CN110253406B

CN110253406B - 盖板及其制作方法和电子设备

Info

Publication number: CN110253406B
Application number: CN201910498506.2A
Authority: CN
Inventors: 邱惊龙; 郑俊威; 陈明仁
Original assignee: Guangdong Oppo Mobile Telecommunications Corp Ltd
Current assignee: Guangdong Oppo Mobile Telecommunications Corp Ltd
Priority date: 2019-06-10
Filing date: 2019-06-10
Publication date: 2021-04-23
Anticipated expiration: 2039-06-10
Also published as: CN110253406A; WO2020248803A1

Abstract

本发明涉及一种盖板及其制作方法和电子设备。一种盖板包括玻璃基板，玻璃基板具有第一表面，第一表面具有光滑区及粗糙区，玻璃基板的光滑区处的至少部分区域的光学透过率在90％以上。上述盖板同时兼具光面效果和哑面效果、且能够避免摄像头的安装导致的突兀问题。

Description

盖板及其制作方法和电子设备

技术领域

本发明涉及电子设备技术领域，特别是涉及一种盖板及其制作方法和电子设备。

背景技术

目前的手机玻璃盖板要么整体采用光面效果，然后通过镀膜或者贴膜去实现哑光效果；要么整面设计成哑光效果，效果单一。另外，目前的手机摄像头通常是采用拆件方式，通过在玻璃盖板上开孔，以安装摄像头，凸起的摄像头会直接影响整体的流线顺滑度，且随着人们对摄像要求的提高，摄像头尺寸与个数都在不断增加，玻璃盖板开孔越来越大，凸起的摄像头越显得突兀。

发明内容

基于此，有必要提供一种同时兼具光面效果和哑面效果、且能够避免摄像头的安装导致的突兀问题的盖板。

此外，还提供一种壳体的制作方法和电子设备。

一种盖板，包括玻璃基板，所述玻璃基板具有第一表面，所述第一表面具有光滑区及粗糙区，所述玻璃基板的所述光滑区处的至少部分区域的光学透过率在90％以上。

上述盖板的玻璃基板的第一表面具有光滑区及粗糙区，且光滑区的至少部分区域的光学透过率在90％以上，以使玻璃基板的该部分区域能够直接作为摄像头的镜片使用，那么，在使用时，可以直接将摄像头设置在靠近玻璃基板的远离第一表面的一侧，并使摄像头的镜头的位置与玻璃基板的光学透过率在90％以上的区域的位置相对应，而无需开孔安装摄像头，不仅使上述盖板兼具光面效果和哑面效果，而且能够避免摄像头的安装导致的突兀问题。

一种盖板的制作方法，包括如下步骤：

提供玻璃基板，所述玻璃基板具有相对的第一表面及第二表面；

对所述第一表面及所述第二表面进行抛光处理，使所述玻璃基板的光学透过率在90％以上；

在所述第一表面的部分区域以及所述第二表面均形成抗酸膜；

对所述第一表面的未形成有所述抗酸膜的区域进行蚀刻以形成粗糙区；及

去除所述抗酸膜，得到盖板。

通过将玻璃基板抛光至光学透光率为90％以上，再在玻璃基板的第一表面的部分区域以及第二表面均形成抗酸膜，对玻璃基板无需粗糙化的部分进行保护，然后再对玻璃进行蚀刻以形成粗糙区，被抗酸膜保护的地方形成光滑区，该光滑区以便于后期直接安装摄像头，而无需开摄像头安装孔，即上述盖板的制作方法制作得到的盖板能够同时兼具光面效果和哑面效果、且能够避免摄像头的安装导致的突兀问题。

一种电子设备，包括盖板和摄像头，所述盖板为上述盖板或上述盖板的制作方法得到的盖板，所述摄像头靠近所述玻璃基板的远离所述第一表面的一侧设置，所述摄像头具有镜头，所述镜头的位置与所述玻璃基板的光学透过率在90％以上的区域的位置相对应。

上述电子设备没有摄像头的安装导致的突兀问题，由于摄像头安装处没有开孔，防水性更好，同时上述电子设备的盖板能够同时兼具光面效果和哑面效果。

附图说明

图1为一实施方式的盖板的结构示意图；

图2为图1所示的盖板的局部剖面图；

图3为图1所示的盖板的另一角度的结构示意图；

图4为图1所示的盖板的玻璃基板的局部示意图；

图5为一实施方式的盖板的制作方法的流程图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。

如图1所示，一实施方式的盖板100，该盖板100可以为作为电子设备的盖板，例如手机、平板电脑等，使用该盖板100可以无需在盖板100上开孔安装摄像头，能够避免摄像头的安装导致的突兀问题。请一并参阅图2，该盖板100包括玻璃基板110和增透膜120。

请一并参阅图3，玻璃基板110具有相对的第一表面112和第二表面114。具体地，玻璃基板110为曲面玻璃。第一表面112为凸面，第二表面114为凹面。可以理解，玻璃基板110也不限于为曲面玻璃，也可以为平板玻璃。其中，第一表面112具有光滑区112a及粗糙区112b，玻璃基板110的光滑区112a处的至少部分区域的光学透过率在90％以上，以使该玻璃基板110能够作为摄像头的镜片使用，且不会影响摄像拍照的表现力。其中，本文中所指的光学透过率是指在可见光为420纳米～680纳米的波段的光学透过率。

进一步地，光滑区112a处的光学透过率在90％以上的区域的解像力符合如下测评(SFR，Spatial Frequency Response)(其中，基准值平均值1:75，基准值平均值2:78，基准值平均值3:63，基准值平均值4:65，基准值平均值5:74，测试设备为舜宇光学科技的SFR检测仪，整个摄像头的视场为100％)：

0F(中心视场)对比度衰减≤3，(即测试值为73～75)；

0.15F(15％视场)对比度衰减≤3，(即测试值为76～78)；

0.3F(30％视场)对比度衰减≤3，(即测试值为61～63)；

0.6F(60％视场)对比度衰减≤5，(即测试值为61～65)；

0.8F(80％视场)对比度衰减≤5，(即测试值为70～74)。

在图示的实施例中，粗糙区112b环绕光滑区112a设置。光滑区112a为两个，两个光滑区112a间隔设置。其中一个光滑区112a用于安装摄像头，另一个光滑区112a用于后续设置图案。其中，图案可以通过设置图案层的方式设置在玻璃基板110的第二表面114，图案可以为logo、符号、数字、动物图案等，或者是渐变图案或非渐变图案。或者，图案还可以直接通过AG蚀刻工艺直接形成在第一表面112的光滑区112a或粗糙区112b。

可以理解，光滑区112a的数量和面积可以根据需要设置，例如根据摄像头安装的数量确定。或者，粗糙区112b和光滑区112a的设置方式不限于为上述方式，例如，粗糙区112b和光滑区112a一个位于第一表面112的上部，一个位于第一表面112的下部；或者，光滑区112a环绕粗糙区112b设置。

具体地，玻璃基板110的光滑区112a处的光学透过率在91％以上，以保证光滑区112a具有较好的光学透过率。

具体地，光滑区112a处的粗糙度在0.02微米～0.03微米，粗糙区112b处的粗糙度为0.1微米～0.2微米，以使光滑区112a和粗糙区112b表现分明。在本文中，粗糙度为表面粗糙度，通过粗糙度仪测试得到。表面粗糙度(Surface Roughness)是指加工表面具有的较小间距和微小峰谷的不平度。

进一步地，粗糙区112b处的雾度为20％～30％，以使粗糙区112b具有合适的雾度，通常手机的盖板的雾度要求为20％～30％。在本文中，雾度(haze)是偏离入射光2.5°角以上的透射光强占总透射光强的百分数，雾度越大意味着玻璃光泽以及透明度，尤其成像度下降。

请一并参阅图4，在其中一个实施例中，粗糙区112b处布满凸起112c，凸起112c远离第一表面112的一端到第一表面112在光滑区112a处所在平面的距离H在8毫米以下，即相对第一表面112的最高的凸起112c远离第一表面的一端到第一表面112在光滑区112a处所在平面的距离H在8毫米以下，也即粗糙区112b与光滑区112a的高度差在8毫米以下，高度差较小，以减小刮手感。

增透膜120设置在玻璃基板110的第二表面114上，且增透膜120的位置与光滑区112a的光学透过率在90％以上的区域相对应。设置增透膜120能够提升盖板100的光滑区112a处的光学透过率，提高摄像头的摄像清晰度。

在其中一个实施例中，增透膜120包括多层二氧化钛膜(图未示)和多层二氧化硅膜(图未示)，多层二氧化钛膜与多层二氧化硅膜交替设置，且其中一层二氧化钛膜靠近第二表面114设置。

具体地，二氧化钛膜和二氧化硅膜分别为5层，从靠近第二表面114到远离第二表面114，5层二氧化钛膜的厚度分别为5.99nm～7.99nm、19.98nm～21.98nm、38.28nm～40.28nm、77.94nm～79.94nm及23.84nm～25.84nm，5层二氧化硅膜的厚度分别为54.84nm～56.84nm、33.13nm～35.13nm、9.21nm～11.21nm、17.12nm～19.12nm及102.41nm～104.41nm，其中，5.99nm～7.99nm nm的二氧化钛膜最靠近第二表面114。通过控制各层膜层的厚度能够确保得到的增透膜120能够很好地提升玻璃基板110的光学透过率。

进一步地，从靠近第二表面114到远离第二表面114，5层二氧化钛膜的厚度分别为6.99nm、20.98nm、39.28nm、78.94nm及24.84nm，5层二氧化硅膜的厚度分别为55.84nm、34.13nm、10.21nm、18.12nm及103.41nm，其中，厚度为6.99nm的二氧化钛膜最靠近第二表面114。该增透膜120结构能够使玻璃基板110的光滑区112a的光学透过率提升至94％以上。

可以理解，增透膜120不限于为上述结构，增透膜120还可以根据具体需要进行设置。

进一步地，上述盖板100还包括设置玻璃基板110的第二表面114上的贴膜层(图未标)，用于起到装饰、遮光等作用。

上述盖板100至少有以下优点：

上述盖板100的玻璃基板110的第一表面112具有光滑区112a及粗糙区112b，且光滑区112a的至少部分区域的光学透过率在90％以上，以使玻璃基板110的该部分区域能够直接作为摄像头的镜片使用，那么，在使用时，可以直接将摄像头设置在靠近玻璃基板110的第二表面114的一侧，并使摄像头的镜头的位置与玻璃基板110的光学透过率在90％以上的区域的位置相对应，而无需开孔安装摄像头，不仅使上述盖板100兼具光面效果和哑面效果，而且能够避免摄像头的安装导致的突兀问题。

需要说明的是，增透膜120也可以省略，盖板100也可以不具有增透膜120。

如图5所示，一实施方式的盖板的制作方法，为上述盖板的一种制作方法，该盖板的制作方法包括如下步骤：

步骤S21：提供玻璃基板，玻璃基板具有相对的第一表面及第二表面。

具体地，玻璃基板为曲面玻璃，玻璃基板为平板玻璃弯曲获得，例如热弯成型。平板玻璃为光学透过率较好的玻璃，例如白玻璃，如康宁的GG5白玻璃。其中，第一表面为凸面，第二表面为凹面。在其中一个实施例中，平板玻璃的厚度为0.6毫米。可以理解，平板玻璃的厚度可以根据需要设定。

可以理解，玻璃基板也不限于为曲面玻璃，也可以为平板玻璃。

步骤S22：对第一表面及第二表面进行抛光处理，使玻璃基板的光学透过率在90％以上。

进一步地，经过步骤S22的抛光处理之后，玻璃基板的解像力符合如下测评(SFR，Spatial Frequency Response)的镜片(其中，基准值平均值1:75，基准值平均值2:78，基准值平均值3:63，基准值平均值4:65，基准值平均值5:74，测试设备为舜宇光学科技的SFR检测仪，整个摄像头的视场为100％)：

0F(中心视场)对比度衰减≤3，(即测试值为73～75)；

0.15F(15％视场)对比度衰减≤3，(即测试值为76～78)；

0.3F(30％视场)对比度衰减≤3，(即测试值为61～63)；

0.6F(60％视场)对比度衰减≤5，(即测试值为61～65)；

0.8F(80％视场)对比度衰减≤5，(即测试值为70～74)。

具体地，步骤S22包括：分别使用磨皮刷、尼龙胶丝及聚丙烯纤维中的至少一种对第一表面和第二表面进行抛光处理，以去除玻璃基板表面的各种纹路(特别是弯曲成型形成的压痕和橘纹等)，以使玻璃基板的光学透过率在90％以上。

进一步地，使用磨皮刷和尼龙胶丝的混合物或聚丙烯纤维对第一表面进行抛光处理，尼龙胶丝具有较高的硬度，能够确保抛光的切削量，提高切削效率，但是尼龙胶丝质地较硬，容易划伤玻璃表面，而磨皮刷质地脚软，切削量小，通过将磨皮刷和尼龙胶丝的混合物对玻璃基板的第一表面进行抛光，不仅能够有效降低玻璃表面的划伤几率，而且还具有较高的抛光效率。更进一步地，使用聚丙烯纤维对第一表面进行抛光处理，聚丙烯纤维具有更加合适的硬度，抛光效果较好，且抛光效果较高。

进一步地，使用磨皮刷和尼龙胶丝的混合物对第二表面进行抛光处理。由于第二表面为凹面，聚丙烯纤维硬度较大，难以弯曲，较难对凹面结构的第二表面的弧面部进行抛光，而同一个面用同一种物质抛光，以保证该面抛光的均匀性，因此，第二表面优选为采用磨皮刷和尼龙胶丝的混合物进行抛光。

在其中一个实施例中，对第一表面进行抛光处理的步骤中，压力为25千克～30千克，时间为37分钟～43分钟；对第二表面进行抛光处理的步骤中，压力为25千克～30千克，时间为57分钟～63分钟，通过控制上述压力和时间，以使玻璃基板的光学透过率在90％以上。在玻璃基板弯曲成型过程中，第二表面(凹面)相对于第一表面(凸面)具有较重的模具印，因此，第二表面的抛光时间相对于第一表面的抛光时间要长。

步骤S23：使用洛氏硬度为45°～50°的海绵分别对第一表面和第二表面进行抛光处理。

通过使用上述硬度的海绵对第一表面和第二表面进行抛光，以进一步优化玻璃基板的表面质量，使玻璃基板的表面的微划痕得到进一步修复(由于微划痕一般肉眼看不到，但是在后续经过化学曝光后会被放大成可视的划伤不良)。

具体地，使用海绵对第一表面进行抛光处理的步骤中，压力为25千克～30千克，时间为7分钟～13分钟；使用海绵对第二表面进行抛光处理的步骤中，压力为25千克～30千克，时间为7分钟～13分钟。

在其中一个实施例中，使用海绵对第一表面进行抛光处理的步骤之后，第一表面的粗糙度为0.02微米～0.03微米；使用海绵对第二表面进行抛光处理的步骤之后，第二表面的粗糙度为0.02微米～0.03微米。

步骤S24：在玻璃基板的第一表面的部分区域以及第二表面均形成抗酸膜。

其中，上述第一表面的形成有抗酸膜的区域即为光滑区。第一表面上的形成抗酸膜的区域的数量可以根据需要进行选择。

具体地，步骤S24包括：在第一表面的部分区域丝印形成抗酸膜；在第二表面上喷涂形成抗酸膜。

在其中一个实施例中，在第一表面的部分区域丝印形成抗酸膜的步骤中，尺寸精度为±0.05毫米，位置精度为±0.08毫米。即丝印抗酸膜的过程中，丝印的抗酸膜的尺寸与第一表面预设的光滑区(即上述部分区域)的尺寸相差±0.05毫米，且印刷的抗酸膜的位置与第一表面预设的光滑区的位置相差为±0.08毫米。以保证后续增透膜的贴附和摄像头安装的准确性，尽量减少偏位异常。

具体地，在第一表面的部分区域丝印形成抗酸膜的步骤中，采用带CCD功能的全制动丝印机对第一表面的该部分区域(光滑区)进行丝印，以确保丝印抗酸膜的尺寸精度和位置精度。更具体地，在丝印过程中，丝印位置的精度按照±0.05毫米进行管控，以确保满足上述尺寸精度和位置精度，确保制程稳定。

具体地，第一表面形成的抗酸膜的材质为抗酸油墨，例如广州亦盛环保科技有限公司的WE-4500F型号的抗酸油墨。

具体地，在第二表面形成的抗酸膜的材质为UV固化型油墨，例如州亦盛环保科技有限公司的335-6688型号的抗酸油墨。由于第二表面为凹面，不能通过丝印的方式形成均匀的抗酸膜，因此，通过喷涂在第二表面形成抗酸膜。

步骤S25：对第一表面的未形成有抗酸膜的区域进行蚀刻以形成粗糙区。

具体地，步骤S25包括：采用蚀刻液喷淋玻璃基板的第一表面的未形成有抗酸膜的区域，以使未形成有抗酸膜的区域形成凸起，而形成粗糙区，其中，蚀刻液包括HF、硫酸盐和氟化氢铵。蚀刻液中的HF、硫酸盐和氟化氢铵能够与玻璃表面的二氧化硅、氧化铝等发生络合反应，以在玻璃表面形成凸起。其中，硫酸盐例如为硫酸钡。通过喷淋的方式有利于形成均匀的凸起。

可以理解，对玻璃基板进行蚀刻处理，以形成粗糙区的方式不限于为喷淋，在其他实施例中，还可以采用浸泡的方式，然而浸泡容易导致出现两端的粗糙度不一致，最先接触蚀刻液的一端会最后离开蚀刻液，而使得先接触蚀刻液的一端反应时间高于另一端，而采用喷淋则可以保证整体均匀性。

其中，蚀刻液可以为本领域常用的AG蚀刻液。在其中一个实施例中，按照质量份数，蚀刻液包括如下组分：10份～15份的HF、15份～30份的氟化氢铵、5份～8份的氟化铵、10份～15份硫酸钡、5份～8份的糊精及水。

在其中一个实施例中，步骤S25之后，粗糙区的粗糙度为0.3微米～0.5微米。

步骤S26：使用含有HF的化抛液对玻璃基板进行化学抛光。

步骤S26为单抛，即对粗糙区进行化学抛光，通过对粗糙区进行化学抛光，以增加光滑区和粗糙区的高度差，以使光滑区和粗糙区具有合适的高度差(在8微米以下)，而使光滑区与粗糙区的层次分明，同时，单抛还能够使粗糙区的具有合适的雾度和合适的粗糙度，以使玻璃基板满足所需要求。

在其中一个实施例中，使用含有HF的化抛液对玻璃基板进行化学抛光的步骤中，化学抛光的时间为1分钟～1.5分钟，化抛液中的HF的质量百分含量为2％～3％。通过控制化学抛光的时间和化抛液中的HF的含量以控制粗糙区的雾度和粗糙度，控制光滑区与粗糙区的高度差，以及控制玻璃基板的划伤发生率越大。单抛的化抛液中的HF的含量越大，化学抛光的时间越长，光滑区与粗糙区的高度差越大。且单抛的化抛液的HF的含量还会直接影响玻璃基板的划伤发生率，HF的含量越大，化学抛光的时间越长，划伤发生率越大。HF的含量越大，化学抛光的时间越长，雾度越小，粗糙区的粗糙度越小。

进一步地，化抛液中还包括质量百分含量为10％～40％的H₂SO₄，该含量的硫酸能够及时去除在化学抛光过程中在玻璃基板上产物的玻璃屑，以保证抛光质量。

在其中一个实施例中，经步骤S26后，粗糙区的粗糙度为0.2微米～0.35微米，雾度为30％～40％。

步骤S27：去除抗酸膜。

即去除第一表面和第二表面上的抗酸膜。

具体地，去除抗酸膜采用的是退墨液，退墨液为碱性药水(含有氢氧根)。其中，退墨液可以为本领域常用的退墨液，例如广东山之风环保科技有限公司的win-18型号的退墨液。具体地，去除抗酸膜的步骤是在70℃以下进行的，以防止温度过高而使玻璃基板的局部被腐蚀、划伤，降低玻璃基板的划伤发生率，同时能够避免褪墨温度过高而造成的玻璃基板表面发蓝，导致玻璃基板的光滑区的透过率有轻微降低，从而确保玻璃表面的质量。

步骤S28：使用含有HF的抛光液对玻璃基板的第一表面和第二表面进行化学抛光。

步骤S28为双抛，通过使用含有HF的抛光液对退墨后的玻璃基板进行化学抛光，保证光滑区和粗糙区的过渡顺滑，以降低盖板的刮手感，使光滑区和粗糙区自然过渡，同时，改善进一步调整粗糙区的表面粗糙度以及雾度，以使其适应应用场景的需求。

在其中一个实施例中，使用含有HF的抛光液对玻璃基板的第一表面和第二表面进行化学抛光的步骤之后，粗糙区的粗糙度为0.1微米～0.2微米，雾度为20％～30％，该粗糙度和雾度为目前手机盖板所需的参数。

在其中一个实施例中，含有HF的抛光液中的HF的质量百分含量为2％～4％，化学抛光的时间为2分钟～4分钟。双抛的HF含量会直接影响到玻璃基板的粗糙区的表面粗糙度以及雾度，HF的含量越大，抛光时间越长，雾度越小，粗糙度越小。

步骤S29：在玻璃基板的第二表面上设置增透膜，且增透膜的位置与该部分区域的位置相对应。

即增透膜的位置与其中一个光滑区的位置相对应，设置增透膜能够提升盖板的光滑区处对应的光学透过率，提高摄像头的摄像清晰度。

在其中一个实施例中，增透膜包括多层二氧化钛膜和多层二氧化硅膜，多层二氧化钛膜与多层二氧化硅膜交替设置，且其中一层二氧化钛膜靠近第二表面设置。

具体地，二氧化钛膜和二氧化硅膜分别为5层，从靠近第二表面到远离第二表面，5层二氧化钛膜的厚度分别为5.99nm～7.99nm、19.98nm～21.98nm、38.28nm～40.28nm、77.94nm～79.94nm及23.84nm～25.84nm，5层二氧化硅膜的厚度分别为54.84nm～56.84nm、33.13nm～35.13nm、9.21nm～11.21nm、17.12nm～19.12nm及102.41nm～104.41nm，其中，5.99nm～7.99nm的二氧化钛膜最靠近第二表面。通过控制各层膜层的厚度能够确保得到的增透膜能够很好地提升玻璃基板的光学透过率。

进一步地，从靠近第二表面到远离第二表面，5层二氧化钛膜的厚度分别为6.99nm、20.98nm、39.28nm、78.94nm及24.84nm，5层二氧化硅膜的厚度分别为55.84nm、34.13nm、10.21nm、18.12nm及103.41nm，其中，厚度为6.99nm的二氧化钛膜最靠近第二表面。该增透膜结构能够使玻璃基板的光滑区的光学透过率提升至94％以上。

进一步地，步骤S28之后，步骤S29之前，还包括对玻璃基板进行化学强化、在第二表面形成图案层(例如logo等)、在第二表面上贴膜等步骤。其中，图案层的位置与另一个光滑区的位置相对应。图案层可以通过黄光工艺或印刷工艺形成的渐变图案。或者，在另一个光滑区通过AG蚀刻形成图案(logo)。

上述盖板的制作方法至少有以下优点：

(1)通过将玻璃基板抛光至光学透光率为90％以上，再在玻璃基板的第一表面的部分区域以及第二表面均形成抗酸膜，对玻璃基板无需粗糙化的部分进行保护，然后再对玻璃进行蚀刻以形成粗糙区，被抗酸膜保护的地方形成光滑区，该光滑区以便于后期直接安装摄像头，而无需开摄像头安装孔，即上述盖板的制作方法制作得到的盖板能够同时兼具光面效果和哑面效果、且能够避免摄像头的安装导致的突兀问题。

(2)通过在将玻璃基板抛光至光学透过率在90％以上的步骤之后，使用洛氏硬度为45°～50°的海绵分别对第一表面和第二表面进行抛光处理，以进一步优化玻璃基板的表面质量，使玻璃基板的表面的微划痕得到进一步修复(由于微划痕一般肉眼看不到，但是在后续经过化学曝光后会被放大成可视的划伤不良)，有利于提高生产良率。

(3)在去除抗酸膜之前，在对粗糙区进行化学抛光，通过对粗糙区进行化学抛光，以增加光滑区和粗糙区的高度差，以使光滑区和粗糙区具有合适的高度差(在8微米以下)，而使光滑区与粗糙区的层次分明，同时，单抛还能够使粗糙区的具有合适的雾度和合适的粗糙度；去除抗酸膜后，使用含有HF的抛光液对玻璃基板的第一表面和第二表面进行化学抛光，保证光滑区和粗糙区的过渡顺滑，以降低盖板的刮手感，使光滑区和粗糙区自然过渡，同时，改善进一步调整粗糙区的表面粗糙度以及雾度，以使盖板适应应用场景的需求，通过两次化学抛光，确保光哑过渡顺滑，又保证层次分明，以使盖板适应应用场景的需求。

需要说明的是，上述盖板的制作方法不限于为上述步骤，其中，步骤S23、步骤S26、步骤S28及步骤S29几个步骤可以部分省略，也可以全部省略。

一实施方式的电子设备，该电子设备为手机、平板电脑等。该电子设备包括盖板和摄像头。

盖板为上述盖板100或上述盖板的制作方法得到的盖板。

摄像头靠近玻璃基板的第二表面设置，摄像头具有镜头，镜头的位置与玻璃基板的光学透过率在90％以上的区域的位置相对应。

即盖板的部分区域的光学透过率在90％以上，以使盖板的该部分区域能够直接作为摄像头镜片使用，以使摄像头的镜头能够直接安装在该区域，而无需在盖板上开孔安装摄像头的镜头，也无需另外安装摄像头镜头的盖板玻璃，使得上述电子设备没有摄像头的安装导致的突兀问题，由于摄像头安装处没有开孔，防水性更好。

以下为具体实施例部分(以下实施例为对上述盖板的制作方法的举例说明，本发明的技术方案不限于为以下实施例)：

实施例1

本实施例的盖板的制备过程如下：

(1)提供厚度为0.6毫米的玻璃基板，玻璃基板为康宁的GG5白玻璃，将玻璃基板经过热弯成型，形成曲面玻璃，该曲面玻璃具有第一表面及与表面相对的第二表面，第一表面为凸面，第二表面为凹面。

(2)使用磨皮刷和尼龙胶丝的混合物对第二表面进行抛光处理，抛光压力为28千克，时间为60分钟；使用磨皮刷和尼龙胶丝的混合物对第一表面进行抛光处理，抛光压力为28千克，时间为40分钟。

(3)使用洛氏硬度为48°的海绵对第一表面抛光处理10分钟，抛光压力为28千克；使用洛氏硬度为48°的海绵对第二表面抛光处理10分钟，抛光压力为28千克。

(4)使用带CCD功能的全制动丝印机在第一表面的部分区域丝印抗酸油墨，形成抗酸膜，丝印尺寸精度为±0.05毫米，丝印位置精度为±0.08毫米，且在丝印过程中，按照±0.05毫米的位置精度进行巡检管控，其中，第一表面形成有抗酸膜的区域为记作光滑区。

(5)在玻璃基板的第二表面上喷涂UV型油墨，经UV固化，在第二表面形成抗酸膜。

(6)采用蚀刻液喷淋玻璃基板的第一表面的未形成有抗酸膜的区域，以使未形成有抗酸膜的区域形成凸起，而形成粗糙区。其中，按照质量份数，蚀刻液的组成如下：12份的HF、22份的氟化氢铵、6份的氟化铵、12份硫酸钡、6份的糊精以及100份水。

(7)单抛：使用化抛液对玻璃基板进行化学抛光1.2分钟，其中，按照质量百分含量计，化抛液的组成如下：3％的HF、25％的H₂SO₄及水。

(8)退墨：在50℃下使用退墨液去除玻璃基板的第一表面和第二表面上的抗酸膜。

(9)双抛：使用抛光液对玻璃基板化学抛光3分钟。其中，按照质量百分含量计，抛光液的组成如下：3％的HF、25％的H₂SO₄及水。

(10)将玻璃基板进行化学强化，设置logo以及贴膜，然后在玻璃基板的第二表面上设置增透膜，且增透膜的位置与第一表面的光滑区域(即第一表面之前形成有抗酸膜的部分区域)，得到盖板。其中，增透膜为交替设置的5层二氧化钛膜和5层二氧化硅膜，从靠近第二表面到远离第二表面，5层二氧化钛膜的厚度分别为6.99nm、20.98nm、39.28nm、78.94nm及24.84nm，5层二氧化硅膜的厚度分别为55.84nm、34.13nm、10.21nm、18.12nm及103.41nm，厚度为6.99nm的二氧化钛膜最靠近第二表面，得到盖板。

实施例2

本实施例的盖板的制备过程如下：

(2)使用磨皮刷和尼龙胶丝的混合物对第二表面进行抛光处理，抛光压力为25千克，时间为63分钟；使用磨皮刷和尼龙胶丝的混合物对第一表面进行抛光处理，抛光压力为25千克，时间为43分钟。

(3)使用洛氏硬度为45°的海绵对第一表面抛光处理13分钟，抛光压力为25千克；使用洛氏硬度为45°的海绵对第二表面抛光处理13分钟，抛光压力为25千克。

(6)采用蚀刻液喷淋玻璃基板的第一表面的未形成有抗酸膜的区域，以使未形成有抗酸膜的区域形成凸起，而形成粗糙区。其中，按照质量份数，蚀刻液的组成如下：10份的HF、30份的氟化氢铵、8份的氟化铵、10份硫酸钡、5份的糊精以及100份水。

(7)单抛：使用化抛液对玻璃基板进行化学抛光1.5分钟，其中，按照质量百分含量计，化抛液的组成如下：2％的HF、10％的H₂SO₄及水。

(8)退墨：在60℃下使用退墨液去除玻璃基板的第一表面和第二表面上的抗酸膜。

(9)双抛：使用抛光液对玻璃基板化学抛光2分钟。其中，按照质量百分含量计，抛光液的组成如下：4％的HF、40％的H₂SO₄及水。

(10)将玻璃基板进行化学强化，设置logo以及贴膜，然后在玻璃基板的第二表面上设置增透膜，且增透膜的位置与第一表面的光滑区域(即第一表面之前形成有抗酸膜的部分区域)，得到盖板。其中，增透膜为交替设置的5层二氧化钛膜和5层二氧化硅膜，从靠近第二表面到远离第二表面，5层二氧化钛膜的厚度分别为5.99nm、19.98nm、38.28nm、77.94nm及23.84nm，5层二氧化硅膜的厚度分别为54.84nm、33.13nm、9.21nm、17.12nm及102.41nm，厚度为5.99nm的二氧化钛膜最靠近第二表面，得到盖板。

实施例3

本实施例的盖板的制备过程如下：

(2)使用磨皮刷和尼龙胶丝的混合物对第二表面进行抛光处理，抛光压力为30千克，时间为57分钟；使用磨皮刷和尼龙胶丝的混合物对第一表面进行抛光处理，抛光压力为30千克，时间为37分钟。

(3)使用洛氏硬度为50°的海绵对第一表面抛光处理7分钟，抛光压力为30千克；使用洛氏硬度为50°的海绵对第二表面抛光处理7分钟，抛光压力为30千克。

(6)采用蚀刻液喷淋玻璃基板的第一表面的未形成有抗酸膜的区域，以使未形成有抗酸膜的区域形成凸起，而形成粗糙区。其中，按照质量份数，蚀刻液的组成如下：15份的HF、15份的氟化氢铵、5份的氟化铵、10份硫酸钡、8份的糊精以及100份的水。

(7)单抛：使用化抛液对玻璃基板进行化学抛光1分钟，其中，按照质量百分含量计，化抛液的组成如下：3％的HF、40％的H₂SO₄及水。

(8)退墨：在70℃下使用退墨液去除玻璃基板的第一表面和第二表面上的抗酸膜。

(9)双抛：使用抛光液对玻璃基板化学抛光4分钟。其中，按照质量百分含量计，抛光液的组成如下：2％的HF、10％的H₂SO₄及水。

(10)将玻璃基板进行化学强化，设置logo以及贴膜，然后在玻璃基板的第二表面上设置增透膜，且增透膜的位置与第一表面的光滑区(即第一表面之前形成有抗酸膜的部分区域)，得到盖板。其中，增透膜为交替设置的5层二氧化钛膜和5层二氧化硅膜，从靠近第二表面到远离第二表面，5层二氧化钛膜的厚度分别为7.99nm、21.98nm、40.28nm、79.94nm及25.84nm，5层二氧化硅膜的厚度分别为56.84nm、35.13nm、11.21nm、19.12nm及104.41nm，厚度为7.99nm的二氧化钛膜最靠近第二表面，得到盖板。

实施例4

本实施例的盖板的制备过程如下：

(2)使用磨皮刷和尼龙胶丝的混合物对第二表面进行抛光处理，抛光压力为26千克，时间为58分钟；使用磨皮刷和尼龙胶丝的混合物对第一表面进行抛光处理，抛光压力为26千克，时间为42分钟。

(3)使用洛氏硬度为47°的海绵对第一表面抛光处理9分钟，抛光压力为26千克；使用洛氏硬度为47°的海绵对第二表面抛光处理9分钟，抛光压力为26千克。

(6)采用蚀刻液喷淋玻璃基板的第一表面的未形成有抗酸膜的区域，以使未形成有抗酸膜的区域形成凸起，而形成粗糙区。其中，按照质量份数，蚀刻液的组成如下：13份的HF、20份的氟化氢铵、7份的氟化铵、11份硫酸钡、7份的糊精以及100份水。

(7)单抛：使用化抛液对玻璃基板进行化学抛光1分钟，其中，按照质量百分含量计，化抛液的组成如下：2.5％的HF、20％的H₂SO₄及水。

(8)退墨：在30℃下使用退墨液去除玻璃基板的第一表面和第二表面上的抗酸膜。

(9)双抛：使用抛光液对玻璃基板化学抛光3分钟。其中，按照质量百分含量计，抛光液的组成如下：2.5％的HF、20％的H₂SO₄及水。

(10)将玻璃基板进行化学强化，设置logo以及贴膜，然后在玻璃基板的第二表面上设置增透膜，且增透膜的位置与第一表面的光滑区(即第一表面之前形成有抗酸膜的部分区域)，得到盖板。其中，增透膜为交替设置的5层二氧化钛膜和5层二氧化硅膜，从靠近第二表面到远离第二表面，5层二氧化钛膜的厚度分别为7nm、20nm、39nm、79nm及25nm，5层二氧化硅膜的厚度分别为56nm、34nm、10nm、18nm及103nm，厚度为7nm的二氧化钛膜最靠近第二表面，得到盖板。

实施例5

本实施例的盖板的制作过程与实施例1的盖板的制作过程大致相同，区别在于，本实施例没有进行步骤(3)的海绵抛光，而是经过步骤(2)后直接进入步骤(4)，即本实施例的盖板的制作过程如下：

(1)～(2)、与实施例1的步骤(1)和步骤(2)相同。

(3)、与实施例1的步骤(4)相同。

(4)～(9)、与实施例1的步骤(5)～(10)相同。

实施例6

本实施例的盖板的制作过程与实施例1的盖板的制作过程大致相同，区别在于，本实施例没有进行步骤(9)的双抛，而是经过步骤(8)后直接进行步骤(10)，即本实施例的盖板的制作过程如下：

(1)～(8)、与实施例1的步骤(1)～(8)相同。

(9)、与实施例1的步骤(10)相同。

实施例7

本实施例的盖板的制作过程与实施例1的盖板的制作过程大致相同，区别在于，本实施例没有进行步骤(7)的单抛，而是经过步骤(6)后直接进行步骤(8)，即本实施例的盖板的制作过程如下：

(1)～(6)、与实施例1的步骤(1)～(6)相同。

(7)～(9)、与实施例1的步骤(8)～(10)相同。

实施例8

本实施例的盖板的制作过程与实施例1的盖板的制作过程大致相同，区别在于，步骤(7)的单抛时的化抛液的HF的质量百分含量为1％。

实施例9

本实施例的盖板的制作过程与实施例1的盖板的制作过程大致相同，区别在于，步骤(7)的单抛时的化抛液的HF的质量百分含量为4％。

实施例10

本实施例的盖板的制作过程与实施例1的盖板的制作过程大致相同，区别在于，步骤(9)的双抛时的化抛液的HF的质量百分含量为1％。

实施例11

本实施例的盖板的制作过程与实施例1的盖板的制作过程大致相同，区别在于，步骤(9)的双抛时的化抛液的HF的质量百分含量为5％。

实施例12

本实施例的盖板的制作过程与实施例1的盖板的制作过程大致相同，区别在于，步骤(8)退墨时的温度为75℃。

测试：

1、SFR测评：

(1)使用舜宇光学科技的SFR检测仪对实施例1的步骤(1)得到的弯曲后的玻璃基板、实施例1～4的步骤(2)得到玻璃基板、实施例1～4的步骤(9)得到的玻璃基板的光滑区处、实施例5～7的步骤(8)得到的玻璃基板的光滑区处、实施例8～12的步骤(9)的光滑区处的解像力进行SFR测评，如表1所示。

其中，整个摄像头的视场为100％，基准值平均值1:75，基准值平均值2:78，基准值平均值3:63，基准值平均值4:65，基准值平均值5:74，若0F(中心视场)的对比度衰减≤3，(即测试值为73～75)；若0.15F(15％视场)的对比度衰减≤3，(即测试值为76～78)；0.3F(30％视场)的对比度衰减≤3，(即测试值为61～63)；0.6F(60％视场)的对比度衰减≤5，(即测试值为61～65)；0.8F(80％视场)的对比度衰减≤5，(即测试值为70～74)，则通过SFR测评，检测OK。

表1

从表1中可以看出，实施例1～4的步骤(2)得到玻璃基板、实施例1～4的步骤(9)的玻璃基板的光滑区处、实施例5～7的步骤(8)得到的玻璃基板的光滑区处、实施例8～12的步骤(9)的光滑区处的解像力均通过了SFR测评。

2、采用SCINCO vms-1s的手机面板检测测试实施例1～4以及实施例8～12的步骤(9)的玻璃基板的光滑区的透过率及步骤(10)的形成有增透膜的光滑区的透过率，如表2所示，实施例5～7的步骤(8)玻璃基板的光滑区的透过率以及实施例5～7的步骤(9)的形成有增透膜的光滑区的透过率如表3所示。

表2

表3

从表2和表3中可以看出，实施例1～实施例11的玻璃基板的光滑区的透过率均为91％～92％，而实施例12的玻璃基板的透过率却为90％～91％，这是说明单抛和双抛的HF的浓度、以及海绵抛光步骤对玻璃基板的光滑区的透过率几乎没有影响，而实施例12的玻璃基板的光滑区的透过率较低是因为褪墨温度过高，会造成玻璃表面发蓝，而导致玻璃基板的光滑区的透过率有轻微降低。

3、采用Mitutoyo的SJ-310型号的粗糙仪测试实施例1～4、8～12的步骤(9)的玻璃基板的光滑区和粗糙区的粗糙度，以及实施例5～7的步骤(8)的玻璃基板的光滑区和粗糙区的粗糙度，如表4所示；

采用上海仪电物理光学的SGW-820透光率雾度测定仪/雾度计测试实施例1～4、8～12的步骤(9)的玻璃基板的粗糙区以及实施例5～7的步骤(8)的玻璃基板的粗糙区的雾度，如表4所示。

表4

对于手机而言，粗糙区的粗糙度和雾度通常分别要求为0.1微米～0.2微米和20％～30％，从表4中可以看出，实施例1～5以及实施例12的玻璃基板的粗糙区的粗糙度均为0.1微米～0.2微米，且雾度均为20％～30％，而没有经过双抛的实施例6和没有经过单抛的实施例7的粗糙区的粗糙度均较大；而实施例8～实施例11的粗糙区的粗糙度不是较大就较小，这说明单抛和双抛的HF的浓度会直接影响到玻璃基板的粗糙区的粗糙度以及雾度。

其中，实施例1～12的步骤(9)的玻璃基板的光滑区以及实施例5～7的步骤(8)的玻璃基板的光滑区的粗糙度均为0.02微米～0.03微米，这说明单抛步骤、双抛步骤以及海绵抛光的步骤对光滑区的粗糙度几乎没有影响。

4、采用Mitutoyo的SJ-310型号的粗糙仪测试实施例1～实施例4的步骤(9)、实施例8～12的步骤(9)、实施例5～7的步骤(8)得到的玻璃基板的光滑区与粗糙区的高度差(即图4的H的长度)，如表5所示。

表5

从表5中可以看出，实施例1～8以及10～12的玻璃基板的光滑区与粗糙区的高度差在8微米以下，没有经过单抛的实施例7和单抛的化抛液的HF浓度过小的实施例8的玻璃基板的光滑区与粗糙区的高度差分别在4微米以下和6微米以下，而单抛的化抛液的HF浓度过大的实施例9的玻璃基板的光滑区与粗糙区的高度差在10微米以上，这说明单抛步骤的浓度会直接影响到玻璃基板的光滑区与粗糙区的高度差，单抛浓度过大会导致光滑区与粗糙区的高度差较大。

5、在光照度为1000lux的灯光下观察实施例1～4、8～12的步骤(9)的双抛之后、实施例5～7的步骤(8)的双抛之后的玻璃基板的光滑区的划伤情况，并统计划伤发生率如表6所示。

表6

从表6中可以看出，实施例1～4的步骤(9)的双抛之后的玻璃基板的光滑区的划伤发生率最多为5％，而实施例5的玻璃基板的光滑区的划伤发生率在10％以上，这是因为海绵抛光能够有效去除玻璃表面的微小划伤(进一步缩小划伤)，在一定化抛条件下，划伤不被明显放大，从而有效提升生产良率。

其中，实施例6、实施例8及实施例10的划伤发生率在4％以下，实施例7、9、11及12的划伤发生率均在8％以上，这说明单抛和双抛的HF的浓度会直接影响到玻璃基板的划伤发生率，若HF的浓度过大，划伤概率较大，即划伤发生率越大，若HF的浓度较小，划伤概率较小，即划伤发生率越小；而退墨温度过高也会增大玻璃基板的划伤概率，导致玻璃基板的划伤发生率增大。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims

1.一种电子设备的盖板，其特征在于，所述盖板包括玻璃基板，所述玻璃基板具有第一表面，所述第一表面具有光滑区及粗糙区，所述玻璃基板的所述光滑区处的至少部分区域的光学透过率在90％以上；所述玻璃基板还具有与所述第一表面相对的第二表面，所述盖板还包括增透膜，所述增透膜设置在所述第二表面，且所述增透膜的位置与所述光滑区的光学透过率在90％以上的区域的位置相对应，所述增透膜包括多层二氧化钛膜和多层二氧化硅膜，多层所述二氧化钛膜与多层所述二氧化硅膜交替设置，且其中一层所述二氧化钛膜靠近所述第二表面设置，所述二氧化钛膜和所述二氧化硅膜分别为5层，从靠近所述第二表面到远离所述第二表面，5层所述二氧化钛膜的厚度分别为5.99nm～7.99nm、19.98nm～21.98nm、38.28nm～40.28nm、77.94nm～79.94nm及23.84nm～25.84nm，5层所述二氧化硅膜的厚度分别为54.84nm～56.84nm、33.13nm～35.13nm、9.21nm～11.21nm、17.12nm～19.12nm及102.41nm～104.41nm，其中，厚度为5.99nm～7.99nm的所述二氧化钛膜最靠近所述第二表面。

2.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述光滑区处的光学透过率在91％以上。

3.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述光滑区处的粗糙度在0.02微米～0.03微米；所述粗糙区处的粗糙度为0.1微米～0.2微米。

4.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述粗糙区处的雾度为20％～30％。

5.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，当所述盖板安装于具有摄像头的电子设备时，所述摄像头的镜头位于所述盖板的第二表面所在一侧并与所述光滑区的光学透过率在90％以上的区域的位置相对应。

6.根据权利要求1～5任一项所述的盖板，其特征在于，所述粗糙区处布满凸起，所述凸起远离所述第一表面的一端到所述第一表面在所述光滑区处所在平面的距离在8毫米以下。

7.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述粗糙区环绕所述光滑区设置。

8.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述光滑区为两个，两个所述光滑区间隔设置，其中一个所述光滑区用于安装摄像头，另一个所述光滑区用于设置图案。

9.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，从靠近所述第二表面到远离所述第二表面，5层所述二氧化钛膜的厚度分别为6.99nm、20.98nm、39.28nm、78.94nm及24.84nm，5层所述二氧化硅膜的厚度分别为55.84nm、34.13nm、10.21nm、18.12nm及103.41nm，其中，厚度为6.99nm的所述二氧化钛膜最靠近所述第二表面。

10.一种盖板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

去除所述抗酸膜，得到盖板；

所述去除所述抗酸膜的步骤之后，还包括在所述玻璃基板的所述第二表面上设置增透膜的步骤，且所述增透膜的位置与所述部分区域的位置相对应，所述增透膜包括多层二氧化钛膜和多层二氧化硅膜，多层所述二氧化钛膜与多层所述二氧化硅膜交替设置，且其中一层所述二氧化钛膜靠近所述第二表面设置，所述二氧化钛膜和所述二氧化硅膜分别为5层，从靠近所述第二表面到远离所述第二表面，5层所述二氧化钛膜的厚度分别为5.99nm～7.99nm、19.98nm～21.98nm、38.28nm～40.28nm、77.94nm～79.94nm及23.84nm～25.84nm，5层所述二氧化硅膜的厚度分别为54.84nm～56.84nm、33.13nm～35.13nm、9.21nm～11.21nm、17.12nm～19.12nm及102.41nm～104.41nm，其中，厚度为5.99nm～7.99nm的所述二氧化钛膜最靠近所述第二表面。

11.根据权利要求10所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述对所述第一表面及所述第二表面进行抛光处理，使所述玻璃基板的光学透过率在90％以上的步骤包括：分别使用磨皮刷、尼龙胶丝及聚丙烯纤维中的至少一种对所述第一表面和所述第二表面进行抛光处理。

12.根据权利要求11所述的盖板的制作方法，其特征在于，对所述第一表面进行抛光处理的步骤中，压力为25千克～30千克，时间为37分钟～43分钟；对所述第二表面进行抛光处理的步骤中，压力为25千克～30千克，时间为57分钟～63分钟。

13.根据权利要求10所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述对所述第一表面及所述第二表面进行抛光处理，使所述玻璃基板的光学透过率在90％以上的步骤之后，所述在所述第一表面的部分区域以及所述第二表面均形成抗酸膜的步骤之前，还包括：

使用洛氏硬度为45°～50°的海绵分别对所述第一表面和所述第二表面进行抛光处理的步骤。

14.根据权利要求13所述的盖板的制作方法，其特征在于，使用所述海绵对所述第一表面进行抛光处理的步骤中，压力为25千克～30千克，时间为7分钟～13分钟；使用所述海绵对所述第二表面进行抛光处理的步骤中，压力为25千克～30千克，时间为7分钟～13分钟。

15.根据权利要求13所述的盖板的制作方法，其特征在于，使用所述海绵分别对所述第一表面和所述第二表面进行抛光处理的步骤之后，所述第一表面的粗糙度为0.02微米～0.03微米，所述第二表面的粗糙度为0.02微米～0.03微米。

16.根据权利要求10所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述玻璃基板为曲面玻璃，所述第一表面为凸面，所述第二表面为凹面；所述在所述第一表面的部分区域以及所述第二表面均形成抗酸膜的步骤包括：在所述第一表面的所述部分区域丝印形成所述抗酸膜；在所述第二表面上喷涂形成所述抗酸膜。

17.根据权利要求16所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述在所述第一表面的所述部分区域丝印形成所述抗酸膜的步骤中，尺寸精度为±0.05毫米，位置精度为±0.08毫米。

18.根据权利要求10所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述对所述第一表面的未形成有所述抗酸膜的区域进行蚀刻以形成粗糙区的步骤包括：

采用蚀刻液喷淋所述玻璃基板的所述第一表面的未形成有所述抗酸膜的区域，以使未形成有所述抗酸膜的区域形成凸起，而形成所述粗糙区，其中，所述蚀刻液包括HF、硫酸盐和氟化氢铵。

19.根据权利要求10所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述粗糙区的粗糙度为0.3微米～0.5微米。

20.根据权利要求10所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述对所述第一表面的未形成有所述抗酸膜的区域进行蚀刻以形成粗糙区的步骤之后，所述去除所述抗酸膜的步骤之前，还包括使用含有HF的化抛液对所述玻璃基板进行化学抛光的步骤。

21.根据权利要求20所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述使用含有HF的化抛液对所述玻璃基板进行化学抛光的步骤中，所述化学抛光的时间为1分钟～1.5分钟，所述化抛液中的HF的质量百分含量为2％～3％。

22.根据权利要求20所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述化抛液中还包括质量百分含量为10％～40％的H₂SO₄。

23.根据权利要求20所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述使用含有HF的化抛液对所述玻璃基板进行化学抛光的步骤之后，所述粗糙区的粗糙度为0.2微米～0.35微米，雾度为30％～40％。

24.根据权利要求10～23任一项所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述去除所述抗酸膜的步骤中，处理温度在70℃以下。

25.根据权利要求10～23任一项所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述去除所述抗酸膜的步骤之后，还包括使用含有HF的抛光液对所述第一表面和所述第二表面进行化学抛光的步骤。

26.根据权利要求25所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述含有HF的抛光液中的HF的质量百分含量为2％～4％，所述化学抛光的时间为2分钟～4分钟。

27.根据权利要求25所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述使用含有HF的抛光液对所述第一表面和所述第二表面进行化学抛光的步骤之后，所述粗糙区的粗糙度为0.1微米～0.2微米，雾度为20％～30％。

28.根据权利要求10所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述第一表面具有光滑区，所述粗糙区环绕所述光滑区设置。

29.根据权利要求28所述的盖板的制作方法，其特征在于，所述粗糙区处布满凸起，所述凸起远离所述第一表面的一端到所述第一表面在所述光滑区处所在平面的距离在8毫米以下。

30.一种电子设备，其特征在于，包括盖板和摄像头，所述盖板为权利要求1～9任一项所述盖板或权利要求10～29任一项所述的盖板的制作方法得到的盖板，所述摄像头靠近所述玻璃基板的远离所述第一表面的一侧设置，所述摄像头具有镜头，所述镜头的位置与所述玻璃基板的光学透过率在90％以上的区域的位置相对应。