CN110229631B - 膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备。该膜层结构包括第一膜层组件和第二膜层组件，第一膜层组件包括依次层叠设置的第一膜材及纹理层，纹理层包括多个沿第一方向平行设置的凸条，每个凸条在垂直于第一方向上的截面的形状一致；第二膜层组件包括第二膜材及设置在第二膜材上的色带单元，第二膜层组件层叠于第一膜层组件上，色带单元远离第二膜材的一侧朝向第一膜材，色带单元在纹理层上的正投影落在纹理层上。上述膜层结构的样式丰富。

Description

膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备

技术领域

本发明涉及电子设备技术领域，特别是涉及一种膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备。

背景技术

随着电子设备产品多样性的发展，用户对电子设备的外观提出了更高的要求。如何提升电子设备的外观效果是业界普遍关注的研究方向。近年来，越来越多的研究焦点集中在通过改善电子设备的外壳以提高其外观效果。一些研究通过改变电子设备外壳的材质，以提高其外观效果。然而，这些电子设备外壳的样式单一，不能满足实际需求。

发明内容

基于此，有必要提供一种样式丰富的膜层结构。

此外，还提供一种膜层结构的制备方法、壳体机构和电子设备。

一种膜层结构，包括：

第一膜层组件，包括依次层叠设置的第一膜材及纹理层，所述纹理层包括多个沿第一方向平行设置的凸条，每个所述凸条在垂直于所述第一方向上的截面的形状一致；及

第二膜层组件，包括第二膜材及设置在所述第二膜材上的色带单元，所述第二膜层组件层叠于所述第一膜层组件上，所述色带单元远离所述第二膜材的一侧朝向所述第一膜材，所述色带单元在所述纹理层上的正投影落在所述纹理层上。

上述膜层结构包括第一膜层组件和层叠于第一膜层组件上的第二膜层组件，第一膜层组件包括依次层叠设置的第一膜材和纹理层，纹理层包括多个沿第一方向平行设置的凸条，每个凸条在垂直于第一方向上的截面的形状一致，纹理层的设置使得膜层组件具有亮度的纹理效果，第二膜层组件包括第二膜材和设置在第二膜材上的色带单元，色带单元使得第二膜层组件呈现细腻的颜色效果，色带单元远离第二膜材的一侧朝向第一膜材，色带单元在纹理层上的正投影落在纹理层上，色带单元和纹理层的叠加使得膜层结构呈现颜色、发亮和纹理的图案效果，样式丰富。

在其中一个实施例中，在垂直于所述第一方向上多个所述凸条依次拼接，且多个所述凸条平行。

在其中一个实施例中，多个所述凸条平行且间隔设置。

在其中一个实施例中，多个所述凸条呈阵列排布。

在其中一个实施例中，每个所述凸条在垂直于所述第一方向上的截面的形状为三角形或者梯形。

在其中一个实施例中，每个所述凸条为三棱柱形，每个所述凸条的一个侧面朝向所述第一膜材。

在其中一个实施例中，每个所述凸条具有第一侧面、第二侧面和第三侧面，所述第一侧面朝向所述第一膜材，所述第二侧面和所述第一侧面形成的夹角与所述第三侧面和所述第一侧面形成的夹角相等。

在其中一个实施例中，每个所述凸条的高度相等。

在其中一个实施例中，所述凸条的高度为4μm～6μm；

及/或，所述凸条的宽度为10μm～30μm。

在其中一个实施例中，所述色带单元在所述纹理层上的正投影与所述纹理层完全重合。

在其中一个实施例中，所述色带单元具有多个单色层，多个所述单色层依次层叠设置在所述第二基材上。

在其中一个实施例中，所述第一膜层组件还包括反射单元，所述反射单元覆盖所述纹理层远离所述第一膜材的一侧。

在其中一个实施例中，所述反射单元包括附着层、第一折射层和第二折射层，所述附着层设置在所述纹理层远离所述第一膜材的一侧，所述第一折射层设置在所述附着层远离所述纹理层的一侧，所述第二折射层设置在所述第一折射层远离所述附着层的一侧，所述第二折射层的折射率大于所述第一折射层的折射率，所述附着层为氧化铝层或二氧化硅层。

在其中一个实施例中，所述第一折射层的折射率为0.68～0.72，所述第二折射层的折射率为2.55～2.76。

在其中一个实施例中，所述第一折射层为铟层，所述第二折射层为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。

在其中一个实施例中，所述反射单元还包括间隔层，所述间隔层位于所述第一折射层和所述第二折射层之间，所述间隔层为氧化铝层或二氧化硅层。

在其中一个实施例中，所述附着层为氧化铝层，所述附着层的厚度为30nm～40nm，所述第一折射层为铟层，所述第一折射层的厚度为10nm～30nm，所述间隔层为氧化铝层，所述间隔层的厚度为30nm～40nm，所述第二折射层为二氧化钛层，所述第二折射层的厚度为3nm～7nm。

在其中一个实施例中，所述反射单元还包括第三折射层，所述第三折射层位于所述附着层和所述第一折射层之间，所述第三折射层的折射率大于所述第一折射层的折射率。

在其中一个实施例中，所述第三折射层的折射率为2.55～2.76。

在其中一个实施例中，所述第三折射层为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。

在其中一个实施例中，所述反射单元还包括第一保护层和第二保护层，所述第一保护层位于所述第一折射层与所述第三折射层之间，所述第二保护层位于所述第一折射层与所述第二折射层之间，所述第一保护层为氧化铝层或二氧化硅层，所述第二保护层为氧化铝层或二氧化硅层。

在其中一个实施例中，所述附着层为二氧化硅层，所述附着层的厚度为8nm～12nm，所述第三折射层为五氧化三钛层，所述第三折射层的厚度为7nm～17nm，所述第一保护层为二氧化硅层，所述第一保护层的厚度为10nm～20nm，所述第一折射层为铟层，所述第一折射层的厚度为10nm～30nm，所述第二保护层为二氧化硅层，所述第二保护层的厚度为20nm～30nm，所述第二折射层为五氧化三钛层，所述第二折射层的厚度为5nm～9nm。

在其中一个实施例中，所述第一膜层组件还包括油墨层，所述油墨层覆盖在所述反射单元远离所述纹理层的一侧上。

一种膜层结构的制备方法，包括如下步骤：

提供第一膜层组件，所述第一膜层组件包括依次层叠设置的第一膜材及纹理层，所述纹理层包括多个沿第一方向平行设置的凸条，每个所述凸条在垂直于所述第一方向上的截面的形状一致；

在第二膜材上通过色带转印工艺形成色带单元，得到第二膜层组件；及

将所述色带单元远离所述第二膜材的一侧与所述第一膜材远离所述纹理层的一侧贴合，且使所述色带单元在所述纹理层上的正投影落在所述纹理层上，得到膜层结构。

在其中一个实施例中，所述将所述色带单元远离所述第二膜材的一侧与所述第一膜材远离所述纹理层的一侧贴合的步骤之前，还包括制备所述第一膜层组件的步骤：采用UV转印在所述第一膜材上形成所述纹理层，得到所述第一膜层组件。

在其中一个实施例中，在所述第一膜材上形成所述纹理层的步骤包括：在所述第一膜材上形成多条沿所述第一方向平行的所述凸条，得到所述纹理层。

在其中一个实施例中，所述在第二膜材上通过色带转印工艺形成色带单元的步骤包括：通过色带转印工艺在所述第二膜材上形成多个层叠设置的单色层，得到所述色带单元。

一种壳体机构，包括：

基底；及

上述膜层结构，所述膜层结构设置在所述基底上，且所述第二基材朝向所述基底。

一种电子设备，包括：

上述壳体机构；

显示机构，与所述壳体机构连接，所述显示机构和所述壳体机构之间限定出安装空间；及

电路板，设置在所述安装空间内且与所述显示机构电连接。

附图说明

图1为一实施方式的电子设备的结构示意图；

图2为图1所示的壳体机构的结构示意图；

图3为图2所示的壳体机构沿A-A线的局部剖视图；

图4为图2所示的壳体机构中第一膜材和纹理层的结构示意图；

图5为图3所示的壳体机构中第一膜材的截面示意图；

图6为图4所示的壳体机构中纹理层沿B-B线的截面示意图；

图7为图3所示的壳体机构中反射单元的截面示意图；

图8为图3所示的壳体机构中第二膜材的截面示意图；

图9为图3所示的壳体机构中色带单元的截面示意图；

图10为另一实施例的纹理层的截面示意图；

图11为另一实施例的多个凸条的分布示意图；

图12为另一实施例的纹理层的截面示意图；

图13为另一实施例的纹理层的截面示意图；

图14为另一实施例的纹理层的截面示意图；

图15为另一实施例的纹理层的截面示意图；

图16为另一实施例的反射单元的截面示意图；

图17为另一实施例的第一膜材和纹理层的结构示意图；

图18为另一实施例的第一膜材、纹理层和色带单元的结构示意图；

图19为另一实施例的第一膜材、纹理层和色带单元的结构示意图；

图20为实施例1的壳体机构的局部实物图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。

如图1所示，一实施方式的电子设备包括壳体机构11和显示机构13。显示机构13与壳体机构11连接。电子设备正常运行时，显示机构13能够显示图案。显示机构13与壳体机构11之间限定出安装空间(图未示)。电子设备还包括电路板(图未示)。电路板控制电路能够控制电子设备正常运行。电路板设置在安装空间内，且与显示机构13电连接。进一步地，电子设备为各种能够从外部获取数据并对该数据进行处理的设备，或者，各种内置有电池，并能够从外部获取电流对该电池进行充电的设备。电子设备例如可以为手机、平板电脑、计算设备或信息显示设备等。在图示实施例中，电子设备为手机。壳体机构11为手机的后盖。显示机构13与壳体机构11固接。

请一并参阅图2～3，壳体机构11包括基底15和膜层结构100。

基底15为透明玻璃板。需要说明的是，基底15不限于为透明玻璃板，也可以为透明塑料板。进一步地，基底15为平面玻璃或者曲面玻璃。

在其中一个实施例中，基底15的厚度为0.5nm～0.7nm。

请一并参阅图4，膜层结构100包括第一膜层组件110和第二膜层组件120。第一膜层组件110包括依次层叠设置的第一膜材111和纹理层113。纹理层113包括多个沿第一方向平行设置的凸条1132。每个凸条1132在垂直于凸条1132延伸方向上的截面的形状一致。第二膜层组件120包括第二膜材122和设置在第二膜材122上的色带单元124。第二膜层组件120层叠于第一膜层组件110上。色带单元124靠近第一膜材111设置。色带单元124在纹理层113上的正投影落在纹理层113上。

上述膜层结构100中，纹理层113的设置能够使第一膜层组件110呈现发亮的纹理效果，色带单元124使得第二膜层组件120呈现细腻的颜色效果，色带单元124和纹理层113叠加使得膜层结构100呈现颜色、发亮和纹理的图案效果，样式丰富，外观效果较好，使得电子设备具有较好外观效果。

请一并参阅图5，第一膜材111能够增强第一膜层组件110的机械强度。进一步地，第一膜材111包括层叠设置的功能层1112和胶粘层1114。功能层1112朝向纹理层113设置。胶粘层1114位于功能层1112远离纹理层113的一侧。胶粘层1114使得第一膜材111具有粘性，能够与其他部件粘接。

更进一步地，功能层1112为PET(Polyethylene terephthalate，聚对苯二甲酸类塑料)层。胶粘层1114的材料为OCA(Optically Clear Adhesive，光学胶)。需要说明的是，功能层1112不限于上述指出的材料，还可以为其他材料。胶粘层1114的材料不限于上述指出材料，也可以为其他材料。在图示实施例中，第一膜材111为条形板状。

在其中一个实施例中，功能层1112的厚度为48μm～52μm。胶粘层1114的厚度为20μm～30μm。进一步地，功能层1112的厚度为50μm。胶粘层1114的厚度为25μm。

纹理层113具有折射效果和图案效果，使得第一膜层组件110呈现发亮的图案效果。进一步地，纹理层113至少部分覆盖第一膜材111靠近纹理层113的一侧。此种设置使得膜层结构100局部呈现纹理效果。在图示实施例中，纹理层113设置在功能层1112远离胶粘层1114的一侧上。纹理层113部分覆盖功能层1112远离胶粘层1114的一侧。

请一并参阅图6，在其中一个实施例中，在垂直于第一方向上多个凸条1132依次拼接，且多个凸条1132平行。第一方向为凸条1132的延伸方向。此种设置，能够提高纹理层113的亮度，使得纹理层113能够呈现整片发亮的效果。

在其中一个实施例中，每个凸条1132在第一方向上的截面的形状为三角形。进一步地，每个凸条1132在第一方向上的截面的形状为等腰三角形。此种设置，使得纹理层113具有深度感。更进一步地，每个凸条1132在第一方向上的截面的形状为等边三角形。此种设置，使得纹理层113具有深度感。

在其中一个实施例中，每个凸条1132为三棱柱形。每个凸条1132的一个侧面朝向第一膜材111。

在其中一个实施例中，每个凸条1132的高度相等。此种设置，使得纹理层113能够呈现较为均一的亮度效果。

在其中一个实施例中，凸条1132的高度为4μm～6μm。凸条1132的高度即为凸条1132远离第一膜材111一侧到功能层1112远离胶粘层1114一侧的距离。定义凸条1132的高度为H1。

在其中一个实施例中，凸条1132的宽度为10μm～30μm。定义凸条1132的宽度为D1。此种设置，使得纹理层113具有深度感。

在图示实施例中，每个凸条1132为三棱柱形。每个凸条1132具有第一侧面1132a、第二侧面1132b和第三侧面1132c。第一侧面1132a朝向第一膜材111。第二侧面1132b和第一侧面1132a形成的夹角与第三侧面1132c和第一侧面1132a形成的夹角相等。第二侧面1132b和第三侧面1132c的相交线到第一侧面1132a的距离即为H1。第一侧面1132a的宽度即为D1。相邻两个凸条1132中，其中一个凸条1132的第一侧面1132a和第二侧面1132b的相交线与另一个凸条1132的第一侧面1132a和第三侧面1132c的相交线重合。

在其中一个实施例中，定义垂直于第一膜材111的延伸方向与凸条1132的延伸方向的夹角为A1。A1为25°～35°。此种设置，能够避免纹理层113在凸条组113a处产生摩尔纹现象。在图示实施例中，A1为30°。需要说明的是，A1不限于上述指出的角度范围，也可以为其他角度，可以根据实际需要进行设置。

在其中一个实施例中，纹理层113的轮廓形状呈可变化的原型设计。可变化的原型设计为可变化的图案。进一步地，纹理层113的轮廓形状呈图腾形状。需要说明的是，纹理层113的轮廓形状不限于为图腾形状，也可以为人形，也可以为动物形状，例如可以为十二生肖的形状。可以根据实际的需要进行设定。

在其中一个实施例中，通过UV转印工艺在第一膜材111上形成纹理层113。进一步地，使用具有光固化性能的UV胶(Ultraviolet Rays)，将特制模具上的纹理转印至第一膜材111上，以在第一膜材111上形成纹理层113。

请一并参阅图7，在其中一个实施例中，第一膜层组件110还包括反射单元115。反射单元115覆盖纹理层113远离第一膜材111的一侧。进一步地，反射单元115覆盖纹理层113远离第一膜材111的一侧，且至少部分覆盖第一膜材111靠近纹理层113的一侧。在一个具体示例中，反射单元115覆盖纹理层113远离第一膜材111的一侧，且完全覆盖第一膜材111靠近纹理层113的一侧。

在其中一个实施例中，反射单元115包括附着层1150、第一折射层1152和第二折射层1154。附着层1150设置在纹理层113远离第一膜材111的一侧，第一折射层1152设置在附着层1150远离纹理层113的一侧，第二折射层1154设置在第一折射层1152远离附着层1150的一侧。第二折射层1154的折射率大于第一折射层1152的折射率。附着层1150为氧化铝层或二氧化硅层。

通过设置附着层1150使得反射单元115能够与纹理层113牢固地结合，第二折射层1154的折射率大于第一折射层1152的折射率，第一折射层1152和第二折射层1154的结合，使得反射单元115具有反射效果，以将光线反射至第一膜材111上，以增加纹理层113的亮度。

在其中一个实施例中，第一折射层1152的折射率为0.68～0.72。第二折射层1154的折射率为2.55～2.76。此种设置使得反射单元115具有较好的反射效果。进一步地，第一折射层1152为铟层。第二折射层1154为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。此种设置使得反射单元115具有较好的反射效果。

在其中一个实施例中，反射单元115还包括间隔层1156。间隔层1156设置在第一折射层1152和第二折射层1154之间。间隔层1156为氧化铝层或二氧化硅层。间隔层1156与附着层1150结合能够保护第一折射层1152，降低第一折射层1152的氧化。

进一步地，附着层1150为氧化铝层，附着层1150的厚度为30nm～40nm。第一折射层1152为铟层，第一折射层1152的厚度为10nm～30nm。间隔层1156为氧化铝层，间隔层1156的厚度为30nm～40nm。第二折射层1154为二氧化钛层，第二折射层1154的厚度为3nm～7nm。需要说明的是，第一折射层1152的厚度越厚，反射单元115的反射效果越好，纹理层113的亮度越高。但是第一折射层1152的厚度越厚，越容易被氧化。上述设置的第一折射层1152能够保证反射单元115的增亮效果，也能够降低第一折射层1152的氧化。

进一步地，第一折射层1152的厚度为10nm～20nm。此种设置能够保证反射单元115的增亮效果，也能够保护第一折射层1152，降低第一折射层1152的氧化。

在其中一个实施例中，通过电子蒸镀方式在纹理层113上形成反射单元115。需要说明的是，在纹理层113上形成反射单元115的方式不限于为上述指出的方式，还可以为其他镀膜方式，例如磁控溅射。

在其中一个实施例中，第一膜层组件110还包括油墨层117。油墨层117覆盖在反射单元115远离纹理层113的一侧上。油墨层117能够避免进入第一膜层组件110的光线从油墨层117穿过，以使纹理层113显现。在图示实施例中，油墨层117完全覆盖在反射单元115远离纹理层113的一侧上。

在其中一个实施例中，油墨层117的厚度为5μm～24μm。此种设置，能够有效地避免光线穿过油墨层117，使得进入第一膜层组件110内的光线能够被反射单元115反射或者被油墨层117吸收。

在其中一个实施例中，采用丝网印刷工艺在纹理层113上形成油墨层117。进一步地，采用丝网印刷工艺在纹理层113上多次印刷油墨材料而得到油墨层117。具体地，印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为5μm～8μm。需要说明的是，印刷的次数不限于三次，也可以为两次，还可以为四次，可以根据需要进行设定。其中，油墨材料为低温油墨。低温油墨即在较低温度下能够干燥的油墨。进一步地，干燥温度为80℃～90℃。

请一并参阅图8，第二膜材122能够增强第二膜层组件120的机械强度。在其中一个实施例中，第二膜材122包括层叠设置的防爆层1222和粘接层1224。粘接层1224位于防爆层1222远离色带单元124的一侧。粘接层1224使得第二膜材122具有粘性，能够与其他部件粘接。进一步地，防爆层1222为PET层。粘接层1224的材料为OCA。需要说明的是，防爆层1222不限于上述指出的材料，还可以为其他材料。粘接层1224的材料不限于上述指出材料，也可以为其他材料。在图示实施例中，第二膜材122为条形板状。

在其中一个实施例中，第二膜材122的延伸方向与第一膜材111的延伸方向平行。

在其中一个实施例中，防爆层1222的厚度为21μm～25μm。粘接层1224的厚度为15μm～25μm。进一步地，防爆层1222的厚度为23μm。粘接层1224的厚度为15μm。

色带单元124和纹理层113的叠加，使得膜层结构100呈现发亮的图案效果，且图案的分辨率较高，颜色饱和度较高。

在其中一个实施例中，色带单元124在纹理层113上的正投影的轮廓形状与纹理层113的轮廓形状一致。此种设置能够提高膜材结构的外观效果。在一个具体示例中，色带单元124在纹理层113上的正投影与纹理层113的完全重合。此种设置，使得膜层结构100在呈现纹理的区域也同时呈现细腻的颜色。

请一并参阅图9，在其中一个实施例中，色带单元124具有多个单色层1242。多个单色层1242依次层叠设置在第二膜材122上。此种设置，使得色带单元124对应的图案呈现颜色变化。在图示实施例中，单色层1242为两层。两层单色层1242依次层叠设置在防爆层1222远离粘接层1224的一侧上。需要说明的是，单色层1242不限于为两层，也可以为一层，还可以为三层，可以根据需要进行设置。

在其中一个实施例中，色带单元124的色带为CMYK色系的色带。C为Cyan(青色)；M为Magenta(洋红色)；Y为Yellow(黄色)黄色；K为黑色。此种设置使得色带单元124的图案具有较高的分辨率和较高的对比度。在一个具体示例中，色带单元124的色带为日本富士的CMYK色系的色带。

在图示实施例中，其中一层单色层1242的色带为Cyan色带，另一层单色层1242为Magenta色带。此种设置，使得色带单元124呈现蓝色。需要说明的是，多层单色层1242的色带不限于上述指出的色带，也可以为其他颜色的色带，可以根据需要进行设置。需要说明的是，色带单元124呈现蓝色，也可以为红色或绿色等，可以根据需要改变单色层1242的色带颜色以使色带单元124呈现不同的颜色。

在其中一个实施例中，第一膜层组件110设有第一对准部。第二膜层组件120设有与第一对准部相对应的第二对准部。第一对准部与第二对准部相对，以使第一膜层组件110和第二膜层组件120精准贴合，而使色带单元124在纹理层113上的正投影落在纹理层113上。其中，第一对准部可以为对准线。第二对准部可以为对准线。第一对准部和第二对准部重叠，以使第一膜层组件110和第二膜层组件120精准贴合。

在其中一个实施例中，采用色带转印工艺在第二膜材122上形成色带单元124。进一步地，转印温度为60℃～70℃。

膜层结构100设置在基底15上。且第二膜材122朝向基底15。在图示实施例中，第二膜材122通过粘接层1224与基底15贴合。

进一步地，膜层结构100朝向显示机构13。更进一步地，第一膜层组件110远离第二膜层组件120的一侧朝向显示机构13设置。在图示实施例中，油墨层117朝向显示机构13设置。此种设置，使得能够通过油墨层117遮蔽显示机构13靠近膜层结构100的一侧、电路板靠近膜层结构100的一侧。

上述膜层结构100中，纹理层113的设置能够使第一膜层组件110呈现发亮的纹理效果，色带单元124使得第二膜层组件120呈现细腻的颜色效果，色带单元124和纹理层113叠加使得膜层结构100呈现颜色、发亮和纹理的图案效果，样式丰富，外观效果较好，使得电子设备具有较好外观效果。

进一步地，上述膜层结构100中纹理层113、反射层115和色带单元124的抵接，使得膜层结构100具有颜色、发亮的图案效果，外观效果较好。

综上，上述膜层结构100的厚度较薄，使得壳体机构11能够用于制备具有较好外观效果的电子设备，例如适用于3D弧度低于4.0mm的手机后盖。

可以理解，油墨层117可以省略。此时，可以从壳体机构11处观察到显示组件20和电路板的结构。

可以理解，反射单元130可以省略。此时，油墨层117覆盖纹理层113。

可以理解，在垂直于第一方向上多个凸条1132不限于依次拼接，请一并参阅图10，在另一实施例中，多个凸条2132也可以平行且间隔设置。此种设置的纹理层呈现纹理和光影效果。进一步地，定义相邻凸条2132的间距D4。在图示实施例中，相邻两个凸条2132中，其中一个凸条2132的第二侧面2132b与另一个凸条2132的第三侧面2132c的最小距离即为D4。

可以理解，凸条1132不限于为三棱柱形，凸条1132也可以为其他形状，例如：折线形、波浪线形或者圆弧形等。

可以理解，多个凸条1132不限于上述设置，还可以为其他设置方式，例如：请一并参阅图11，在另一实施例中，多个凸条3132呈阵列排布。此种设置的纹理层呈现光影效果。

可以理解，每个凸条1132在第一方向上的截面的形状不限于为三角形，请一并参阅图12，每个凸条4132在第一方向上的截面的形状也可以为梯形。每个凸条4132的高度为H2。每个凸条4132的宽度为D2。H2为4μm～6μm。D2为10μm～30μm。需要说明的是，相邻凸条4132不限于上述设置，请一并参阅图14，在其他实施例，凸条6132与凸条4132的结构相同，不同之处在于，多个凸条6132也可以平行且间隔设置。

请一并参阅图13，每个凸条5132在第一方向上的截面的形状也可以为圆弧形。每个凸条5132的高度为H3。每个凸条5132的宽度为D3。H3为4μm～6μm。D3为10μm～30μm。需要说明的是，相邻凸条5132不限于上述设置，请一并参阅图15，在其他实施例，凸条7132与凸条5132的结构相同，不同之处在于，多个凸条7132也可以平行且间隔设置。

可以理解，反射单元115的结构不限于上述指出的结构，还可以为其他结构，请一并参阅图16，在其他实施例中，反射单元215还包括第三折射层2158。第三折射层2158位于附着层2150和第一折射层2152之间。第三折射层2158的折射率大于所述第一折射层2152的折射率。此种设置通过第三折射层2158、第一折射层2152和第二折射层2154的配合，能够进一步提高反射单元215的增亮效果。

进一步地，第三折射层2158的折射率为2.55～2.76。更进一步地，第三折射层2158为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。

在其中一个实施例中，反射单元215还包括第一保护层2153和第二保护层2155。第一保护层2153位于第一折射层2152与第三折射层2158之间。第二保护层2155位于第一折射层2152与第二折射层2154之间。第一保护层2153为氧化铝层或二氧化硅层。第二保护层2155为氧化铝层或二氧化硅层。通过设置第一保护层2153和第二保护层2155能够保护第一折射层2152，能够降低第一折射层2152的氧化，还能够增加反射单元215的机械强度。

进一步地，附着层2150为二氧化硅层，附着层2150的厚度为8nm～12nm。第三折射层2158为五氧化三钛层，第三折射层2158的厚度为7nm～17nm。第一保护层2153为二氧化硅层，第一保护层2153的厚度为10nm～20nm。第一折射层2152为铟层，第一折射层1152的厚度为10nm～20nm。第二保护层2155为二氧化硅层，第二保护层2155的厚度为20nm～30nm。第二折射层2154为五氧化三钛层，第二折射层2154的厚度为5nm～9nm。此种设置能够降低第一折射层2152的氧化，增加反射单元215的机械强度。

可以理解，纹理层113不限于部分覆盖第一膜材111靠近纹理层113的一侧，请一并参阅图17，在另一实施例中，纹理层413完全覆盖第一膜材411靠近纹理层413的一侧。此时，壳体机构远离基底的一侧能够呈现整面纹理的效果。

可以理解，色带单元124在纹理层113上的正投影不限于与纹理层113完全重合，请一并参阅图18，在另一实施例中，色带单元524在纹理层513上的正投影可以落在纹理层513内。此种设置，使得膜层结构在纹理层513和色带单元524叠加处呈现纹理和细腻颜色的效果，且使得膜层结构在纹理层513未与色带单元524叠加处呈现纹理效果。此时，第一膜材511的胶粘层覆盖色带单元524，且覆盖第二膜材靠近色带单元524的一侧。

请一并参阅图19，在另一实施例中，色带单元624在纹理层613上的正投影可以完全覆盖纹理层613且至少部分覆盖第一膜材611。此种设置，使得色带单元624在纹理层613上的正投影能够全部与纹理层613重叠，并且使得膜层结构在纹理层613和色带单元624叠加处呈现纹理和细腻颜色的效果，且使得膜层结构在色带单元624未与纹理层613叠加处呈现细腻的颜色效果。进一步地，色带单元624在纹理层613的正投影的边缘与纹理层613的边缘的距离为0.2mm～0.3mm。需要说明的是，色带单元624在纹理层613上的正投影也可以完全覆盖纹理层613且完全覆盖第一膜材611。此时，壳体机构远离基底的一侧能够呈现整面细腻颜色的效果。

此外，提供上述实施方式的膜层结构100的制备方法，能够制备具有颜色、发亮的图案效果的膜层结构100。具体地，膜层结构100的制备方法包括如下步骤S110～S120：

请再次参阅图1～6，S110、提供第一膜层组件110，第一膜层组件110包括依次层叠设置的第一膜材111和纹理层113。

需要说明的是，第一膜层组件110的结构请参见上文描述，此处不再赘述。

在其中一个实施例中，膜层结构100的制备方法包括制备第一膜层组件110的步骤：采用UV转印在第一膜材111上形成纹理层113，得到第一膜层组件110。需要说明的是，第一膜层组件110不限于通过上述步骤制备得到，也可以采用市售的第一膜层组件。进一步地，使用具有光固化性能的UV胶(Ultraviolet Rays)，将特制模具上的纹理转印至第一膜材111上，以在第一膜材111上形成纹理层113。更进一步地，UV转印的能量为500mj/cm²～1000mj/cm²。

在其中一个实施例中，在第一膜材111上形成纹理层113的步骤包括：在第一膜材111上形成多条沿第一方向平行设置的凸条1132，得到纹理层113。需要说明的是，凸条1132的结构请参见上文描述，此处不再赘述。

进一步地，在第一膜材111上形成纹理层113的步骤包括S111～S112：

S111、提供具有纹理图案层的模具，纹理图案层具有多个凸起，多个凸起与多个凸条1132相互啮合。

在其中一个实施例中，S111包括S1111～S1112：

S1111、制备具有纹理的母模，母模的纹理与纹理层113的纹理相同。

具体地，采用CNC机台，以6个刀同时加工的方式在基底上进行加工，得到具有纹理的母模。进一步地，基底为平面钢板。

S1112、将母模的纹理复制到模具上，得到形成有多个凸起的模具。

进一步地，模具为PC板(聚碳酸酯板)。

S112、在具有纹理图案的模具上涂覆UV胶，以使UV胶位于相邻凸起之间；将模具上的UV胶转印至第一膜材111上，固化，得到纹理层113。

进一步地，UV转印的能量为500mj/cm²～1000mj/cm²。

在其中一个实施例中，在第一膜材111上形成纹理层113的步骤之后还包括如下步骤：在纹理层113远离第一膜材111的一侧上形成反射单元115。进一步地，在纹理层113上形成反射单元115的步骤包括：在纹理层113上远离第一膜材111的一侧上形成依次层叠的附着层1150、第一折射层1152和第二折射层1154，得到反射单元115。附着层1150为氧化铝层或二氧化硅层。通过设置附着层1150使得反射单元115能够与纹理层113牢固地结合，第一折射层1152和第二折射层1154的结合，使得反射单元115具有反射效果，以将光线反射至第一膜材111上，以增加纹理层113的亮度。

进一步地，通过电子蒸镀工艺在纹理层113上形成依次层叠的附着层1150、第一折射层1152和第二折射层1154，形成反射单元115。

在其中一个实施例中，第一折射层1152为铟层。第二折射层1154为二氧化钛层、五氧化三钛或五氧化二铌层。此种设置使得反射单元115具有较好的反射效果。

在其中一个实施例中，在纹理层113远离第一膜材111的一侧上形成反射单元115的步骤包括：在纹理层113远离第一膜材111的一侧上形成依次层叠的附着层1150、第一折射层1152、间隔层1156和第二折射层1154，得到反射单元115。间隔层1156为氧化铝层或二氧化硅层。间隔层1156与附着层1150结合能够保护第一折射层1152，降低第一折射层1152的氧化。进一步地，通过电子蒸镀方式在纹理层113上形成依次层叠的附着层1150、第一折射层1152、间隔层1156和第二折射层1154，形成反射单元115。

具体地，在纹理层113远离第一膜材111的一侧上形成反射单元115的步骤包括：在纹理层113远离第一膜材111的一侧上形成依次层叠的30nm～40nm的氧化铝层、10nm～30nm的铟层、30nm～40nm的氧化铝层、3nm～7nm的二氧化钛层，得到反射单元115。

在其中一个实施例中，在纹理层113远离第一膜材111的一侧上形成反射单元115的步骤之后，还包括如下步骤：在反射单元115上形成油墨层117，油墨层117覆盖反射单元115。进一步地，在反射单元115上形成油墨层117的方式为丝网印刷。更进一步地，油墨层117的厚度为5μm～24μm。

进一步地，采用丝网印刷工艺在纹理层113上多次印刷油墨材料而得到油墨层117。具体地，印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为5μm～8μm。需要说明的是，印刷的次数不限于三次，也可以为两次，还可以为四次，可以根据需要进行设定。其中，油墨材料为低温油墨。低温油墨即在较低温度下能够干燥的油墨。进一步地，干燥温度为80℃～90℃。

在其中一个实施例中，在反射单元115上形成油墨层117的步骤之后，还包括在油墨层117远离反射单元115的一侧贴附保护膜的步骤。通过贴附保护膜以对油墨层117起临时保护的作用。

请再次一并参阅图7～9，S120、在第二膜材122上通过色带转印工艺形成色带单元124，得到第二膜层组件120。

需要说明的是，第二膜层组件120的结构请参见上文描述，此处不再赘述。

其中一个实施例中，在第二膜材122上通过色带转印工艺形成色带单元124的过程中，通过电脑程序控制在不同区域转印出不同的颜色效果的图案，得到色带单元124。需要说明的是，色带转印对环境要求较高，需要在百级环境内进行，以避免环境落尘而造成严重的白点和亮点等不良问题。

在其中一个实施例中，在第二膜材122上通过色带转印工艺形成色带单元124的过程中，采用CMYK色系色带。进一步地，在第二膜材122上通过色带转印工艺形成色带单元124的过程中，采用日本富士CMYK色系色带。该色带的分辨率为600DPI，精细度较高，有利于提高膜层结构100的外观效果。

在其中一个实施例中，S120包括：通过色带转印工艺在第二膜材122上形成多个层叠设置的单色层1242，得到色带单元124。

在其中一个实施例中，转印温度为60℃～70℃。单色层1242的转印时间为2s～3s。

在其中一个实施例中，在第二膜材122上通过色带转印工艺形成色带单元124的步骤之后，还包括在色带单元124远离第二膜材122的一侧上贴附保护膜的步骤。通过贴附保护膜能够对色带单元124起到临时保护的作用。

S130、将色带单元124远离第二膜材122的一侧与第一膜材111远离纹理层113的一侧贴合，以使色带单元124在纹理层113上的正投影落在纹理层113上，得到膜层结构100。

进一步地，S130包括：将色带单元124远离第二膜材122的一侧贴合在胶粘层1114上，以使色带单元124在纹理层113上的正投影落在纹理层113上，得到膜层结构100。

在其中一个实施例中，第一膜层组件110设有第一对准部。第二膜层组件120设有与第一对准部相对应的第二对准部。S130包括：将第一对准部与第二对准部相对，并且将色带单元124与第一膜材111贴合，以使色带单元124在纹理层113上的正投影落在纹理层113上。

上述膜层结构100的制备方法通过色带转印工艺形成色带单元124，通过在第一膜材111上形成纹理层113和反射单元115，以使膜层结构100呈现具有颜色且发亮的图案，得到的膜层结构100能够用于制备具有较好外观效果的电子设备，例如适用于3D弧度低于4.0mm的手机后盖。

一般的胶印工艺主要的流程为：四色胶印(即凹版印刷)直接在膜片上打印出深浅不同的蓝色区域；再进行UV转印形成纹理；在纹理上进行电子枪蒸发镀膜，形成硅钛增亮膜系；在硅钛增亮膜系上进行丝网印刷，得到油墨层117。然而，采用胶印工艺形成图案的粗糙度较高，细腻度较差，且单层胶印方案对UV纹理的设计有局限性，UV纹理的深度不能太深(不能超过10μm)，镀膜后的颜色效果不好，亮度不足。

上述膜层结构100的制备方法中，通过第一膜层组件110和第二膜层组件120的贴合，能够提高膜层结构100的颜色饱满感，色带转印工艺制备的色带单元124的分辨率较高，精细度较好，纹理层113与第一膜材111的结合力较好，能够通过不同宽度和高度的纹理使得膜层结构100呈现不同的增亮效果。

可以理解，胶粘层1114也可以省略。通过在功能层1112上涂覆粘接剂，以将色带单元124与第一膜材111贴合。

可以理解，形成反射单元115的方式不限于上述方式，请一并参阅图16，在另一实施例中，在纹理层213远离第一膜材的一侧形成反射单元215的步骤包括：在纹理层213上形成依次层叠的附着层2150、第三折射层2158、第一折射层2152和第二折射层2154，得到反射单元。第三折射层2158的折射率为2.55～2.76。此种设置中，通过第三折射层2158、第一折射层2152和第二折射层2154的配合，能够进一步提高反射单元的增亮效果。进一步地，第三折射层2158为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。

进一步地，在纹理层213远离第一膜材的一侧形成反射单元215的步骤包括：在纹理层213远离第一膜材的一侧形成依次层叠的附着层2150、第三折射层2158、第一保护层2153、第一折射层2152、第二保护层2155和第二折射层2154。第一保护层2153为氧化铝层或二氧化硅层。第二保护层2155为氧化铝层或二氧化硅层。通过设置第一保护层2153和第二保护层2155能够保护第一折射层2152，以降低第一折射层2152的氧化，还能够增加反射单元的机械强度。

具体地，在纹理层213远离第一膜材的一侧形成反射单元215的步骤包括：在纹理层213远离第一膜材的一侧形成依次层叠设置的8nm～12nm的二氧化硅层、7nm～17nm的五氧化三钛层、10nm～20nm的二氧化硅层、10nm～20nm的铟层、20nm～30nm的二氧化硅层、5nm～9nm的五氧化三钛层。此种设置能够降低第一折射层2152的氧化，增加反射单元215的机械强度。

可以理解，在反射单元115上形成油墨层117的步骤可以省略。

可以理解，在纹理层113远离第一膜材111的一侧形成反射单元115的步骤可以省略。此时，油墨层117直接形成在纹理层113上，且覆盖第一膜材111靠近纹理层113的一侧。

可以理解，在垂直于第一方向上多个凸条1132不限于依次拼接，请再次一并参阅图10，在另一实施例中，多个凸条2132也可以平行且间隔设置。此种设置的纹理层呈现纹理和光影效果。进一步地，定义相邻凸条2132的间距D4。在图示实施例中，相邻两个凸条2132中，其中一个凸条2132的第二侧面2132b与另一个凸条2132的第三侧面2132c的最小距离即为D4。

可以理解，凸条1132不限于为三棱柱形，凸条1132也可以为其他形状，例如：折线形、波浪线形或者圆弧形等。

可以理解，多个凸条1132不限于上述设置，还可以为其他设置方式，例如：请再次一并参阅图11，在另一实施例中，多个凸条3132呈阵列排布。此种设置的纹理层呈现光影效果。

可以理解，每个凸条1132在第一方向上的截面的形状不限于为三角形，请再次一并参阅图12，每个凸条4132在第一方向上的截面的形状也可以为梯形。每个凸条4132的高度为H2。每个凸条4132的宽度为D2。H2为4μm～6μm。D2为10μm～30μm。进一步地，每个凸条4132在第一方向上的截面的形状为等腰梯形。需要说明的是，相邻凸条4132不限于上述设置，请再次一并参阅图14，在其他实施例，凸条6132与凸条4132的结构相同，不同之处在于，多个凸条6132也可以平行且间隔设置。

请再次一并参阅图13，每个凸条5132在第一方向上的截面的形状也可以为圆弧形。每个凸条5132的高度为H3。每个凸条5132的宽度为D3。H3为4μm～6μm。D3为10μm～30μm。需要说明的是，相邻凸条5132不限于上述设置，请再次一并参阅图15，在其他实施例，凸条7132与凸条5132的结构相同，不同之处在于，多个凸条7132也可以平行且间隔设置。

可以理解，纹理层113不限于部分覆盖第一膜材111靠近纹理层113的一侧。请再次一并参阅图17，在另一实施例中，纹理层413完全覆盖第一膜材411靠近纹理层413的一侧。此时，壳体机构远离基底的一侧能够呈现整面纹理的效果。

可以理解，色带单元124在纹理层113上的正投影不限于与纹理层113完全重合，请再次一并参阅图18，在另一实施例中，色带单元524在纹理层513上的正投影可以落在纹理层513内。此种设置，使得膜层结构在纹理层513和色带单元524叠加处呈现纹理和细腻颜色的效果，且使得膜层结构在纹理层513未与色带单元524叠加处呈现纹理效果。此时，第一膜材511的胶粘层覆盖色带单元524，且覆盖第二膜材靠近色带单元524的一侧。

请再次一并参阅图19，在另一实施例中，色带单元624在纹理层613上的正投影可以完全覆盖纹理层613且至少部分覆盖第一膜材611。此种设置，使得色带单元624在纹理层613上的正投影能够全部与纹理层613重叠，并且使得膜层结构在纹理层613和色带单元624叠加处呈现纹理和细腻颜色的效果，且使得膜层结构在色带单元624未与纹理层613叠加处呈现细腻的颜色效果。

进一步地，色带单元624在纹理层613的正投影的边缘与纹理层613的边缘的距离为0.2mm～0.3mm。此种设置，使得色带单元624与纹理层613在第一膜层组件和第二膜层组件贴合时能够精准对位。需要说明的是，色带单元624在纹理层613上的正投影也可以完全覆盖纹理层613且完全覆盖第一膜材611。此时，壳体机构远离基底的一侧能够呈现整面细腻颜色的效果。

此外，还提供一实施方式的壳体机构11的制备方法，能够制备外观效果较好的壳体机构11。壳体机构11的制备方法包括如下步骤：将基底15与上述实施方式的膜层结构100贴合，以使第二膜材122与基底15相对，得到壳体机构11。

进一步地，将附在粘接层1224上的保护膜撕除，将基底15贴合在粘接层1224，得到壳体机构11。

在其中一个实施例中，将基底15与膜层结构100贴合的步骤之后，还包括对贴合有膜层结构100的基底15进行脱泡处理。进一步地，脱泡处理的方式为真空脱泡。更进一步地，脱泡温度为45℃～55℃。压力为7kg～12kg。脱泡时间为30min～50min。具体地，脱泡时间为40min。

在其中一个实施例中，对贴合有膜层结构100的基底15进行脱泡处理的步骤之后，还包括如下步骤：切割贴合有膜层结构100的基底15。通过切割得到所需大小的壳体机构11。进一步地，切割的方式为镭射。更进一步地，将一个贴合有膜层结构100的基底15制成6～8个壳体机构11。需要说明的是，不限于将一个贴合有膜层结构100的基底15制成6～8个壳体机构11，也可以将一个贴合有膜层结构100的基底15制成1个壳体机构11，还可以将一个贴合有膜层结构100的基底15制成10个壳体机构11，可以根据需要进行设置。

以下为具体实施例部分：

如无特别说明，以下实施例中，油墨层的油墨材料为市售的PET低温油墨，干燥温度为80℃～90℃。色带转印工艺中所用的色带为日本富士CMYK色系色带。

实施例1

本实施例的壳体机构的结构如图1～9所示，其中，凸条为三棱柱形，相邻两个凸条抵接。本实施例的制备过程如下：

(1)第一膜材为HP12防爆膜(购于SKC公司)。第一膜材包括层叠设置的功能层和胶粘层。功能层的材料为PET。功能层的厚度为50μm。胶粘层的材料为OCA。胶粘层的厚度为25μm。通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。A1为30°。D1为20μm。H1为5μm。UV转印的能量为800mj/cm²。

(2)采用电子蒸镀工艺在纹理层远离第一膜材的一侧形成依次层叠的附着层、第一折射层、间隔层和第二折射层，得到反射单元。附着层为氧化铝层。附着层的厚度为35nm。第一折射层为铟层。第一折射层的厚度为15nm。间隔层为氧化铝层。间隔层的厚度为35nm。第二折射层为二氧化钛层。第二折射层的厚度为5nm。

(3)采用丝网印刷工艺在第二折射层上印刷油墨材料，形成油墨层，得到第一膜层组件。印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为5μm。

(4)第二膜材为TP23E0防爆膜(购于SKC公司)。第二膜材包括层叠设置的防爆层和粘接层。防爆层的材料为PET。功能层的厚度为23μm。粘接层的材料为OCA。粘接层的厚度为15μm。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层层叠的单色层，得到色带单元。转印温度为65℃。每层单色层的转印时间为2s。

(5)撕除第一膜材的保护膜，将色带单元贴合在胶粘层上，以使色带单元在纹理层上的正投影与纹理层完全重合，得到膜层结构。

(6)撕除第二膜材的保护膜，将基底与粘接层贴合，真空脱泡处理，镭射切割，得到壳体机构。基底为透明玻璃基底。基底的厚度为0.6nm。脱泡处理中，脱泡温度为50℃，压力为9kg，脱泡时间为40min。

经制备，得到实施例1的壳体机构的实物图如图20所示。图20表示壳体机构在色带单元处图案。从图20可以看出，壳体机构在色带单元对应的图案呈现微亮的效果，且图案的分辨率较高。

实施例2

本实施例的壳体机构的结构与实施例1大致相同，不同之处在于：壳体机构的各尺寸不同。本实施例的壳体机构的制备过程如下：

(1)第一膜材为PET防爆膜(购于SKC公司)。第一膜材包括层叠设置的功能层和胶粘层。功能层的材料为PET。功能层的厚度为48μm。胶粘层的材料为OCA。胶粘层的厚度为20μm。通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。A1为25°。D1为10μm。H1为4μm。

(2)采用电子蒸镀工艺在纹理层远离第一膜材的一侧形成依次层叠的附着层、第一折射层、间隔层和第二折射层，得到反射单元。附着层为氧化铝层。附着层的厚度为30nm。第一折射层为铟层。第一折射层的厚度为10nm。间隔层为氧化铝层。间隔层的厚度为30nm。第二折射层为二氧化钛层。第二折射层的厚度为3nm。

(3)采用丝网印刷工艺在第二折射层远离纹理层的一侧印刷油墨材料，形成油墨层，得到第一膜层组件。印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为8μm。

(4)第二膜材为PET防爆膜(购于SKC公司)。第二膜材包括层叠设置的防爆层和粘接层。防爆层的材料为PET。功能层的厚度为21μm。粘接层的材料为OCA。粘接层的厚度为15μm。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层依次层叠设置的单色层，得到色带单元。转印温度为60℃。每层单色层的转印时间为3s。

(5)撕除第一膜材的保护膜，将色带单元贴合在胶粘层上，以使色带单元在纹理层上的正投影和纹理层完全重合，得到膜层结构。

(6)撕除第二膜材的保护膜，将基底与粘接层贴合，真空脱泡处理，镭射切割，得到壳体机构。基底为透明玻璃基底。基底的厚度为0.5nm。脱泡处理中，脱泡温度为45℃，压力为7kg，脱泡时间为30min。

实施例3

本实施例的壳体机构的结构与实施例1大致相同，不同之处在于：壳体机构的各尺寸不同。本实施例的壳体机构的制备过程如下：

(1)第一膜材为PET防爆膜(购于SKC公司)。第一膜材包括层叠设置的功能层和胶粘层。功能层的材料为PET。功能层的厚度为52μm。胶粘层的材料为OCA。胶粘层的厚度为30μm。通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。A1为35°。D1为30μm。H1为6μm。

(2)采用电子蒸镀工艺在纹理层远离第一膜材的一侧形成依次层叠的附着层、第一折射层、间隔层和第二折射层，得到反射单元。附着层为氧化铝层。附着层的厚度为40nm。第一折射层为铟层。第一折射层的厚度为30nm。间隔层为氧化铝层。间隔层的厚度为40nm。第二折射层为二氧化钛层。第二折射层的厚度为7nm。

(3)采用丝网印刷工艺在第二折射层远离纹理层的一侧印刷油墨材料，形成油墨层，得到第一膜层组件。印刷的次数为一次。每次印刷的厚度为5μm。

(4)第二膜材为PET防爆膜(购于SKC公司)。第二膜材包括层叠设置的防爆层和粘接层。防爆层的材料为PET。功能层的厚度为25μm。粘接层的材料为OCA。粘接层的厚度为25μm。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层依次层叠的单色层，得到色带单元。转印温度为70℃。每层单色层的转印时间为2s。

(5)撕除第一膜材的保护膜，将色带单元贴合在胶粘层上，以使色带单元在纹理层上的正投影完全纹理层重合，得到膜层结构。

(6)撕除第二膜材的保护膜，将基底与粘接层贴合，真空脱泡处理，镭射切割，得到壳体机构。基底为透明玻璃基底。基底的厚度为0.7nm。脱泡处理中，脱泡温度为55℃，压力为12kg，脱泡时间为50min。

实施例4

本实施例的壳体机构如图1～6、图8～9和图16所示。本实施例的壳体机构的制备过程与实施例1的壳体机构的制备过程大致相同，不同之处在于：步骤(2)中，采用电子蒸镀工艺在纹理层远离第一膜材的一侧形成依次层叠的附着层、第三折射层、第一保护层、第一折射层、第二保护层和第二折射层，得到反射单元。附着层为二氧化硅层，附着层的厚度为10nm。第三折射层为五氧化三钛层，第三折射层的厚度为12nm。第一保护层为二氧化硅层，第一保护层的厚度为15nm。第一折射层为铟层，第一折射层的厚度为15nm。第二保护层为二氧化硅层，第二保护层的厚度为25nm。第二折射层为五氧化三钛层，第二折射层的厚度为7nm。

实施例5

本实施例的壳体机构的结构与实施例4大致相同，不同之处在于：壳体机构的各尺寸不同。本实施例的壳体机构的制备过程与实施例1的壳体机构的制备过程大致相同，不同之处在于：步骤(2)中，采用电子蒸镀工艺在纹理层远离第一膜材的一侧形成依次层叠的附着层、第三折射层、第一保护层、第一折射层、第二保护层和第二折射层，得到反射单元。附着层为二氧化硅层，附着层的厚度为8nm。第三折射层为五氧化三钛层，第三折射层的厚度为7nm。第一保护层为二氧化硅层，第一保护层的厚度为10nm。第一折射层为铟层，第一折射层的厚度为10nm。第二保护层为二氧化硅层，第二保护层的厚度为20nm。第二折射层为五氧化三钛层，第二折射层的厚度为5nm。

实施例6

本实施例的壳体机构的结构与实施例4大致相同，不同之处在于：壳体机构的各尺寸不同。本实施例的壳体机构的制备过程与实施例1的壳体机构的制备过程大致相同，不同之处在于：步骤(2)中，采用电子蒸镀工艺在纹理层远离第一膜材的一侧形成依次层叠的附着层、第三折射层、第一保护层、第一折射层、第二保护层和第二折射层，得到反射单元。附着层为二氧化硅层，附着层的厚度为12nm。第三折射层为五氧化三钛层，第三折射层的厚度为17nm。第一保护层为二氧化硅层，第一保护层的厚度为20nm。第一折射层为铟层，第一折射层的厚度为20nm。第二保护层为二氧化硅层，第二保护层的厚度为30nm。第二折射层为五氧化三钛层，第二折射层的厚度为9nm。

实施例7

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例2大致相同，不同之处在于，D1为3μm。

实施例8

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例3大致相同，不同之处在于，D1为7μm。

实施例9

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例2大致相同，不同之处在于，第一折射层的厚度为7nm。

实施例10

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例3大致相同，不同之处在于，第一折射层的厚度为33nm。

实施例11

本实施例的壳体机构与实施例1大致相同，不同之处，每条凸条在垂直于凸条的延伸方向上的截面为等腰梯形(如图12所示)。本实施例的壳体机构的制备过程与实施例1大致相同，不同之处在于，H2为5μm。D2为20μm。

实施例12

本实施例的壳体机构与实施例1大致相同，不同之处，每条凸条在垂直于凸条的延伸方向上的截面为圆弧形(如图13所示)。本实施例的壳体机构的制备过程与实施例1大致相同，不同之处在于，H3为5μm。D3为20μm圆弧形。

实施例13

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例1大致相同，不同之处在于，通过胶印工艺在第二膜材上形成胶印层，得到颜色单元。撕除第一膜材的保护膜，将颜色单元贴合在胶粘层上，以使颜色单元在纹理层的正投影落入纹理层内。

测试：

测定实施例1～13的壳体机构在色带单元和纹理层叠加处图案的亮度和分辨率。测定实施例1～13的壳体机构中纹理层与第一膜材的拉拔力。其中，采用色差仪测定图案在垂直于第一膜材延伸方向上的亮度(即L)；采用分辨率测试卡测定图案的分辨率；采用拉拔力检测仪测定拉拔力。测定结果详见表1。表1表示的是实施例1～13的壳体机构在色带单元和纹理层叠加处图案的亮度和分辨率、纹理层与第一膜材的结合力。其中，图案的分辨率指图案中每英寸所表达的像素数目。

表1

	拉拔力(N)	图案的亮度	图案的分辨率(DPI)
				实施例1	>16	>65	600
实施例2	>16	>40	600
				实施例3	>16	>43	600
实施例4	>16	>64	600
				实施例5	>16	>41	600
实施例6	>16	>42	600
				实施例7	>16	>37	600
实施例8	>16	>38	600
				实施例9	>16	>30	600
实施例10	>16	>31	600
				实施例11	>16	>55	600
实施例12	>16	>50	600
				实施例13	>16	>64	300

从表1可以看出，实施例1～12的壳体机构在色带单元和纹理层叠加处图案的亮度的分辨率为600DPI，高于实施例13(300DPI)，说明上述实施方式的壳体机构的图案的分辨率较高，颜色效果更加细腻。实施例1～12的壳体机构中纹理层与第一膜材的拉拔力均大于16N，说明上述实施方式的壳体机构中纹理层与第一膜材的结合力较好，不会因纹理层脱落或者移位而影响壳体机构的外观效果。实施例1～12的壳体机构在色带单元和纹理层叠加处图案的的亮度大于30，由此可见，上述实施方式的壳体机构具有发亮的效果。

综上所述，上述实施方式的壳体机构的图案的分辨率较高，具有细腻的颜色效果，纹理层与第一膜材的结合力较好，具有发亮的效果，图案样式丰富，视觉效果更好。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (19)

1.一种膜层结构，其特征在于，包括：

第一膜层组件，包括依次层叠设置的第一膜材、纹理层及反射单元，所述纹理层包括多个沿第一方向平行设置的凸条，每个所述凸条在垂直于所述第一方向上的截面的形状一致，所述反射单元覆盖所述纹理层远离所述第一膜材的一侧，所述反射单元包括附着层、第一折射层、第二折射层、第三折射层、第一保护层和第二保护层，所述附着层设置在所述纹理层远离所述第一膜材的一侧，所述第一折射层设置在所述附着层远离所述纹理层的一侧，所述第二折射层设置在所述第一折射层远离所述附着层的一侧，所述第二折射层的折射率大于所述第一折射层的折射率，所述第三折射层位于所述附着层和所述第一折射层之间，所述第三折射层的折射率大于所述第一折射层的折射率，所述第一保护层位于所述第一折射层与所述第三折射层之间，所述第二保护层位于所述第一折射层与所述第二折射层之间，所述附着层为二氧化硅层，所述第三折射层为五氧化三钛层，所述第一保护层为二氧化硅层，所述第一折射层为铟层，所述第二保护层为二氧化硅层，所述第二折射层为五氧化三钛层；及

第二膜层组件，包括第二膜材及设置在所述第二膜材上的色带单元，所述第二膜层组件层叠于所述第一膜层组件上，所述色带单元远离所述第二膜材的一侧朝向所述第一膜材，所述色带单元在所述纹理层上的正投影落在所述纹理层上。

2.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，在垂直于所述第一方向上多个所述凸条依次拼接，且多个所述凸条平行。

3.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，多个所述凸条平行且间隔设置。

4.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，多个所述凸条呈阵列排布。

5.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，每个所述凸条在垂直于所述第一方向上的截面的形状为三角形或者梯形。

6.根据权利要求1～5任一项所述的膜层结构，其特征在于，每个所述凸条为三棱柱形，每个所述凸条的一个侧面朝向所述第一膜材。

7.根据权利要求6所述的膜层结构，其特征在于，每个所述凸条具有第一侧面、第二侧面和第三侧面，所述第一侧面朝向所述第一膜材，所述第二侧面和所述第一侧面形成的夹角与所述第三侧面和所述第一侧面形成的夹角相等。

8.根据权利要求1～5任一项所述的膜层结构，其特征在于，每个所述凸条的高度相等。

9.根据权利要求1～5任一项所述的膜层结构，其特征在于，所述凸条的高度为4μm～6μm；

及/或，所述凸条的宽度为10μm～30μm。

10.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述色带单元在所述纹理层上的正投影与所述纹理层完全重合。

11.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述色带单元具有多个单色层，多个所述单色层依次层叠设置在所述第二基材上。

12.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述附着层的厚度为8nm～12nm，所述第三折射层的厚度为7nm～17nm，所述第一保护层的厚度为10nm～20nm，所述第一折射层的厚度为10nm～30nm，所述第二保护层的厚度为20nm～30nm，所述第二折射层的厚度为5nm～9nm。

13.根据权利要求10～12任一项所述的膜层结构，其特征在于，所述第一膜层组件还包括油墨层，所述油墨层覆盖在所述反射单元远离所述纹理层的一侧上。

14.一种膜层结构的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供第一膜层组件，所述第一膜层组件包括依次层叠设置的第一膜材、纹理层及反射单元，所述纹理层包括多个沿第一方向平行设置的凸条，每个所述凸条在垂直于所述第一方向上的截面的形状一致，所述反射单元覆盖所述纹理层远离所述第一膜材的一侧，所述反射单元包括附着层、第一折射层、第二折射层、第三折射层、第一保护层和第二保护层，所述附着层设置在所述纹理层远离所述第一膜材的一侧，所述第一折射层设置在所述附着层远离所述纹理层的一侧，所述第二折射层设置在所述第一折射层远离所述附着层的一侧，所述第二折射层的折射率大于所述第一折射层的折射率，所述第三折射层位于所述附着层和所述第一折射层之间，所述第三折射层的折射率大于所述第一折射层的折射率，所述第一保护层位于所述第一折射层与所述第三折射层之间，所述第二保护层位于所述第一折射层与所述第二折射层之间，所述附着层为二氧化硅层，所述第三折射层为五氧化三钛层，所述第一保护层为二氧化硅层，所述第一折射层为铟层，所述第二保护层为二氧化硅层，所述第二折射层为五氧化三钛层；

在第二膜材上通过色带转印工艺形成色带单元，得到第二膜层组件；及

将所述色带单元远离所述第二膜材的一侧与所述第一膜材远离所述纹理层的一侧贴合，且使所述色带单元在所述纹理层上的正投影落在所述纹理层上，得到膜层结构。

15.根据权利要求14所述的膜层结构的制备方法，其特征在于，所述将所述色带单元远离所述第二膜材的一侧与所述第一膜材远离所述纹理层的一侧贴合的步骤之前，还包括制备所述第一膜层组件的步骤：采用UV转印在所述第一膜材上形成所述纹理层，得到所述第一膜层组件。

16.根据权利要求14所述的膜层结构的制备方法，其特征在于，在所述第一膜材上形成所述纹理层的步骤包括：在所述第一膜材上形成多条沿所述第一方向平行的所述凸条，得到所述纹理层。

17.根据权利要求14～16任一项所述的膜层结构的制备方法，其特征在于，所述在第二膜材上通过色带转印工艺形成色带单元的步骤包括：通过色带转印工艺在所述第二膜材上形成多个层叠设置的单色层，得到所述色带单元。

18.一种壳体机构，其特征在于，包括：

基底；及

权利要求1～13任一项所述的膜层结构，所述膜层结构设置在所述基底上，且所述第二基材朝向所述基底。

19.一种电子设备，其特征在于，包括：

权利要求18所述的壳体机构；

显示机构，与所述壳体机构连接，所述显示机构和所述壳体机构之间限定出安装空间；及

电路板，设置在所述安装空间内且与所述显示机构电连接。

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