CN110369385A - 一种硅片或晶片清洗机 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种硅片或晶片清洗机,包括机架、上料台、清洗槽组件、出料台、多关节抓取机械手;上料台、出料台分别位于清洗槽组件的两侧;清洗槽组件上设有若干清洗槽;机架前侧面清洗槽组件以上敞开,其余面封闭;机架上设有抽风装置;多关节抓取机械手的靠近机架端位于清洗槽组件的上方;多关节抓取机械手的远离机架端位于机架的正前方;多关节抓取机械手的靠近机架端上设有转盘,转盘上设有抓取装置。本发明电子元器件清洗机具有抓取精度高、造价低、使用寿命长的特点。
Description
技术领域
本发明涉及半导体、光伏、LED等行业的硅/晶片清洗设备,尤其涉及硅/晶片的清洗机。
背景技术
半导体行业中晶元、光伏行业中的硅片以及LED行业的蓝宝石晶片等在制造过程中都必须经过清洗工序,以清除硅/晶片表面的金属离子污染、有机物污染或颗粒物污染,其清洗过程是在专门的多槽式清洗中进行的。
上述的多槽式清洗机一般主要由设置于机架上的清洗槽、清洗液管路系统、超声波系统、加热系统、清洗抛动装置,以及位于清洗槽上方的清洗篮输送系统和电控部分构成,需要清洗的硅/晶片通常是放置在专用的硅片篮内,为了提高清洗效率,通常清洗机都是配备有清洗母篮,清洗时将数个硅片篮放置在一个母篮内,由清洗篮输送系统将清洗母篮逐个输送至各清洗槽中,从而对清洗母篮中各硅片篮内的硅/晶片进行清洗。清洗篮输送系统位于清洗槽的上方的横向、垂向导轨和安装在垂向导轨上的抓取夹。其突出的缺点在于:清洗篮输送系统和电控部分位于清洗槽的正上方,其传动组件构造复杂,抓取精度低;均为专用设备,造价较高;整体容易受到清洗槽内液体挥发物的腐蚀,使用寿命短等。
发明内容
本发明的目的在于,针对现有技术的不足,提供一种硅片或晶片清洗机,其具有结构简单,造价低,使用寿命命长的优点。
本发明采用的技术方案如下。
一种硅片或晶片清洗机,包括机架、上料台、清洗槽组件、出料台、多关节抓取机械手;上料台、出料台分别位于清洗槽组件的两侧;清洗槽组件上设有若干清洗槽;机架的前侧面清洗槽组件以上敞开,机架的其余面封闭;机架上设有抽风装置;多关节抓取机械手的靠近机架端位于清洗槽组件的上方;多关节抓取机械手的远离机架端位于机架的正前方;多关节抓取机械手的靠近机架端上设有转盘,转盘上设有抓取装置;通过抓取装置取机械手抓取上料台将装有硅片或晶片的清洗篮,放入清洗槽组件上的各清洗槽内清洗,清洗完成后抓取出料台上。
作为优选技术方案,清洗槽组件包括一横排或若干横排清洗槽。
作为优选技术方案,每横排的清洗槽的数量为2-4个。
作为优选技术方案,各清洗槽的顶面在同一平面上。
作为优选技术方案,上料台、出料台、各清洗槽的顶面在同一平面上。
作为优选技术方案,机架上靠近上料台侧设有上料门,靠近出料台侧设有出料门。
作为优选技术方案,清洗篮上活动连接有若干硅片收纳盒,清洗篮的高度大于各清洗槽的深度。
作为优选技术方案,多关节抓取机械手的抓取装置与清洗篮的挂钩连接或吸附连接或真空吸附连接或夹持连接。
作为优选技术方案,清洗篮上设有立柱,多关节抓取机械手的靠近机架端设有可夹持立柱的夹子,多关节抓取机械手的靠近机架端上的夹子与清洗篮的立柱夹持连接,或者
清洗篮上设有立柱,立柱的顶端设有顶面位水平面的吸附板,多关节抓取机械手的靠近机架端设有真空吸附盘,多关节抓取机械手上的真空吸附盘与立柱的顶端的吸附板真空吸附连接,或者,
清洗篮设有铁件,多关节抓取机械手的靠近机架端设有电磁铁,多关节抓取机械手的电磁铁与清洗篮的铁件电磁吸附连接。
作为优选技术方案,多关节抓取机械手为有六个或六个以上自由度的抓取机械手。
本发明的有益效果是:仅多关节抓取机械手的靠近机架端的抓取装置位于清洗槽组件的上方,其余部分位于机架的正前方,相比现有技术的专用抓取装置、传动组件位于清洗槽上方,整体不容易受到清洗槽内液体挥发物的腐蚀,也不容易污染清洗液内的电子元器件,使用寿命长;多关节抓取机械手为市场上的常见设备,具有动作灵活、运动惯性小、通用性强、绕障碍性强、抓取精度高的特点;多关节抓取机械手为均为市场上的成熟产品,相比现有技术的专用抓取装置、传动组件,造价更低。整个装置占地面积小,自动化程度高。
附图说明
图1是本发明电子元器件清洗机一较佳实施例的结构示意图。
图2是图1的A部分的局部放大图。
图3是图1的B部分的局部放大图。
图4是图1的C部分的局部放大图。
图5是图1所示电子元器件清洗机的一个使用状态图。
图6是图5的D部分的局部放大图。
图7是图5的E部分的局部放大图。
图8是图5的F部分的局部放大图。
图9是本发明电子元器件清洗机一较佳实施例的结构示意图。
图10是本发明电子元器件清洗机一较佳实施例的结构示意图。
其中:机架-1;上料台-2;清洗槽组件-3;出料台-4;多关节抓取机械手-5;靠近机架端-51;抓取装置-52;转盘-53;夹子-54;清洗槽-6;清洗篮-7;上料门-8;出料门-9;抽风装置-10;硅片收纳盒-11;立柱-12;吸附板-13;真空吸附盘-14;铁件-15;电磁铁-16。
具体实施方式
下面,结合附图和实施例对本发明做进一步说明。
实施例1。如图1-7所示,一种硅片或晶片清洗机,包括机架1、上料台2、清洗槽组件3、出料台4、多关节抓取机械手5;上料台2、出料台4分别位于清洗槽组件3的两侧;清洗槽组件3上设有若干清洗槽6;机架1的前侧面清洗槽组件3以上敞开,机架1的其余面封闭;机架1上设有抽风装置10;多关节抓取机械手5的靠近机架端51位于清洗槽组件3的上方;多关节抓取机械手5的远离机架端位于机架的正前方;多关节抓取机械手5的靠近机架端51上设有转盘53,转盘53上设有抓取装置52;通过抓取装置52取机械手5抓取上料台2将装有硅片或晶片的清洗篮7,放入清洗槽组件3上的各清洗槽6内清洗,清洗完成后抓取出料台4上。
清洗槽组件3包括两横排清洗槽6。
每横排的清洗槽6的数量为4个。抽风装置10设置在架体上清洗槽6顶面以上。
各清洗槽6的顶面在同一平面上。
上料台2、出料台4、各清洗槽6的顶面在同一平面上。
机架1上靠近上料台2侧设有上料门8,靠近出料台4侧设有出料门9。
清洗篮7上活动连接有若干硅片收纳盒11,清洗篮7的高度大于各清洗槽6的深度。
清洗篮7上设有立柱12,抓取装置52为可夹持立柱12的夹子54,多关节抓取机械手5的靠近机架端51上的夹子54与清洗篮7的立柱12夹持连接。
多关节抓取机械手5为有六个自由度的抓取机械手。多关节抓取机械手5包括底座55、旋转盘56、旋转盘伺服电机57,两支臂58、两关节59、两支臂驱动装置510。多关节机械手是最早出现的工业机器人,也是最早出现的现代机器人,它可代替人的繁重劳动以实现生产的机械化和自动化,能在有害环境下操作以保护人身安全。
本实施例仅多关节抓取机械手5的靠近机架端51的抓取装置位于清洗槽组件3的上方,其余部分位于机架的正前方,整体不容易受到清洗槽内液体挥发物的腐蚀,使用寿命长;多关节抓取机械手5为市场上的常见设备,具有动作灵活、运动惯性小、通用性强、绕障碍性强、抓取精度高的特点;多关节抓取机械手5为均为市场上的成熟产品,相比现有技术的专用传动组件,造价更低。
实施例2。如图9所示,本实施例与实施例1的不同在于:洗篮7上设有立柱12,立柱12的顶端设有顶面位水平面的吸附板13,多关节抓取机械手5的靠近机架端51设有真空吸附盘14,多关节抓取机械手5上的真空吸附盘14与立柱12的顶端的吸附板13真空吸附连接。
实施例3。如图10所示,本实施例与实施例1的不同在于:清洗篮7设有铁件15,多关节抓取机械手5的靠近机架端51设有电磁铁16,多关节抓取机械手5的电磁铁与清洗篮7的铁件电磁吸附连接。
以上所列举的实施方式仅供理解本发明之用,并非是对本发明所描述的技术方案的限定,有关领域的普通技术人员,在权利要求所述技术方案的基础上,还可以作出多种变化或变形,所有等同的变化或变形都应涵盖在本发明的权利要求 保护范围之内。本发明未详述之处,均为本技术领域技术人员的公知技术。
Claims (10)
1.一种硅片或晶片清洗机,其特征在于:包括机架(1)、上料台(2)、清洗槽组件(3)、出料台(4)、多关节抓取机械手(5);上料台(2)、出料台(4)分别位于清洗槽组件(3)的两侧;清洗槽组件(3)上设有若干清洗槽(6);机架(1)的前侧面清洗槽组件(3)以上敞开,机架(1)的其余面封闭;机架(1)上设有抽风装置(10);多关节抓取机械手(5)的靠近机架端(51)位于清洗槽组件(3)的上方;多关节抓取机械手(5)的远离机架(1)端位于机架(1)的正前方;多关节抓取机械手(5)的靠近机架端(51)上设有转盘(53),转盘(53)上设有抓取装置(52);通过抓取装置(52)取机械手(5)抓取上料台(2)将装有硅片或晶片的清洗篮(7),放入清洗槽组件(3)上的各清洗槽(6)内清洗,清洗完成后抓取出料台(4)上。
2.如权利要求1所述一种硅片或晶片清洗机,其特征在于:清洗槽组件(3)包括一横排或若干横排清洗槽(6)。
3.如权利要求2所述一种硅片或晶片清洗机,其特征在于:每横排的清洗槽(6)的数量为2-4个。
4.如权利要求2所述一种硅片或晶片清洗机,其特征在于:各清洗槽(6)的顶面在同一平面上。
5.如权利要求4所述一种硅片或晶片清洗机,其特征在于:上料台(2)、出料台(4)、各清洗槽(6)的顶面在同一平面上。
6.如权利要求1所述一种硅片或晶片清洗机,其特征在于:机架(1)上靠近上料台(2)侧设有上料门(8),靠近出料台(4)侧设有出料门(9)。
7.如权利要求1所述一种硅片或晶片清洗机,其特征在于:清洗篮(7)上活动连接有若干硅片收纳盒(11),清洗篮(7)的高度大于各清洗槽(6)的深度。
8.如权利要求7所述一种硅片或晶片清洗机,其特征在于:多关节抓取机械手(5)的抓取装置(52)与清洗篮(7)的挂钩连接或吸附连接或真空吸附连接或夹持连接。
9.如权利要求8所述一种硅片或晶片清洗机,其特征在于:清洗篮(7)上设有立柱(12),抓取装置(52)为可夹持立柱(12)的夹子(54),多关节抓取机械手(5)的靠近机架端(51)上的夹子(54)与清洗篮(7)的立柱(12)夹持连接,或者
清洗篮(7)上设有立柱(12),立柱(12)的顶端设有顶面位水平面的吸附板(13),抓取装置(52)为真空吸附盘(14),多关节抓取机械手(5)上的真空吸附盘(14)与立柱(12)的顶端的吸附板(13)真空吸附连接,或者,
清洗篮(7)设有铁件(15),抓取装置(52)为电磁铁(16),多关节抓取机械手(5)的电磁铁与清洗篮(7)的铁件(15)电磁吸附连接。
10.如权利要求1所述一种硅片或晶片清洗机,其特征在于:多关节抓取机械手(5)为有六个或六个以上自由度的多关节抓取机械手。
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