CN102513940A - 用于屏幕面板低反射高透度的玻璃生产方法 - Google Patents

用于屏幕面板低反射高透度的玻璃生产方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种用于屏幕面板低反射高透度的玻璃生产方法，其特征在于：方法步骤如下：步骤A：在玻璃的不加工的一面覆贴一层耐蚀刻的保护膜；步骤B：用喷砂装置产生带磨料的喷流对玻璃表面进行特定粗糙度均匀的蚀刻；步骤C：对蚀刻的玻璃表面进行清洗，除去磨料或玻璃渣；步骤D：使用氧化剂对蚀刻的玻璃进行抛光；步骤E：退除保护膜，并清洗玻璃表面。本发明中，在玻璃上先贴上耐蚀刻的保护膜，然后再使用喷砂装置对玻璃表面进行均匀蚀刻，清洗抛光即可，相比传统的玻璃蚀刻而言，生产成本低，蚀刻精度高，可精确的控制蚀刻粗糙度及均匀度，生产良率及效率提高了。

Description

用于屏幕面板低反射高透度的玻璃生产方法
技术领域
本发明涉及用于屏幕面板的玻璃生产技术，具体涉及一种用于屏幕面板低反射高透度的玻璃生产方法。
背景技术
目前低反射高透度玻璃生产都为玻璃蒙砂粉先行化学蚀刻后，再用氢氟酸等化学药剂进行抛光方式生产。
然而低反射高透度玻璃生产都使用玻璃蒙砂粉生产，玻璃蒙砂粉为多种化学药剂混合后对玻璃表面进行氧化反应蚀刻处理，此工艺随温度、时间及药剂的浓度变化产生差异，对玻璃表面粗糙度、蚀刻程度及均匀度控制不易，生产效益低、良率低且废液处理对环境影响大，隐性成本高。
发明内容
本发明的目的是提供一种生产成本低、精度高、生产成品良率高、可有效控制玻璃表面粗糙度的用于屏幕面板低反射高透度的玻璃生产方法。
实现本发明目的是提供一种用于屏幕面板低反射高透度的玻璃生产方法，方法步骤如下：
步骤A：在玻璃的不加工一面覆贴一层耐蚀刻的保护膜；
步骤B：用喷砂装置产生带磨料的喷流对玻璃表面进行特定粗糙度均匀的蚀刻；
步骤C：对蚀刻的玻璃表面进行清洗，除去磨料或玻璃渣；
步骤D：使用氧化剂对蚀刻的玻璃进行抛光；
步骤E：退除保护膜，并清洗玻璃表面。
在步骤D中，氧化剂为氢氟酸氧化剂。
本发明具有积极的效果：本发明中，在玻璃上先贴上耐蚀刻的保护膜，然后再使用喷砂装置对玻璃表面进行均匀蚀刻，清洗抛光即可，相比传统的玻璃蚀刻而言，生产成本低，蚀刻精度高，可精确的控制蚀刻粗糙度及均匀度，生产良率及效率提高了。
附图说明
图1为本发明的方法流程框图。
具体实施方式
(实施例1)
见图1，本发明的方法流程框图。
一种用于屏幕面板低反射高透度的玻璃生产方法，方法步骤如下：
步骤A：在玻璃的不加工一面覆贴一层耐蚀刻的保护膜；
步骤B：用喷砂装置产生带磨料的喷流对玻璃表面进行特定粗糙度均匀的蚀刻；
步骤C：对蚀刻的玻璃表面进行清洗，除去磨料或玻璃渣；
步骤D：使用氧化剂对蚀刻的玻璃进行抛光；
步骤E：退除保护膜，并清洗玻璃表面。
在步骤D中，氧化剂为氢氟酸氧化剂。
在本实施例中用覆膜机给玻璃表面覆贴一层耐蚀刻的保护膜层，使用喷砂机的带磨料的喷流或用磨机以磨盘对玻璃表面进行特定粗糙度均匀的蚀刻，再使用清洗机清洗蚀刻的玻璃表面，以方便进一步的化学抛光，然后使用氢氟酸等氧化剂对蚀刻的玻璃抛光即可，此方法使用方便，可控度高，相比传统的玻璃蚀刻而言，生产成本低，蚀刻精度高，可精确的控制蚀刻粗糙度及均匀度，生产良率及效率提高了。
显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而这些属于本发明的实质精神所引伸出的显而易见的变化或变动仍属于本发明的保护范围。

Claims (2)

1.一种用于屏幕面板低反射高透度的玻璃生产方法，其特征在于：方法步骤如下：
步骤A：在玻璃的不加工一面覆贴一层耐蚀刻的保护膜；
步骤B：用喷砂装置产生带磨料的喷流对玻璃表面进行特定粗糙度均匀的蚀刻；
步骤C：对蚀刻的玻璃表面进行清洗，除去磨料或玻璃渣；
步骤D：使用氧化剂对蚀刻的玻璃进行抛光；
步骤E：退除保护膜，并清洗玻璃表面。
2.根据权利要求1所述的用于屏幕面板低反射高透度的玻璃生产方法，其特征在于：在步骤D中，氧化剂为氢氟酸氧化剂。
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PB01 Publication
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WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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