CN110323159B - 基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的是提供一种能够缩短在基板处理中花费的整体时间的基板处理装置。有关实施方式的基板处理装置(1)具备：多个夹紧部(3d)，设置为以基板旋转轴(A1)为中心与旋转板(3c)一起旋转，以各个销旋转轴(A2)为中心旋转，由各个销(21)把持基板(W)；同步环(外轮(24a)及母齿轮(3f))，设置为以基板旋转轴(A1)为中心与旋转板(3c)一起及单独地旋转，使各个夹紧部(3d)以各个销旋转轴(A2)为中心同步地旋转；惯性环(44)，设置为以基板旋转轴(A1)为中心与旋转板(3c)一起及单独地旋转；以及连杆臂(46)，以使同步环的以基板旋转轴(A1)为中心的惯性力矩及惯性环(44)的以基板旋转轴(A1)为中心的惯性力矩均衡的方式使同步环及惯性环(44)联接。

Description

基板处理装置
技术领域
本发明涉及基板处理装置。
背景技术
在半导体装置及液晶显示装置的制造工艺中，有在晶片或玻璃板等的基板上形成电路图案的成膜工艺或光刻工艺。在这些工艺中，在主要使用液体的湿式工艺中使用自旋处理装置，对基板执行药液处理或清洗处理、干燥处理等。自旋处理装置把持基板的周端面(外周面)，以与基板中心正交的基板旋转轴为中心使基板旋转，向该旋转的基板供给处理液(例如药液或纯水等)。
自旋处理装置通常具备保持基板而使其旋转的旋转工作台。在该旋转工作台上，设置有与基板的周端面接触而把持基板的多个保持销(夹紧销)。这些保持销偏心旋转，在各保持销的下端，分别设置有子齿轮。并且，以旋转工作台的旋转轴为中心旋转的母齿轮以与各子齿轮啮合的方式设置在旋转工作台内。该母齿轮经由轴承设置在与旋转工作台的旋转轴之间，是被存在于旋转工作台内的弹簧向逆时针方向(规定方向的一例)牵拉的状态。该状态是通过与母齿轮啮合的各子齿轮向顺时针方向旋转、各保持销将基板的周端面一边推压一边把持的状态。
另外，在上述旋转工作台的下侧，设置有与旋转工作台分开的压力缸。在将基板把持解除的情况下，压力缸的停止销上升，由该停止销将母齿轮卡止，在母齿轮不动的状态下使旋转工作台向逆时针方向旋转。由此，与旋转工作台一起旋转而移动的各保持销绕母齿轮向逆时针方向移动而偏心旋转，从基板的周端面离开。
如上述那样，母齿轮是被弹簧的力向规定方向牵拉的状态。在基板处理中，根据处理液的种类而变更旋转工作台的转速(旋转速度)。在该转速被变更时，由于发生急剧的加速或减速，所以通过在旋转工作台内发生的惯性力，与被弹簧牵拉的方向反方向的力暂时作用在母齿轮上，有保持销从基板的周端面离开的情况。因此，当将旋转工作台的转速变更时，保持销从基板的周端面离开，或者保持销推压基板的周端面的力变弱。由此，有发生基板相对于保持销打滑的状态、或基板从旋转工作台脱离的情况。为了避免这样的不良状况的发生，在现状下抑制旋转工作台的旋转的加速度，与基板处理有关的整体的时间变长。
发明内容
本发明的目的是提供一种能够缩短与基板处理有关的整体的时间的基板处理装置。
有关本发明的技术方案的基板处理装置具备：旋转体，以基板旋转轴为中心旋转；多个夹紧部，设置为以上述基板旋转轴为中心与上述旋转体一起旋转，并且分别以销旋转轴为中心旋转，使分别具有的各个销抵接在基板的周端面上而把持该基板；同步部件，设置为以上述基板旋转轴为中心与上述旋转体一起及单独地旋转，使上述多个夹紧部以各自的销旋转轴为中心同步地旋转；惯性部件，设置为以上述基板旋转轴为中心与上述旋转体一起及单独地旋转；以及连杆部件，以使上述同步部件的以基板旋转轴为中心的惯性力矩及上述惯性部件的以基板旋转轴为中心的惯性力矩均衡的方式使上述同步部件及上述惯性部件联接。
根据本发明的实施方式，能够缩短与基板处理有关的整体的时间。
附图说明
图1是表示有关第1实施方式的基板处理装置的概略结构的剖视图。
图2是表示有关第1实施方式的夹盘机构(基板把持状态)的概略结构的立体图。
图3是表示有关第1实施方式的夹盘机构(把持解除状态)的概略结构的立体图。
图4是表示有关第1实施方式的均衡机构的概略结构的剖视图。
图5是用来说明有关第1实施方式的惯性环的设计的图。
图6是表示有关第2实施方式的夹盘机构(基板把持状态)的概略结构的立体图。
具体实施方式
(第1实施方式)
参照图1至图5对第1实施方式进行说明。
如图1所示，有关第1实施方式的基板处理装置1具备在中央具有贯通孔2a的基座体2、可旋转地设置在该基座体2的上方的旋转工作台3、作为该旋转工作台3的驱动源的马达4、将旋转工作台3包围的环状的液体承接部5、和对马达4进行控制的控制装置6。
旋转工作台3具备传递来自马达4的动力的圆筒状的传动体3a、将各部覆盖的罩3b、和固定在传动体3a的上端侧的环状的旋转板3c。进而，旋转工作台3如图1、图2及图3所示，具备把持基板W的多个(例如六个)夹紧部3d、分别设置在各夹紧部3d的下部的多个(例如六个)子齿轮3e、与它们啮合的母齿轮3f、和用来实现惯性力矩的均衡的均衡机构3h。另外，旋转板3c是旋转体的一例。此外，在基座体2上，固定配置有用来将基板把持解除的把持解除机构3g。
回到图1，马达4由筒状的定子4a和可旋转地插入在该定子4a内的筒状的转子4b构成。定子4a被安装在基座体2的下表面上，转子4b的上端侧位于基座体2的贯通孔2a内。马达4是用来使旋转工作台3旋转的驱动源的一例。该马达4连接在电气地控制装置6上，对应于控制装置6的控制而被驱动。
液体承接部5由收取从基板W飞散的处理液或流下的处理液的环状的可动液体承接部5a及环状的固定液体承接部5b构成。该液体承接部5形成为，将旋转工作台3包围。可动液体承接部5a构成为，例如能够通过压力缸等升降机构(未图示)在上下方向上移动。固定液体承接部5b被固定在基座体2的上表面上，在固定液体承接部5b的底面上连接着将处理液(例如，药液或纯水等)回收的多个配管5c。
传动体3a以其中心轴与马达4的旋转轴一致的方式被固定在马达4的转子4b的上端。因此，传动体3a通过马达4的驱动而旋转。传动体3a及马达4的旋转中心轴为基板旋转轴A1。
传动体3a及转子4b是中空轴，在这些传动体3a及转子4b的内部空间中设置有不旋转的保持筒11。在该保持筒11的上部设置有喷嘴头12，在该喷嘴头12上，形成有朝向被各夹紧部3d把持的基板W的背面(图1中的下表面)喷出处理液(例如，药液或纯水等)的喷嘴12a。由基板W的背面反射的处理液的一部分经过排出配管13被向外部排出。另外，向基板W的表面(图1中的上表面)供给处理液的喷嘴(未图示)也设置在旋转工作台3的上方。
罩3b被形成为下表面开口的箱状，被安装在旋转板3c上以与旋转板3c一起旋转。该罩3b将与传动体3a的旋转一起旋转的零件覆盖而防止紊流的发生。在罩3b上，形成有用来使从喷嘴头12的喷嘴12a喷出的处理液穿过到上部的开口部14、以及每个夹紧部3d处的贯通孔15。
旋转板3c具有将各夹紧部3d单独地保持的多个支承筒部16。该旋转板3c被固定在传动体3a的外周面上而成为一体，与传动体3a一起旋转。因此，旋转板3c保持的各夹紧部3d也以传动体3a的旋转中心轴即基板旋转轴A1为中心与旋转板3c一起旋转。另外，各支承筒部16在圆板状的旋转板3c的外周侧以等间隔设置在以基板旋转轴A1为中心的圆上。
夹紧部3d如图1至图3所示，具备与基板W接触的夹紧销21、保持该夹紧销21并旋转的旋转板22、以及保持该旋转板22并旋转的销旋转体23。夹紧销21形成为倒锥状，从销旋转体23的旋转中心轴(与基板旋转轴A1平行的旋转中心轴)即销旋转轴A2偏心一定距离而固定在旋转板22上。该夹紧销21对应于销旋转体23的旋转而相对于销旋转轴A2偏心而旋转。销旋转体23被旋转板3c的支承筒部16可旋转地保持。在该销旋转体23的下端固定着子齿轮3e，啮合在以基板旋转轴A1为旋转轴的母齿轮3f上。该母齿轮3f设置在固定于传动体3a上的轴承(例如轴承)24上，能够绕传动体3a旋转。
由此，如果母齿轮3f相对于夹紧部3d相对地绕基板旋转轴A1旋转，则与该母齿轮3f啮合的各子齿轮3e旋转，每个夹紧部3d的销旋转体23全部同步地绕销旋转轴A2旋转。在母齿轮3f向用来把持基板W的旋转方向旋转的情况下，各夹紧部3d的各个夹紧销21全部同步地偏心旋转，抵接在基板W的周端面(外周面)上，一边将基板W的中心对心于基板旋转轴A1一边把持基板W(图2所示的状态)。通过这样使各夹紧部3d动作，实现了进行将基板W的中心取位于基板旋转轴A1上的对心并把持基板W的夹盘机构。
在第1实施方式中，在俯视中，通过各销旋转体23向顺时针方向旋转，各夹紧销21把持基板W。如果母齿轮3f相对于各夹紧部3d相对地向逆时针方向旋转，则各销旋转体23向顺时针方向旋转。
在母齿轮3f的下方，在与旋转板3c之间连接着多个(例如两根)夹紧弹簧25。由此，母齿轮3f被向使保持在旋转板3c上的各销旋转体23向顺时针方向旋转的方向施力。因而，与母齿轮3f啮合的各子齿轮3e及各夹紧销21被向用来把持基板W的旋转方向均匀地施力。另外，夹紧弹簧25是施力部件的一例。夹紧弹簧25的一端卡在固定于母齿轮3f上的弹簧柱26上(参照图1)，其另一端卡在固定于旋转板3c上的弹簧柱27上。这样的夹紧弹簧25设置在以基板旋转轴A1为中心对置的位置。各夹紧弹簧25的弹簧力被从母齿轮3f传递给各子齿轮3e，各夹紧销21相对于销旋转轴A2偏心旋转，通过推压基板W的周端面而把持基板W。
这样，母齿轮3f相对于旋转板3c以基板旋转轴A1为中心单独地旋转。此外，在用各夹紧销21把持着基板W的状态下，由夹紧弹簧25将旋转板3c与母齿轮3f卡止(双方通过弹簧成为一体)，母齿轮3f与旋转板3c一起旋转。即，母齿轮3f被设置成，能够以基板旋转轴A1为中心与旋转板3c一起及单独旋转。
把持解除机构3g如图1所示，具有压力缸31和停止销32。压力缸31具有上下移动的压力缸轴31a。停止销32设置在压力缸轴31a的前端。如果压力缸31的压力缸轴31a上升，则该压力缸轴31a的前端的停止销32也上升，由其停止销32将母齿轮3f卡止。如果在该母齿轮3f不动的状态下旋转板3c向规定方向(例如逆时针方向)旋转，则与旋转板3c一起旋转的各夹紧部3d向与旋转板3c的旋转方向相同的方向绕母齿轮3f移动。此时，各夹紧销21向与把持基板W时的方向相反方向相对于销旋转轴A2偏心旋转，从基板W的周端面离开(图3所示的状态)。另外，压力缸31被电连接在控制装置6上，对应于控制装置6的控制而驱动。
均衡机构3h如图1至图4所示，具有多个同步销41、多个支点部件42、多个旋转垫块43、惯性环44、多个惯性销45和多个连杆臂46。同步销41、支点部件42、旋转垫块43、惯性销45及连杆臂46的个数分别是四个，但它们的数量没有被限定，例如也可以分别是一个或两个、三个，也可以是五个以上。
这里，惯性环44是惯性部件的一例，连杆臂46是连杆部件的一例。此外，由于轴承24的外轮24a和安装在该外轮24a上的母齿轮3f一体旋转，所以外轮24a和母齿轮3f构成同步环，具有以基板旋转轴A1为中心的惯性力矩。该同步环是同步部件的一例。
各同步销41取位于母齿轮3f的轴承24侧(基板旋转轴A1侧)，以等间隔设置在以基板旋转轴A1为中心的圆周上。此外，各同步销41以距各支点部件42具有规定的距离的方式离开设置。这些同步销41例如形成为圆柱状，形成在母齿轮3f的上表面上。在各同步销41上，在旋转工作台3的旋转(基板旋转)的加速或减速时作用有由同步环的惯性力矩产生的转矩所带来的力。
各支点部件42取位在旋转板3c的轴承24侧(基板旋转轴A1侧)，以等间隔设置在以基板旋转轴A1为中心的圆周上。这些支点部件42例如形成为圆柱状，形成在旋转板3c的下表面上。各支点部件42被固定安装在旋转板3c上，在旋转工作台3的旋转(基板旋转)加速及减速时，与基板W一体地进行加速或减速动作。
各旋转垫块43分别可旋转地设置在各支点部件42的下端(参照图1及图4)，支承着惯性环44。借助这些旋转垫块43，惯性环44能够与母齿轮3f单独地旋转。
惯性环44能够以基板旋转轴A1为中心与旋转板3c一起及单独旋转而设置。该惯性环44具有与上述同步环(外轮24a及母齿轮3f)相同的大小的、以基板旋转轴A1为中心的惯性力矩(详细后述)。
各惯性销45以等间隔设置在惯性环44的以基板旋转轴A1为中心的圆周上。这些惯性销45例如被形成为圆柱状，形成在惯性环44的上表面上。此外，惯性销45以距支点部件42具有规定的距离的方式离开而设置。在各惯性销45上，在旋转工作台3的旋转(基板旋转)加速或减速时作用有由惯性环44的惯性力矩产生的转矩所带来的力。另外，在本实施方式中，从支点部件42到同步销41的距离与从支点部件42到惯性销45的距离被设定为相同。
各连杆臂46可单独旋转地安装在与旋转板3c的自旋旋转同步旋转的各支点部件42上。由此，各连杆臂46能够以各个支点部件42为支点而旋转。
在这些连杆臂46上，分别在以支点部件42为中间对置的位置形成有缺口部46a(参照图2至图4)。在各连杆臂46上，在缺口部46a的一方中被插入同步销41，在另一方中被插入惯性销45。由此，同步销41和惯性销45能够相对于连杆臂46滑动移动。这样的连杆臂46使同步环及惯性环44联接，以使以基板旋转轴A1为中心的同步环(外轮24a及母齿轮3f)的惯性力矩及惯性环44的惯性力矩均衡。即，同步环及惯性环44能够连动。
这里，如上述那样，惯性环44是能够绕基板旋转轴A1旋转的环部件，具有与同步环(外轮24a及母齿轮3f)相同的大小的惯性力矩。因此，在基板旋转加速或减速的情况下，同步环和惯性环44产生相同的转矩值，这些力作用在各同步销41和各惯性销45上。这些销41、45分别隔着各支点部件42对置配置在其两侧，受到由相同的惯性力矩带来的力，所以同步环和惯性环44相互均衡，阻止了通过惯性力相对地旋转。即，同步环和惯性环44因作用在各自上的惯性力而旋转的运动，通过设置将相互连接的连杆臂46，成为将相互的惯性力相抵消的运动。由此，同步环和惯性环44成为相互取平衡的状态。该平衡不论加速度的值如何都总是成立，所以不论是基板旋转的加速中及减速中的哪种，都能够阻止由惯性力矩带来的力作用在各夹紧弹簧25上。
(惯性环的设计)
对设计上述惯性环44的方法进行说明。
如图5所示，如果设自旋加减速时的角加速度为dω/dt，设在同步环(外轮24a及母齿轮3f)上发生的转矩为T1，设在惯性环44上发生的转矩为T2，设外轮24a的以基板旋转轴A1为中心的惯性力矩为I0，设同步环的以基板旋转轴A1为中心的惯性力矩为I1，设惯性环44的以基板旋转轴A1为中心的惯性力矩为I2，则为T1＝(I1+I0)·dω/dt，T2＝I2·dω/dt。另外，作为参考，是T1＝F1(作用在同步环上的力)·L1(从支点部件42到同步销41的长度)，T2＝F2(作用在惯性环44上的力)·L2(从支点部件42到惯性销45的长度)。
在连杆臂46上的支点的两侧，作用着同步环的转矩T1和惯性环44的转矩T2。如果双方的转矩T1与转矩T2相等，则双方的同步环和惯性环44均衡而不会相互旋转，与旋转工作台3的自旋旋转一体地加速或减速。
即，如果设为T1＝T2，则惯性环44的惯性力矩I2(kgm2)及质量M2(kg)根据I2＝I1+I0和M2＝2·(I1+I0)/R22(R2：惯性环44的半径)的式求出。如果设计惯性环44以使其具有这些惯性力矩I2及质量M2，则通过进行基板W的对心动作的夹盘机构，也能够消除由马达4的加减速带来的基板把持力的变化，能够实现高加速及高减速动作。此外，在进行基板把持动作或基板把持解除动作的情况下，惯性环44仅向与母齿轮3f的旋转(同步环的旋转)相反方向旋转，不会给马达4或停止销32等其他的机构的动作带来影响，需要变更机构。
(基板处理工艺)
接着，对上述基板处理装置1进行的基板处理(基板处理工艺)的流程进行说明。另外，预先设定了旋转板3c的转速(旋转速度)及液供给时间等的处理条件，但可以由操作者任意地变更。
在基板处理中，如果将基板W用各夹紧部3d把持，则旋转工作台3通过马达4旋转而基板W在平面内旋转。一边由未图示的喷嘴向基板W的上表面、或由喷嘴12a(参照图1)向基板W的下表面、或向基板W的两面流过处理液，一边推进处理。在液处理时，可动液体承接部5a上升。各夹紧部3d经由旋转板3c和传动体3a连接在马达4的转子4b上，与马达4的旋转一体地旋转。然后，药液处理及冲洗处理结束的基板W通过高速旋转而干燥，在其干燥后，在液处理时上升的可动液体承接部5a下降，旋转工作台3停止。
接着，压力缸31使压力缸轴31a上升，成为将停止销32提高到与母齿轮3f干涉的高度的状态，马达4旋转规定角度，使旋转板3c向规定方向(例如，在俯视中向逆时针方向)旋转。由此，各夹紧部3d及母齿轮3f向规定方向(例如逆时针方向)旋转。在该旋转中的移动途中，母齿轮3f碰到上升的停止销32，母齿轮3f停止旋转。接着，各子齿轮3e绕母齿轮3f向规定方向(例如逆时针方向)移动。由此，各夹紧销21向与把持基板W时的方向相反方向相对于销旋转轴A2偏心旋转，从基板W的周端面同时离开，基板把持被解除。把持被解除后的基板W被基板更换机器人更换为新的基板W，马达4再次向与上述相反方向旋转规定角度，各子齿轮3e绕母齿轮3f移动。由此，各夹紧销21向把持基板W时的方向相对于销旋转轴A2偏心旋转，抵接在基板W的周端面上而把持基板W。在各夹紧销21抵接在基板W的周端面上之后，接着如果各子齿轮3e移动，则与各子齿轮3e一起，母齿轮3f也向相同方向移动。由此，母齿轮3f从停止销32离开。一旦确认了该状态，压力缸31就使压力缸轴31a下降，将停止销32降低，开始接着的处理。
这里，在将基板W处理的情况下，采用适合有效率地使用处理液的液量和转速(旋转速度)。例如，在冲洗处理中，采用尽可能以短时间且能够减少冲洗液量的转速。在最终的干燥中，需要能够使基板W的液滴迅速地飞散而使基板W干燥的转速，但需要避免通过由基板旋转产生的气流使一度飞散的液滴或雾回到干燥后的基板W那样的转速。另外，为了基板处理时间的缩短，需要将各工序在所需充分的最小时间中结束，还要求缩短各工序间的切换时间。
在上述的基板处理工序中，在把持基板W的情况下，由于子齿轮3e的旋转全部以相同的角度旋转，所以把持基板W的各夹紧销21将基板W一边相对于基板旋转轴A1对心一边把持。由于此时的母齿轮3f的旋转动作通过夹紧弹簧25收缩的力进行，所以在把持着基板W的各夹紧销21上总是作用着夹紧弹簧25中残留的收缩的力。由于各夹紧销21通过母齿轮3f同步旋转，所以即使在因向基板W的外力的作用而在一根夹紧销21上集中作用有力的情况下，只要作用有作为将全部的夹紧销21打开的力的弹簧力以上的力，就不能将基板把持解除。这样的同步动作由母齿轮3f进行。
在上述的夹盘机构中，在不存在均衡机构3h的情况下，如果把持基板W而旋转时的加速度较大(短时间加速)，则主要是母齿轮3f的惯性力矩使惯性力作用在给出把持力的夹紧弹簧25上。此时，如果设基板旋转的角加速度(角速度的时间变化量)为dω/dt，设母齿轮的以基板旋转轴A1为中心的惯性力矩为I，则作用在母齿轮上的惯性转矩T为T＝I·dω/dt。通过该惯性转矩作用在给出基板把持力的夹紧弹簧25上，基板把持力在基板旋转的加速或减速时对应于惯性转矩而变化。如果以基板旋转轴A1为中心设夹紧弹簧25的安装半径为Rs，则作用在夹紧弹簧25上的力F为F＝T/Rs。
因而，在不存在均衡机构3h的情况下，如果使基板W向逆时针方向旋转，则在加速时基板把持力变弱上述力F的量，相反，在减速时基板把持力变强上述力F的量。因此，在加速时基板把持力变弱，有可能基板W打滑或将基板W掉落。此外，在减速时基板把持力变强，基板W有可能损坏。为了避免这些不良状况，需要缓缓地进行加速或减速，但在基板处理中花费的时间(也包括切换时间)变长。
另一方面，在存在上述均衡机构3h的情况下，在旋转工作台3即旋转板3c的转速变动时，阻止母齿轮3f向与被夹紧弹簧25牵拉的方向相反方向运动。即，在母齿轮3f的周围设置有具有与同步环(外轮24a及母齿轮3f)相同的惯性力矩的惯性环44。存在将该惯性环44与母齿轮3f连接的连杆臂46，连杆臂46的支点被连接在旋转板3c上。在旋转板3c旋转时，同步环及惯性环44与旋转板3c一起旋转。
例如，当向逆时针方向旋转的旋转板3c急剧地加速时，通过惯性力而同步环要以加速前的转速(旋转速度)持续旋转，但与连杆臂46相连的惯性环也与同步环同样要以加速前的转速继续旋转。由于同步环和惯性环44具有相互相同的惯性力矩，所以经由连杆臂46相互取得平衡。由于连杆臂46的支点连接在旋转板3c上，所以同步环和惯性环44在取得平衡的状态(均衡的状态)下对应于旋转板3c的急剧的加速而一起加速。由此，母齿轮3f不会在惯性力下向与旋转板3c的旋转方向相反的方向旋转，所以能够抑制各夹紧销21将基板W的周端面推压的力(基板把持力)变弱。此外，与急剧的加速时同样，在急剧的减速时也能够抑制基板把持力变强。
因而，能够使旋转板3c的转速急剧地变化，能够缩短转速的切换时间。结果，能够缩短在基板处理中花费的整体时间。即，由于能够抑制由各夹紧销21带来的基板把持力的变动，所以能够进行马达4给出的满转矩的加减速。因此，能够实现各工艺间的切换时间的缩短，此外，在处理工序、例如由高速旋转带来的基板上的液滴除去工序等中，能够缩短加速时间及减速时间，能够实现工艺时间的缩短。
另外，由各夹紧销21带来的基板把持力在旋转板3c的旋转加速时变弱上述力F的量，只要是基板W不会打滑或基板W不会落下的范围，并且在旋转板3c的旋转减速时变强上述力F的量，只要是基板W不会损坏的范围，就能够避免这些不良状况。因而，所述的同步部件与惯性部件均衡，也包括是这样的把持力的范围(力F的范围)。
如以上说明，根据第1实施方式，同步环(外轮24a及母齿轮3f)的惯性力矩及惯性环44的惯性力矩相同，同步环及惯性环44被连杆臂46联接，以使相互的惯性力矩均衡。同步环和惯性环44由于具有相互相同的惯性力矩，所以成为经由连杆臂46相互取得平衡。由此，在旋转板3c的转速急剧地变化的情况下，也能够将把持基板W的基板把持力维持为一定而将基板W可靠地把持。因而，能够使旋转板3c的转速急剧地变化，能够缩短旋转板3c的加速时间及减速时间，所以能够缩短在基板处理中花费的整体时间。
<第2实施方式>
参照图6对第2实施方式进行说明。另外，在第2实施方式中，对与第1实施方式的不同点(惯性环状)进行说明，其他的说明省略。
如图6所示，有关第2实施方式的惯性环44具有多个支承台44a及多个平衡重物44b。支承台44a的个数是四个，平衡重物44b的个数是两个，但它们的数量没有被限定，例如也可以分别是一个、两个、三个，也可以是五个以上。
各支承台44a分别支承惯性销45。这些支承台44a以板状形成在惯性环44的周端面(外周面)上，与惯性环44一体化。另外，在各支承台44a的上面分别形成有惯性销45。
各平衡重物44b以基板旋转轴A1为中心以相互对置的方式取位，设置在惯性环44的环状部分的周端面(外周面)上。这些平衡重物44b与惯性环44一体化。该惯性环44的环状部分形成得比第1实施方式细(宽度较窄，厚度也较薄)。各平衡重物44b的合计重量被设定为惯性环44的惯性力矩与同步环(外轮24a及母齿轮3f)的惯性力矩为相同大小的重量。
根据这样的惯性环44，能够在将惯性环44的惯性力矩和同步环的惯性力矩维持为相同的大小的同时，相应于平衡重物44b的重量而减小惯性环44的环状部分的重量，所以能够抑制惯性环44的环状部分的体积。由此，在惯性环44的环状部分给周边的其他部件的配置带来不良影响的情况下等，能够减小环状部分而抑制对周边的其他部件的配置的不良影响。此外，由于各平衡重物44b以基板旋转轴A1为中心相互对置，所以能够将离心力抵消。由于这样惯性环44形成为将离心力抵消那样的形状即环状，所以能够抑制惯性环44的离心力给旋转工作台3的旋转带来不良影响。
如以上说明那样，根据第2实施方式，能够得到与上述第1实施方式同样的效果。进而，通过在惯性环44上设置平衡重物44b，能够在将惯性环44的惯性力矩和同步环的惯性力矩维持为相同的大小的同时，减小惯性环44的环状部分的体积，所以在惯性环44的环状部分给周边的其他部件的配置带来不良影响的情况下等，能够减小环状部分而抑制对周边的其他部件的配置的不良影响。此外，由于惯性环44被形成为将离心力抵消那样的形状即环状，所以能够抑制惯性环44的离心力给旋转工作台3的旋转带来不良影响。
<其他实施方式>
在上述的说明中，作为基板W，对圆形的晶片那样的圆板状的基板进行处理，但基板W的形状没有被限定，例如，作为基板W也可以对液晶面板那样的矩形板状的玻璃基板进行处理。在此情况下，也至少需要三根夹紧销21，但为了基板W的把持的稳定性提高，优选的是设置四根夹紧销21。
此外，在上述的说明中，将从支点部件42到同步销41的距离和从支点部件42到惯性销45的距离设定为相同，但并不限于此。只要同步环与惯性环44各自的惯性力矩均衡就可以，从支点部件42到同步销41的距离与从支点部件42到惯性销45的距离也可以不相同。同步环和惯性环44各自的重量及形状、从支点部件42到同步销41的距离和从支点部件42到惯性销45的距离只要在考虑到离心力的旋转平衡的同时进行设定以使同步环和惯性环44的双方的惯性力矩均衡就可以。由于能够将同步环及惯性环44的形状及配置做成需要的形状及配置，所以在同步环及惯性环44的形状给周边的其他部件的配置带来不良影响的情况下等，能够将其形状及配置变更而抑制对周边的其他部件的不良影响。
此外，如上述的说明那样，在进行用夹紧销21把持基板W的情况或开放的情况下，同步环和惯性环44位置偏移。如上述那样，通过用连杆臂46的缺口部46a使得同步销41和惯性销45能够相对于连杆臂46滑动移动，将这样的偏移吸收。因而，如果能够进行这样的滑动移动，则同步销41或惯性销45向连杆臂46卡挂的部分也可以不是缺口而是长孔等的孔，只要插入到该孔中的销能够相对于连杆臂46移动就可以。
此外，在上述的说明中，作为使各夹紧销21旋转的夹盘机构而使用母齿轮3f和子齿轮3e，但并不限于此。只要能够使各夹紧销21旋转，也可以使用齿轮以外的机构。例如，也可以将母齿轮3f、子齿轮3e做成滑轮，用带连结而使各夹紧销21旋转。在此情况下，也只要设置与相当于母齿轮3f的滑轮的惯性力矩均衡的惯性部件，就与上述的说明同样，即使在旋转板3c的转速急剧地变化的情况下，也能够将把持基板W的基板把持力维持为一定而将基板W可靠地把持。因而，能够使旋转板3c的转速急剧地变化，能够缩短旋转板3c的加速时间及减速时间，所以能够缩短在基板处理中花费的整体时间。
此外，在上述的说明中，惯性环44作为将离心力抵消那样的形状而形成为环状，但只要是离心力被抵消的形状就可以，不仅可以是圆形，也可以是多边形，也可以不是环状而是棒状。此外，在惯性环44上设置平衡重物44b的情况下，多个对置的平衡重物44b也可以不是相同的重量。例如，即使两个中的一方比另一方轻，也可以相应地处于旋转中心的较远处。
此外，在上述的说明中，被连结的同步环和惯性环44是一个套组，该套组也可以是多个。例如，在将多个夹紧销21以多个组设置的情况下，也可以在处理中按照组交替地把持基板W。具体而言，例如在将三根夹紧销21设置两组的情况下，也可以在处理中按照组交替地把持基板W。通过这样，能够改变夹紧销21与基板W接触的部分，所以能够抑制该部位的处理中的销的影响。在这样的情况下，成为设置按照各组而同步的夹盘机构。因而，成为按照各组设置同步环和惯性环。
以上，说明了本发明的几个实施方式，但这些实施方式是作为例子提示的，不是要限定发明的范围。这些新的实施方式可以以其他各种各样的形态实施，在不脱离发明的主旨的范围内能够进行各种省略、替换、变更。这些实施方式及其变形包含在发明的范围及主旨中，并且包含在技术方案所记载的发明和其等价的范围中。

Claims (9)

1.一种基板处理装置，其特征在于，
具备：
旋转体，以基板旋转轴为中心旋转；
多个夹紧部，设置为以上述基板旋转轴为中心与上述旋转体一起旋转，并且分别以销旋转轴为中心旋转，使分别具有的各个销抵接在基板的周端面上而把持该基板；
同步部件，设置为以上述基板旋转轴为中心与上述旋转体一起及单独地旋转，使上述多个夹紧部以各自的销旋转轴为中心同步地旋转；
惯性部件，设置为以上述基板旋转轴为中心与上述旋转体一起及单独地旋转；以及
连杆部件，以使上述同步部件的以基板旋转轴为中心的惯性力矩及上述惯性部件的以基板旋转轴为中心的惯性力矩均衡的方式使上述同步部件及上述惯性部件联接。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
具备设置在上述旋转体上的支点部件；
上述同步部件具有同步销；
上述惯性部件具有惯性销；
上述同步销和上述惯性销以隔着上述支点部件对置的方式配置；
上述连杆部件可旋转地设置在上述支点部件上，卡挂在上述同步销和上述惯性销上。
3.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
上述同步部件被施力部件向使上述多个夹紧部旋转的旋转方向施力，以使每个上述夹紧部的上述销推压上述基板的周端面。
4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
上述同步部件的以基板旋转轴为中心的惯性力矩及上述惯性部件的以基板旋转轴为中心的惯性力矩大小相同。
5.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
上述同步销和上述惯性销隔着上述支点部件对置，以距上述支点部件的距离相同的方式配置。
6.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
上述同步销和上述惯性销能够相对于上述连杆部件滑动移动。
7.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
具备设置在上述支点部件上的垫块；
上述惯性部件被上述垫块支承。
8.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
上述同步部件经由齿轮连接在上述夹紧部上。
9.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
上述惯性部件被形成为环状。
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