表。此时,在此后的处理中,使用参照修正的电压的列表而生成的设定电压。如图6所示,电压上升等待时间的处理及温度测量的处理在时间t1~t2之间执行。时间t1~t2之间维持电压V1。
继而,控制装置70的控制移行于第1波长测定(信号取得步骤的一例)。在第1波长测定的控制中,信号数据取得部72取得将施加第1波长电压作为设定电压的状态下的光检测器8的电信号。即,信号数据取得部72取得在一对镜面部间产生与设定电压对应的电位差的状态下的电信号。该控制由电压设定、取得等待时间及处理时间所构成。电压控制部71将施加第1波长电压作为电压设定的控制信号对于电源装置60输出。在即将进行第1波长测定之前,通过再度输出施加第1波长电压的控制信号,而保障于测定时施加意图的电压。另外,确实设定基于已完成温度的修正的列表的电压。信号数据取得部72在仅经过作为取得等待时间所指定的时间(例如,1msec)之后,取得来自光检测器8的电信号。且,直至经过作为处理时间所指定的时间(例如,4msec)为止的期间,处理由信号数据取得部72取得的电信号的数据。即,在该处理时间期间可将电信号的数据记录于控制装置70的记忆装置。如
图6所示,第1波长测定在时间t2~t21之间执行。在本实施方式中,自测定开始电压设定结束的时间t1至第1波长测定结束的时间t21为止,持续施加第1波长电压作为设定电压。
继而,控制装置70的控制移至第2波长测定。在第2波长测定的控制中,信号数据取得部72取得将施加第2波长电压作为设定电压的状态下的光检测器8的电信号。在该控制中,也与第1波长测定同样,由电压设定、取得等待时间及处理时间构成。电压控制部71将施加第2波长电压作为电压设定的控制信号对于电源装置60输出。信号数据取得部72在仅经过作为取得等待时间所指定的时间(例如,1msec)之后,取得来自光检测器8的电信号。且,经过作为处理时间所指定的时间(例如,4msec)为止的期间,处理由信号数据取得部72取得的电信号的数据。随后,依第3波长测定、第4波长测定…的顺序,重复测定直至成为测量对象的波长的范围的测定。此情况下,电压控制部71将多个设定电压分别依序施加于法布里-珀罗干涉滤光器10。如图6所示,第2波长测定的处理在时间t21~t22之间执行。第3波长测定以后的测定的处理于时间t22~t3之间执行。另外如图标例,随着成为测量对象的波长长度变短,即随着施加的设定电压变大,电压的变化量(设定电压彼此的差)减小。
如图6所示,在本实施方式中,以对应于设定电压的波长依序减小的顺序执行测定。即,第1波长电压即电压V1在设定电压中最小,接着,以第2波长电压(电压V2)的顺序变大,且最后的测量对象的电压V3为最大电压。在本实施方式中,测量对象的波长以增量1nm的刻度设定。此时,如图标,随着测量对象的波长减小,设定电压的上升大小变小。
继而,控制装置70的控制移至测量结束后电压设定。在测量结束后电压设定的处理中,电压控制部71在将测量对象的范围的波长的光全部测量后,使施加的电压自测量结束时的设定电压(在图6的例中为电压V3)阶段性下降。由此,在一对镜面部间产生的电位差阶段性减少。例如,由电压控制部71指定的电压的值也可自测量结束时的设定电压(电压V3)开始,每5msec下降1V刻度。在本实施方式中,通过电压控制部71将电压控制为阶梯函数状。另外,在由电压控制部71指定的电压的值成为0V时,结束测量结束后电压设定的处理。由此,结束通过光测量系统100的测定。在光测量系统100,通过上述的处理,可取得测量对象的范围内的波长的光的分光光谱。
图7为显示储存用于使计算机作为控制装置70发挥共能的光测量控制程序P1的记录介质70a。储存于记录介质70a的光测量控制程序P1具备电压控制模块P11、信号数据取得模块P12及温度数据取得模块P13。通过执行电压控制模块P11、信号数据模块P12及温度数据模块P13而实现的功能分别与上述的电压控制部71、信号数据取得部72及温度数据取得部73的功能同样。
光测量控制程序P1记录于记录介质70a的程序记录区域。记录介质70a由例如CD-ROM(Compact Disc Read Only Memory:只读光盘)、DVD(Digital Versatile Disc:数字多功能光盘)、ROM(Read only memory:只读存储器)、及半导体内存等的记录介质构成。光测量控制程序P1也可作为重叠于载波的计算机数据信号经由通讯网络提供。
根据以上说明的光测量系统100,对应于施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压(即,第1镜面部35与第2镜面部36之间的电位差)的大小,控制第1镜面部35与第2镜面部36的距离。由此,可控制透过法布里-珀罗干涉滤光器10的光的波长。此情况下,可通过施加与测量对象的光的波长对应的设定电压,检测测量对象的波长的光。此处,电压控制部71在自开始对于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压施加后,使施加的电压阶段性上升直至达到设定电压。即,一对镜面部间的电位差阶段性增加。因此,与急剧施加电压的情形相比,抑制过冲(overshoot)的产生。由此,抑制第1镜面部35与第2镜面部36的粘附。因此,可测量使用法布里-珀罗干涉滤光器10的稳定的光。在本实施方式的法布里-珀罗干涉滤光器10中,将包含第2镜面部36的薄膜状的第2层叠体34对应于施加电压而移动。此情况下,轻量且刚性较低的第2层叠体34易对于施加电压追随。因此,若因急剧的电压施加而产生电压的过冲,则第2层叠体34立即对于超过作为目标的电压的电压追随并移动。此情况下,有因牵引现象产生粘附的可能性。因此,一面通过限制电压的上升幅度抑制过冲一面使施加电压阶段性上升的本实施方式的方法为有效。
另外,例如,在将法布里-珀罗干涉滤光器10与光检测器8收纳于小型的封装体的情形时,可使法布里-珀罗干涉滤光器10的配线与光检测器8的配线接近。此情况下,在对于法布里-珀罗干涉滤光器10施加电压时,对应于电压的变化,可能于光检测器8的检测信号产生串扰噪声。例如,如以高速的测量,在自施加电压后进行快速测量的情形时,在光检测器8的检测信号中留有串扰噪声,而有难以稳定测量的担忧。在本实施方式中,通过使达到设定电压为止的电压阶段性上升,而使施加的电压的变化量大小减小。通过如此使电压的变化量大小减小,而抑制串扰噪声的产生。
另外,若达到设定电压之前急剧施加电压,则认为因法布里-珀罗干涉滤光器10的可动部分急剧变形,而使镜面部分振动。此情况下,直至该振动稳定需较长时间,有难以稳定测量的担忧。在本实施方式中,通过阶段性施加电压,因镜面部彼此的距离阶段性变化,故抑制镜面部分的振动。因此,可稳定地测量光。
另外,信号数据取得部72在施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压达到设定电压后,在经过待机时间时可取得电信号。根据该构成,即使因施加设定电压时的电压上升的影响而使法布里-珀罗干涉滤光器10的温度上升,也可通过利用待机时间使法布里-珀罗干涉滤光器10的温度稳定,而可抑制法布里-珀罗干涉滤光器10的透过波长的变动。
另外,温度数据取得部73可在施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压达到设定电压后,且在信号数据取得部72取得电信号之前,取得法布里-珀罗干涉滤光器10的温度。根据该构成,可取得接近由信号数据取得部72取得电信号时的法布里-珀罗干涉滤光器10的温度的温度。由此,可基于例如测量的温度,进行设定电压的修正。
另外,电压控制部71也可在信号数据取得部72取得与测量对象的光的波长对应的电信号之后,使施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的电压自设定电压阶段性下降。根据该构成,在测量结束后,因第1镜面部35与第2镜面部36间的距离阶段性变化,故抑制镜面部大幅振动。
另外,电压控制部71将多个设定电压分别依序施加于法布里-珀罗干涉滤光器10,且通过信号数据取得部取得与多个设定电压对应的电信号。此情况下,可通过光测量系统获得分光光谱。
另外,电压控制部71可以多个设定电压依序增大的顺序,对法布里-珀罗干涉滤光器10施加多个设定电压的各个。此情况下,最初施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的设定电压为所有设定电压中的最小值。因此,与第1波长电压较高的情形相比,可将最初施加的电压的绝对值抑制为较小,并抑制串扰噪声的产生。另外,可使达到最大设定电压时(即,第1镜面部35与第2镜面部36最接近时)的电压变动量减小,并可降低产生粘附的风险。
以上,虽参照图式就本公开的实施方式进行了详述,但具体构成并不限定于该实施方式。
例如,通过控制装置70执行的控制流程并非限定于图5所示的形态。关于通过控制装置70执行的控制的其他例,如图8所示。在图8的例的说明中,对与图5的共同部分适当省略说明。
如图8所示,其他例的控制装置70的控制以如第1样品、第2样品的方式重复执行任意数的样品的测量。关于测量各样品的情形时的测量开始电压设定、电压上升后等待时间、温度测量、第1波长测定等、及测量结束后电压设定的控制与上述的实施方式同样。在图8的例中,在1个样品的测量与下1个样品的测量之间设定样品间等待时间的处理。在图示例中,将设定300msec的等待时间作为一例。该等待时间为用于收敛例如法布里-珀罗干涉滤光器10振动的时间。在本例中,因通过测量结束后电压设定的控制而使一对镜面部彼此的距离阶段性变化,故抑制该镜面部振动。因此,可较短地设定样品间等待时间,在以高速连续测量多个样品的情形时有利。另,在重视测定的高速性的情形时,也可不设置样品间等待时间。
另外,在上述的实施方式中,虽显示以对应于设定电压的波长依序减小的顺序执行测定的例,但也可以例如对应于设定电压的波长依序增大的顺序执行测定。此时,如图9所示,在自执行测定开始电压设定的处理的时间t0至时间t1之间,将电压阶段性上升至达到电压V3。电压V3为在对应于测量对象的波长中最短波长的电压。且,在时间t1~t2之间执行电压上升等待时间的处理及温度测量的处理。在时间t2~t21之间执行第1波长测定的处理。在时间t21~t22之间执行第2波长测定的处理。在时间t22~t3之间执行第3波长测定以后的测定的处理。在自时间t3至时间t4之间执行测量结束后电压设定的处理。
如图9所示,也可通过电压控制部71以多个设定电压依序减小的顺序,将多个设定电压的各个施加于法布里-珀罗干涉滤光器10。此情况下,随着测量进行,施加于法布里-珀罗干涉滤光器10的设定电压变小。一般而言于通过对设置于镜面部附近的电极施加电压而控制一对镜面部间距离的法布里-珀罗干涉滤光器中,具有随着电压上升的温度上升比随着电压下降温度下降更急剧进行的倾向。在将如上述的实施方式包含镜面的第1层叠体32的一部分、及构成包含镜面的薄膜状的第2层叠体34的层的一部分作为电极利用的情形时,该倾向易表现更为显著。因此,相较于温度易上升的电压上升时进行测定的状态,温度难以下降的电压下降时进行测定的形态更可抑制相同测定时间内的法布里-珀罗干涉滤光器10的温度变化。由此,抑制透过法布里-珀罗干涉滤光器10的光的波长变动。
另外,在上述实施方式中,虽例示将法布里-珀罗干涉滤光器10与光检测器8收纳于1个封装体的光检测装置1,但并不限定于此。只要透过法布里-珀罗干涉滤光器的光可通过光检测器检测即可,不必收纳于1个封装体。例如法布里-珀罗干涉滤光器与光检测器也可作为独立体,分别个别配置。
另外,在上述实施方式中,在测定开始电压设置及测定结束后电压设定的控制中,虽显示将电压上升或下降为阶梯函数状的例,但于该控制中,只要将电压阶段性上升或下降的形态即可,并不特别限定于阶梯函数状。
另外,在上述实施方式中,显示于测定的开始时未在法布里-珀罗干涉滤光器10施加电压的例,但并不限定于此。例如,也可在测定开始时,施加不会使法布里-珀罗干涉滤光器10的第2镜面部36自初期位置(施加电压为0V时的第2镜面部36的位置)大幅移动程度的电压。此情况下,因使施加的电压上升至第1波长电压为止的电压变动量变小,故可降低产生粘附的风险。
另外,在上述实施方式中,虽显示于将进行第1波长测定之前测量温度的例,但并不限定于此。例如,也可通过持续测量温度,在进行第2波长以后的测定时,随时修正对于峰值透过波长的控制电压的列表。
另外,也可在上述实施方式所示的各波长的处理时间(4msec)之间,多次(例如128次)检测光检测器的信号,并通过信号数据取得部将检测的信号平均化。根据该构成,可降低包含于来自光检测器的电信号的噪声的影响。在包含于来自光检测器的电信号的噪声较大的情形时,也可进一步增加信号的检测次数,且平均化。此情况下,也可根据需要增加各波长的处理时间。
符号说明
1 光检测装置
8 光检测器(光检测部)
70 控制装置(控制部)
71 电压控制部
72 信号数据取得部(信号取得部)
73 温度数据取得部(温度取得部)
100 光测量系统。
Claims (27)
1.一种具有光测量控制程序的存储介质,其特征在于,
所述光测量控制程序是在包含法布里-珀罗干涉滤光器及光检测器的光检测装置中,通过取得自所述光检测器输出的电信号而使计算机执行对成为测量对象的光进行测量的处理的光测量控制程序,所述法布里-珀罗干涉滤光器具有经由空隙而彼此相对的一对镜面部,且所述一对镜面部间的距离对应于所述一对镜面部间产生的电位差而变化,所述光检测器检测透过所述法布里-珀罗干涉滤光器的光,
所述光测量控制程序使所述计算机作为以下两者发挥功能:
电压控制部,其在所述一对镜面部间产生的电位差达到与所述测量对象的光的波长对应的设定电位差之前的、不进行用于所述测量的所述电信号的取得的期间,将所述一对镜面部间产生的电位差控制为阶段性增加直至达到所述设定电位差;及
信号取得部,其取得所述电压控制部在所述一对镜面部间产生所述设定电位差的状态下的所述电信号,
所述信号取得部取得所述一对镜面部间产生的电位差达到所述设定电位差起经过待机时间后的所述电信号。
2.如权利要求1所述的存储介质,其中,
使所述计算机进而作为取得所述法布里-珀罗干涉滤光器的温度的温度取得部发挥功能,
所述温度取得部在所述一对镜面部间产生的电位差达到所述设定电位差后,且在所述信号取得部取得所述电信号之前,取得所述法布里-珀罗干涉滤光器的温度。
3.如权利要求1或2所述的存储介质,其中,
所述电压控制部在通过所述信号取得部取得所述电信号后,使所述一对镜面部间产生的电位差自所述设定电位差阶段性减少。
4.如权利要求1或2所述的存储介质,其中,
所述设定电位差包含与互不相同的多个波长对应的多个设定电位差,
所述电压控制部,
在所述一对镜面部间依序产生所述多个设定电位差的各个,
在通过所述信号取得部开始取得所述电信号之前,使所述一对镜面部间产生的电位差阶段性增加至达到所述多个设定电位差的中最初的设定电位差。
5.如权利要求3所述的存储介质,其中,
所述设定电位差包含与互不相同的多个波长对应的多个设定电位差,
所述电压控制部,
在所述一对镜面部间依序产生所述多个设定电位差的各个,
在通过所述信号取得部开始取得所述电信号之前,使所述一对镜面部间产生的电位差阶段性增加至达到所述多个设定电位差的中最初的设定电位差。
6.如权利要求4所述的存储介质,其中,
所述电压控制部以所述多个设定电位差依序变大的顺序,在所述一对镜面部间产生所述多个设定电位差的各个。
7.如权利要求5所述的存储介质,其中,
所述电压控制部以所述多个设定电位差依序变大的顺序,在所述一对镜面部间产生所述多个设定电位差的各个。
8.如权利要求4所述的存储介质,其中,
所述电压控制部以所述多个设定电位差依序变小的顺序,在所述一对镜面部间产生所述多个设定电位差的各个。
9.如权利要求5所述的存储介质,其中,
所述电压控制部以所述多个设定电位差依序变小的顺序,在所述一对镜面部间产生所述多个设定电位差的各个。
10.一种光测量系统,其特征在于,
包含:
法布里-珀罗干涉滤光器,其具有经由空隙而彼此相对的一对镜面部,且所述一对镜面部间的距离对应于所述一对镜面部间产生的电位差而变化;
光检测部,其检测透过所述法布里-珀罗干涉滤光器的光;及
控制部,其控制所述一对镜面部间产生的电位差,且取得自所述光检测部输出的电信号,
所述控制部包含:
电压控制部,其以透过所述法布里-珀罗干涉滤光器的光的波长成为测量对象的光的波长的方式,在所述一对镜面部间产生与所述测量对象的光的波长对应的设定电位差;及
信号取得部,其取得所述电压控制部在所述一对镜面部间产生所述设定电位差的状态下的所述电信号,
所述电压控制部在所述一对镜面部间产生的电位差达到所述设定电位差之前的、不进行用于所述测量的所述电信号的取得的期间,使所述一对镜面部间产生的电位差阶段性增加直至达到所述设定电位差,所述信号取得部取得所述一对镜面部间产生的电位差达到所述设定电位差起经过待机时间后的所述电信号。
11.如权利要求10所述的光测量系统,其中,
所述控制部进而包含取得所述法布里-珀罗干涉滤光器的温度的温度取得部,
所述温度取得部在所述一对镜面部间产生的电位差达到所述设定电位差后,且在所述信号取得部取得所述电信号之前,取得所述法布里-珀罗干涉滤光器的温度。
12.如权利要求10或11所述的光测量系统,其中,
所述电压控制部在通过所述信号取得部取得所述电信号后,使所述一对镜面部间产生的电位差自所述设定电位差阶段性减少。
13.如权利要求10或11所述的光测量系统,其中,
所述设定电位差包含与互不相同的多个波长对应的多个设定电位差,
所述电压控制部,
在所述一对镜面部间依序产生所述多个设定电位差的各个,
在通过所述信号取得部开始所述电信号的取得前,使所述一对镜面部间产生的电位差阶段性增加至达到所述多个设定电位差的中最初的设定电位差。
14.如权利要求12所述的光测量系统,其中,
所述设定电位差包含与互不相同的多个波长对应的多个设定电位差,
所述电压控制部,
在所述一对镜面部间依序产生所述多个设定电位差的各个,
在通过所述信号取得部开始所述电信号的取得前,使所述一对镜面部间产生的电位差阶段性增加至达到所述多个设定电位差的中最初的设定电位差。
15.如权利要求13所述的光测量系统,其中,
所述电压控制部以所述多个设定电位差依序变大的顺序,在所述一对镜面部间产生所述多个设定电位差的各个。
16.如权利要求14所述的光测量系统,其中,
所述电压控制部以所述多个设定电位差依序变大的顺序,在所述一对镜面部间产生所述多个设定电位差的各个。
17.如权利要求13所述的光测量系统,其中,
所述电压控制部以所述多个设定电位差依序变小的顺序,在所述一对镜面部间产生所述多个设定电位差的各个。
18.如权利要求14所述的光测量系统,其中,
所述电压控制部以所述多个设定电位差依序变小的顺序,在所述一对镜面部间产生所述多个设定电位差的各个。
19.一种光测量方法,其特征在于,
是使用包含法布里-珀罗干涉滤光器及光检测器的光检测装置,通过取得自所述光检测器输出的电信号而对成为测量对象的光进行测量的光测量方法,
所述法布里-珀罗干涉滤光器具有经由空隙而彼此相对的一对镜面部,且所述一对镜面部间的距离对应于所述一对镜面部间产生的电位差而变化,所述光检测器检测透过所述法布里-珀罗干涉滤光器的光,
所述光测量方法包括:
电压控制步骤,其在所述一对镜面部间产生的电位差达到与所述测量对象的光的波长对应的设定电位差之前的、不进行用于所述测量的所述电信号的取得的期间,使所述一对镜面部间产生的电位差阶段性增加直至达到所述设定电位差;及
信号取得步骤,其在所述电压控制步骤后,取得在所述一对镜面部间产生所述设定电位差的状态下的所述电信号,在所述信号取得步骤中,在所述一对镜面部间产生的电位差达到所述设定电位差起经过待机时间时取得所述电信号。
20.如权利要求19所述的光测量方法,其进一步包括取得所述法布里-珀罗干涉滤光器的温度的温度取得步骤,
在所述温度取得步骤中,在所述一对镜面部间产生的电位差达到所述设定电位差后,且在由所述信号取得步骤取得所述电信号前,取得所述法布里-珀罗干涉滤光器的温度。
21.如权利要求19或20所述的光测量方法,其中,
在所述电压控制步骤中,在通过所述信号取得步骤取得所述电信号后,使所述一对镜面部间产生的电位差自所述设定电位差阶段性减少。
22.如权利要求19或20所述的光测量方法,其中,
所述设定电位差包含与互不相同的多个波长对应的多个设定电位差,
所述电压控制步骤,
在所述一对镜面部间依序产生所述多个设定电位差的各个,
在由所述信号取得步骤开始所述电信号的取得前,使在所述一对镜面部间产生的电位差阶段性增加至达到所述多个设定电位差的中最初的设定电位差。
23.如权利要求21所述的光测量方法,其中,
所述设定电位差包含与互不相同的多个波长对应的多个设定电位差,
所述电压控制步骤,
在所述一对镜面部间依序产生所述多个设定电位差的各个,
在由所述信号取得步骤开始所述电信号的取得前,使在所述一对镜面部间产生的电位差阶段性增加至达到所述多个设定电位差的中最初的设定电位差。
24.如权利要求22所述的光测量方法,其中,
在所述电压控制步骤中,以所述多个设定电位差依序变大的顺序,在所述一对镜面部间产生所述多个设定电位差的各个。
25.如权利要求23所述的光测量方法,其中,
在所述电压控制步骤中,以所述多个设定电位差依序变大的顺序,在所述一对镜面部间产生所述多个设定电位差的各个。
26.如权利要求22所述的光测量方法,其中,
在所述电压控制步骤中,以所述多个设定电位差依序变小的顺序,在所述一对镜面部间产生所述多个设定电位差的各个。
27.如权利要求23所述的光测量方法,其中,
在所述电压控制步骤中,以所述多个设定电位差依序变小的顺序,在所述一对镜面部间产生所述多个设定电位差的各个。
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Family Cites Families (14)
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