CN110342830B - 近红外线滤波器以及该滤波器的制造方法 - Google Patents
近红外线滤波器以及该滤波器的制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110342830B CN110342830B CN201910235626.3A CN201910235626A CN110342830B CN 110342830 B CN110342830 B CN 110342830B CN 201910235626 A CN201910235626 A CN 201910235626A CN 110342830 B CN110342830 B CN 110342830B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- glass substrate
- filter
- sio
- silicon dioxide
- filter support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 72
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 354
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 177
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 174
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 142
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 131
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 33
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 32
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 32
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 30
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 30
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 25
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 24
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 claims description 15
- 239000006058 strengthened glass Substances 0.000 claims description 15
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 14
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 claims description 14
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 claims description 14
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims description 13
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 claims description 10
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 10
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 10
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 9
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 4
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 claims description 3
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 claims description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 claims 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 claims 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 78
- 239000002585 base Substances 0.000 description 63
- 229910009815 Ti3O5 Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 10
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 10
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 3
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 3
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 1
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 238000012776 robust process Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
- G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B27/00—Tempering or quenching glass products
- C03B27/02—Tempering or quenching glass products using liquid
- C03B27/03—Tempering or quenching glass products using liquid the liquid being a molten metal or a molten salt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/226—Glass filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
根据本发明的近红外线滤波器，包括：滤波器支撑座体，包括单元区域和虚拟区域，其中，所述单元区域为四角柱形状，所述虚拟区域围绕单元区域的四周且具有从单元区域逐渐变小的形状；以及光学滤波器细分层，以从滤波器支撑座体入射在前面并透过后面的光束的路径作为基准观察时，其在滤波器支撑座体的前面和后面覆盖单元区域和虚拟区域，其中，虚拟区域在滤波器支撑座体的前面和后面中的至少一侧具有斜向倾斜的倒角面。接着，按照各个工艺步骤公开近红外线滤波器的制造方法。
Description
技术领域
本发明涉及在片材切割工艺(sheet like process；SLP)中，对应于单个结构体的近红外线滤波器以及该滤波器的制造方法，以可在玻璃基板被定义为多个结构体，并从玻璃基板大量地分离多个结构体。
背景技术
通常，红外滤波器(infrared filter)安装在诸如数码相机、摄像机、监视用相机、红外监视相机、车辆用后方监视相机等的数字视频装置中使用。然而，近来由于移动通信设备的快速发展，被应用于手机的相机模块。
在此，所述红外滤波器被分为红外带通(pass)滤波器和红外截止(cut off)滤波器。所述红外线带通滤波器安装在手机的虹膜识别相机模块，与用户是否佩戴眼镜或者隐形眼镜无关，接收来自用户虹膜的红外线，进而实现用户的虹膜识别。
所述红外线截止滤波器安装在手机的数码相机模块，阻挡红外线进入成像元件(CCD或者CMOS或者将通过镜头形成的图像转换为数字信号的晶片)，仅接收可见光线，进而用于将除去红外线的重影的接近用户的视觉体验的图像成像于成像元件。
近年来，通过在玻璃基板应用片材切割工艺(sheet like process；SLP)，从玻璃基板大量生产所述红外线带通滤波器或者所述红外线截止滤波器，以积极应对手机的需求。考虑到玻璃基板的结构变化，所述片材切割工艺大致包括适用于玻璃基板的激光照射步骤、沉积步骤和分离步骤。
所述激光照射步骤将激光照射到玻璃基板，以保持在玻璃基板的状态下模制多个单元区域。所述沉积步骤在玻璃基板的前面和后面上沉积光学功能层，以通过光学功能层来通过或者阻挡红外线。
所述分离步骤将单个单元区域从玻璃基板分离，同时沿着单个单元区域对应于单个单元区域的前面及后面面积细分并分离光学功能层。然而，所述光学功能细分层在沿着单个单元区域从玻璃基板分离期间，由于随着玻璃基板的厚度越厚，在玻璃基板的厚度方向上与玻璃基板的激光加工面的接触时间越长，因此，在光学功能细分层的边缘处撕裂概率就越大。
作为现有技术的反证，如图1所示，将单个单元区域从玻璃基板分离时，近红外线滤光器8在单个单元区域2上的光学功能细分层4的边缘处具有撕裂痕迹6。所述光学功能细分层4的撕裂痕迹6导致在光学功能细分层4的边缘处可见光和近红外线的光学调节功能的损失，进而给中央区域也带来不利的光学影响，进而导致光学功能细分层4的光学特性整体上恶化，成为微小异物或者裂痕的发生原因。
发明内容
(要解决的问题)
本发明是为了解决现有问题而提出，本发明的目的是提供一种近红外线滤波器以及该滤波器的制造方法，所述近红外线滤波器，以规定的距离穿孔加强玻璃基板，以在加强玻璃基板形成多个滤波器支撑座体，并在加强玻璃基板保持多个滤波器支撑座体的状态下在加强玻璃基板沉积光学滤波层之后，当从加强玻璃基板分离多个滤波器支撑座体时，在单个滤波器支撑座体上的光学滤波器细分层的边缘处不会形成撕裂痕迹。
(解决问题的手段)
根据本发明的近红外线滤波器，其特征在于，包括：滤波器支撑座体，包括单元区域和虚拟区域，其中，所述单元区域为四角柱形状，所述虚拟区域围绕所述单元区域的四周且具有从所述单元区域逐渐变小的形状；以及光学滤波器细分层，以从所述滤波器支撑座体入射在前面并透过后面的光束的路径作为基准观察时，其在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面覆盖所述单元区域和所述虚拟区域，其中，所述虚拟区域在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的至少一侧具有斜向倾斜的倒角面，所述光学滤波器细分层，在所述单元区域和所述虚拟区域通过(pass)或者阻断(cut-off)所述近红外线，并且对于在所述虚拟区域与所述滤波器支撑座体的外部接触的虚拟内部投影面具有光滑面，其中，所述光滑面与所述虚拟区域的所以虚拟内部透明面位于同一条直线上。
所述滤波器支撑座体可以包括：钠钙玻璃(sodalime glass)或者铝硅酸盐玻璃(alumino silicate glass)。
所述滤波器支撑座体还可以包括：加强层，其在所述光学滤波器细分层下，沿着所述单元区域的表面和所述虚拟区域的表面和所述虚拟区域的所述虚拟内部透明面，具有与所述滤波器支撑座体的内部不同种类的元素。
所述滤波器支撑座体，可以在包含硝酸钾(KNO3)的熔融金属槽，通过所述滤波器支撑座体的碱离子(Na+)和硝酸钾(KNO3)的碱离子(K+)的相互扩散进行加强处理，以使其表面具有压缩应力。
所述滤波器支撑座体，可以在所述虚拟区域的所述倒角面，从所述单元区域向所述虚拟内部投影面斜向倾斜。
所述单元区域和所述虚拟区域，可以在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的所述至少一侧的所述倒角面周围，具有所述单元区域的每个拐角以对角线面对的圆形形状。
以所述光束的所述路径作为基准观察时，所述虚拟内部投影面的长度可以具有大于所述光学滤波器细分层的厚度的大小。
所述光学滤波器细分层，可以在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的一个面具有小的层叠次数，并且在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面可以由层叠材料形成。
所述光学滤波器细分层作为所述层叠材料，可以包括：交替并反复层叠的二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)和五氧化二铌(Nb2O5)。
所述光学滤波器细分层可以包括：在所述滤波器支撑座体的所述一个面，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)和五氧化二铌(Nb2O5)，并且在所述滤波器支撑座体的所述另一个面，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)，以使其与位于所述滤波器支撑座体的所述一个面的所述层叠材料相同或者不同。
所述光学滤波器细分层，可以在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的一个面具有小的厚度，并且在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的一个面可以由不同材料形成。
所述光学滤波器细分层可以包括：树脂层，其在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的一个面；以及在所述树脂层上和所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的另一个面，交替并反复层叠的二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)，其中，所述树脂层在聚合物树脂包括近红外线吸收染料，所述聚合物树脂包括氨基甲酸酯以及丙烯酸。
所述光学滤波器细分层可以包括：在所述树脂层上，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)，并且在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的另一个面，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)，以使其具有比所述树脂层更小的厚度，并且具有相同的位于所述树脂层上的层叠材料。
所述光学滤波器细分层，可以将所述虚拟区域的所述虚拟内部投影面暴露于所述滤波器支撑座体的外部。
本发明所涉及的近红外线滤波器的制造方法，包括如下步骤：第一步骤，准备玻璃基板；第二步骤，在所述玻璃基板的前面和后面上，形成二维排列的多个光刻胶图案；第三步骤，在所述玻璃基板的单个光刻胶图案周围穿孔多个裂痕发生孔隙，以在所述玻璃基板的所述前面和所述后面中的至少一侧形成将虚拟预定区域限定在所述单个光刻胶图案周围的滤波器预定基座；第四步骤，在所述穿孔玻璃基板与所述多个裂痕发生孔隙一起对所述虚拟预定区域执行湿式蚀刻工艺，将所述虚拟预定区域变为虚拟限定区域，同时在所述虚拟限定区域形成倒角面；第五步骤，将所述多个光刻胶图案从所述蚀刻玻璃基板除去，以形成被所述多个蚀刻裂痕发生孔隙所限定的滤波器支撑中间件；第六步骤，对所述蚀刻玻璃基板执行化学加强工艺，以将所述滤波器支撑中间件变为滤波器支撑座体；以及第七步骤，形成覆盖所述加强玻璃基板以使近红外线通过(pass)所述滤波器支撑座体或者对所述加强玻璃基板阻断(cut-off)所述近红外线的光学滤波层。
在所述玻璃基板穿孔所述多个裂痕发生孔隙，可以包括：将激光束的束斑(beamspot)反复照射于所述玻璃基板，以使一个束斑对应单个裂痕发生孔隙；在所述激光束的照射期间，沿着所述单个光刻胶图案的周长在所述多个裂痕发生孔隙之间形成裂痕。
所述滤波器预定基座，可以在所述穿孔玻璃基板与所述单个光刻胶图案的占据区域一起包括所述虚拟预定区域。
在所述穿孔玻璃基板执行所述湿式蚀刻工艺，可以包括：将所述穿孔玻璃基板浸入在以25℃至30℃维持并包含氢氟酸(HF)的湿式蚀刻槽；将所述单个光刻胶图案作为蚀刻掩模使用，进而在所述穿孔玻璃基板将所述氢氟酸渗透至所述多个裂痕发生孔隙；使用所述氢氟酸与所述多个裂痕发生孔隙一起通过所述多个裂痕发生孔隙之间的裂痕，以所述虚拟预定区域的选择性蚀刻形成所述虚拟限定区域。
所述倒角面，为使其从所述单个光刻胶图案的侧壁向多个蚀刻裂痕发生孔隙逐渐下降并斜向倾斜，以形成为直角三角形的截面视图观察时，将所述倒角面投影到所述直角三角形的底面时，以所述单个光刻胶图案的侧壁为基准可以具有50μm至200μm的水平长度，并且将所述倒角面投影到所述直角三角形的高度时，以所述单个光刻胶图案的底面为基准可以具有2μm至10μm的垂直长度。
所述滤波器支撑中间件，可以在所述蚀刻玻璃基板包括所述虚拟限定区域和被所述虚拟限定区域围绕的备用单元区域。
对所述蚀刻玻璃基板执行化学加强工艺，可以包括：将所述蚀刻玻璃基板浸入在以350℃至450℃维持且含有硝酸钾(KNO3)的熔融金属槽；所述硝酸钾(KNO3)和所述蚀刻玻璃基板在所述熔融金属槽进行化学反应期间，相互扩散所述蚀刻玻璃基板的碱离子(Na+)和所述硝酸钾(KNO3)的碱离子(K+)，将碱离子(K+)浸透至所述蚀刻玻璃基板的表面；将所述蚀刻玻璃基板进行冷却，进而在所述蚀刻玻璃基板的表面形成加强层，以使所述蚀刻玻璃基板的所述表面具有压缩应力。
所述滤波器支撑座体，在执行所述化学加强工艺期间，在所述滤波器支撑中间件将加强层包含在所述虚拟限定区域和所述备用单元区域的表面，将所述虚拟限定区域和所述备用单元区域变更并形成为虚拟区域和单元区域。
所述光学滤波层形可以成为，在所述加强玻璃基板的前面和后面中的一个面，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)，并且在所述加强玻璃基板的另一个面，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)，以使其具有比所述加强玻璃基板的所述一个面更小的层叠次数，同时具有相同或者不同的层叠材料。
所述光学滤波层可以包括：树脂层，其在所述加强玻璃基板的前面和后面中的一个面上；在所述树脂层上，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)；以及在所述加强玻璃基板的另一个面上，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)，以使其具有比在所述树脂层上更小的厚度，并且具有相同的位于所述树脂层上的层叠材料，其中，所述树脂层在聚合物树脂包括近红外线吸收染料，所述聚合物树脂包括氨基甲酸酯以及丙烯酸。
所述的近红外线滤波器的制造方法，还可以包括：湿式处理步骤，其在所述第五步骤和所述第六步骤之间或者在所述第六步骤和所述第七步骤之间执行，其中，所述湿式处理步骤，在所述第五步骤和所述第六步骤之间，将包含非氢氟酸或者氢氟酸的湿式蚀刻液适用于所述蚀刻玻璃基板，进而部分地蚀刻所述蚀刻玻璃基板的表面，或者在所述第六步骤和所述第七步骤之间，将包含所述非氢氟酸或者氢氟酸的湿式蚀刻液适用于所述加强玻璃基板，进而部分地蚀刻所述加强玻璃基板的表面。
所述的近红外线滤波器的制造方法，还可以包括：第八步骤，执行所述第七步骤之后，将外部力适用于所述加强玻璃基板和所述光学滤波层期间，将所述多个滤波器支撑座体沿着所述多个蚀刻裂痕发生孔隙从所述加强玻璃基板分离，同时将所述多个蚀刻裂痕发生孔隙作为裂痕转印体使用，在所述多个滤波器支撑座体上细分所述光学滤波层，进而在所述单个滤波器支撑座体上形成光学滤波器细分层。
(发明的效果)
根据本发明，在以规定间距对加强玻璃基板进行穿孔并将光学滤波层层叠在保持于加强玻璃基板的多个滤波器支撑座体上的状态下观察时，由于单个滤波器支撑座体包括四角柱的单元区域和围绕单元区域的四周的虚拟区域，并且在单个滤波器支撑座体的前面和后面上具有相对于虚拟区域彼此倾斜的倒角面，
因此，当从加强玻璃基板分离多个滤波器支撑座体时，本发明可以通过将位于滤波器支撑座体周围的多个裂痕发生孔隙用作裂痕转印体而形成光学滤波器细分层。所述光学滤波器细分层在单个滤波器支撑座体上的前面和后面具有相同的面积，并在其边缘处没有撕裂痕迹。
附图说明
图1示出根据现有技术的近红外线滤光器的图。
图2示出根据本发明的近红外线滤光器的平面图。
图3示出沿着图2的切割线I-I'截取的近红外线滤光器的局部剖视图。
图4示出沿着图2的箭头II的方向观察时近红外线滤光器的侧视图。
图5示出将近红外线滤光器在图2的指示区域A平面显示的图。
图6至17示出用于说明图1的近红外线滤光器的制造方法的示意图。
具体实施方式
以下对本发明的详细说明，作为可以实现本发明的特定实施例，参考图示的附图。这些实施例详细地进行了说明，以使本领域技术人员可以充分实施本发明。应该理解的是，本发明的各种实施例是不同的，但不必相互排斥。例如，这里所记载的特定形状、结构以及特性，在不脱离结合一个实施例的本发明的精神和范围的情况下，可以由其他实施例体现。还应理解为，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，可以改变各个公开的实施例中的单个部件的位置或者配置。因此，以下的详细说明不应被视为限制意义，如果恰当描述的话，本发明的范围仅由与其权利要求项的主张等同的具有等同所有范围和所述权利要求项所限定。在附图中，相同的附图标记在各图中指相同或者相似的功能，并且为了方便起见，可能夸大显示长度和面积、厚度等。
以下，参照附图详细说明本发明的优选实施例，以使本领域的技术人员可以容易地实现本发明。
图2示出根据本发明的近红外线滤光器的平面图，图3示出沿着图2的切割线I-I'截取的近红外线滤光器的局部剖视图。
另外，图4示出沿着图2的箭头II的方向观察时近红外线滤光器的侧视图，图5示出将近红外线滤光器在图2的指示区域A平面显示的图。
参照图2至图5，如图2至图4所示，本发明的近红外线滤波器110包括滤波器支撑座体95和光学滤波器细分层105。所述滤波器支撑座体95包括：钠钙玻璃(sodalime glass)或者铝硅酸盐玻璃(alumino silicate glass)。所述滤波器支撑座体95，包括单元区域90和虚拟区域18，其中，所述单元区域90为四角柱形状，所述虚拟区域18围绕单元区域90的四周且具有从单元区域90逐渐变小的形状。
另外，如图3所示，所述滤波器支撑座体95还包括：加强层80，其在光学滤波器细分层105下，沿着单元区域90的表面和虚拟区域18的表面具有与滤波器支撑座体95的内部不同种类的元素。更详细地说，所述滤波器支撑座体95，在包含硝酸钾(KNO3)的熔融金属槽(未图示)，通过滤波器支撑座体95的碱离子(Na+)和硝酸钾(KNO3)的碱离子(K+)的相互扩散进行加强处理，以使其表面具有压缩应力。
如图3a和图3b所示，所述滤波器支撑座体95，在虚拟区域18的倒角面60，从单元区域90向虚拟内部投影面18S斜向倾斜。更详细地说，以从所述滤波器支撑座体95入射在前面并透过后面的光束的路径作为基准观察时，所述虚拟区域18的倒角面60在滤波器支撑座体95的前面和后面中的至少一侧斜向倾斜。
即，所述虚拟区域18的倒角面60，在图3a位于滤波器支撑座体95的前面以及后面，在图3b仅位于滤波器支撑座体95的前面。在此，所述倒角面60可以与图3b不同，仅位于滤波器支撑座体95的后面，而不是滤波器支撑座体95的前面。
如图1所示，所述单元区域90和虚拟区域18，在滤波器支撑座体95的前面和后面中的至少一侧，具有单元区域90的每个拐角以对角线面对的圆形形状。如图3所示，以光束的路径作为基准观察时，所述虚拟内部投影面18S的长度L具有大于光学滤波器细分层105的厚度T的大小。
另一方面，如图3和4所示，所述光学滤波器细分层105在滤波器支撑座体95的前面和后面覆盖单元区域90和虚拟区域18。如图3所示，所述光学滤波器细分层105，在单元区域90和虚拟区域18通过(pass)或者阻断(cut-off)近红外线，并且对于在虚拟区域18与滤波器支撑座体95的外部接触的虚拟内部投影面18S具有光滑面105S。
如图5所示，所述光学滤波器细分层105的光滑面105S，在光学滤波器细分层105的边缘处不具有图1的撕裂痕迹6。作为本发明的一实施例，为了与滤波器支撑座体95一起实现近红外线通过(pass)，所述光学滤波器细分层105，在所述滤波器支撑座体95的前面和后面中的一个面具有小的层叠次数，并且滤波器支撑座体95的前面和后面由层叠材料形成。
在此，所述光学滤波器细分层105作为层叠材料包括：交替并反复层叠的二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)和五氧化二铌(Nb2O5)。更详细地说，所述光学滤波器细分层105包括：在滤波器支撑座体95的一个面，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)和五氧化二铌(Nb2O5)；在滤波器支撑座体95的另一个面，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)，以使其与位于所述滤波器支撑座体的所述一个面的层叠材料相同或者不同。
类似地，作为本发明的另一个实施例，所述光学滤波器细分层105为了同滤波器支撑座体95一起实现近红外线截止(cut off)滤波器，可以在滤波器支撑座体95的前面和后面中的一个面具有小的厚度，并且在滤波器支撑座体95的另一个面由不同材料形成。在此，所述光学滤波器细分层105可以包括：树脂层，其在滤波器支撑座体95的一个面；以及在树脂层上和滤波器支撑座体95的另一个面，交替并反复层叠的二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)。
所述树脂层在聚合物树脂包括近红外线吸收染料，所述聚合物树脂包括氨基甲酸酯以及丙烯酸。更详细地说，所述光学滤波器细分层105包括：在树脂层上，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)；在滤波器支撑座体95的另一个面，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)，以使其具有较所述树脂层更小的厚度，并且与位于所述树脂层上的层叠材料相同。
如图3a、图3b以及图4所示，所述光学滤波器细分层105，将虚拟区域18的虚拟内部投影面18S暴露于滤波器支撑座体95的外部。如图3以及图5所示，所述光学滤波器细分层105的光滑面105S与虚拟区域18的虚拟内部投影面18S位于同一条直线上。
下面，将参照图6至图17详细说明根据本发明的近红外线滤光器的制造方法。
图6至17示出用于说明图1的近红外线滤光器的制造方法的示意图。在此，图7、图9、12、15或者图17分别示出沿着图6、图8、图11、图14或者图16的切割线III-III'截取时所形成的结构体的局部剖视图。此外，图10示出在图8的III-III'周围平面显示结构体形状的示意图。
此外，图6、图8、图11、图14或者图16不关心在玻璃基板20，穿孔玻璃基板23，蚀刻玻璃基板26或者加强玻璃基板29的边缘处的变形形状，因此，未按照各个工艺步骤示出变形形状。
参照图6至图17，为了加快对本发明的理解，根据本发明的近红外线滤波器的制造方法可以基于图3a进行说明。为此，如图6所示，根据本发明的近红外线滤波器的制造方法可以包括准备玻璃基板20的第一步骤。
在图1至图5的滤波器支撑座体95，详细说明了所述玻璃基板20。接着，如图6以及图7所示，所述近红外线滤波器的制造方法可以包括第二步骤，所述第二步骤在玻璃基板20的前面和后面上，形成二维排列的多个光刻胶图案30。
接着，如图8至图10所示，所述近红外线滤波器的制造方法可以包括第三步骤，所述第三步骤，在玻璃基板20的单个光刻胶图案30周围穿孔多个裂痕发生孔隙40，将限定虚拟预定区域10的滤波器预定基座35形成在单个光刻胶图案30周围。
更详细地说，在所述玻璃基板20穿孔多个裂痕发生孔隙40可以包括：将激光束(未图示)的束斑(beam spot)反复照射于玻璃基板20，以使一个束斑对应单个裂痕发生孔隙40；在激光束的照射期间，沿着单个光刻胶图案30的周长在多个裂痕发生孔隙40之间形成裂痕(图10的50)。
所述滤波器预定基座35，在穿孔玻璃基板23的前面以及后面，与单个光刻胶图案30的占据区域一起包括虚拟预定区域10。接着，如图11以及图12所示，所述近红外线滤波器的制造方法可以包括第四步骤，所述第四步骤，在穿孔玻璃基板23与多个裂痕发生孔隙40一起对虚拟预定区域10执行湿式蚀刻工艺，将虚拟预定区域10变为虚拟限定区域14，同时在虚拟限定区域14形成倒角面60。
在所述穿孔玻璃基板23执行湿式蚀刻工艺，包括：将穿孔玻璃基板23浸入在以25℃至30℃维持并包含氢氟酸(HF)的湿式蚀刻槽；将单个光刻胶图案30作为蚀刻掩模使用，进而在穿孔玻璃基板23将氢氟酸渗透至多个裂痕发生孔隙40；使用氢氟酸与多个裂痕发生孔隙40一起通过多个裂痕发生孔隙40之间的裂痕(图10的50)，以虚拟预定区域10的选择性蚀刻形成虚拟限定区域14。
所述虚拟预定区域10的选择性蚀刻可以在蚀刻玻璃基板26与多个蚀刻裂痕发生孔隙45一起在多个蚀刻裂痕发生孔隙45之间形成蚀刻裂痕55。
如图12所示，所述倒角面60，为使其从单个光刻胶图案30的侧壁向多个蚀刻裂痕发生孔隙45逐渐下降并斜向倾斜，以直角三角形形成的截面视图观察时，将倒角面60投影到直角三角形的底面时，以单个光刻胶图案30的侧壁为基准具有50μm至200μm的水平长度W，并且将倒角面60投影到直角三角形的高度时，以单个光刻胶图案30的底面为基准具有2μm至10μm的垂直长度D。
下面，如图13所示，所述近红外线滤波器的制造方法可以包括第五步骤，所述第五步骤将多个光刻胶图案30从蚀刻玻璃基板26除去，以形成被多个蚀刻裂痕发生孔隙45所限定的滤波器支撑中间件75。在此，所述滤波器支撑中间件75，在蚀刻玻璃基板26可以包括虚拟限定区域14和被虚拟限定区域14围绕的备用单元区域70。接着，如图14及图15所示，所述近红外线滤波器的制造方法可以包括第六步骤，所述第六步骤对蚀刻玻璃基板26执行化学加强工艺，以将滤波器支撑中间件75变为滤波器支撑座体95。
对所述蚀刻玻璃基板26执行化学加强工艺，可以包括：将蚀刻玻璃基板26浸入在以350℃至450℃维持且含有硝酸钾(KNO3)的熔融金属槽；硝酸钾(KNO3)和蚀刻玻璃基板26在熔融金属槽进行化学反应期间，相互扩散蚀刻玻璃基板26的碱离子(Na+)和硝酸钾(KNO3)的碱离子(K+)，以将碱离子(K+)浸透至蚀刻玻璃基板26的表面；将蚀刻玻璃基板26进行冷却，进而在蚀刻玻璃基板26的表面形成加强层80，以使蚀刻玻璃基板26的表面具有压缩应力。
所述滤波器支撑座体95，在执行化学加强工艺期间，通过在滤波器支撑中间件75使虚拟限定区域14和备用单元区域70的表面包含加强层80，以将虚拟限定区域14和备用单元区域70变更并形成为虚拟区域18和单元区域90。接着，如图16及图17所示，所述近红外线滤波器的制造方法可以包括第七步骤，所述第七步骤形成覆盖加强玻璃基板29以使近红外线通过(pass)滤波器支撑座体95或者对滤波器支撑座体95阻断(cut-off)近红外线的光学滤波层100。
为了形成如图1至图5所公开的近红外线通过滤波器，所述光学滤波层100可以包括：在加强玻璃基板29的前面和后面中的一个面，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)，并且在加强玻璃基板29的另一个面，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)，以使其具有较所述加强玻璃基板的一个面更小的层叠次数，同时具有相同或者不同的层叠材料。
类似地，为了形成如图1至图5所公开的近红外线通过滤波器，所述光学滤波层100可以包括：树脂层，其在加强玻璃基板29的前面和后面中的一个面上；在树脂层上，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)；以及在加强玻璃基板29的另一个面上，交替并反复层叠二氧化硅(SiO2)和氧化钛(TiO2或者Ti3O5)或者二氧化硅(SiO2)和氧化钽(Ta2O5)或者二氧化硅(SiO2)五氧化二铌(Nb2O5)，以使其具有比在所述树脂层上更小的厚度，并且具有与位于所述树脂层上相同的层叠材料。所述树脂层在聚合物树脂可以包括近红外线吸收染料，所述聚合物树脂包括氨基甲酸酯以及丙烯酸。
另一方面，所述近红外线滤波器的制造方法，还可以包括：湿式处理步骤，其在第五步骤和第六步骤之间或者在第六步骤和第七步骤之间执行。所述湿式处理步骤，在第五步骤和第六步骤之间，将包含非氢氟酸或者氢氟酸的湿式蚀刻液适用于蚀刻玻璃基板26，进而部分地蚀刻蚀刻玻璃基板26的表面，或者在第六步骤和第七步骤之间，将包含非氢氟酸或者氢氟酸的湿式蚀刻液适用于加强玻璃基板29，进而部分地蚀刻加强玻璃基板29的表面。
将近红外线滤波器的制造方法从第一至第七步骤按照每个步骤实施期间，所述湿式处理步骤可以执行为：将玻璃基板20的加工前晶格缺陷从玻璃基板20的表面除去，或者，将露出在穿孔玻璃基板23、蚀刻玻璃基板26或者加强玻璃基板29表面的玻璃基板20的加工后晶格缺陷除去。
接着，所述近红外线滤波器的制造方法，还可以包括：第八步骤，执行第七步骤之后，将外部力F适用于加强玻璃基板29和光学滤波层100期间，将多个滤波器支撑座体95沿着多个蚀刻裂痕发生孔隙45从加强玻璃基板29分离，同时将多个蚀刻裂痕发生孔隙45作为裂痕转印体使用，在多个滤波器支撑座体95上细分光学滤波层100，进而在单个滤波器支撑座体95上形成光学滤波器细分层(图1的105)。
图1的近红外线滤波器110可以由所述单个滤波器支撑座体95和光学滤波器细分层105组成。所述近红外线滤波器110可以是近红外线通过滤波器或者近红外线线截止滤波器。
作为本发明的变形例，如图6级图7所示，为了实现图3b的结构，根据本发明的近红外线滤波器的制造方法，可以包括第二步骤，所述第二步骤在玻璃基板20的前面和后面上形成二维排列的多个光刻胶图案30。即，位于所述前面上的多个光刻胶图案30预先设置图8至图10的虚拟预定区域10。
但是，位于所述后面上的多个光刻胶图案30在玻璃基板上不设置图8至图10的虚拟预定区域10。之后，所述近红外线滤波器的制造方法也可以在玻璃基板20依次执行图11至图17的第3步骤至第八步骤。
Claims (26)
1.一种近红外线滤波器，其特征在于，包括：
滤波器支撑座体，包括单元区域和虚拟区域，其中，所述单元区域为四角柱形状，所述虚拟区域围绕所述单元区域的四周且从所述单元区域向外侧厚度逐渐变小；以及
光学滤波器细分层，以从所述滤波器支撑座体入射在前面并透过后面的光束的路径作为基准观察时，其在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面覆盖所述单元区域和所述虚拟区域，
其中，所述虚拟区域在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的至少一侧具有斜向倾斜的倒角面，
所述光学滤波器细分层，在所述倒角面斜向倾斜，在所述单元区域和所述虚拟区域通过或者阻断所述近红外线，并且
对于在所述虚拟区域与所述滤波器支撑座体的外部接触的虚拟内部投影面具有光滑面，
其中，所述光滑面与所述虚拟区域的所述虚拟内部投影面位于同一条直线上。
2.根据权利要求1所述的近红外线滤波器，其特征在于，
所述滤波器支撑座体包括：钠钙玻璃或者铝硅酸盐玻璃。
3.根据权利要求1所述的近红外线滤波器，其特征在于，
所述滤波器支撑座体还包括：
加强层，其在所述光学滤波器细分层下，沿着所述单元区域的表面和所述虚拟区域的表面和所述虚拟区域的所述虚拟内部投影面，具有与所述滤波器支撑座体的内部不同种类的元素。
4.根据权利要求3所述的近红外线滤波器，其特征在于，
在包含硝酸钾（KNO3）的熔融金属槽中，所述滤波器支撑座体通过所述滤波器支撑座体的钠离子（Na+）和硝酸钾（KNO3）的钾离子（K+）的相互扩散进行加强处理，以使其表面具有压缩应力。
5.根据权利要求1所述的近红外线滤波器，其特征在于，
在所述虚拟区域的所述倒角面，所述滤波器支撑座体从所述单元区域向所述虚拟内部投影面斜向倾斜。
6.根据权利要求1所述的近红外线滤波器，其特征在于，
所述单元区域和所述虚拟区域，在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的所述至少一侧的所述倒角面周围，具有所述单元区域的每个拐角以对角线面对的圆形形状。
7.根据权利要求1所述的近红外线滤波器，其特征在于，
以所述光束的所述路径作为基准观察时，所述虚拟内部投影面的长度具有大于所述光学滤波器细分层的厚度的大小。
8.根据权利要求1所述的近红外线滤波器，其特征在于，
所述光学滤波器细分层，
在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的一个面具有小的层叠次数，并且
在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面由层叠材料形成。
9.根据权利要求8所述的近红外线滤波器，其特征在于，
所述光学滤波器细分层作为所述层叠材料包括：
交替并反复层叠的二氧化硅（SiO2）和氧化钛或者二氧化硅（SiO2）和氧化钽（Ta2O5）或者二氧化硅（SiO2）和五氧化二铌（Nb2O5）。
10.根据权利要求8所述的近红外线滤波器，其特征在于，
所述光学滤波器细分层包括：
在所述滤波器支撑座体的所述一个面，交替并反复层叠二氧化硅（SiO2）和氧化钛或者二氧化硅（SiO2）和氧化钽（Ta2O5）或者二氧化硅（SiO2）和五氧化二铌（Nb2O5）；
在所述滤波器支撑座体的另一个面，交替并反复层叠二氧化硅（SiO2）和氧化钛或者二氧化硅（SiO2）和氧化钽（Ta2O5）或者二氧化硅（SiO2）和五氧化二铌（Nb2O5），以使其与位于所述滤波器支撑座体的所述一个面的所述层叠材料相同或者不同。
11.根据权利要求1所述的近红外线滤波器，其特征在于，
所述光学滤波器细分层，
在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的一个面具有小的厚度，并且
在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的一个面由不同材料形成。
12.根据权利要求11所述的近红外线滤波器，其特征在于，
所述光学滤波器细分层包括：
树脂层，其在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的一个面；以及
在所述树脂层上和所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的另一个面，交替并反复层叠的二氧化硅（SiO2）和氧化钛或者二氧化硅（SiO2）和氧化钽（Ta2O5）或者二氧化硅（SiO2）和五氧化二铌（Nb2O5），
其中，所述树脂层在聚合物树脂包括近红外线吸收染料，所述聚合物树脂包括氨基甲酸酯以及丙烯酸。
13.根据权利要求12所述的近红外线滤波器，其特征在于，
所述光学滤波器细分层包括：
在所述树脂层上，交替并反复层叠二氧化硅（SiO2）和氧化钛或者二氧化硅（SiO2）和氧化钽（Ta2O5）或者二氧化硅（SiO2）和五氧化二铌（Nb2O5）；
在所述滤波器支撑座体的所述前面和所述后面中的另一个面，交替并反复层叠二氧化硅（SiO2）和氧化钛或者二氧化硅（SiO2）和氧化钽（Ta2O5）或者二氧化硅（SiO2）和五氧化二铌（Nb2O5），以使其具有比在所述树脂层上更小的厚度，并且具有相同的位于所述树脂层上的层叠材料。
14.根据权利要求1所述的近红外线滤波器，其特征在于，
所述光学滤波器细分层，将所述虚拟区域的所述虚拟内部投影面暴露于所述滤波器支撑座体的外部。
15.一种近红外线滤波器的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：
第一步骤，准备玻璃基板；
第二步骤，在所述玻璃基板的前面和后面上，形成二维排列的多个光刻胶图案；
第三步骤，在所述玻璃基板的单个光刻胶图案周围穿孔多个裂痕发生孔隙，以在所述玻璃基板的所述前面和所述后面中的至少一侧形成将虚拟预定区域限定在所述单个光刻胶图案周围的滤波器预定基座；
第四步骤，在被穿孔的玻璃基板与所述多个裂痕发生孔隙一起对所述虚拟预定区域执行湿式蚀刻工艺，将所述虚拟预定区域变为虚拟限定区域，同时在所述虚拟限定区域形成斜向倾斜的倒角面；
第五步骤，将所述多个光刻胶图案从被蚀刻的玻璃基板除去，以形成被所述多个蚀刻裂痕发生孔隙所限定的滤波器支撑中间件；
第六步骤，对被蚀刻的玻璃基板执行化学加强工艺，以将所述滤波器支撑中间件变为滤波器支撑座体；
第七步骤，形成覆盖加强的所述被蚀刻的玻璃基板以使近红外线通过所述滤波器支撑座体或者对所述加强玻璃基板阻断所述近红外线的光学滤波层，以及
第八步骤，将外部力适用于所述加强玻璃基板和所述光学滤波层期间，
将多个所述滤波器支撑座体沿着所述多个蚀刻裂痕发生孔隙从所述加强玻璃基板分离，
同时将所述多个蚀刻裂痕发生孔隙作为裂痕转印体使用在多个所述滤波器支撑座体上细分所述光学滤波层，进而在单个所述滤波器支撑座体上形成光学滤波器细分层，
所述光学滤波器细分层在所述倒角面斜向倾斜。
16.根据权利要求15所述的近红外线滤波器的制造方法，其特征在于，
在所述玻璃基板穿孔所述多个裂痕发生孔隙，包括：
将激光束的束斑反复照射于所述玻璃基板，以使一个束斑对应单个裂痕发生孔隙；
在所述激光束的照射期间，沿着所述单个光刻胶图案的周长在所述多个裂痕发生孔隙之间形成裂痕。
17.根据权利要求15所述的近红外线滤波器的制造方法，其特征在于，
在所述穿孔玻璃基板，所述滤波器预定基座与所述单个光刻胶图案的占据区域一起包括所述虚拟预定区域。
18.根据权利要求15所述的近红外线滤波器的制造方法，其特征在于，
在所述穿孔玻璃基板执行所述湿式蚀刻工艺，包括：
将所述穿孔玻璃基板浸入在以25℃至30℃维持并包含氢氟酸（HF）的湿式蚀刻槽；
将所述单个光刻胶图案作为蚀刻掩模使用，进而在所述穿孔玻璃基板将所述氢氟酸渗透至所述多个裂痕发生孔隙；
使用所述氢氟酸与所述多个裂痕发生孔隙一起通过所述多个裂痕发生孔隙之间的裂痕，以所述虚拟预定区域的选择性蚀刻形成所述虚拟限定区域。
19.根据权利要求15所述的近红外线滤波器的制造方法，其特征在于，
所述倒角面，
为使其从所述单个光刻胶图案的侧壁向多个蚀刻裂痕发生孔隙逐渐下降并斜向倾斜，
以形成为直角三角形的截面视图观察时，
将所述倒角面投影到所述直角三角形的底面时，以所述单个光刻胶图案的侧壁为基准具有50㎛至200㎛的水平长度，并且
将所述倒角面投影到所述直角三角形的高度时，以所述单个光刻胶图案的底面为基准具有2㎛至10㎛的垂直长度。
20.根据权利要求15所述的近红外线滤波器的制造方法，其特征在于，
在所述蚀刻玻璃基板，所述滤波器支撑中间件包括所述虚拟限定区域和被所述虚拟限定区域围绕的备用单元区域。
21.根据权利要求15所述的近红外线滤波器的制造方法，其特征在于，
对所述蚀刻玻璃基板执行化学加强工艺，包括：
将所述蚀刻玻璃基板浸入在以350℃至450℃维持且含有硝酸钾（KNO3）的熔融金属槽；
所述硝酸钾（KNO3）和所述蚀刻玻璃基板在所述熔融金属槽进行化学反应期间，相互扩散所述蚀刻玻璃基板的钠离子（Na+）和所述硝酸钾（KNO3）的钾离子（K+），将钾离子（K+）浸透至所述蚀刻玻璃基板的表面；
将所述蚀刻玻璃基板进行冷却，进而在所述蚀刻玻璃基板的表面形成加强层，以使所述蚀刻玻璃基板的所述表面具有压缩应力。
22.根据权利要求20所述的近红外线滤波器的制造方法，其特征在于，
在执行所述化学加强工艺期间，所述滤波器支撑座体在所述滤波器支撑中间件将加强层包含在所述虚拟限定区域和所述备用单元区域的表面，将所述虚拟限定区域和所述备用单元区域变更并形成为虚拟区域和单元区域。
23.根据权利要求15所述的近红外线滤波器的制造方法，其特征在于，
所述光学滤波层包括：
在所述加强玻璃基板的前面和后面中的一个面，交替并反复层叠二氧化硅（SiO2）和氧化钛或者二氧化硅（SiO2）和氧化钽（Ta2O5）或者二氧化硅（SiO2）和五氧化二铌（Nb2O5），并且
在所述加强玻璃基板的另一个面，交替并反复层叠二氧化硅（SiO2）和氧化钛或者二氧化硅（SiO2）和氧化钽（Ta2O5）或者二氧化硅（SiO2）和五氧化二铌（Nb2O5），以使其具有比所述加强玻璃基板的所述一个面更小的层叠次数，同时具有相同或者不同的层叠材料。
24.根据权利要求15所述的近红外线滤波器的制造方法，其特征在于，
所述光学滤波层包括：
树脂层，其在所述加强玻璃基板的前面和后面中的一个面上；
在所述树脂层上，交替并反复层叠二氧化硅（SiO2）和氧化钛或者二氧化硅（SiO2）和氧化钽（Ta2O5）或者二氧化硅（SiO2）和五氧化二铌（Nb2O5）；以及
在所述加强玻璃基板的另一个面上，交替并反复层叠二氧化硅（SiO2）和氧化钛或者二氧化硅（SiO2）和氧化钽（Ta2O5）或者二氧化硅（SiO2）和五氧化二铌（Nb2O5），以使其具有比在所述树脂层上更小的厚度，并且具有相同的位于所述树脂层上的层叠材料，
其中，所述树脂层在聚合物树脂包括近红外线吸收染料，所述聚合物树脂包括氨基甲酸酯以及丙烯酸。
25.根据权利要求15所述的近红外线滤波器的制造方法，其特征在于，还包括：
湿式处理步骤，其在所述第五步骤和所述第六步骤之间或者在所述第六步骤和所述第七步骤之间执行，
其中，所述湿式处理步骤，
在所述第五步骤和所述第六步骤之间，将包含非氢氟酸或者氢氟酸的湿式蚀刻液适用于所述蚀刻玻璃基板，进而部分地蚀刻所述蚀刻玻璃基板的表面，或者
在所述第六步骤和所述第七步骤之间，将包含所述非氢氟酸或者氢氟酸的湿式蚀刻液适用于所述加强玻璃基板，进而部分地蚀刻所述加强玻璃基板的表面。
26.根据权利要求22所述的近红外线滤波器的制造方法，其特征在于，光学滤波器细分层的外侧面为，作为虚拟区域的外侧面的虚拟内部投影面位于同一条直线上的光滑面。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2018-0039369 | 2018-04-04 | ||
| KR1020180039369A KR101924174B1 (ko) | 2018-04-04 | 2018-04-04 | 근적외선 필터 및 그 필터의 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN110342830A CN110342830A (zh) | 2019-10-18 |
| CN110342830B true CN110342830B (zh) | 2022-03-25 |
Family
ID=65584718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201910235626.3A Active CN110342830B (zh) | 2018-04-04 | 2019-03-27 | 近红外线滤波器以及该滤波器的制造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11079524B2 (zh) |
| KR (1) | KR101924174B1 (zh) |
| CN (1) | CN110342830B (zh) |
| TW (1) | TWI696002B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11302741B2 (en) * | 2020-02-02 | 2022-04-12 | Himax Imaging Limited | Image sensor structure and method of forming the same |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105712619A (zh) * | 2014-12-18 | 2016-06-29 | Uti有限公司 | 利用片切割制造具有回火的侧面切割边缘的玻璃窗的方法 |
| CN105764863A (zh) * | 2013-11-26 | 2016-07-13 | 旭硝子株式会社 | 玻璃部件和玻璃部件的制造方法 |
| CN107305319A (zh) * | 2016-04-19 | 2017-10-31 | Uti有限公司 | 摄像头镜片的制造方法及由此制造的摄像头镜片 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4426946B2 (ja) * | 2004-10-27 | 2010-03-03 | オリンパス株式会社 | デジタルカメラシステム |
| JP2007503622A (ja) * | 2003-08-26 | 2007-02-22 | レッドシフト システムズ コーポレイション | 赤外線カメラシステム |
| US7304715B2 (en) * | 2004-08-13 | 2007-12-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| KR20070088630A (ko) * | 2004-11-25 | 2007-08-29 | 스미토모 오사카 세멘토 가부시키가이샤 | 광학 필터 |
| WO2009139282A1 (en) * | 2008-05-12 | 2009-11-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
| KR101564925B1 (ko) * | 2009-01-14 | 2015-11-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 컬러필터 기판 및 이의 제조 방법 |
| TW201032081A (en) * | 2009-02-20 | 2010-09-01 | Univ Lunghwa Sci & Technology | Method of making plant layout using computer aided approach |
| JP5288018B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2013-09-11 | ダイキン工業株式会社 | 硬化性樹脂組成物、及び、硬化物 |
| TWM509973U (zh) * | 2015-01-27 | 2015-10-01 | Xintec Inc | 一種剝離裝置 |
| KR102538464B1 (ko) * | 2015-02-06 | 2023-06-01 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 유리 기판, 적층 기판 및 유리 기판의 제조 방법 |
| TW201800459A (zh) * | 2015-12-18 | 2018-01-01 | 富士軟片股份有限公司 | 近紅外線吸收組成物、近紅外線截止濾波器、近紅外線截止濾波器的製造方法、固體攝像元件、照相機模組及圖像顯示裝置 |
-
2018
- 2018-04-04 KR KR1020180039369A patent/KR101924174B1/ko active
-
2019
- 2019-03-19 US US16/357,974 patent/US11079524B2/en active Active
- 2019-03-27 CN CN201910235626.3A patent/CN110342830B/zh active Active
- 2019-04-01 TW TW108111558A patent/TWI696002B/zh active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105764863A (zh) * | 2013-11-26 | 2016-07-13 | 旭硝子株式会社 | 玻璃部件和玻璃部件的制造方法 |
| CN105712619A (zh) * | 2014-12-18 | 2016-06-29 | Uti有限公司 | 利用片切割制造具有回火的侧面切割边缘的玻璃窗的方法 |
| CN107305319A (zh) * | 2016-04-19 | 2017-10-31 | Uti有限公司 | 摄像头镜片的制造方法及由此制造的摄像头镜片 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI696002B (zh) | 2020-06-11 |
| KR101924174B1 (ko) | 2019-02-22 |
| US11079524B2 (en) | 2021-08-03 |
| US20190310401A1 (en) | 2019-10-10 |
| TW202004229A (zh) | 2020-01-16 |
| CN110342830A (zh) | 2019-10-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101570658B1 (ko) | 쉬트컷팅을 이용한 측면강화된 윈도우 글래스의 제조방법 | |
| KR101931322B1 (ko) | 쉬트 컷팅을 이용한 측면강화된 윈도우 글래스의 제조방법 | |
| KR101749598B1 (ko) | 노출패턴이 구현된 카메라 윈도우의 제조방법 및 그에 의해 제조된 노출패턴이 구현된 카메라 윈도우 | |
| KR101765198B1 (ko) | Uv 패턴을 이용한 윈도우 글래스 제조방법 | |
| TWI608256B (zh) | 透明基板 | |
| CN103159411A (zh) | 强化玻璃、触摸板以及强化玻璃的制造方法 | |
| US7098396B2 (en) | Method and apparatus for making a lid with an optically transmissive window | |
| CN110342830B (zh) | 近红外线滤波器以及该滤波器的制造方法 | |
| CN103359938B (zh) | 红外吸收玻璃晶片及其制备方法 | |
| CN108367966B (zh) | 红外线吸收玻璃板及其制造方法、以及固体摄像元件设备 | |
| TWI420661B (zh) | 影像感測裝置及其形成方法 | |
| JP2016015479A (ja) | 光学素子 | |
| WO2017179283A1 (ja) | 赤外線吸収ガラス板及びその製造方法、並びに固体撮像素子デバイス | |
| JP2007101649A (ja) | 光学レンズ，および，光学レンズの製造方法 | |
| JP2019055889A (ja) | 赤外線吸収ガラス板及びその製造方法、並びに固体撮像素子デバイス | |
| CN111149025B (zh) | 带光学膜的玻璃板及其制造方法 | |
| CN103376481A (zh) | 光学镜片及其制作方法 | |
| KR20180056355A (ko) | 쉬트컷팅을 이용한 윈도우 글래스의 제조방법 및 이에 의해 제조된 윈도우 글래스 | |
| JP6312260B2 (ja) | 光学素子 | |
| JP2008203851A (ja) | ウエハーの接着工程を用いるグレースケールマスクの製造方法 | |
| JP7098889B2 (ja) | 荷電粒子線露光用マスクおよびその製造方法 | |
| TW200844644A (en) | Method of making a grayscale reticle using step-over lithography for shaping microlenses | |
| KR101413673B1 (ko) | 고집적 정전용량 터치센서의 제조방법 | |
| KR20140036478A (ko) | 터치패널용 커버유리 제조방법 | |
| US11112699B2 (en) | Substrate having film type pattern and the manufacturing method for making the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |