TW201704179A - 包含光提取特徵之玻璃物件以及製造彼之方法 - Google Patents

Abstract

茲揭示玻璃物件，例如導光板，包含第一表面和相對第二表面，其中第一表面包含光提取特徵陣列，光提取特徵的直徑為至少約10微米，高度為約1微米至約10微米。本文亦揭示包含此玻璃物件的顯示裝置和製造此玻璃物件的方法。

Description

包含光提取特徵之玻璃物件以及製造彼之方法

本發明大體係關於玻璃物件和包含此物件的顯示裝置，更特別係關於包含光提取特徵以減少色移的玻璃物件和製造方法。

液晶顯示器（LCD）常用於各種電子設備，例如手機、筆記型電腦、電子板、電視和電腦螢幕。對大型高解析度平面顯示器需求增加推動了大型高品質玻璃基板用於顯示器的要求。例如，玻璃基板可用作LCD的導光板（LGP），光源可耦接至LGP。用於薄型顯示器的常見LCD構造包括光學耦接至光導邊緣的光源。導光板通常於一或更多表面配設光提取特徵，以當光沿光導長度行進時散射光，從而使部分光逸出光導及投向觀者。現已致力於研究光提取特徵工程設計來改善沿光導長度的光散射均勻性，以產生更高品質的投射影像。

目前，導光板可由高透射性塑膠材料建構，例如聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）或甲基丙烯酸甲酯苯乙烯（MS）。然由於機械強度較弱，因此難以由PMMA或MS製作夠大又薄的光導來滿足當前消費者需求。玻璃光導因具低光衰減、低熱膨脹係數和高機械強度而提議做為塑膠光導替代物。

在塑膠材料上提供光提取特徵的方法例如包括射出成型及雷射破壞，以產生直徑小於約0.1毫米（mm）的特徵。雖然該等技術對塑膠光導而言行得通，但射出成型不適合玻璃光導，雷射曝光則與玻璃可靠度不相容，例如可能引起碎裂、裂紋綿延及/或片破裂。

將光提取特徵應用到玻璃光導的替代方法可包括印刷技術，例如網印或噴墨印刷。然在玻璃上印刷光提取特徵存有其他挑戰。特定言之，噴墨印刷包含使用UV B或UV C光固化墨水的步驟，此會造成玻璃曝曬，導致玻璃吸收及/或色移。網印同樣包含固化步驟，其中墨水係利用熱固化，例如紅外線（IR）固化。雖然熱固化可免除曝曬問題，但可IR固化油墨亦會使玻璃光導產生明顯色移（例如就65吋（165公分（cm））對角顯示面板而言，色度圖中的dy為至少0.02至0.03）。此外，噴墨及網印法會造成影像假影，例如高頻雜訊（「彩紋（mura）」）。

因此，期有利地提供玻璃物件用於顯示裝置，例如導光板，以解決上述缺點，例如具光提取特徵的玻璃導光板，以提高影像品質及降低色移。

在不同實施例中，本發明係關於玻璃物件，包含第一表面和相對第二表面，其中第一表面包含光提取特徵陣列，光提取特徵的直徑為至少約10微米，高度為約1微米至約10微米。

亦揭示製作玻璃物件的方法，方法包含沉積油墨至玻璃基板的第一表面，以形成塗覆與未塗覆表面陣列。接著蝕刻未塗覆表面，以形成具第一表面的玻璃物件，第一表面包含光提取特徵陣列，光提取特徵的直徑為至少約10微米，高度為約1微米至約10微米。

在第一實施例中，沉積油墨至第一表面而形成不連續油墨特徵陣列，以形成實質凸面光提取特徵陣列，其中各不連續油墨特徵被未塗覆表面圍繞。在第二實施例中，沉積油墨至第一表面而形成不連續未塗覆表面陣列，以形成實質凹面光提取特徵陣列，其中各不連續未塗覆表面被塗覆表面圍繞。

本發明的附加特徵和優點將詳述於後，熟諳此技術者在參閱或實行所述方法，包括以下詳細實施方式說明、申請專利範圍和附圖後，在某種程度上將變得更清楚易懂。

應理解以上概要說明和下述詳細說明乃示例描述本發明實施例，及擬提供概觀或架構以對申請專利範圍的本質和特性有所瞭解。所含附圖提供對本發明的進一步瞭解，故當併入及構成說明書的一部分。圖式描繪本發明的各種實施例，並連同實施方式說明來解釋本發明的原理和操作。

玻璃物件

茲揭示包含第一表面和相對第二表面的玻璃物件；第一表面包含光提取特徵陣列，光提取特徵的直徑為至少約10微米，高度為約1微米至約10微米。

在此所用「凸面」一詞擬指光提取特徵的表面往外彎曲或從玻璃物件表面向外擴展，例如半球形或半橢圓形。光提取特徵可想像成置於玻璃物件表面的圓化圓頂，圓頂尺度未必呈正圓形、半球形或半橢圓形。

在此所用「凹面」一詞擬指光提取特徵的表面往下彎曲至玻璃物件周圍表面下面，例如半球形或半橢圓形。光提取特徵可想像成置於玻璃物件表面的圓化坑洞，坑洞尺度未必呈正圓形、半球形或半橢圓形。

玻璃物件可包含此領域已知任何材料用於顯示器或類似裝置，包括鋁矽酸鹽、鹼鋁矽酸鹽、硼矽酸鹽、鹼硼矽酸鹽、鋁硼矽酸鹽、鹼鋁硼矽酸鹽、鹼石灰和其他適合玻璃，但不以此為限。在某些實施例中，玻璃物件包含厚度小於或等於約3毫米（mm）的玻璃片，例如約0.3 mm至約2 mm、約0.7 mm至約1.5 mm或約1.5 mm至約2.5 mm，包括其間所有範圍與子範圍。適用導光板的非限定市售玻璃實例例如包括取自Corning公司的EAGLE XG^® 、Iris^TM 、Lotus^TM 、Willow^® 和Gorilla^® 玻璃。

玻璃物件可包含第一表面和相對第二表面。在某些實施例中，表面呈平面或實質平面，例如實質平坦及/或水平。在不同實施例中，第一和第二表面為平行或實質平行。玻璃物件可進一步包含至少一側緣，例如至少二側緣、至少三側緣或至少四側緣。非限定舉例來說，玻璃物件可包含具四個邊緣的矩形或方形玻璃片，但其他形狀和構造亦可想見及落在本發明範圍內。

如第 1 圖 所示，玻璃物件100 （例如玻璃導光板）具有第一表面101 、相對第二表面102 和在表面間延伸的厚度t ，其中第一表面包含光提取特徵103 的陣列，光提取特徵具有直徑d 和光提取特徵間距x 。如上所述，玻璃物件厚度t 可為約0.3 mm至約3 mm。雖然第 1 圖 繪示玻璃物件的第一表面101 包含光提取特徵陣列，但應理解第二表面102 也可包含光提取特徵陣列，或二表面均可包含個別具任何形狀及/或定向的特徵，此將進一步詳述於後。

在某些實施例中，光提取特徵103 的陣列排成圖案，例如一或更多列或行。雖然第 1 圖 繪示18個光提取特徵排成3行與6列，但任何列、行或光提取特徵數量當可想見。所示光提取特徵列與行並無限定之意，陣列可包含光提取特徵依任何特定圖案存於玻璃物件表面，例如無規或排列、重複或非重複、或對稱或不對稱。其他排列方式當可提供及落在本發明範圍內。

在某些實施例中，光提取特徵的直徑d 為至少約10微米。直徑d 可為如約10微米至約700微米，例如約15微米至約600微米、約20微米至約500微米、約25微米至約400微米、約30微米至約300微米、約40微米至約200微米或約50微米至約100微米，包括其間所有範圍與子範圍。根據不同實施例，各光提取特徵的直徑d 可同於或不同於陣列中其他光提取特徵的直徑d 。

光提取特徵間的距離可定義為二相鄰光提取特徵103 的中心間的距離x 。在一些實施例中，距離x 可為約5微米至約2 mm，例如約10微米至約1.5 mm、約20微米至約1 mm、約30微米至約0.5 mm或約50微米至約0.1 mm，包括其間所有範圍與子範圍。應理解陣列中各光提取特徵間的距離x 可不相同，不同提取特徵彼此隔開不同距離x 。

根據不同實施例，如第 2 圖 至第 3 圖 所示，光提取特徵陣列包含複數個光提取特徵，特徵可為實質凸面或凹面。第 2 圖 圖示玻璃物件100 的截面，包含凸面光提取特徵103a ，特徵從玻璃物件100 的第一表面101 向外擴展。儘管繪示成半球形，但凸面光提取特徵103a 未必呈正圓形、半球形或半橢圓形，而可具所述任何凸面形狀。例如，光提取特徵103a 可呈橢圓形、拋物面、雙曲面或截頭圓錐形或任何其他適合幾何形狀，任何特徵可為無規或排列、重複或非重複、或對稱或不對稱。在一些實施例中，玻璃物件100 的某些部分上的光提取特徵103a 具有第一幾何形狀，玻璃物件100 的其他部分上的光提取特徵103a 具有第二幾何形狀。例如，玻璃物件100 （例如導光板）鄰接或靠近邊緣部分或鄰接或靠近接收光源（未圖示）部分上的光提取特徵103a 可具第一幾何形狀，玻璃物件100 的中心附近或距光源預定距離的光提取特徵103a 可具第二幾何形狀。

凸面光提取特徵包含高度h 和直徑d 。如上所述，直徑d 可為至少約10微米，例如約10微米至約700微米。凸面光提取特徵亦可具高度h ，此係測量第一表面到光提取特徵頂點a （或最高點）的距離。在不同實施例中，高度h 可為約1微米至約10微米，例如約2微米至約9微米、約3微米至約8微米、約4微米至約7微米或約5微米至約6微米，包括其間所有範圍與子範圍。根據附加實施例，d ：h 比為至少約1：1。在一些實施例中，d ：h 比為約1：1至約500：1，例如約2：1至約400：1、約3：1至約300：1、約4：1至約200：1、約5：1至約100：1或約10：1至約50：1，包括其間所有範圍與子範圍。凸面光提取特徵可具頂點a ，光提取特徵間的距離x 定義為二相鄰凸面光提取特徵103 a 的頂點間的距離。如上所述，距離x 可為約5微米至約2 mm。

在一些實施例中，玻璃物件100 （例如玻璃導光板）的某些部分上的光提取特徵103a 具有高度或d ：h 比，玻璃物件100 的其他部分上的光提取特徵103a 具有第二高度或d ：h 比。例如，玻璃物件100 （例如導光板）鄰接或靠近邊緣部分或鄰接或靠近接收光源（未圖示）部分上的光提取特徵103a 可具第一高度或d ：h 比，玻璃物件100 的中心附近或距光源預定距離的光提取特徵103a 可具第二高度或d ：h 比。在其他實施例中，光提取特徵103a 的高度、比值及/或幾何形狀將隨玻璃物件100 表面上的位置變化。

第 3 圖 圖示玻璃物件100 的截面，包含凹面光提取特徵103b ，特徵從玻璃物件100 的第一表面101 往內擴展。雖然繪示呈半球形，但凹面光提取特徵103b 未必呈正圓形、半球形或半橢圓形，而可具所述任何凹面形狀。當然，光提取特徵103b 亦可呈凹橢圓形、拋物面、雙曲面或截頭圓錐形或任何其他適合幾何形狀，任何特徵可為無規或排列、重複或非重複、或對稱或不對稱。凹面光提取特徵103b 包含高度（或深度）h ，此係測量第一表面到光提取特徵頂點a （或最低點）的距離，及直徑d ，此類似上述第 2 圖 的凸面光提取特徵103a 。同樣地，光提取特徵間的距離x 可測量二相鄰凹面光提取特徵頂點間的距離，其值類似上述第 2 圖 。

類似第 2 圖 所述，玻璃物件100 （例如玻璃導光板）的某些部分上的光提取特徵103b 可具高度或d ：h 比，玻璃物件100 的其他部分上的光提取特徵103b 可具第二高度或d ：h 比。另外，玻璃物件100 的某些部分上的光提取特徵103b 可具第一幾何形狀，玻璃物件100 的其他部分上的光提取特徵103b 可具第二幾何形狀。故在示例性實施例中，光提取特徵103b 的高度（深度）、比值及/或幾何形狀將隨玻璃物件100 （例如玻璃導光板）表面上的位置變化。

根據不同非限定實施例，無論凸面或凹面，光提取特徵的直徑d 及/或高度h 可選擇以最小化波長相依散射及/或色移。例如，藉由提供具較大直徑且高度（或深度）大於最長散射光波長（例如可見光）的光提取特徵，可減少或消除玻璃物件表面的高頻紋理。在此所用「高頻紋理」一詞擬包括玻璃物件表面的小特徵，特徵具有約5微米或以下（例如約5、4、3、2或1微米或以下）的直徑和小於約0.7微米的淺深度或高度，例如深度或高度為小於可見光譜的光波長（~400-700奈米（nm））。

高頻紋理會產生細微（例如小又淺）粗糙表面，以致選擇性或波長相依散射光，因而造成色移。例如，散射可為波長函數，藍光（短）波長（~400-500 nm）的散射效率高於紅光（長）波長（~600-700 nm）。就粗糙度大於散射光波長的無規表面而言，傅立葉光學可用於利用下列公式來計算繞射效率： Eff=1-exp(-(2pdDn/l)² ) 其中Eff係散射效率（光散射%、而非反射）；d係RMS粗糙度值；Dn係指數對比（就反射模式導光板且n=1.5而言為約3）；l係波長。利用此公式，可計算在藍光（~440 nm）與紅光（~640 nm）波長的散射效率比率。

第 4 圖 係藍光/紅光散射效率比率隨RMS粗糙度變化圖。根據該圖，為達可忽略色移，玻璃表面的RMS粗糙度應為至少約0.07微米。然當採用尺寸小於散射光波長的光特徵時，將遭遇其他散射模式，例如Rayleigh或Mie散射，此乃高度波長相依（例如Rayleigh散射效率與波長四次方成反比）。故根據所述不同實施例，光提取特徵可配置成具有足以減少或消除玻璃物件表面的高頻紋理的高度h 和直徑d ，進而減少或消除不當色移。在一些實施例中，就65吋（165 cm）對角顯示器而言，所述玻璃物件（例如導光板）在CIE色度圖中產生的色移dy為小於約0.01。

方法

茲揭示製作玻璃物件或導光板的方法，方法包含沉積油墨至玻璃基板的第一表面，以形成塗覆與未塗覆表面陣列；及蝕刻未塗覆表面，以形成包含光提取特徵陣列的玻璃物件，光提取特徵的直徑為至少約10微米，高度為約1微米至約10微米。現將參照第 5A 圖 至第 5B 圖 描述製造具第 2 圖 所示凸面光提取特徵的玻璃物件的第一方法。

參照第 5A 圖 ，玻璃基板200 可提供具有第一表面201 和相對第二表面202 。在某些實施例中，玻璃基板200 經清洗步驟處理，以自玻璃基板200 移除表面污染，例如分子有機污染物。在一些實施例中，清洗步驟施行可使用去垢劑，例如Parker 225、SC-1、臭氧及/或氧電漿等。在一些實施例中，清洗玻璃基板以移除分子有機污染物可改善後續油墨處理步驟施用的油墨溼潤性。

如第 5A 圖 所示，油墨沉積至玻璃基板200 的第一表面201 ，以提供不連續油墨特徵205 的陣列。在此所用「不連續」油墨特徵一詞擬指施用於玻璃基板的油墨包含分離或分隔的油墨覆蓋部分且彼此不接觸。根據不同實施例，不連續油墨特徵位置可實質對應凸面光提取特徵位置。油墨可利用任何已知方法施用於玻璃基板，包括噴墨及網印製程，但不以此為限。油墨可包含此領域已知對後述蝕刻製程有足夠抗性且能良好黏附於玻璃基板的任何油墨。例如，適合油墨可包括選自氧化鈦、氧化鋯、氧化鈰、氧化鋅、氧化鋁、矽石、藍寶石、鑽石、砷化鎵、鍺和上述組合物的無機材料或適合有機材料，但不以此為限。

在某些實施例中，不連續油墨特徵包含圓化形狀，例如圓形或橢圓形，然尺度未必呈正圓形或正橢圓形。圓化不連續油墨特徵可以適於取得直徑d 至少約10微米的方式及/或用量施用，例如約10微米至約700微米，或第 1 圖 至第 3 圖 所述任何其他範圍或子範圍。同樣地，不連續油墨特徵間的距離可定義為相鄰不連續油墨特徵中心間的距離x ，且可選自第 1 圖 至第 3 圖 所述值。

雖然第 5A 圖 繪示27個不連續油墨特徵排成3行與9列，但任何列、行或不連續油墨特徵數量當可想見。所示不連續油墨特徵列與行並無限定之意，陣列可包含不連續油墨特徵依任何特定圖案存於玻璃物件表面，例如無規或排列、重複或非重複、或對稱或不對稱。其他排列方式當可提供及落在本發明範圍內。

施用油墨後，包含不連續油墨特徵205 陣列的玻璃基板200 經蝕刻步驟處理。蝕刻可利用此領域已知任何製程施行，例如浸泡或接觸蝕刻劑。根據不同實施例，蝕刻步驟可包含把玻璃基板浸入酸浴，例如氫氟酸及/或氫氯酸或任何其他適合礦酸或無機酸。適合的酸浴濃度例如為約0.2M至約2M，例如約0.4M至約1.8M、約0.6M至約1.6M、約0.8M至約1.4M或約1M至約1.2M，包括其間所有範圍與子範圍。

根據不同實施例，蝕刻劑可選自不會在玻璃基板表面產生高頻紋理的化劑。例如，有機蝕刻劑會在玻璃基板表面形成不溶性晶體，進而於玻璃基板表面產生高頻紋理。示例性高頻紋理繪示於第 6 圖 ，該圖圖示使用乙酸、氟化銨和水混合物蝕刻玻璃基板表面。由於蝕刻液存有乙酸，第 6 圖 清楚可見未塗覆玻璃區域的不溶性晶體。晶體將促成玻璃基板上的高頻紋理，以致色移。

包含不連續油墨特徵205 陣列的玻璃基板200 可充分蝕刻，以製造上述第2圖的凸面光提取特徵。蝕刻時間例如為約30秒至約15分鐘，例如約1分鐘至約10分鐘、約2分鐘至約8分鐘或約3分鐘至約5分鐘，包括其間所有範圍與子範圍，蝕刻可在室溫或高溫下進行。諸如酸濃度/比、溫度及/或時間等製程參數會影響所得提取特徵的尺寸、形狀和分布。例如，更濃的蝕刻液及/或更長的蝕刻時間等參數會影響蝕刻步驟期間的玻璃溶解量和所得光提取特徵的高度（或深度）h 。熟諳此技術者當能改變參數來達成預定表面提取特徵。

蝕刻製程期間，不連續油墨特徵可當作蝕刻屏蔽，藉此蝕刻劑等向溶解玻璃基板的非油墨覆蓋部分，例如所有方向均等，油墨覆蓋部分則實質不受影響。當油墨適當黏附於基板時，此製程可製造凸面光提取特徵。然油墨-玻璃黏附強度會影響上述蝕刻步驟達成的光提取特徵高度及/或輪廓。

參照第 7A 圖 ，若油墨微弱黏附基板，則蝕刻遮罩將於蝕刻製程的早期階段剝落，導致光提取特徵具平坦輪廓。另一方面，若油墨太牢固黏附基板，則所得光提取特徵具有第 7B 圖 所示「高帽」輪廓。如第 7C 圖 所示，不過度或未充分黏附玻璃的油墨可用於達成更圓的凸面光提取特徵。根據不同實施例，光提取特徵具有實質圓形凸面輪廓，然其他形狀和變化亦可想見及落在本發明範圍內。

在蝕刻步驟後，選擇性洗滌包含不連續油墨特徵205 陣列的蝕刻玻璃基板200 ，以自玻璃基板表面移除油墨。第 5B 圖 所示所得玻璃物件包含凸面光提取特徵203 的陣列，且輪廓和性質實質類似第 2 圖 所述凸面光提取特徵103a 。

現將參照第 8A 圖 至第 8B 圖 描述製造含第 3 圖 所示凹面光提取特徵陣列的玻璃物件的第二方法。方法實質類似上述第 5 A 圖 至第 5B 圖 用於製造具凸面光提取特徵陣列的玻璃物件的方法，且包含如提供玻璃基板、選擇性清洗玻璃基板，以移除表面污染、油墨施用、蝕刻，及選擇性洗滌表面油墨。然如第 8A 圖 所示，並非施用油墨來形成不連續油墨特徵，而是施用油墨至玻璃基板300 的第一表面301 ，以提供連續油墨特徵305 和不連續無油墨部分307 的陣列。無油墨部分307 的位置例如對應後續蝕刻步驟製造的凹面光提取特徵。不連續非油墨覆蓋部分307 的尺度可實質類似第 5 B 圖 所述不連續油墨特徵205 的尺度（d 與x ）。

施用連續油墨塗層305 後，以實質類似第 5 A 圖 至第 5B 圖 所述蝕刻步驟的方式施行蝕刻步驟。然因油墨屏蔽現包含連續油墨特徵305 ，非油墨覆蓋部分307 包含上述不連續圓化部分，故蝕刻劑將溶解非油墨覆蓋不連續部分307 ，連續油墨覆蓋部分305 則實質不受影響。此蝕刻製程可製造所述凹面狀光提取特徵陣列。蝕刻步驟完成後，選擇性洗滌玻璃基板，以自玻璃基板表面移除油墨。如第 8B 圖 所示，所得玻璃物件包含第一表面301 ，第一表面包含凹面光提取特徵陣列，且輪廓和性質實質類似第 3 圖 所述光提取特徵103b 。

根據不同非限定實施例，玻璃基板亦可利用如離子交換來化學強化。在離子交換製程期間，玻璃基板內於玻璃基板表面或附近的離子與如出自鹽浴的較大金屬離子交換。玻璃中併入較大離子將在近表面區域產生壓縮應力而強化基板。對應拉伸應力則於玻璃片的中心區域誘發以平衡壓縮應力。

離子交換的進行例如係把玻璃浸入熔融鹽浴一段預定時間。示例性鹽浴包括硝酸鉀（KNO₃ ）、硝酸鋰（LiNO₃ ）、硝酸鈉（NaNO₃ ）、硝酸銣（RbNO₃ ）和上述組合物，但不以此為限。可改變熔融鹽浴的溫度和處理時間。熟諳此技術者當能依預定應用來決定時間和溫度。非限定舉例來說，熔融鹽浴的溫度可為約400℃至約800℃，例如約400℃至約500℃，預定時間可為約4至約24小時，例如約4小時至約10小時，然也可採取其他溫度與時間組合。非限定舉例來說，可在如約450℃下把玻璃浸入KNO₃ 浴中約6小時，以得富含K層，該層將給予表面壓縮應力。

所述玻璃物件可用於各種顯示裝置，包括LCD和其他用於電視、廣告、汽車與其他產業的顯示器，但不以此為限。例如，玻璃物件可用作顯示裝置的導光板。用於LCD的傳統背光單元包含各種部件。可使用一或更多光源，例如發光二極體（LED）或冷陰極螢光燈（CCFL）。習知LCD可利用包裝色彩轉換磷光體的LED或CCFL來產生白光。根據本發明的不同態樣，採用所述玻璃光導的顯示裝置可包含至少一光源發射藍光（UV光，約100-400 nm），例如近UV光（約300-400 nm）。所述導光板和裝置亦可用於任何適合照明應用，例如照明器具等，但不以此為限。

應理解所述不同實施例可能涉及特定實施例描述的相關特定特徵結構、元件或步驟。亦應理解特定特徵結構、元件或步驟雖描述於特定實施例，但當可以各種未示結合或變更方式互換或結合替代實施例。

亦應理解除非清楚指明，否則在此所用「該」或「一」等用語意指「至少一個」且不應限於「只有一個」。故例如，除非內文清楚指出，否則指稱「一光源」包括具二或更多此光源的實例。同樣地，「複數個」或「陣列」擬指「一個以上」。故「複數個光提取特徵」或「光提取特徵陣列」包括二或更多此特徵，例如三或更多此特徵等。

範圍在此表示成從「約」一特定值及/或到「約」另一特定值。依此表示範圍時，實例將包括從一特定值及/或到另一特定值。同樣地，數值以先行詞「約」表示成近似值時，當理解特定值會構成另一態樣。更應理解各範圍的終點相對另一終點係有意義的，並且獨立於另一終點。

在此所用「實質」、「實質上」和變體字等用語擬指所述特徵等於或近乎等於某一數值或敘述。例如，「實質平面」的表面擬指平面或近乎平面的表面。

除非明確指出，否則在此提及的任何方法不擬解釋成需按特定順序進行方法步驟。是以當方法請求項未實際敘述步驟依循順序，或者申請專利範圍和實施方式未具體指出步驟限於特定順序時，不擬推斷任何特定順序。

雖然特定實施例的各種特徵結構、元件或步驟係以轉承用語「包含」來描述，但應理解包括以「由…組成」或「實質由…組成」等轉承用語描述的替代實施例亦涵蓋在內。例如，包含A+B+C的替代方法實施例暗指包括方法由A+B+C組成的實施例和方法實質由A+B+C組成的實施例。

熟諳此技術者將明白，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可對本發明作各種更動與潤飾。因熟諳此技術者可併入本發明的精神與本質而獲得所述實施例的修改例、組合例、子組合例和變化例，故本發明應解釋成包括落在後附申請專利範圍與均等物內的一切事物。

100‧‧‧玻璃物件
101、102‧‧‧表面
103、103a、103b‧‧‧光提取特徵
200‧‧‧玻璃基板
201、202‧‧‧表面
203、205‧‧‧光提取特徵
300‧‧‧玻璃基板
301‧‧‧表面
305‧‧‧光提取特徵
307‧‧‧無油墨部分
a‧‧‧頂點
d‧‧‧直徑
h‧‧‧高度
t‧‧‧厚度
x‧‧‧間距

以下詳細說明在配合附圖後將變得更清楚易懂，其中盡可能以相仿的元件符號表示相仿的結構，應理解附圖不必然按比例繪製。

第 1 圖 圖示根據本發明實施例的玻璃物件，包含光提取特徵陣列；

第 2 圖 圖示根據本發明某些實施例的玻璃物件截面，包含凸面光提取特徵陣列；

第 3 圖 圖示根據本發明其他實施例的玻璃物件截面，包含凹面光提取特徵陣列；

第 4 圖 係藍光/紅光散射效率比率隨RMS表面粗糙度變化圖；

第 5A 圖 至第 5B 圖 圖示根據本發明實施例，製造玻璃物件的方法，玻璃物件包含凸面光提取特徵陣列；

第 6 圖 圖示具高頻紋理的玻璃基板表面；

第 7A 圖 至第 7C 圖 圖示玻璃物件，包含利用對玻璃物件有不同黏附性的油墨形成的凸面光提取特徵陣列；

第 8A 圖 至第 8B 圖 圖示製造玻璃物件的方法，玻璃物件包含凹面光提取特徵陣列。

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100‧‧‧玻璃物件

101、102‧‧‧表面

103‧‧‧光提取特徵

d‧‧‧直徑

t‧‧‧厚度

x‧‧‧間距

Claims (25)

1. 一種玻璃物件，包含一第一表面和一相對第二表面； 其中該第一表面包含一光提取特徵陣列，光提取特徵具有至少約10微米的一直徑和約1微米至約10微米的一高度。
2. 如請求項1所述之玻璃物件，其中該等光提取特徵呈凸面或凹面。
3. 如請求項2所述之玻璃物件，其中該等凸面或凹面光提取特徵呈橢圓形、拋物面、雙曲面或截頭圓錐形。
4. 如請求項1所述之玻璃物件，其中該光提取特徵陣列為無規、排列、重複、非重複、對稱或不對稱。
5. 如請求項1所述之玻璃物件，其中該等光提取特徵的該直徑為約10微米至約700微米。
6. 如請求項1所述之玻璃物件，其中該等光提取特徵包含約1：1至約10：1的一直徑與高度比。
7. 如請求項1所述之玻璃物件，其中該等光提取特徵間的距離為約5微米至約2 mm。
8. 如請求項1所述之玻璃物件，其中該玻璃物件的該第一表面不包含一直徑小於約5微米且一高度小於約0.7微米的光提取特徵。
9. 如請求項1所述之玻璃物件，其中該玻璃物件的一厚度為約0.3 mm至約3 mm。
10. 如請求項1至9中任一項所述之玻璃物件，其中該等光提取特徵的高度、直徑、直徑與高度比和幾何形狀的任一者或組合隨該第一表面上的一位置變化。
11. 一種顯示裝置或照明器具，包含如請求項1之該玻璃物件。
12. 一種製造玻璃物件的方法，包含： 沉積油墨至一玻璃基板的一第一表面，以形成多個塗覆與未塗覆表面的一陣列；及蝕刻該等未塗覆表面，以形成具一第一表面的一玻璃物件，該第一表面包含一光提取特徵陣列，光提取特徵具有至少約10微米的一直徑和約1微米至約10微米的一高度。
13. 如請求項12所述之方法，其中該等塗覆表面包含不連續油墨特徵且該等不連續油墨特徵被未塗覆表面圍繞。
14. 如請求項12所述之方法，其中該等未塗覆表面包含不連續特徵表面且該等不連續特徵表面被塗覆表面圍繞。
15. 如請求項12所述之方法，其中該光提取特徵陣列為無規、排列、重複、非重複、對稱或不對稱。
16. 如請求項12所述之方法，其中該光提取特徵的該直徑為約10微米至約30微米。
17. 如請求項12所述之方法，其中該等光提取特徵包含約1：1至約10：1的一直徑與高度比。
18. 如請求項12所述之方法，其中該等光提取特徵間的距離為約5微米至約50微米。
19. 如請求項12至18中任一項所述之方法，其中該等光提取特徵的高度、直徑、直徑與高度比和幾何形狀的任一者或組合隨該第一表面上的一位置變化。
20. 如請求項12所述之方法，進一步包含在沉積油墨至該玻璃基板的該第一表面前，清洗該玻璃基板。
21. 如請求項12所述之方法，其中蝕刻包含使該玻璃基板接觸至少一蝕刻劑。
22. 如請求項12所述之方法，其中蝕刻包含把該玻璃基板浸入一酸浴，計約30秒至約15分鐘。
23. 如請求項21所述之方法，其中該至少一蝕刻劑選自多種礦酸。
24. 如請求項21所述之方法，其中該至少一蝕刻劑不選自多種有機酸。
25. 如請求項12所述之方法，進一步包含在蝕刻以自該第一表面移除該油墨後，洗滌該玻璃基板。