CN110517978B - 容器的溢流结构 - Google Patents

容器的溢流结构 Download PDF

Info

Publication number
CN110517978B
CN110517978B CN201910809105.4A CN201910809105A CN110517978B CN 110517978 B CN110517978 B CN 110517978B CN 201910809105 A CN201910809105 A CN 201910809105A CN 110517978 B CN110517978 B CN 110517978B
Authority
CN
China
Prior art keywords
overflow
container
liquid
pipeline
detector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201910809105.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110517978A (zh
Inventor
代志亮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Huali Integrated Circuit Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Huali Integrated Circuit Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Huali Integrated Circuit Manufacturing Co Ltd filed Critical Shanghai Huali Integrated Circuit Manufacturing Co Ltd
Priority to CN201910809105.4A priority Critical patent/CN110517978B/zh
Publication of CN110517978A publication Critical patent/CN110517978A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110517978B publication Critical patent/CN110517978B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B13/00Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

本发明公开了一种容器的溢流结构,包含:一容器,所述容器提供一容置空间;排放管路,位于容器的底部,将容器内底部收集的液体通过排放管路排出;溢流管路,位于容器的侧壁,溢流管路的开口距离容器底部具有一定高度,当容器底部的液体累积到一定量,液体进入溢流管;所述溢流管的开口处还具有挡板,对溢流管的开口进行遮挡,防止飞溅的液滴进入溢流管;所述溢流管的末端接入排放管路,且接入点与排放管路与容器底部的连接点具有一定的距离。阀门在正常工作时处于关闭状态,当排放管路堵塞时,液体进入溢流管并在溢流管内再次聚集,达到侦测器高度时,侦测器发出警报;当排放管路没有发生堵塞时,没有液体进入溢流管路触发侦测器发出警报。

Description

容器的溢流结构
技术领域
本发明涉及半导体器件制造工艺领域,特别是指一种在进行晶圆清洗的工艺中,针对清洗机台内部液体容器容易发生溢流误报的容器的溢流结构。
背景技术
在半导体制程中,晶圆清洗是一个重要的工序,在很多工艺过后都需要对晶圆进行清洗,以去除晶圆表层的残留物,如颗粒物、有机残留等等。在EBARA机台清洗机里面, 每一个清洗单元都会有一个存液容器,如图1所示, 晶片在容器内部进行清洗。用于清洗晶圆的纯水和化学药剂通过容器下方的排放管路排出机台。正常情况下排放管路的最大排放量大于清洗药液的流量,这样在容器底部不会形成积液。而如果容器的排放管路不通畅甚至堵塞,容器内的液体就会积累,液位就会抬升。为了防止容器内部因为排放不畅而导致的液位上升沾污晶圆,在容器内部安装有警报装置,如图2所示,在发生液位上升时发出警报。该警报装置通常是在容器内部侧壁适当高度的位置安装液位侦测器,当排放不畅导致容器内液位上升时,触发安装在容器侧壁的侦测器,机台会报警通知容器排放管路堵塞。
现有的警报系统因为排放管路堵塞造成溢流的侦测方式是在存液容器的侧壁上安装侦测器,当侦测器探测到容器侧壁上的液体来判断排放管路可能堵塞。但是,在进行晶圆清洗时,清洗药液和水是从各自管路通过喷头喷淋到晶圆和清洗刷上,这样会导致有大量的清洗液飞溅到容器内壁上,从而触发侦测器,造成误侦测,机台会发生报警。但实际上此时排放管路排放正常,并未发生堵塞。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种容器的溢流结构,能有效侦测容器的排放管路堵塞,防止误触发。
本发明所述的容器的溢流结构,包含:
一容器,所述容器提供一容置空间。
排放管路,位于容器的底部,将容器内底部收集的液体通过排放管路排出。
溢流管路,位于容器的侧壁,溢流管路的开口距离容器底部具有一定高度。当容器底部的液体累积到一定量,液位达到溢流管路的开口处时,液体进入溢流管。
所述溢流管的开口处还具有挡板,对溢流管的开口进行遮挡,防止飞溅的液滴进入溢流管。
所述溢流管的末端接入排放管路,且接入点与排放管路与容器底部的连接点具有一定的距离。
所述的溢流管路末段位置还设置有阀门,控制溢流管路的开合。
进一步的改进是,所述的溢流管路的阀门的上方还具有侦测器,用于侦测液位;当进入溢流管的液体达到侦测器的高度时,侦测器发出警报。
进一步的改进是,所述的容器内部还接入有多个输入管道,进行清洗液、超纯水的输入。
进一步的改进是,所述的容器内部有晶圆承台,用于放置晶圆。
进一步的改进是,所述的容器内部还具有一个或多个清洗刷以及多个清洗喷头,所述清洗喷头接各个输入管道进行相应液体的喷洒;配合清洗刷实现对晶圆承台上的晶圆的清洗。
进一步的改进是,所述排放管路的最大排放能力大于进入容器内的液体的流量。
进一步的改进是,所述的阀门在正常工作时处于关闭状态,当排放管路堵塞使容器底部液体积累到溢流管的开口处,液体进入溢流管并在溢流管内再次聚集,达到侦测器高度时,侦测器发出警报,表示排放管路堵塞;当排放管路没有发生堵塞时,容器底部没有液体积累,也就没有液体进入溢流管路触发侦测器发出警报。
进一步的改进是,当警报发生时,对排放管路进行疏通,放出容器底部积累的液体,然后打开溢流管路上的阀门,排出溢流管路中积累的液体后,再关闭阀门,再次进入正常工作状态。
进一步的改进是,在正常工作室关闭阀门,能防止排放管路中的液体进入到溢流管路,且能留存进入溢流管路中的液体来触发侦测器。
本发明所述的容器的溢流结构,避免了飞溅液体误触发侦测器的情况,可以实现正确有效的判断容器排放是否堵塞的目的。
附图说明
图1 是现有的容器的排放系统的结构图。
图2 是飞溅的液体导致侦测器误触发的示意图。
图3 是本发明提供的容器的溢流结构,以及溢流管路开口处的局部放大图。
具体实施方式
为了使本发明的内容更加清楚易懂,下面结合具体实施例和附图对本发明的内容进行详细描述,但本发明所涉及的技术内容不仅限于所给出的具体实施例。
以下结合附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书,本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率,仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
本发明提供的一实施例如图3所示,在一个清洗机台的内部包含有一个容器,该容器为晶圆的清洗提供空间。该容器接有多个输入管路,分别用于向容器内输送晶圆清洗所需要的清洗剂、超纯水等各种液体药剂。输入管路的末端接有喷头,将各种液体药剂向容器内的晶圆上喷洒。
容器内提供一晶圆承台,用于放置晶圆,晶圆在所述晶圆承台上完成清洗操作。
所述晶圆上方还具有清洗刷,配合喷头一起刷洗晶圆,去除晶圆表面的颗粒物、各种残留物等。图3中省略了喷头、清洗刷等相关附属物,以简化图示。
容器下方还具有排放管路,将晶圆清洗后的液体排出容器。排放管路的最大排放能力大于进入容器内的液体总流量,在正常情况下,由于液体能及时排出,容器底部没有液体残留。
容器内侧壁还安装有侦测器,用于侦测液位,当容器内发生堵塞导致容器底部液位上升时,侦测器发出警报,表示排放管路堵塞。
由于排放管路可能由于一些固体颗粒的聚集而导致堵塞,同时,由于喷头向晶圆喷射液体导致液滴飞溅,可能有液滴飞溅到侦测器而导致侦测器误报,因此本发明首先在容器中引入了溢流管路,将一路溢流管路设在容器底部,溢流管的开口略高于容器底部,因此,当容器的排放管路发生堵塞,导致容器底部有液体残留,当液位达到一定高度超过溢流管的开口高度时,液体会进入溢流管路。
溢流管路的开口高度可以灵活设置,开口越高,容器底部积累的液体就越多,触发侦测器警报就越晚,整个系统的灵敏度就越低,发生警报时留出的处置时间就越短。
溢流管路具有一定的长度,其末端接入到排放管路中。
本发明在溢流管路的开口处做防干扰设计,以保证真正的堵塞情况出现时液体才会进入到溢流管。具体是增加一挡板,以遮挡飞溅的液滴进入溢流管路,其局部放大图如图3中右侧所示,挡板将溢流管路的开口处完全遮挡,但不影响容器底部的液体液位上升而进入溢流管路,从而避免了飞溅的液体导致的侦测器误报的问题。
本发明重新调整了侦测器的位置,将侦测器安装在溢流管路中的某一高度上,只有进入溢流管的液体液位达到一定高度,才会触发侦测器发出警报,将外界对侦测器的干扰降到最低。
溢流管另一端接到排放管上,并在溢流管末端设置阀门。此阀门的作用是防止排放管路的液体进入到溢流管,同时留存从容器内流入溢流口的液体来触发侦测器。
将液体侦测器安装在溢流管上,当有液体进入溢流管内就会触发侦测器,机台报警。处理堵塞时可以打开溢流管上的阀门,排出液体,再关闭阀门恢复到侦测模式。
上述溢流管路的结构设计在平时使用时需将阀门关闭,当有液体进入溢流管时可以留住液体形成液柱以触发侦测器,同时防止排放管内正常排放的液体回流到溢流管内照成侦测器的误触发。在处理堵塞时可以打开溢流管上的阀门,排出液体,当堵塞处理完毕后关闭阀门恢复到正常的侦测模式。
以上仅为本发明的优选实施例,并不用于限定本发明。对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种容器的溢流结构,其特征在于:包含:
一容器,所述容器提供一容置空间;
排放管路,位于容器的底部,将容器内底部收集的液体通过排放管路排出;
溢流管路,位于容器的侧壁或底部,溢流管路的开口距离容器底部具有一定高度,当容器底部的液体累积到一定量,液位达到溢流管路的开口处时,液体进入溢流管;
所述溢流管的开口处还具有挡板,对溢流管的开口进行遮挡,防止飞溅的液滴进入溢流管;
所述溢流管的末端接入排放管路,且接入点与排放管路与容器底部的连接点具有一定的距离;
所述的溢流管路的末端位置还设置有阀门,控制溢流管路的开合;
所述的溢流管路的阀门的上方还具有侦测器,用于侦测液位;当进入溢流管的液体达到侦测器的高度时,侦测器发出警报。
2.如权利要求1所述的容器的溢流结构,其特征在于:所述的容器内部还接入有多个输入管道,进行清洗液、超纯水的输入。
3.如权利要求1所述的容器的溢流结构,其特征在于:所述的容器内部有晶圆承台,用于放置晶圆。
4.如权利要求1所述的容器的溢流结构,其特征在于:所述的容器内部还具有一个或多个清洗刷以及多个清洗喷头,所述清洗喷头接各个输入管道进行相应液体的喷洒;配合清洗刷实现对晶圆承台上的晶圆的清洗。
5.如权利要求1所述的容器的溢流结构,其特征在于:所述排放管路的最大排放能力大于进入容器内的液体的流量。
6.如权利要求1~5任意一项所述的容器的溢流结构,其特征在于:所述的阀门在正常工作时处于关闭状态,当排放管路堵塞使容器底部液体积累到溢流管的开口处,液体进入溢流管并在溢流管内再次聚集,达到侦测器高度时,侦测器发出警报,表示排放管路堵塞;当排放管路没有发生堵塞时,容器底部没有液体积累,也就没有液体进入溢流管路触发侦测器发出警报。
7.如权利要求6所述的容器的溢流结构,其特征在于:当警报发生时,对排放管路进行疏通,放出容器底部积累的液体,然后打开溢流管路上的阀门,排出溢流管路中积累的液体后,再关闭阀门,再次进入正常工作状态。
8.如权利要求1所述的容器的溢流结构,其特征在于:在正常工作室关闭阀门,能防止排放管路中的液体进入到溢流管路,且能留存进入溢流管路中的液体来触发侦测器。
CN201910809105.4A 2019-08-29 2019-08-29 容器的溢流结构 Active CN110517978B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910809105.4A CN110517978B (zh) 2019-08-29 2019-08-29 容器的溢流结构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910809105.4A CN110517978B (zh) 2019-08-29 2019-08-29 容器的溢流结构

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110517978A CN110517978A (zh) 2019-11-29
CN110517978B true CN110517978B (zh) 2022-05-27

Family

ID=68628047

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910809105.4A Active CN110517978B (zh) 2019-08-29 2019-08-29 容器的溢流结构

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110517978B (zh)

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5436615A (en) * 1993-12-02 1995-07-25 The Babcock & Wilcox Company Overflow detection system
TW408382B (en) * 1999-02-12 2000-10-11 United Microelectronics Corp Liquid level control method and apparatus
JP2006128173A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液定量供給装置
KR100614659B1 (ko) * 2005-04-22 2006-08-22 삼성전자주식회사 기판 처리 장치 및 방법
CN201089110Y (zh) * 2007-06-01 2008-07-23 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 一种可避免漏水误报警的抛光设备
CN102374927A (zh) * 2010-08-24 2012-03-14 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 泄漏侦测装置及侦测方法
CN103526205A (zh) * 2013-10-18 2014-01-22 上海和辉光电有限公司 一种湿蚀刻设备
CN203799469U (zh) * 2014-02-25 2014-08-27 金海重工股份有限公司 一种溢流报警装置
CN105809897A (zh) * 2014-12-30 2016-07-27 江苏现代造船技术有限公司 一种燃油溢流报警筒
CN106340470A (zh) * 2015-07-17 2017-01-18 盛美半导体设备(上海)有限公司 晶圆表面的清洗装置和清洗方法
CN105977186B (zh) * 2016-05-10 2019-11-05 深圳市华星光电技术有限公司 湿法刻蚀装置及其防爆方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN110517978A (zh) 2019-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR0139530B1 (ko) 유체역학적 연기 세척기
KR101266870B1 (ko) 식기세척기
JPH10505537A (ja) 半導体製造時に粒子数を超低カウント数とする方法および装置
CN215348749U (zh) 一种回收箱及表面清洁设备
JP2014070376A (ja) 男性用水洗トイレ
JP2005046309A (ja) 洗浄剤供給装置
CN110517978B (zh) 容器的溢流结构
CN117479992A (zh) 装备有泵的分离器
US4666682A (en) Dispenser for solid and powered detergent
CN113113328A (zh) 单片晶圆清洗装置清洗盘结构及单片晶圆清洗装置
JP2000173962A (ja) ウエハ洗浄装置及び洗浄方法
CN217161998U (zh) 一种污水箱及具有其的补给站
JP2003334471A (ja) 三次元回転ノズル及びそれを用いた排水処理装置
KR100902279B1 (ko) 밸브 개폐 장치
CN109645913B (zh) 水槽式洗碗机的冷凝装置及溢流检测方法、水槽式洗碗机
CN106219785A (zh) 工件清洗水过滤净化循环系统
JP2657270B2 (ja) 冷却塔に於けるストレーナーの洗浄装置
JP2020157257A (ja) 気液分離装置
KR100946133B1 (ko) 강판 청정설비의 알칼리탱크 거품 제거장치
JPS6242949Y2 (zh)
CN113520266A (zh) 一种洗碗机过滤机构的清洗方法及采用该方法的洗碗机
TWI790493B (zh) 半導體製程廢處理液的排放暫存裝置
KR102501358B1 (ko) 스컴 제거와 자체 세정이 가능한 약액탈취기
CN215278852U (zh) 用于清洗机的防护装置以及清洗机
JP2018171580A (ja) タンク内洗浄装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant